專利名稱：吸盤、吸盤系統(tǒng)及具有該吸盤的傳輸系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及微電子技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種吸盤、吸盤系統(tǒng)及具有該吸盤的傳輸系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
太陽能平板式等離子增強型化學(xué)氣象沉積(PECVD)設(shè)備中，電池片(晶片)的載具為一石墨載板，在石墨載板上擺放多個電池片同時進行工藝時，為防止電池片滑動，可在石墨載板上設(shè)置多個小格，然后將電池片擺放在這些規(guī)劃好的小格內(nèi)。但是，由于石墨載板進行工藝后通常出現(xiàn)變形，導(dǎo)致普通的自動化設(shè)備無法將電池片準(zhǔn)確地從小格內(nèi)取放，因此，通常采用機械手從小格內(nèi)對電池片進行取放。該機械手通過機械手臂一端安裝的吸盤對電池片進行吸放。現(xiàn)有技術(shù)的缺點是吸盤結(jié)構(gòu)復(fù)雜且碎片率高，因此亟待改進。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的旨在至少解決上述技術(shù)缺陷之一。為此，本發(fā)明的目的在于提出一種能夠快速吸放吸片、有效防止吸片破碎且輕巧的吸盤。本發(fā)明的另一目的在于提出一種具有上述吸盤的吸盤系統(tǒng)。本發(fā)明的再一目的在于提出一種具有上述吸盤系統(tǒng)的傳輸系統(tǒng)。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明第一方面實施例提出的吸盤，包括吸盤本體，所述吸盤本體具有多個出氣孔，所述多個出氣孔與第一氣體通路相連，所述多個出氣孔用于在放置晶片時向外排出第一氣體通路中的由第一氣源所提供的氣體；和圍繞所述吸盤本體均勻 分布的多個真空吸盤，其中，所述多個真空吸盤的吸附面位于同一平面，且所述多個真空吸盤與第二氣體通路相連，所述多個真空吸盤用于在放置晶片時向外排出所述第二氣體通路中的由所述第一氣源所提供的氣體、以及用于在吸取晶片時通過所述第二氣體通路與真空源相連以產(chǎn)生真空吸力。本發(fā)明實施例的吸盤結(jié)構(gòu)簡單。本發(fā)明實施例通過一種氣體通過第一氣體通路向吸盤本體的多個出氣孔外吹氣，通過第二氣體通路向真空吸盤內(nèi)通入真空，以使真空吸盤吸片，通過第二氣體通路向真空吸盤內(nèi)通入其它氣體，例如無塵干燥氣體或，以使真空吸盤放片，從而達到快速吸放片的目的。在本發(fā)明的一個實施例中，每個所述真空吸盤分別通過連接桿與所述吸盤本體相連，其中，所述連接桿的一端設(shè)有所述真空吸盤，所述連接桿的另一端與所述吸盤本體相連。在本發(fā)明的一個實施例中，所述吸盤還包括勻流罩，所述勻流罩與所述吸盤本體限定有勻流腔，所述勻流腔與所述多個出氣孔相通，且所述勻流腔與第一氣體通路相連。在本發(fā)明的一個實施例中，所述第一氣源為無塵干燥氣源，且所述第一氣體為無塵干燥氣體。在本發(fā)明的一個實施例中，所述真空吸盤為風(fēng)琴式吸盤。當(dāng)所述風(fēng)琴式吸盤通過所述第二氣體通路與所述真空源相連且吸取晶片時，所述風(fēng)琴式吸盤收縮以使所述晶片與所述吸盤本體的下表面貼合。這樣，本發(fā)明在吸盤吸取了晶片時由于晶片與吸盤本體之間貼合從而產(chǎn)生摩擦力，這樣在吸取晶片后的運輸過程中晶片不會被甩出去，從而進一步降低晶片的碎片率。優(yōu)選地，所述吸盤本體的表面設(shè)有防滑膠，防滑膠不僅可以增大晶片與吸盤本體之間的摩擦力，另外由于防滑膠的彈性也可以防止晶片與吸盤本體之間碰撞產(chǎn)生碎片的可能。本發(fā)明第二方面實施例提出的吸盤系統(tǒng)，包括第一氣源和第二氣源，所述第一氣源用于提供卸載被吸附晶片的氣體，且第二氣源用于抽真空以產(chǎn)生對晶片的真空吸力；第一開關(guān)和第二開關(guān)，所述第一開關(guān)與所述第一氣源相連，所述第二開關(guān)分別與所述第一氣 源和所述第二氣源相連；吸盤，所述吸盤為上述實施例的吸盤，其中，所述吸盤的第一氣體通路與所述第一開關(guān)相連，所述吸盤的第二氣體通路與所述第二開關(guān)相連；驅(qū)動器，所述驅(qū)動器與所述吸盤相連，所述驅(qū)動器用于驅(qū)動所述吸盤運動；和控制器，所述控制器對所述第一開關(guān)、第二開關(guān)和驅(qū)動器進行控制以取放晶片。