專利名稱：熱處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種熱處理裝置，尤其涉及一種用于進行硅晶圓的氧化、擴散、 CVD(Che mical Vapor D印osition，化學(xué)氣相沉積)等熱處理工序的具有真空絕熱層的熱
處理裝置。
背景技術(shù)：
以往作為此種類的熱處理裝置，有專利文獻1中所公開的縱型熱處理裝置。該縱型熱處理裝置包括以從周圍對用于收納要加熱處理的晶圓的空間進行環(huán)繞的方式豎直設(shè)置的圓筒形的反應(yīng)管，以及環(huán)繞反應(yīng)管且用于對反應(yīng)管內(nèi)進行加熱的加熱器。而且，在加熱器的外周設(shè)有形成真空絕熱層的真空絕熱層形成體，利用該真空絕熱層形成體的真空絕熱層來降低加熱器的功耗。由此，以往的熱處理裝置包括具有真空絕熱層的真空絕熱層形成體，將真空絕熱層形成體的真空絕熱層內(nèi)保持為真空。在真空絕熱層內(nèi)形成為高真空的情況下，能夠謀求絕熱性的提高，但有時會在構(gòu)成真空絕熱層形成體的壁面，尤其是外側(cè)壁面上產(chǎn)生彎曲。人們也考慮加厚外側(cè)壁面的壁厚以防止這樣的外側(cè)壁面的彎曲，但這樣會增大真空絕熱層形成體的制造成本。專利文獻專利文獻1 日本特開平7183160號公報；專利文獻2 日本特開2004_21似83號公報。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是考慮了這些點而做出的，目的是提供一種具有形成真空絕熱層以降低加熱器的功耗的真空絕熱層形成體的、且能夠謀求真空絕熱層形成體的制造成本的降低的熱
處理裝置。本技術(shù)方案的熱處理裝置的特征在于，包括于下端部具有凸緣且下方開口的筒狀的反應(yīng)管；裝載晶圓而被收納于反應(yīng)管內(nèi)的舟皿；環(huán)繞反應(yīng)管且用于對反應(yīng)管內(nèi)進行加熱的加熱器；真空絕熱層形成體，其設(shè)于加熱器外周，真空絕熱層形成體具有內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼，在該內(nèi)側(cè)殼和該外側(cè)殼之間形成真空絕熱層；內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼分別具有圓筒體和覆蓋圓筒體上部的頂板，外側(cè)殼由薄板構(gòu)成，通過被實施塑性加工而具有波浪狀截面。本技術(shù)方案的熱處理裝置的特征在于，包括于下端部具有凸緣且下方開口的筒狀的反應(yīng)管；裝載晶圓而被收納于反應(yīng)管內(nèi)的舟皿；環(huán)繞反應(yīng)管且用于對反應(yīng)管內(nèi)進行加熱的加熱器；真空絕熱層形成體，其設(shè)于加熱器外周，真空絕熱層形成體具有內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼，在該內(nèi)側(cè)殼和該外側(cè)殼之間形成真空絕熱層；內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼分別具有圓筒體和覆蓋圓筒體上部的頂板，外側(cè)殼由薄板構(gòu)成，在外側(cè)殼上設(shè)有多個沿圓周方向延伸的加強肋。本技術(shù)方案的熱處理裝置的特征在于，內(nèi)側(cè)殼的下端部和外側(cè)殼的下端部通過底板連接。
