專利名稱：屏蔽機構(gòu)的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及半導體、太陽能技術中硅材料的清洗，特別是涉及一種用于屏蔽酸霧水霧的屏蔽機構(gòu)。
背景技術：
在半導體、太陽能技術中，都會涉及到對硅材料的清洗，清洗設備中，經(jīng)常通過腐蝕來實現(xiàn)對硅表面的工藝要求，而自動設備通常通過水平和豎直兩個方向的機械臂來實現(xiàn)負載的運動，這就不可避免的形成機械臂傳動區(qū)與腐蝕工藝區(qū)的聯(lián)通，機械臂傳動部分由于強度上的要求，必須采用金屬材料，其耐腐蝕性能較差，使用一段時間后，會出現(xiàn)酸霧、水霧由腐蝕工藝區(qū)溢出至傳動區(qū)內(nèi)，造成金屬材料銹蝕、失效，出現(xiàn)設備自動運行的故障，而簡單的物理隔離不能保證良好的屏蔽效果，反而引入污染。

實用新型內(nèi)容(一)要解決的技術問題本實用新型要解決的技術問題是在對硅材料進行腐蝕處理時，如何避免對機械臂傳動部分的腐蝕，而又不會對傳動部分帶來負面影響。( 二 )技術方案為了解決上述技術問題，本實用新型提供一種屏蔽機構(gòu)，其包括屏蔽帶，設置為矩形框結(jié)構(gòu)，由上下左右四條邊框組成，左右邊框分別位于機械臂水平導軌的兩端，下邊框與機械臂水平導軌并列設置，上邊框不超過機械臂的頂端。其中，包括隔板和支撐架，所述隔板與機械臂水平導軌并列設置，隔板上設置有滾輪，屏蔽帶左右邊框與下邊框的交接處分別跨過該滾輪；所述支撐架上也設置有滾輪，屏蔽帶左右邊框與上邊框的交接處分別跨過該滾輪。其中，所述隔板上設置有壓條，壓條位于屏蔽帶下邊框的兩側(cè)，對屏蔽帶下邊框限位。其中，所述支撐架上設置有托板，屏蔽帶上邊框位于托板上。其中，所述隔板上設置有連接組件，所述連接組件分別與屏蔽帶下邊框和機械臂相連接。其中，所述連接組件包括垂直連接的安裝板和連接立板，屏蔽帶下邊框固定在所述安裝板上，所述連接立板與機械臂相連。其中，所述連接立板與屏蔽帶左右邊框相平行或者垂直。其中，所述安裝板包括擋板、設置在擋板上的平板、以及設置在平板上的壓塊，所述屏蔽帶下邊框位于平板和壓塊之間。其中，所述擋板的尺寸大于所述平板的尺寸，所述平板位于擋板上表面內(nèi)部。其中，所述屏蔽帶為聚氯乙烯材質(zhì)。(三)有益效果[0017]上述技術方案所提供的屏蔽機構(gòu)，使用聚氯乙烯作為屏蔽帶，將機械臂傳動區(qū)與腐蝕工藝區(qū)隔離開，屏蔽帶耐腐蝕，能夠有效遮擋腐蝕工藝區(qū)產(chǎn)生的酸霧水霧，防止機械臂傳動區(qū)部件遭受腐蝕和生銹；并且，屏蔽機構(gòu)中的連接部件能夠跟隨機械臂沿水平導軌運動，既不影響機械臂豎直方向的運動，又能帶動屏蔽帶隨機械臂水平運動，實現(xiàn)機械臂運動過程中的酸霧水霧屏蔽功能。

圖1是依照本實用新型一種實施例的屏蔽機構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖1所示屏蔽帶跨過滾輪固定于連接組件的示意圖；圖3是圖1所示屏蔽機構(gòu)連接組件的放大示意圖；圖4是將屏蔽帶與連接組件相連接的結(jié)構(gòu)剖視圖；圖5是依照本實用新型另一種實施例的屏蔽機構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是圖5所示屏蔽機構(gòu)連接組件的放大示意圖。其中，1 屏蔽帶；11 第一端頭；12 第二端頭；2 托板；3 機械臂；4 滾輪；5 壓條；6 隔板；7 連接組件；71 第一壓塊；72 第一平板；73 第二平板；74 連接立板；75 第二壓塊；76 第一擋板；77 第二擋板；8 導軌；9 支撐架。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例，對本實用新型的具體實施方式