根據(jù)本發(fā)明實施例的吸盤系統(tǒng)，在吸盤吸片過程中，控制器控制第一開關(guān)關(guān)閉第一氣源向吸盤本體的出氣孔向外排氣，同時控制第二開關(guān)切換以使第二氣源通入吸盤的真空吸盤內(nèi)，從而由于真空的作用，驅(qū)動裝置驅(qū)動吸盤靠近吸片，吸片被吸附在真空吸盤的表面，而達到吸盤的自動吸片。另外，在吸盤放片過程中，控制器控制第一開關(guān)開啟第一氣源向吸盤本體的出氣孔向外排氣，同時控制第二開關(guān)切換以使第一氣源通入吸盤的真空吸盤內(nèi)，從而在第一氣源、吸盤重力的作用下，驅(qū)動裝置驅(qū)動吸盤上移以使吸片脫離吸盤，而達到吸盤的自動放片。在本發(fā)明的一個實施例中，所述第一氣源為無塵干燥氣源，所述第二氣源為真空源。在本發(fā)明的一個實施例中，所述第二開關(guān)為兩位三通電磁閥，所述第二開關(guān)的兩個輸入端分別與所述第一氣源和所述第二氣源相連。在本發(fā)明的一個實施例中，所述吸盤系統(tǒng)還包括連接在所述第一氣體通路和所述第一開關(guān)之間的調(diào)速閥，所述調(diào)速閥用于調(diào)整從所述第一氣源流入所述第一氣體通路的流量。在本發(fā)明的一個實施例中，所述吸盤系統(tǒng)還包括連接在所述第二氣體通路和所述第二開關(guān)之間的真空壓力傳感器，所述真空壓力傳感器用于檢測所述第二氣體通路的真空壓力并反饋給所述控制器。在本發(fā)明的一個實施例中，當(dāng)吸取晶片時，所述控制器控制所述第一開關(guān)關(guān)閉，并控制所述第二開關(guān)的閥位以使所述真空源與所述第二氣體通路相連以使所述多個真空吸盤的吸附面處產(chǎn)生真空吸力，且所述控制器通過控制所述驅(qū)動器驅(qū)動所述多個真空吸盤下降以使所述多個真空吸盤與所述晶片接觸并將所述晶片吸住，所述控制器通過所述驅(qū)動器驅(qū)動所述吸盤提升并移動至預(yù)定位置。在本發(fā)明的一個實施例中，當(dāng)放置晶片時，所述控制器控制所述第一開關(guān)并開啟，控制所述第二開關(guān)的閥位以使所述無塵干燥氣源與所述第二氣體通路相連以使所述多個真空吸盤的吸附面處失去真空吸力。本發(fā)明第三面的實施例提出的傳輸系統(tǒng)，包括相互平行設(shè)置的第一電動缸和第二電動缸；橫梁，所述橫梁的第一端設(shè)置在所述第一電動缸之上，所述橫梁的第二端設(shè)置在所述第二電動缸之上，所述橫梁分別與所述第一電動缸和第二電動缸垂直；第一電機和第二電機，所述第一電機用于驅(qū)動所述橫梁的第一端在所述第一電動缸上移動，所述第二電機驅(qū)動所述橫梁的第二端在所述第二電動缸上移動；和一個或多個上述實施例的吸盤，所述一個或多個吸盤吊裝在所述橫梁之上。根據(jù)本發(fā)明實施例的傳輸系統(tǒng)，第一電機和第二電機分別驅(qū)動橫梁的兩端在第一電動缸和第二電動缸上移動，從而帶動吊裝在上述衡量之上的吸盤隨之移動，把吸盤吸片移動到相應(yīng)的位置。本發(fā)明附加的方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實踐了解到。


本發(fā)明上述的和/或附加的方面和優(yōu)點從下面結(jié)合附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中圖I為本發(fā)明實施例的吸盤的縱向剖視圖；圖2為本發(fā)明實施例的吸盤本體的橫向剖視圖；圖3A為本發(fā)明實施例的吸盤本體的氣動原理圖；圖3B為本發(fā)明實施例的真空吸盤的氣動原理圖；以及圖4為本發(fā)明實施例的傳輸系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。