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本技術(shù)方案的熱處理裝置的特征在于，對內(nèi)側(cè)殼的外表面和外側(cè)殼的內(nèi)表面進行研磨，從而在內(nèi)側(cè)殼的外表面和外側(cè)殼的內(nèi)表面形成反射面。本技術(shù)方案的熱處理裝置的特征在于加強肋設(shè)置于外側(cè)殼的內(nèi)表面上。本技術(shù)方案的熱處理裝置的特征在于內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼之間形成有空心。本技術(shù)方案的熱處理裝置的特征在于在內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼之間設(shè)有多個互相平行配置的反射板。本技術(shù)方案的熱處理裝置的特征在于各反射板由具有折皺的箔材構(gòu)成。本技術(shù)方案的熱處理裝置的特征在于在內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼之間設(shè)有反射板和附加的絕熱材料。本技術(shù)方案的熱處理裝置的特征在于內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼利用由哈斯特洛依合金、 因科鎳合金、SUS310構(gòu)成的薄板材料形成。根據(jù)本發(fā)明，外側(cè)殼由薄板構(gòu)成，通過實施塑性加工從而使該外側(cè)殼具有波浪狀截面或在外側(cè)殼上設(shè)有加強肋，因此能夠提高外側(cè)殼的彎曲強度。因此即使真空絕熱層形成體內(nèi)部的真空度較高，外側(cè)殼也不會發(fā)生彎曲。


圖1是表示根據(jù)本發(fā)明的熱處理裝置的一個實施方式的縱截面圖；圖2是圖1所表示的熱處理裝置的放大圖；圖3是表示根據(jù)本發(fā)明的熱處理裝置的變形例的圖；圖4是表示根據(jù)本發(fā)明的熱處理裝置的變形例的圖；圖5是表示根據(jù)本發(fā)明的熱處理裝置的變形例的圖，是與圖2對應(yīng)的圖；圖6是表示根據(jù)本發(fā)明的熱處理裝置的變形例的圖，是與圖2對應(yīng)的圖。
具體實施例方式以下，參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。此處，圖1是表示根據(jù)本發(fā)明的熱處理裝置的一個實施方式的概略截面圖。圖2是圖1的放大圖。如圖1所示，本發(fā)明的熱處理裝置由縱型熱處理裝置1構(gòu)成，該熱處理裝置1包括上表面和側(cè)面形成為一體、且在下表面開口的筒狀的反應(yīng)管3，裝載晶圓W而被收納于反應(yīng)管3內(nèi)的舟皿5，環(huán)繞反應(yīng)管3且用于對該反應(yīng)管3的內(nèi)部進行加熱的加熱器2，以及設(shè)于加熱器2的外周、以覆蓋反應(yīng)管3的上表面的周圍和反應(yīng)管3的側(cè)面的周圍的方式配置的真空絕熱層形成體10。其中，筒狀的反應(yīng)管3中，在下端部具有凸緣3a，在內(nèi)部收納有裝載有晶圓W的舟血5。另外，真空絕熱層形成體10具有內(nèi)側(cè)殼11以及外側(cè)殼12，在該內(nèi)側(cè)殼11和外側(cè)殼12之間形成真空絕熱層10a。另外，內(nèi)側(cè)殼11具有用于構(gòu)成內(nèi)側(cè)殼11的側(cè)面的圓筒體 Ila,以及覆蓋圓筒體Ila的上部的頂板lib ；外側(cè)殼12具有構(gòu)成外側(cè)殼12的側(cè)面的圓筒體 12a以及覆蓋圓筒體12a的上部的頂板12b。此外，內(nèi)側(cè)殼11的下端部和外側(cè)殼12的下端部通過底板13相互連接。由這樣的結(jié)構(gòu)構(gòu)成的真空絕熱層形成體10作為整體被放置于反應(yīng)管3的凸緣3a上。此外，也能夠?qū)⒄婵战^熱層形成體10從反應(yīng)管3的凸緣3a上取下。
此外，加熱器2由陶瓷纖維制的絕熱材料加和被保持于該絕熱材料加的內(nèi)表面上的加熱元件2b構(gòu)成，加熱器2用于對反應(yīng)管3內(nèi)進行加熱。另外，在低溫處理時(0 600°C )，為了減少熱容量，加熱器2不一定必須具有絕熱材料加。作為半導(dǎo)體制造工序的一個工序，有對硅晶圓進行氧化、擴散、CVD等的熱處理工序，該熱處理工序使用這樣的縱型熱處理裝置1來進行。如上所述地，利用真空絕熱層形成體10覆蓋加熱器2的周圍。因此加熱器2位于真空絕熱層形成體10的內(nèi)側(cè)，且加熱元件2b被分割為上下多個。