專利名稱：基板處理裝置和基板處理系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及的基板處理裝置，具備對作為被處理體的基板進行搬送的基板搬送機構，其特征在于，包括以俯視形狀是五角形以上的多角形的方式由多個側面包圍的真空搬送室；連接到上述真空搬送室的多個側面中除去在外側具有維修區(qū)域的側面之外的側面， 在上部具有蓋體的多個處理室；和在上述處理室和上述維修區(qū)域之間，搬送上述蓋體的蓋體搬送機構。 上述基板處理裝置也可以具備以下的特征。(a)在除去于外側具有上述維修區(qū)域的側面和與上述處理室連接的側面之外的上述真空搬送室的側面，連接有對放置有上述基板的氣氛在常壓氣氛和真空氣氛之間進行切換的預備真空室。(b)連接有上述處理室的側面與在外側具有上述維修區(qū)域的側面相對。(c)在上述外側具有維修區(qū)域的側面設置有用于將上述基板搬送機構搬入和搬出的開口部、和用于對該開口部進行打開和關閉的開閉部件。(d)上述真空搬送室能夠分割為三個以上的部分。另外，其他發(fā)明涉及的基板處理系統(tǒng)是具有上述(b)記載的基板處理裝置的基板處理系統(tǒng)，其特征如下，包括使上述預備真空室朝向相同的方向并且在左右方向配置多臺上述基板處理裝置而形成的第一列；和以使上述預備真空室朝向相反于上述第一列的預備真空室的朝向的方向、且在外側具有維修區(qū)域的真空搬送室的側面，與上述第一列的具有維修區(qū)域的真空搬送室的側面相對的方式，將多臺上述基板處理裝置平行于上述第一列配置而形成的第二列，在上述第一列和第二列之間構成連接上述維修區(qū)域的搬送通道。上述基板處理系統(tǒng)也可以具備以下的特征。上述第一列中彼此相鄰的基板處理裝置的間隔和上述第二列中彼此相鄰的基板處理裝置的間隔，比上述搬送通道窄。采用本發(fā)明，在俯視形狀是五角形以上的多角形的真空搬送室的側面連接有多個處理室，由于在多個處理室之間共有成為各處理室的蓋體的搬送目的地等的維修區(qū)域，所以基板處理裝置能夠節(jié)省空間。而且，由于具有從各處理室向維修區(qū)域搬送處理室的蓋體的蓋體搬送機構，所以即使共有維修區(qū)域，也能夠簡單地將處理室打開。


圖1是表示實施方式涉及的基板處理裝置的外觀結構的立體圖。圖2是上述基板處理裝置的俯視圖。圖3是表示將設置在上述基板處理裝置的處理室的蓋體取下的動作的第一說明圖。圖4是表示將上述蓋體取下的動作的第二說明圖。圖5是表示將設置在上述基板處理裝置的真空搬送室的基板搬送機構取下的動作的第一說明圖。圖6是表示將上述基板搬送機構取下的動作的第二說明圖。圖7是表示具有多臺實施方式和現(xiàn)有例的基板處理裝置的基板處理系統(tǒng)的例子
4的俯視圖。圖8是表示真空搬送室的俯視形狀形成扁平的六角形的基板處理裝置的例子的俯視圖。圖9表示現(xiàn)有的基板處理裝置的一個例子的俯視圖。符號說明S基板1,100 基板處理裝置2空氣裝載機3、3a、3b負載鎖定室
4、4a真空搬送室
41基板搬送機構
421,422開閉部件
431,432開口部
5、5a 5d處理室
51處理室主體
52蓋體
6維修區(qū)域
61蓋體搬送夾具
7蓋體搬送機構
8控制部