具體實施例方式下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能解釋為對本發(fā)明的限制。在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底” “內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，除非另有規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是機械連接或電連接，也可以是兩個元件內(nèi)部的連通，可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語的具體含義。下面結(jié)合附圖1-2首先描述根據(jù)本發(fā)明實施例的吸盤。如圖I所示，為本發(fā)明實施例的吸盤的縱向剖視圖。根據(jù)本發(fā)明實施例的吸盤100包括吸盤本體110、和圍繞吸盤本體110均勻分布的多個真空吸盤120。其中，吸盤本體110具有多個出氣孔111，多個出氣孔111與第一氣體通路131相連，多個出氣孔111用于在防止晶片時向外排出第一氣體通路中的由第一氣源所提供的氣體；和圍繞吸盤本體110均勻分布的多個真空吸盤120，其中，每個真空吸盤120的吸附面位于同一平面，且多個真空吸盤120與第二氣體通路121相連，多個真空吸盤120用于在放置晶片時向外排出第二氣體通路121中的由第一氣源所提供的氣體、以及用于在吸取晶片時通過第二氣體通路121與真空源相連以產(chǎn)生真空吸力。優(yōu)選地，例如第一氣源可以為無塵干燥氣源，第一氣體可以為無塵干燥氣體。如圖2，為本發(fā)明實施例的吸盤本體的橫向剖視圖。在本發(fā)明的一些實施例中，例如可以通過連接桿141連接多個真空吸盤120和吸盤本體110，如圖2中所示的連接桿141，明顯地，連接桿141的一端上設(shè)置有真空吸盤120，另一端與吸盤本體110的外側(cè)相連。例如，真空吸盤120可通過螺栓連接在連接桿141的一端，連接桿141的另一端可以與吸盤本體110注塑成一體或者通過螺栓與吸盤本體連接。 根據(jù)本發(fā)明實施例的吸盤100，真空氣源通過第二氣體通路121向真空吸盤120內(nèi)通入真空以使真空吸盤120吸片。在放片時，無塵干燥氣體通過第一氣體通路131向吸盤本體110的多個出氣孔外吹氣，同時通過第二氣體通路121向真空吸盤120內(nèi)通入無塵干燥氣體，以使真空吸盤120放片，從而達到快速吸放片的目的。參考圖2，優(yōu)選地，多個真空吸盤120的數(shù)量為偶數(shù)使得吸盤產(chǎn)生的力更加均勻且對稱，例如真空吸盤120為4個。且每兩個真空吸盤相對于吸盤本體110對稱。本發(fā)明實施例具有偶數(shù)個真空吸盤120成對形成，且對稱分布，增加了真空吸盤吸放片的穩(wěn)定性，當(dāng)然，真空吸盤的數(shù)量并不限于此。另外，真空吸盤的數(shù)量也可以為奇數(shù)，奇數(shù)個真空吸盤120在同一平面上可以均勻分布。
如圖1，在本發(fā)明的一個實施例中，吸盤100還包括勻流罩130，勻流罩130與吸盤本體110限定有勻流腔132，勻流腔132與多個出氣孔111相通，且勻流腔132與第一氣體通路131相連。勻流腔132通過第一氣體通路131通入的氣體減少對流，使得氣流更加平穩(wěn)，通過吸盤本體110上的多個出氣孔111排出氣體，多個出氣孔111可用于均衡氣體的排除，使氣體助推吸片脫離，從而增加吸片脫離的穩(wěn)定性。為進一步增加吸盤吸放吸片的穩(wěn)定性，同時減少吸片的破碎率。優(yōu)選地，真空吸盤120例如為風(fēng)琴式吸盤，風(fēng)琴式吸盤具有一定的伸縮性，當(dāng)吸片過程中，風(fēng)琴式吸盤收縮，從而平衡吸附力以防止吸片破碎，而在放片過程，風(fēng)琴式吸盤拉伸從而使吸片平穩(wěn)的脫落。具體地，當(dāng)風(fēng)琴式吸盤通過第二氣體通路121與真空源相連且吸取晶片時，風(fēng)琴式吸盤收縮以使晶片與吸盤本體110的下表面貼合。這樣，本發(fā)明在吸盤吸取了晶片時由于晶片與吸盤本體110的下表面之間貼合從而產(chǎn)生摩擦力，這樣在吸取晶片后的運輸過程中晶片不會被甩出去，從而進一步降低晶片的碎片率。