氣體導(dǎo)入管7 (氣體導(dǎo)入通路)和排氣管8 (氣體排氣通路)同反應(yīng)管3的下部連接。而且，氣體導(dǎo)入管7與未圖示的反應(yīng)氣體供給源連接，排氣管8與未圖示的排氣裝置連接。反應(yīng)管3在下端開口從而形成開口 3A，從該開口 3A導(dǎo)入用于保持被多片裝載的晶圓W的舟皿5。即，對舟皿5而言，能夠通過利用升降機構(gòu)(未圖示)來使舟皿5上升，從而將舟皿5從下方導(dǎo)入到反應(yīng)管3內(nèi)，另外，能夠通過使該舟皿5下降從而將該舟皿5從反應(yīng)管3中取出。另外，如上所述地，在反應(yīng)管3的下端部形成開口 3A，當(dāng)利用爐口蓋31對該開口 3A進行關(guān)閉時，利用氣密密封元件33 (例如0形密封圈)來對反應(yīng)管3和爐口蓋31進行密封。另外，如上所述，能夠?qū)⒄婵战^熱層形成體10從反應(yīng)管3的凸緣3a上取下，但凸緣3a和真空絕熱層形成體10的底板13之間也通過氣密密封元件(例如0形密封圈)密封。此外，加熱器2的絕熱材料加和凸緣3a之間也形成氣密密封，當(dāng)絕熱材料加和凸緣3a之間形成為氣密密封時，則不一定要在底板13和凸緣3a之間也形成氣密密封。另外，當(dāng)對晶圓W進行CVD處理的情況下，通過加熱器2將晶圓W加熱到處理溫度并保持，在該狀態(tài)下將原料氣體由氣體導(dǎo)入管7供給到反應(yīng)管3內(nèi)。然后，使原料氣體進行反應(yīng)從而在晶圓W的表面上形成CVD膜。反應(yīng)后的氣體經(jīng)由排氣管8而進行排氣。另外，為了使晶圓W的面內(nèi)溫度分布均勻，借助保溫筒38將舟皿5設(shè)置于旋轉(zhuǎn)機構(gòu)30上。該保溫筒38設(shè)置為用于防止舟皿5內(nèi)所配置有的晶圓W沿上下方向溫度分布的不均勻化。另外，在反應(yīng)管3的凸緣3a處設(shè)有用于冷卻真空絕熱層形成體10和反應(yīng)管3之間的空間的空氣供給管路35，真空絕熱層形成體10和反應(yīng)管3之間的空間內(nèi)的空氣從空氣排出管路36被排出。接下來對真空絕熱層形成體10進行進一步地說明。真空絕熱層形成體10具有內(nèi)側(cè)殼11、外側(cè)殼12、以及用于連接內(nèi)側(cè)殼11的下端部和外側(cè)殼12的下端部的底板13，該真空絕熱層形成體10在內(nèi)部形成有真空絕熱層10a，通過該真空絕熱層10a，從而使由加熱器 2加熱而產(chǎn)生的真空絕熱層形成體10內(nèi)部的熱量不會向外部逃逸。真空泵20通過具有閥21的真空管路22與真空絕熱層形成體10連接，通過打開閥21、使真空泵20動作從而使內(nèi)部的真空絕熱層IOa發(fā)揮真空絕熱功能。此外，在真空絕熱層形成體10的內(nèi)部所形成的真空絕熱層IOa內(nèi)，以跨有多列、例如3列的方式互相平行配置有反射板15。在真空絕熱層形成體10的內(nèi)部所設(shè)有的3列反射板15同真空絕熱層IOa —起， 用于對由加熱器2產(chǎn)生、通過內(nèi)側(cè)殼11而向外方傳遞的熱量進行阻斷。具體而言，防止由加熱器2產(chǎn)生的輻射熱的擴散。作為這樣的反射板15，能夠采用由反射率較高的鋁、銀、金等材料而形成的板件， 在使用這些材料時，為了提高反射率，還要對該反射板15的表面進行研磨?；蛘叻瓷浒?5也可以由用于維持高溫強度的耐熱性基材(例如，哈斯特洛依合金、因科鎳合金、SUS310)，以及在該耐熱性基材上蒸鍍有的鋁、銀、金等構(gòu)成的蒸鍍層構(gòu)成。此外，也可以由鋁、銀、金等構(gòu)成的厚度極薄的箔材形成反射板15，且在該箔材上形成折皺，使反射板15之間為點接觸，從而可以防止熱傳導(dǎo)。另外，如上所述，表示了在真空絕熱層形成體10內(nèi)設(shè)有3列反射板15的例子，然而，也可以不限于此，而是跨有4列 5列地設(shè)有反射板15，此外，還可以在內(nèi)側(cè)殼11和反射板15之間，或者在外側(cè)殼12和反射板15之間設(shè)有用于防止熱傳導(dǎo)的由硅鋁絕熱材料構(gòu)成的附加的絕熱材料10A，也可以在反射板15之間處設(shè)有由硅鋁絕熱材料構(gòu)成的附加的絕熱材料IOA (參照圖5)?