作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本實用新型，但不用來限制本實用新型的范圍。實施例1圖1示出了本實用新型實施例的屏蔽機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，該屏蔽機構(gòu)用于半導體、太陽能技術中硅材料腐蝕清洗時，對機械臂傳動區(qū)和腐蝕工藝區(qū)的隔離，防止腐蝕工藝區(qū)的酸霧水霧進入機械臂傳動區(qū)而對機械臂傳動部件造成腐蝕和損壞。本實施例的屏蔽機構(gòu)包括屏蔽帶1和支撐屏蔽帶1的支撐結(jié)構(gòu)，具體地，支撐結(jié)構(gòu)包括隔板6和支撐架9，隔板6與機械臂3的水平導軌8并列設置，隔板6上設置有兩個滾輪4，兩個滾輪4之間的距離與導軌8的長度基本相等。支撐架9設置在隔板6上方，安裝在硅腐蝕清洗設備的骨架上，支撐架9上也設置有兩個滾輪4，此處的兩個滾輪4分別位于隔板6上兩個滾輪4的正上方。屏蔽帶1的兩端分別跨過上下設置的兩個滾輪4，在隔板6 上方連接。屏蔽帶1與機械臂3之間通過連接組件7進行連接，連接組件7位于隔板6上，其將屏蔽帶1的兩端連接，如圖2所示。連接組件7的結(jié)構(gòu)示意圖及連接組件7與屏蔽帶1的連接結(jié)構(gòu)示意圖分別如圖3 和圖4所示。連接組件7具體包括相互垂直的連接立板74和安裝板，安裝板包括平列設置的第一擋板76和第二擋板77，分別設置在第一擋板76和第二擋板77上的第一平板72和第二平板73，以及分別設置在第一平板72和第二平板73上的第一壓塊71和第二壓塊75。 連接立板74與豎直運動的機械臂3的底座相連接，第一平板72和第二平板73在套入機械臂3上的型鋼后連接在一起，再與連接立板74螺裝。通過第一壓塊71和第二壓塊75將屏蔽帶1的第一端頭11和第二端頭12分別固定在第一平板72和第二平板73上；為保證強度，連接立板74、以及平板和壓塊均由鋁板制成，再安裝第一擋板76和第二擋板77，第一擋板76和第二擋板77的尺寸大于第一平板72和第二平板73的尺寸，將暴露在腐蝕工藝區(qū)的第一平板72和第二平板73下表面完全遮擋住，第一擋板76和第二擋板77均采用白色聚丙烯板材制成，具有耐腐蝕的能力。本實施例中，根據(jù)機械臂3的結(jié)構(gòu)，連接立板74的設置方向與屏蔽帶邊框結(jié)構(gòu)中的左右邊框相垂直，也即與導軌8相平行。因為連接組件7將屏蔽帶1和機械臂3相連接，機械臂3沿導軌8進行水平運動時，將帶動屏蔽帶1進行水平方向的運動。為了保證屏蔽帶1水平運動時不偏離四個滾輪 4所構(gòu)成的范圍，在隔板6上設置了壓條5，壓條5位于隔板6上屏蔽帶1的兩側(cè)，以對屏蔽帶1的運動進行限位。同時，在支撐架9上，設置了托板2，屏蔽帶1位于托板2上方，由托板2保證上部屏蔽帶1運動中的穩(wěn)定和順暢。在機械臂3的工作過程中，豎直運動的機械臂3在沿導軌8進行水平運動時，將帶動屏蔽帶1進行水平運動，屏蔽帶1將機械臂3上部所支撐操作的腐蝕處理工藝部件與機械臂3下部的傳動部件隔離開，實時防護了傳動部件不受酸霧水霧的腐蝕入侵。實施例2圖5示出了本實施例的屏蔽機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖6是本實施例中連接部件與屏蔽帶1相連接的結(jié)構(gòu)示意圖。由圖可以看出，本實施例的屏蔽機構(gòu)與實施例1所述的屏蔽機構(gòu)的結(jié)構(gòu)類似，其區(qū)別之處在于連接部件7的結(jié)構(gòu)有所改變。實施例1中，為適應機械臂 3的結(jié)構(gòu)，連接部件7中的連接立板74位于第一平板72和第二平板73的上方，且連接立板 74與導軌8相平行，而本實施例中，由于機械臂3的結(jié)構(gòu)有所改變，為了與機械臂3的結(jié)構(gòu)相適應，連接立板74設置在其中一塊平板上方，如第二平板73上方，連接立板74的方向設置為與導軌8相垂直，從而實現(xiàn)連接組件7與機械臂3的適配連接。由以上實施例可以看出，本實用新型使用聚氯乙烯作為屏蔽帶，將機械臂傳動區(qū)與腐蝕工藝區(qū)隔離開，屏蔽帶耐腐蝕，能夠有效遮擋腐蝕工藝區(qū)產(chǎn)生的酸霧水霧，防止機械臂傳動區(qū)部件遭受腐蝕和生銹；并且，屏蔽機構(gòu)中的連接部件能夠跟隨機械臂沿水平導軌運動，既不影響機械臂豎直方向的運動，又能帶動屏蔽帶隨機械臂水平運動，實現(xiàn)機械臂運動過程中的酸霧水霧屏蔽功能。