優(yōu)選地，吸盤本體110的表面設(shè)有防滑膠，防滑膠不僅可以增大晶片與吸盤本體110之間的摩擦力，另外由于防滑膠的彈性也可以防止晶片與吸盤本體110之間碰撞產(chǎn)生碎片的可能。下面結(jié)合附圖3A-3B描述根據(jù)本發(fā)明實施例的吸盤系統(tǒng)。如圖3A所示，為本發(fā)明實施例的吸盤本體的氣動原理圖，圖3B為本發(fā)明實施例的真空吸盤的氣動原理圖。結(jié)合圖I和圖2，根據(jù)本發(fā)明實施例的吸盤系統(tǒng)包括第一氣源320和第二氣源420、第一開關(guān)310和第二開關(guān)410、吸盤、驅(qū)動器和控制器。第一氣源320用于提供卸載被吸附晶片的氣體，且第二氣源420用于抽真空以產(chǎn)生對晶片的真空吸力。第一開關(guān)310與第一氣源320相連，第二開關(guān)410分別與第一氣源320和第二氣源420相連。吸盤為上述實施例的吸盤100，其中，第一氣體通路與第一開關(guān)310相連，第二氣體通路與第二開關(guān)410相連。驅(qū)動器(圖中未示出)與吸盤100相連，驅(qū)動器用于驅(qū)動吸盤100運動?？刂破?圖中未示出)分別用于對第一開關(guān)310、第二開關(guān)410和驅(qū)動器進行控制以吸取或放置晶片。根據(jù)本發(fā)明實施例的吸盤系統(tǒng)，在吸盤吸片過程中，控制器控制第一開關(guān)310關(guān)閉第一氣源320以避免向吸盤本體的出氣孔向外排氣，同時控制第二開關(guān)410切換以使第二氣源420通入吸盤的真空吸盤內(nèi)，驅(qū)動裝置驅(qū)動吸盤靠近晶片，由于真空的作用，晶片被吸附至真空吸盤，而達到吸盤的自動吸片。另外，在吸盤放片過程中，控制器控制第一開關(guān)310開啟，從而第一氣源320可向吸盤本體的出氣孔向外排氣，同時控制第二開關(guān)410切換以使第一氣源320與真空吸盤相連，通過真空吸盤向外排氣，從而在第一氣源320的排氣推力、吸盤重力的作用下，驅(qū)動裝置驅(qū)動吸盤上移以使晶片脫離吸盤，而達到吸盤的自動放片操作。在本發(fā)明的一個實施例中，第二開關(guān)410可以為兩位三通電磁閥，且第二開關(guān)410的兩個輸入端分別與第一氣源320和第二氣源420相連。兩位三通電磁閥具有輸入端切換簡單，控制簡單，靈敏的優(yōu)點。如圖3A所示，結(jié)合圖1，優(yōu)選地，在本發(fā)明的一個實施例中，吸盤系統(tǒng)還包括連接在第一氣體通路131和第一開關(guān)310之間的調(diào)速閥340，調(diào)速閥340用于調(diào)整從無塵干燥氣源(第一氣源320)流入第一氣體通路131中的無塵干燥氣體流量。調(diào)節(jié)第一氣體通路131中的無塵干燥氣體流量可控制多個出氣孔的出氣壓力，以使晶片實現(xiàn)快速放片。此外，如圖3B所示，吸盤系統(tǒng)還包括連接在第二氣體通路121和第二開關(guān)410之間的真空壓力傳感器440，真空壓力傳感器440檢測第二氣體通路121的真空壓力并反饋給 控制器。真空壓力過大，真空吸盤的吸力過大，晶片容易破碎，吸力過小，晶片易脫落，從而通過真空傳感器440對真空壓力的檢測，從而控制排入真空吸盤的真空源流量，以實現(xiàn)滿足晶片不易破碎，又使晶片不易脫落的目的。結(jié)合圖I至圖4所示，具體地，吸盤系統(tǒng)的吸盤吸片過程具體為，所述控制器關(guān)閉所述第一開關(guān)310，控制所述第二開關(guān)420以使所述真空源與所述第二氣體通路121相連，且控制器通過控制驅(qū)動器驅(qū)動多個真空吸盤120下降以使多個真空吸盤120與晶片接觸并將晶片吸住，控制器通過控制驅(qū)動器驅(qū)動吸盤120提升并移動至預(yù)定位置。相反地，當(dāng)放置晶片時，控制器控制開啟第一開關(guān)并310，并控制第二開關(guān)420以使無塵干燥氣源與第二氣體通路121相連以使多個真空吸盤120失去吸力。以下結(jié)合附圖4描述根據(jù)本發(fā)明實施例的傳輸系統(tǒng)。如圖4所不,為本發(fā)明實施例的傳輸系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。