；蛘?，也可以將反射板15從內(nèi)側(cè)殼11和外側(cè)殼12間取下，從而將內(nèi)側(cè)殼11和外側(cè)殼12之間保持為空心(參照圖6)。接下來，對構(gòu)成真空絕熱層形成體10的內(nèi)側(cè)殼11和外側(cè)殼12和底板13的構(gòu)造進行說明。作為形成內(nèi)側(cè)殼11、外側(cè)殼12和底板13的材料，能夠采用例如具有耐熱性的不銹鋼制材料(SUS304)構(gòu)成的薄板材料，或者能夠采用其它的耐熱性材料，例如，由哈斯特洛依合金、因科鎳合金、SUS310等耐熱性材料構(gòu)成的薄板材料。此外，對內(nèi)側(cè)殼11的外表面和外側(cè)殼12的內(nèi)表面，即真空絕熱層形成體10的內(nèi)表面實施研磨處理，從而形成反射面，由此能夠不將真空絕熱層形成體10內(nèi)的輻射熱量向外方放出，而能夠?qū)⒃撦椛錈崃筷P(guān)在里面。此外，也可以通過涂裝形成反射面而取代對內(nèi)例殼11的外表面和外側(cè)殼12的內(nèi)表面實施研磨處理。此外，為了防止內(nèi)側(cè)殼11的氧化，也可以對內(nèi)側(cè)殼11的內(nèi)表面即內(nèi)側(cè)殼11的靠加熱器2 —側(cè)的面進行SiA涂敷。另外，如上所述地，真空絕熱層形成體10的內(nèi)側(cè)殼11、外側(cè)殼12、底板13由具有耐熱性的薄板材料構(gòu)成，但當(dāng)真空絕熱層IOa的真空度較大時，對于內(nèi)側(cè)殼11，會產(chǎn)生朝向外方的拉伸力，對于外側(cè)殼12，會產(chǎn)生朝向內(nèi)方的彎曲力。該情況下，雖然會有朝向外側(cè)的拉伸力發(fā)生作用在內(nèi)側(cè)殼11上，但即使內(nèi)側(cè)殼11 由例如薄板材料構(gòu)成也能夠保持恒定的拉伸強度，因此，內(nèi)側(cè)殼11能夠充分地承受真空絕熱層IOa的真空度。另一方面，由于對外側(cè)殼12產(chǎn)生了彎曲力，因此在外側(cè)殼12之中，尤其對圓筒體 12a實施使其截面形狀成為波浪狀的塑性加工(圖2)。由此，通過對外側(cè)殼12的圓筒體1 實施塑性加工，使其截面形狀成為波浪狀，從而能夠使得外側(cè)殼12的圓筒體1 承受住作為整體從真空絕熱層IOa側(cè)朝向內(nèi)側(cè)的彎曲力。
此外，如圖1和圖2所示，外側(cè)殼12的頂板12b形成為半圓球狀體，由此，由于頂板12b形成為半圓球狀體，因此，能夠提高該頂板12b的彎曲強度。另外，本實施例表示了對外側(cè)殼12的圓筒體12a實施塑性加工從而將圓筒體1 的截面形成為波浪狀的例子，但是也可以對圓筒體1 和頂板12b實施塑性加工，從而使圓筒體1 和頂板12b雙方同時具有波浪狀截面。此處，圖1是表示熱處理裝置1的概略截面圖，圖2是圖1的放大圖。接下來對由這樣的結(jié)構(gòu)構(gòu)成的本實施方式的作用進行說明。首先，將裝載有許多晶圓W的舟皿5放置于保溫筒38上，使保溫筒38和爐口蓋31 上升，從而將裝載并保持有晶圓W的舟皿5收納于反應(yīng)管3內(nèi)。接下來利用爐口蓋31對反應(yīng)管3的開口 3A進行密封。接下來，使加熱器2成為啟動狀態(tài)從而對反應(yīng)管3內(nèi)的晶圓W進行加熱，同時從氣體導(dǎo)入管7將原料氣體供給至反應(yīng)管3內(nèi)，對晶圓W實施熱處理。在這期間，通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)30使舟皿5旋轉(zhuǎn)，對晶圓W均勻地實施熱處理。此外，反應(yīng)管3內(nèi)的氣體在此后從排氣管8排出。此外，通過加熱器2對反應(yīng)管3內(nèi)進行加熱，然而，由于加熱器2被由內(nèi)側(cè)殼11、外側(cè)殼12和底板13構(gòu)成、在內(nèi)部形成真空絕熱層IOa的真空絕熱層形成體10所覆蓋，所以由加熱器2所產(chǎn)生的熱量能夠不會向外方放出，能夠利用加熱器2所產(chǎn)生的熱量高效地對反應(yīng)管3內(nèi)進行加熱。