具體實施例方式參照圖1、圖2，針對本發(fā)明的實施方式涉及的多腔室型的基板處理裝置的一個例子，對FPD用的玻璃基板(以下僅稱基板)進行真空處理即蝕刻處理的裝置的整體結構進行說明。圖1是表示基板處理裝置1的外觀結構的立體圖，圖2是表示其內(nèi)部結構的俯視圖。本實施方式涉及的基板處理裝置1具有以下構造在收容從外部搬送來的多枚基板S的載體C1、C2與負載鎖定室3之間進行基板S搬入和搬出的空氣裝載機2、將放置有由空氣裝載機2搬入的基板S的氣氛在常壓氣氛和真空氣氛之間進行切換的預備真空室即負載鎖定室3與在處理室fe 5d之間在真空氣氛下對基板S進行搬送的真空搬送室4。真空搬送室4連接有對基板S進行蝕刻處理的四個處理室fe 5d?？諝庋b載機2具備載置載體Cl、C2的兩個載體載置部201、202和在這些載體Cl、 C2與負載鎖定室3之間對基板S進行搬送的大氣側基板搬送機構23。各載體載置部201、 202具備用于對載體Cl、C2進行升降的升降機構21，本例中的一方側的載體載置部201載置有收容處理前的基板S的載體Cl，在另一方側的載體載置部201載置有收容處理后的基板S的載體C2。載體載置部201、202隔著在大氣氣氛下對基板S進行搬送的大氣側基板搬送機構 23而設置。大氣側基板搬送機構23具備例如連續(xù)設置為上下兩段的搬送臂231、和支撐這些搬送臂231自由進退以及自由旋轉的基臺部232。圖1中的22是支持大氣側基板搬送機構23的支持臺。
負載鎖定室3是暫時收容在空氣裝載機2與真空搬送室4之間搬送的基板S的真空容器，本例中的兩個負載鎖定室3上下重疊。上述兩個負載鎖定室3的結構大致相同，例如如圖2的俯視圖所示，各負載鎖定室3具備對基板S進行支撐的緩沖器支架32和對基板 S的載置位置進行導向的定位器31。另外，各負載鎖定室3連接到連接有未圖示的排氣單元的排氣管路，能夠使各個內(nèi)部氣氛在常壓氣氛與真空氣氛之間進行切換。真空搬送室4是在各負載鎖定室3和四個處理室fe 5d之間搬送基板S的空間， 例如通過連接在未圖示的排氣單元的排氣管對內(nèi)部氣氛進行排氣，總是維持為真空氣氛。 在真空搬送室4內(nèi)設置有構成為升降自由、在旋轉軸周圍自由旋轉的、且對基板S進行支撐的拾取器412可自由進退的基板搬送機構41。如圖6(a)所示，在基板搬送機構41的下部設置有用于對該基板搬送機構41進行驅(qū)動的驅(qū)動機構411。配置有基板搬送機構41的主體的空間和配置有驅(qū)動機構411的空間，由底板44上下分別劃分為搬送空間401和機械室402。本例中，底板44的上方一側的搬送空間401如上所述維持在真空氣氛，另一方面，底板44的下方一側的機械室402為大氣氣氛。基板搬送機構41和驅(qū)動機構411在維修時等上下地分離，能夠從搬送空間401和機械室402分別解除。另外，圖6(a)中，413是對用于使基板搬送機構41從底板44伸出和縮回的開口部進行密封，用于將搬送空間401維持在真空狀態(tài)的波紋管。如圖2的俯視圖所示，本例涉及的真空搬送室4的俯視形狀是大致的正六角形，在該真空搬送室4的一個側面連接有上述的負載鎖定室3。而且，除去連接有負載鎖定室3的側面和與該側面相對的一個側面之外，剩余的四個側面連接有處理室如 5d。其結果，如圖2所示，這些負載鎖定室3和四個處理室fe 5d以六角形的真空搬送室4為中心配置為放射狀。處理室fe 5d是用于在其內(nèi)部對基板S進行蝕刻處理的長方體形狀的處理容器，相當于本實施方式的真空處理室。本例的處理室fe 5d，例如以成為能夠?qū)σ贿吺?1500mm、另一邊是1800mm左右大小的角型的基板S進行處理的方式，構成為橫截面的一邊是2. 5m、另一邊是2. 2m左右的大小。在各處理室fe 5d的內(nèi)部設置有在載置有基板S、并且成為下部電極的載置臺，和與上述載置臺上下相對的方式設置的、構成向處理室fe 5d內(nèi)供給例如氯氣等的蝕刻氣體的氣體供給部、并且成為上部電極的氣體噴淋頭等。