以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型技術原理的前提下，還可以做出若干改進和替換，這些改進和替換也應視為本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1.屏蔽機構(gòu)，其特征在于，包括屏蔽帶，設置為矩形框結(jié)構(gòu)，由上下左右四條邊框組成，左右邊框分別位于機械臂水平導軌的兩端，下邊框與機械臂水平導軌并列設置，上邊框不超過機械臂的頂端。
2.如權(quán)利要求1所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，包括隔板和支撐架，所述隔板與機械臂水平導軌并列設置，隔板上設置有滾輪，屏蔽帶左右邊框與下邊框的交接處分別跨過該滾輪；所述支撐架上也設置有滾輪，屏蔽帶左右邊框與上邊框的交接處分別跨過該滾輪。
3.如權(quán)利要求2所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述隔板上設置有壓條，壓條位于屏蔽帶下邊框的兩側(cè)，對屏蔽帶下邊框限位。
4.如權(quán)利要求2所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述支撐架上設置有托板，屏蔽帶上邊框位于托板上。
5.如權(quán)利要求2所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述隔板上設置有連接組件，所述連接組件分別與屏蔽帶下邊框和機械臂相連接。
6.如權(quán)利要求5所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述連接組件包括垂直連接的安裝板和連接立板，屏蔽帶下邊框固定在所述安裝板上，所述連接立板與機械臂相連。
7.如權(quán)利要求6所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述連接立板與屏蔽帶左右邊框相平行或者垂直。
8.如權(quán)利要求6所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述安裝板包括擋板、設置在擋板上的平板、以及設置在平板上的壓塊，所述屏蔽帶下邊框位于平板和壓塊之間。
9.如權(quán)利要求8所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述擋板的尺寸大于所述平板的尺寸， 所述平板位于擋板上表面內(nèi)部。
10.如權(quán)利要求1所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述屏蔽帶為聚氯乙烯材質(zhì)。
專利摘要本實用新型涉及半導體、太陽能技術中硅材料的清洗，公開了一種屏蔽機構(gòu)，其包括屏蔽帶，設置為矩形框結(jié)構(gòu)，由上下左右四條邊框組成，左右邊框分別位于機械臂水平導軌的兩端，下邊框與機械臂水平導軌并列設置，上邊框不超過機械臂的頂端。本實用新型使用聚氯乙烯作為屏蔽帶，將機械臂傳動區(qū)與腐蝕工藝區(qū)隔離開，屏蔽帶耐腐蝕，能夠有效遮擋腐蝕工藝區(qū)產(chǎn)生的酸霧水霧，防止機械臂傳動區(qū)部件遭受腐蝕和生銹；并且，屏蔽機構(gòu)中的連接部件能夠跟隨機械臂沿水平導軌運動，既不影響機械臂豎直方向的運動，又能帶動屏蔽帶隨機械臂水平運動，實現(xiàn)機械臂運動過程中的酸霧水霧屏蔽功能。
文檔編號H01L21/67GK202259214SQ20112037479
公開日2012年5月30日 申請日期2011年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月29日
發(fā)明者王晨, 胡彩豐 申請人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司