接下來，當(dāng)對晶圓W的熱處理結(jié)束時，將加熱器2變?yōu)橥Ｖ构ぷ鳡顟B(tài)，反應(yīng)管3內(nèi)的晶圓W被冷卻。該情況下，自空氣供給管路35向絕熱層形成體10和反應(yīng)管3之間的空間內(nèi)供給冷卻用空氣，對反應(yīng)管3內(nèi)的晶圓W進行強制地冷卻。絕熱層形成體10和反應(yīng)管3之間的空間內(nèi)的空氣在此后從空氣排出管路36被排出。另外，如上所述，通過使真空絕熱層形成體10來覆蓋加熱器2，提高真空絕熱層形成體10內(nèi)的真空絕熱層IOa的真空度，從而能夠防止自加熱器2產(chǎn)生的熱量向外方放出。人們也考慮到在提高了真空絕熱層IOa的真空度的情況下，尤其會在真空絕熱層形成體10的外側(cè)殼12上產(chǎn)生彎曲。然而，根據(jù)本實施方式，對外側(cè)殼12的圓筒體1 實施塑性加工，從而將圓筒體12a的截面形成為波浪狀。由此，由于能夠作為整體提高外側(cè)殼 12的彎曲強度，因此即使提高真空絕熱層IOa的真空度也不會在外側(cè)殼12上產(chǎn)生彎曲。此外，由于通過將外側(cè)殼12的圓筒體12a的截面形成為波浪狀能夠提高彎曲強度，所以對于外側(cè)殼12，能夠無需為了特別提高彎曲強度而加厚材料，而能夠采用薄板材料并僅對該薄板材料實施塑性加工而制作外側(cè)殼12。因此，能夠減小外側(cè)殼12和真空絕熱層形成體10的制造成本，此外，能夠較輕地形成該外側(cè)殼12和真空絕熱層形成體10。接下來根據(jù)圖3和圖4對本發(fā)明的變形例進行說明。在上述實施方式中表示了下述例子，即對真空絕熱層形成體10的外側(cè)殼12實施塑性加工，從而將外側(cè)殼12的截面形狀形成為波浪狀，由此使外側(cè)殼12的彎曲強度提高的例子，然而，上述實施方式不限于此，也可以如圖3所示，通過焊接在外側(cè)殼12的圓筒體1 的外表面上安裝多個在圓周方向上延伸的圓周狀的加強肋40a，通過該加強肋40a來提高外側(cè)殼12的圓筒部12a的彎曲強度。
此外，也可以如圖4所示，通過焊接在外側(cè)殼12的圓筒體12a的內(nèi)表面上安裝多個沿圓周方向延伸的圓周狀的加強肋40b，通過該加強肋40b使外側(cè)殼12的圓筒體12a的
彎曲強度提高。
附圖標(biāo)記說明
1熱處理裝置
2加熱器
3反應(yīng)管
5舟皿
7氣體導(dǎo)入管
8排氣管
10真空絕熱層形成體
IOa真空絕熱層
IOA附加絕熱材料
11內(nèi)側(cè)殼
Ila圓筒體
lib頂板
12外側(cè)殼
12a圓筒體
12b頂板
13底板
15反射板
20真空泵
21閥
22真空管路
35空氣供給管路
36空氣排出管路
40a加強肋
40b加強肋
權(quán)利要求
1.一種熱處理裝置，其特征在于，包括于下端部具有凸緣且下方開口的筒狀的反應(yīng)管； 裝載晶圓而被收納于反應(yīng)管內(nèi)的舟皿； 環(huán)繞反應(yīng)管且用于對反應(yīng)管內(nèi)進行加熱的加熱器；真空絕熱層形成體，其設(shè)于加熱器外周，真空絕熱層形成體具有內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼，在該內(nèi)側(cè)殼和該外側(cè)殼之間形成真空絕熱層；內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼分別具有圓筒體和覆蓋圓筒體上部的頂板，外側(cè)殼由薄板構(gòu)成，通過被實施塑性加工而具有波浪狀截面。