而且，通過例如向載置臺側施加高頻電力，通過將供給至處理室fe 5d內(nèi)的蝕刻氣體等離子體化，生成的活性粒種對基板 S執(zhí)行蝕刻。圖1、圖2中為了方便表示，省略了所述載置臺和氣體供給部的記載。另外，在從空氣裝載機2向負載鎖定室3內(nèi)搬入和搬出基板S的開口部、負載鎖定室3和真空搬送室4之間、真空搬送室4和處理室fe 5d之間設置有將這些單元氣密地密封、且能夠進行打開和關閉的門閥Gl G3。而且，如圖1所示，本實施方式涉及的各處理室fe 5d能夠上下分割為形成進行蝕刻處理的空間、其上面一側開口的處理室主體51，和設置在該處理室主體51的上面且覆蓋該處理室主體51的開口部、并且形成有例如上述的氣體噴淋頭等的蓋體52。其結果， 如在背景技術中已經(jīng)說明過的方式，當對氣體噴淋頭等進行維修時，能夠從處理室主體51 解除蓋體52。以上說明過的基板處理裝置1具備例如當對從真空搬送室4搬出的基板搬送機構41和驅(qū)動機構411、在對從各處理室fe 5d解除的蓋體52進行維修時能夠使用的共用的維修區(qū)域6。還有，基板處理裝置1具備用于向維修區(qū)域6搬送從各處理室fe 5d解除的蓋體52的蓋體搬送機構7。以下，針對維修區(qū)域6的配置位置和蓋體搬送機構7的機構進行說明。如圖2所示，在本例涉及的基板處理裝置1中，在俯視形狀形成為六角形的真空搬送室4的六個側面中的與連接有負載鎖定室3的側面相對的側面未連接有負載鎖定室3和處理室fe 5d，以確保在該側面的外側成為維修區(qū)域6。若將該側面稱為維修面，則維修區(qū)域6形成在該維修面的外方一側面對該維修面的位置。換而言之，維修面可以說是在外側具備維修區(qū)域6的側面。而且，該維修區(qū)域6也與其他的負載鎖定室3、處理室fe 5d 相同，以真空搬送室4為中心配置為放射狀。在維修區(qū)域6確保具有能夠?qū)崴椭猎摼S修區(qū)域6的蓋體52進行傳遞的面積，蓋體52被傳遞至作為專用的搬送臺的蓋體搬送夾具61。參照圖2、圖4，對于蓋體搬送夾具61 的結構簡單地進行說明。蓋體搬送夾具61具備保持蓋體52的外周一側底面部的框體部 611、支撐與該框體部611相對的兩邊的中央部能夠在水平軸周圍旋轉的旋轉支撐部613、 通過該旋轉支撐部613將框體部611保持在規(guī)定的高度位置的支柱部件612、和設置在該支柱部件612的下端的車架部614。在蓋體52的側周面具有載置在所述框體部611上的未圖示的支架，在該支架設有螺栓孔。另外，在框體部611 —側也在與該支架對應的位置設置有螺栓孔，這些支架和框體部611通過螺栓緊固，蓋體52保持固定在框體部611上。另外，在旋轉支撐部613設置有未圖示的旋轉定位器，使保持有蓋體52的框體部611進行180度旋轉，通過使蓋體52上下反轉，能夠使氣體噴淋頭朝向上面一側，由此，能夠提高維修時的操作性。其次，關于蓋體搬送機構7的結構進行說明。蓋體搬送機構7具有在配置在維修區(qū)域6內(nèi)的上述蓋體搬送夾具61與各處理室fe 5d之間搬送蓋體52的作用。如圖1、圖 3、圖4所示，蓋體搬送機構7包括設置在真空搬送室4的天井板上、在該天井板上在垂直軸周圍進行旋轉的旋轉臺721 ；固定在該選旋轉臺721上、以朝向該旋轉臺721的徑方向、 即從中心位置的真空搬送室4朝向設置各處理室fe 5d的方向伸出的方式設置的支撐臂 71 ；設置在該支撐臂71的底端一側、用于通過使上述旋轉臺721旋轉而使支撐臂71進行旋轉移動的驅(qū)動機構73 ；和設置在上述支撐臂71的頂端一側、用于保持蓋體52的卡盤部 741。支撐臂71例如由連結部件711連結的兩塊較長的梁板構成，其頂端一側朝向連接在真空搬送室4周圍的處理室fe 5d伸出，另一方面，底端一側以在直徑方向橫斷旋轉臺 721的方式固定在該旋轉臺721上。