2.一種熱處理裝置，其特征在于，包括于下端部具有凸緣且下方開口的筒狀的反應(yīng)管； 裝載晶圓而被收納于反應(yīng)管內(nèi)的舟皿； 環(huán)繞反應(yīng)管且用于對反應(yīng)管內(nèi)進行加熱的加熱器；真空絕熱層形成體，其設(shè)于加熱器外周，真空絕熱層形成體具有內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼，在該內(nèi)側(cè)殼和該外側(cè)殼之間形成真空絕熱層；內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼分別具有圓筒體和覆蓋圓筒體上部的頂板，外側(cè)殼由薄板構(gòu)成，在外側(cè)殼上設(shè)有多個沿圓周方向延伸的加強肋。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的熱處理裝置，其特征在于內(nèi)側(cè)殼的下端部和外側(cè)殼的下端部通過底板連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的熱處理裝置，其特征在于對內(nèi)側(cè)殼的外表面和外側(cè)殼的內(nèi)表面進行研磨或涂裝，從而在內(nèi)側(cè)殼的外表面和外側(cè)殼的內(nèi)表面形成反射面。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熱處理裝置，其特征在于上述加強肋設(shè)置于外側(cè)殼的內(nèi)表面上。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熱處理裝置，其特征在于上述加強肋設(shè)置在外側(cè)殼的外表面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的熱處理裝置，其特征在于內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼之間形成有空心。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的熱處理裝置，其特征在于在內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼之間設(shè)有多個互相平行配置的反射板。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的熱處理裝置，其特征在于各反射板由具有折皺的箔材構(gòu)成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的熱處理裝置，其特征在于在內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼之間設(shè)有反射板和附加的絕熱材料。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的熱處理裝置，其特征在于內(nèi)側(cè)殼和外側(cè)殼利用由哈斯特洛依合金、因科鎳合金、SUS 310構(gòu)成的薄板材料形成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能使真空絕熱層形成體的外側(cè)殼的彎曲強度提高的熱處理裝置。熱處理裝置(1)包括筒狀的反應(yīng)管(3)，用于對晶圓W進行裝載從而保持的舟皿(5)，設(shè)于反應(yīng)管(3)的外周上的加熱器(2)，以及設(shè)于加熱器(2)的外周上的真空絕熱層形成體(10)。真空絕熱層形成體(10)包括內(nèi)側(cè)殼(11)和外側(cè)殼(12)，在內(nèi)側(cè)殼(11)和外側(cè)殼(12)之間形成真空絕熱層(10a)。外側(cè)殼(12)由薄板構(gòu)成，通過實施塑性加工，從而將該外側(cè)殼(12)的截面形成為波浪狀。
文檔編號H01L21/22GK102383112SQ20111025000
公開日2012年3月21日 申請日期2011年8月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月27日
發(fā)明者中島誠, 齋藤孝規(guī) 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社