如圖1、圖4所示，卡盤部741是下端部彎折為L字形的兩個鉤狀的部件，以這些彎折的部分彼此相對的方式，配置在支持臂71伸出的徑方向的內(nèi)側位置和外側位置。另一方面，在各處理室fe 5d的蓋體52的上面設置有由彎折為逆L字形的兩個鉤狀的部件構成的把手部53，把手部53配置為使這些彎折的部分彼此朝向相反的方向?？ūP部741通過升降機構742自由升降，通過使卡盤部741側的彎折部分與蓋體52的把手部 53側的彎折部分彼此卡合的狀態(tài)使卡盤部741上升，能夠?qū)⑸w體52提升至與其他的處理室fe 5d不干涉的高度的位置。另外，支撐臂71以保持在頂端部保持蓋體52時的剛性的方式，形成為底端一側較粗，頂端一側較細。如圖1所示，在旋轉臺721的周圍的輪環(huán)狀的齒輪722固定在真空搬送室4的頂板上。另一方面，在支撐臂71 一方一側的梁板固定有具有小型的齒輪731的驅(qū)動機構73。 通過使輪環(huán)狀的齒輪722與驅(qū)動機構73側的齒輪731嚙合而使驅(qū)動機構73的齒輪731進行旋轉，驅(qū)動機構73的齒輪731在輪環(huán)狀的齒輪722的周圍移動，由此能夠使旋轉臺721 和固定在其上面的支撐臂71進行旋轉。其結果，如圖3(a)所示，以卡盤部741通過設置有各處理室fe 5d的把手部53的位置和配置在維修區(qū)域6的蓋體搬送夾具61的上方位置的方式，能夠使支撐臂71進行旋轉。另外，如上述的方式，因為維修區(qū)域6設置在面對真空搬送室4的其中一個側面的位置即面對維修區(qū)域面的位置，所以并不是以在背景技術說明了的現(xiàn)有的基板處理裝置 100的方式解除真空搬送室4的頂面，通過起重機等抬起基板搬送機構41進行搬出，而是僅僅將構成上述存取面的部件解除，就能夠?qū)⒒灏崴蜋C構41和驅(qū)動機構411橫方向拉出。 因此，在本實施方式的真空搬送室4，如圖6所示，在存取面設置有用于從搬送空間401將基板搬送機構41解除的開口部431，和用于從機械室402將驅(qū)動機構411解除的開口部432。 這些開口部431、432，在基板處理裝置1的運行期間中，通過各開閉部件421、422關閉。如圖2所示，具有以上的結構的基板處理裝置1與控制部8連接?？刂撇?由具備未圖示的CPU和存儲部的計算機構成，在存儲部存儲有具備以下步驟組的程序在基板處理裝置1進行基板S的蝕刻處理時的動作和進行處理室fe 5d的維修時、通過蓋體搬送機構7將蓋體52搬送至維修區(qū)域6的動作所涉及的控制的步驟(命令)組。該程序例如收容在硬盤、光盤、磁光盤、存儲卡等的存儲介質(zhì)，通過這些存儲介質(zhì)安裝到計算機。以下，參照圖1 圖6，針對本實施方式的基板處理裝置1的作用進行說明。假定處理室fe需要進行維修。此時，以確保真空搬送室4是真空的方式，關閉門閥G3，解除處理室fe內(nèi)的真空狀態(tài)，準備從處理室主體51解除蓋體52。此時，能夠在其他的處理室恥 5d繼續(xù)進行基板S的蝕刻處理。然后，如圖1所示，在使支撐臂71的頂端的卡盤部741下降之后使支撐臂71旋轉， 使卡盤部741的彎折部分進入設置在處理室fe的蓋體52的把手部53的彎折部分的下方位置。于是，通過使卡盤部741上升，將使卡盤部741和把手部53的折彎部分彼此卡合的蓋體52上升至上方。在此，可以通過螺栓將該把手部53與卡盤部741緊固，使得在搬送時蓋體52的把手部53不從卡盤部741落下。這樣，將處理室fe的蓋體52提升至與相鄰的處理室5b不干涉的高度位置，使驅(qū)動機構73運行，將蓋體52從圖3(a)所示的處理室fe的上方位置搬送到在維修區(qū)域6待機的蓋體搬送夾具61的上方位置。于是，如圖4(a)所示，使卡盤部741下降，將蓋體52載置到蓋體搬送夾具61的框體部611上并將蓋體52與框體部611緊固，然后使卡盤部741 進一步下降，解除把手部53和卡盤部741的卡合狀態(tài)。另外，圖4(a) 圖4(c)為了表示的方便，省略了連接到真空搬送室5c、5d的記載。然后，在使支撐臂71旋轉并從把手部53的上方位置躲避之后，如圖4(b)所示， 通過使框體部611進行180度旋轉，使蓋體52上下反轉，使氣體噴淋頭朝向上面，進行維修。另外，根據(jù)需要，也能夠使蓋體搬送夾具61移動，將蓋體52搬送至規(guī)定的維修室(圖 4(c))。
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另外，即使在其他的處理室恥 5d打開的情況下，也能夠通過進行與采用圖3、圖 4的各圖說明了的動作相同的動作，從處理室主體51解除蓋體52，對各處理室主體51側、 蓋體52側進行維修。當維修結束時，以與解除時相反的順序，使蓋體搬送夾具61和蓋體搬送機構7運行，通過蓋體52將處理室主體51的開口部氣密地堵塞。然后，恢復蝕刻氣體和排氣管路的連接，使處理室fe內(nèi)是真空狀態(tài)，在完成運行開始的準備之后，打開門閥G3，從真空搬送室 4接受基板S，再次開始進行蝕刻。其次，針對將基板搬送機構41和其驅(qū)動機構411解除時的動作進行說明。該情況下，在停止基板處理裝置1整體的運行，將真空搬送室4內(nèi)的真空狀態(tài)解除之后，將設置在存取面的例如搬送空間401側的開閉部件421解除(圖5(a)、圖6(a))。然后，通過使基板搬送機構41的主體和其驅(qū)動機構411分離，將基板搬送機構41拉至存取面一側，能夠不使用起重機等而將基板搬送機構41搬送到維修區(qū)域6。此時，例如可以在基板搬送機構41的底面部設置腳輪，也可在搬送空間401的底板44鋪設導軌，使得基板搬送機構41的拉出作業(yè)變得容易。另外，在解除驅(qū)動機構411時也同樣，通過解除機械室402的開閉部件422(圖 5(a)、圖6(a))，將與基板搬送機構41的主體分離之后的驅(qū)動機構411拉至存取面一側，從而能夠使驅(qū)動機構411從機械室402向維修區(qū)域6的搬出變得簡單(圖6(c))。其次，將具有多臺以上如上所述的基板處理裝置1的基板處理系統(tǒng)的例與現(xiàn)有的基板處理裝置100的基板處理系統(tǒng)的情況進行比較，進行說明。圖7(a)、圖7(b)分別是示意地表示實施方式涉及的基板處理裝置1、和圖9所示的現(xiàn)有例涉及的基板處理裝置100涉及的基板處理系統(tǒng)的例的說明圖。在這些圖中，省略了各基板處理裝置1、100的空氣裝載機2的記載，空氣裝載機配置區(qū)域20總括地表示配置有這些空氣裝載機2的區(qū)域。圖7(a)所示的基板處理系統(tǒng)，通過使實施方式涉及的基板處理裝置1的負載鎖定室3朝向相同的方向，在左右方向配置多臺基板處理裝置1，形成第一列11。另外，以基板處理裝置1的負載鎖定室3朝向與第一列11的負載鎖定室3的方向相反的方向，維修區(qū)域 6與第一列11的維修區(qū)域6相對的方式，與所述第一列11平行地配置多臺基板處理裝置 1，形成第二列12。即，第一列11和第二列12平行地配置為各列11、12內(nèi)的基板處理裝置 1的存取面朝向彼此相對的方向。而且，為了對從基板處理裝置1解除的裝置等進行搬送， 所述第一列11和第二列12之間構成連接上述維修區(qū)域的搬送通道60。在圖7(a)所示的例中，搬送通道60的寬度是能夠通過上述的蓋體搬送夾具61的程度，設定為適應該蓋體搬送夾具61的寬度的寬度。此時，在本例中，如圖7(a)所示，由于相對于未設置負載鎖定室3和真空搬送室4等的結構物的維修區(qū)域6，平行地配置第一列 11和第二列12，所以能夠使第一列11與第二列12接近直到蓋體搬送夾具61不接觸在維修區(qū)域6側伸出的各基板處理裝置1的處理室5的程度為止。各基板處理裝置1中，由于具備使四個處理室5的各蓋體52移動到維修區(qū)域的蓋體搬送機構7(圖7(a)中省略圖示)，所以在各列11、12內(nèi)在左右方向相鄰的基板處理裝置 1彼此之間，不需要設置用于使蓋體搬送夾具61通過的搬送通道60。在此，圖7 (a)所示的例中，雖然第一列11 一側的基板處理裝置1和第二列12 — 側的基板處理裝置是在前后方向(縱方向)上并列在一條直線上的方式，但是基板處理裝置1可以是在第一列11和第二列12之間在左右方向(橫方向)錯開。
另一方面，圖7(b)表示以下基板系統(tǒng)的例子基于與本實施方式涉及的基板處理裝置1的情況相同的想法，通過使多臺基板處理裝置100的負載鎖定室3朝向相同的方向配置而形成第一列101，通過使負載鎖定室3朝向與該第一列101的負載鎖定室3的方向相反的方向，使多臺基板處理裝置100與上述第一列101平行地配置而形成第二列102的基板系統(tǒng)。即使在該例子中，也在兩列101、102之間形成與圖7(a)的搬送通道60相同寬度的搬送通道60。在此，在圖9所示的現(xiàn)有例涉及的基板處理裝置100中，在與各處理室5 相鄰的位置設置有維修區(qū)域6。而且，根據(jù)情況，由于需要使蓋體搬送夾具61移動至全部的維修區(qū)域6，所以在各列101、102內(nèi)的左右方向相鄰的基板處理裝置100彼此之間也設置有搬送通道60。將以上說明過的基板處理裝置1、100涉及的基板處理系統(tǒng)進行比較，由于在實施方式涉及的基板處理系統(tǒng)1中相對于多個處理室5共有維修區(qū)域6，所以與基板處理裝置 100的情況不同，不需要在左右相鄰的基板處理裝置1之間設置搬送通道60。因此，通過對圖7(a)和圖7(b)進行比較可知，能夠在配置區(qū)域的橫向?qū)挾取窧」的范圍內(nèi)即在各列11、12 配置5臺，兩列11、12的合計是10臺(處理室5的總數(shù)是40個)基板處理裝置1。另一方面，在基板處理裝置100的情況下，由于在相鄰的基板處理裝置100之間也設置搬送通道 60，所以基板處理裝置100的配置臺數(shù)是各列101、102為4臺，兩列的合計是8臺(處理室 5的總數(shù)是24個)。另外，即使在通過各裝置單體觀看基板處理裝置1、100的橫向?qū)挾鹊那闆r下，現(xiàn)有例的基板處理裝置100中的真空搬送室4和設置在其左右的兩個處理室5也并列在一條直線上。對此，本例的基板處理裝置1中，由于各處理室5配置為相對于在左右方向延伸的直線傾斜，所以與該傾斜對應的左右方向的橫向?qū)挾茸冃　Ｒ虼耍缭诟骰逄幚硌b置1、 100中，若從真空搬送室4的中心到處理室5的連接位置的距離相等，則基板處理裝置1的橫向?qū)挾取竍l」小于基板處理裝置100的橫向?qū)挾取竍2」。其次，關于縱方向的寬度，將圖7(a)、圖7(b)所示的基板處理系統(tǒng)進行比較，與基板處理裝置1的情況中各處理室5配置為相對于在縱方向延伸的直線傾斜相比，基板處理裝置100的情況中負載鎖定室3、真空搬送室4、處理室5沿縱方向配置在一條直線上。因此，若使各列11、12之間和各列101、102之間的搬送通道60的寬度相同，則當對圖7(a)所示的基板處理裝置1的基板處理系統(tǒng)的縱方向的寬度「Al」與圖7(b)所示的基板處理裝置 100的基板處理系統(tǒng)的縱方向的寬度「A2」進行比較時，若真空搬送室4的縱方向的寬度相同，則「Al」的寬度較小。另外，通過各裝置單體觀看基板處理裝置1、100，在現(xiàn)有例的基板處理裝置100 中，負載鎖定室3、真空搬送室4、處理室5沿縱方向并列為直線狀，另一方面，本例的基板處理裝置1中，負載鎖定室3、真空搬送室4、維修區(qū)域6沿縱方向并列為直線狀。而且，由于維修區(qū)域6能夠共有搬送通道60的一部分，所以若真空搬送室4的縱方向的寬度相同，則基板處理裝置1的縱方向的寬度「al」能夠小于基板處理裝置100的縱方向的寬度「a2」。采用本實施方式的基板處理裝置1具有以下的效果。在俯視形狀是六角形的真空搬送室4的側面連接多個處理室5，在多個處理室5之間共有成為各處理室5的蓋體52和基板搬送機構41的搬送目的地即維修區(qū)域6，所以基板處理裝置1能夠節(jié)省空間。而且，由于具備將處理室5的蓋體52從各處理室5向維修區(qū)域6搬送的蓋體搬送機構7，所以即使共有維修區(qū)域6，也能夠簡單地打開處理室5。在此，真空搬送室4并不限定于構成為俯視形狀是正六角形的情況。例如，如圖8 所示，可以使真空搬送室4是扁平的六角形，在其寬度較寬的一邊例如設置搬入用、搬出用的兩個負載鎖定室3a、3b，使得基板S的搬入搬出的速度高速化。另外，可以是在處理室5ajb之間和處理室5c、5d之間各自具有其他的處理室的八角形的真空搬送室。或者，也可以為使設置有處理室5c、5d的兩個側面是一個側面且僅僅設置有一個處理室的機構。真空搬送室的形狀并不限定于六角形，只要是五角形以上的多角形即可。特別是， 若為具有連接有相鄰的處理室的兩個側面的法線所成角度是不足90°的側面的多角形，則能夠在與四角形的情況相比更接近圓形的區(qū)域內(nèi)有效地配置處理室。另外，由于真空搬送室變成大型，所以通過多個部件和連結部件和密封部件構成， 例如也能夠分割為三個以上的部分。另外，蓋體搬送機構7的結構并不限制于圖1所示的懸臂梁式的蓋體搬送機構7 的例子。例如，通過使圖9所示的蓋體搬送機構7的支撐臂71在徑方向自由伸縮，或在真空搬送室4的上表面設置小型的起重機而使作業(yè)半徑改變，即使是圖8所示的真空搬送室 4是扁平的六角形的情況，也能夠在各處理室fe 5d和維修區(qū)域6之間自由地搬送蓋體 52。另外，例如可以通過以下的方式構成蓋體搬送機構7 從真空搬送室4觀看，以與各處理室fe 5d的外側的位置和真空搬送室4的上表面彼此平行的方式鋪設導軌，在該導軌上移動的龍門式起重機(橋型起重機)在各處理室fe 5d和維修區(qū)域6的上方位置移動。而且，形成維修區(qū)域6的位置并不限定于以下情況如圖2所示的基板處理裝置1 的方式，形成在真空搬送室4的六個側面中的與連接有負載鎖定室3的側面相對的側面的外側。例如，圖2中在設置有維修區(qū)域6的位置設置處理室5，替代該方式，也可以在圖2中連接有處理室fe 5d的任何一個側面的外側的位置形成維修區(qū)域6。即使在該情況下，也能夠獲得使基板處理裝置1節(jié)省空間的效果。另外，雖然在本例中公示了在處理室fe 5d對基板S進行蝕刻處理的例子， 但是在這些處理室fe 5d內(nèi)進行的真空處理的種類并不限定于此，例如也可以進行 CVD (Chemical Vapor Deposition)等的成膜處理或灰化處理。還有，在各處理室 5d 內(nèi)執(zhí)行的真空處理的種類并不限定于同種的處理，例如可以以在相同的基板處理裝置1內(nèi)進行蝕刻處理之后能夠進行灰化處理的方式，進行不同種類的真空處理。還有，除去連接到負載鎖定室3的側面和面對維修區(qū)域6的側面之外的真空搬送室4的剩余的四個側面，可以不是全都與處理室5連接，處理室5的數(shù)目可以是2個 3個。而且，基板處理裝置1處理的基板S的種類并不限定于實施方式中所示的角型的玻璃基板，例如當然也適用于半導體晶片等的圓形基板。
權利要求
1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括具有搬送作為被處理體的基板的基板搬送機構，以俯視形狀呈五角形以上的多角形的方式由多個側面包圍的真空搬送室；連接至所述真空搬送室的多個側面中除去在外側具有維修區(qū)域的側面之外的側面，并在上部具有蓋體的多個處理室；和在所述處理室與維修區(qū)域之間搬送所述蓋體的蓋體搬送機構。
2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于在外側具有所述維修區(qū)域的側面和連接有所述處理室的側面之外的所述真空搬送室的側面，連接有將放置所述基板的氣氛在常壓氣氛與真空氣氛之間進行切換的預備真空室。
3.如權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于連接有所述預備真空室的側面與在外側具有所述維修區(qū)域的側面相對。
4.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于所述在外側具有所述維修區(qū)域的側面設置有用于搬入和搬出所述基板搬送機構的開口部、和用于開閉該開口部的開閉部件。
5.如權利要求1至4的任一項所述的基板處理裝置，其特征在于 所述真空搬送室能夠分割為三個以上的部分。
6.一種基板處理系統(tǒng)，具有多臺如權利要求3所述的基板處理裝置，所述基板處理系統(tǒng)的特征在于，包括使所述預備真空室朝向相同的方向地在左右方向配置多臺所述基板處理裝置而形成的第一列；和以使所述預備真空室的朝向與所述第一列的預備真空室的朝向相反，并使在外側具有維修區(qū)域的真空搬送室的側面與所述第一列的具有維修區(qū)域的真空搬送室的側面相對的方式，使多臺所述基板處理裝置平行于所述第一列而配置所形成的第二列， 其中，在所述第一列與所述第二列之間構成連結所述維修區(qū)域的搬送通道。
7.如權利要求6所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于所述第一列中彼此相鄰的基板處理裝置的間隔，以及所述第二列中彼此相鄰的基板處理裝置的間隔，比所述搬送通道窄。
全文摘要
本發(fā)明提供一種維修性高、配置空間小的基板處理裝置和基板處理系統(tǒng)。真空搬送室(4)具備搬送被處理體的基板S的基板搬送機構(41)，并且以俯視形狀是五角形以上的多角形的方式由多個側面包圍。在上部具有蓋體(52)的多個處理室(5a～5d)連接到所述多個側面中除去在外側具有維修區(qū)域(6)的側面之外的側面，蓋體搬送機構(7)在所述處理室(5a～5d)與維修區(qū)域(6)之間搬送所述蓋體(52)。
文檔編號H01L21/00GK102243987SQ201110114908
公開日2011年11月16日 申請日期2011年4月28日 優(yōu)先權日2010年4月28日
發(fā)明者佐佐木芳彥, 田中誠治 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社