傳輸系統(tǒng)500包括相互平行設(shè)置的第一電動缸510和第二電動缸520、橫梁530、第一電機540和第二電機550和一個或多個上述實施例的吸盤560。其中，橫梁530的第一端設(shè)置在第一電動缸510之上,橫梁530的第二端設(shè)置在第二電動缸520之上，橫梁530分別與第一電動缸510和第二電動缸520垂直。優(yōu)選地，第一端在第一電動缸510上可移動,第二端在第二電動缸520上可移動。第一電機540用于驅(qū)動橫梁530的第一端在第一電動缸510上移動,第二電機550用于驅(qū)動橫梁530的第二端在第二電動缸520上移動。一個或多個吸盤560吊裝在橫梁530之上。在本發(fā)明的一個實施例中，傳輸系統(tǒng)還包括載板570,載板上放置晶片以供吸盤460吸放晶片。根據(jù)本發(fā)明實施例的傳輸系統(tǒng)500,第一電機540和第二電機550分別驅(qū)動橫梁530的兩端在第一電動缸510和第二電動缸520上移動，從而帶動吊裝在上述橫梁530之上的吸盤560隨之移動，把吸盤吸片移動到相應(yīng)的位置。通過本發(fā)明實施例的吸盤系統(tǒng)，啟動裝置驅(qū)動風(fēng)琴式真空吸盤的高度調(diào)節(jié)，實現(xiàn) 真空吸盤吸片碎片控制，而且能夠快速平穩(wěn)的吸盤吸放。另外，無塵干燥氣體勻流罩和勻流腔的設(shè)計實現(xiàn)放片的穩(wěn)定性，可有效降低晶片吸放破碎。再者，本發(fā)明實施例的吸盤重量輕，設(shè)計簡單，同時勻流孔的設(shè)計使晶片放置更為迅速，而且風(fēng)力均衡，防止晶片破碎。盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實施例，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和精神的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求及其等同限定。
權(quán)利要求
1.一種吸盤，其特征在于，包括 吸盤本體，所述吸盤本體具有多個出氣孔，所述多個出氣孔與第一氣體通路相連，所述多個出氣孔用于在放置晶片時向外排出第一氣體通路中的由第一氣源所提供的氣體；和 圍繞所述吸盤本體均勻分布的多個真空吸盤，其中，所述多個真空吸盤的吸附面位于同一平面，且所述多個真空吸盤與第二氣體通路相連，所述多個真空吸盤用于在放置晶片時向外排出所述第二氣體通路中的由所述第一氣源所提供的氣體、以及用于在吸取晶片時通過所述第二氣體通路與真空源相連以產(chǎn)生真空吸力。
2.如權(quán)利要求I所述的吸盤，其特征在于，每個所述真空吸盤分別通過連接桿與所述吸盤本體相連，其中，所述連接桿的一端設(shè)有所述真空吸盤，所述連接桿的另一端與所述吸盤本體相連。
3.如權(quán)利要求I所述的吸盤，其特征在于，還包括 勻流罩，所述勻流罩與所述吸盤本體限定有勻流腔，所述勻流腔與所述多個出氣孔相通，且所述勻流腔與第一氣體通路相連。
4.如權(quán)利要求I所述的吸盤，其特征在于，所述第一氣源為無塵干燥氣源，且所述第一氣體為無塵干燥氣體。
5.如權(quán)利要求1-4任一項所述的吸盤，其特征在于，所述真空吸盤為風(fēng)琴式吸盤。
6.如權(quán)利要求5所述的吸盤，其特征在于，當(dāng)所述風(fēng)琴式吸盤通過所述第二氣體通路與所述真空源相連且吸取晶片時，所述風(fēng)琴式吸盤收縮以使所述晶片與所述吸盤本體的下表面貼合。
7.一種吸盤系統(tǒng)，其特征在于，包括 第一氣源和第二氣源，所述第一氣源用于提供卸載被吸附晶片的氣體，且第二氣源用于抽真空以產(chǎn)生對晶片的真空吸力； 第一開關(guān)和第二開關(guān)，所述第一開關(guān)與所述第一氣源相連，所述第二開關(guān)分別與所述第一氣源和所述第二氣源相連； 吸盤，所述吸盤為如權(quán)利要求1-6任一項所述的吸盤，其中，所述吸盤的第一氣體通路與所述第一開關(guān)相連，所述吸盤的第二氣體通路與所述第二開關(guān)相連； 驅(qū)動器，所述驅(qū)動器與所述吸盤相連，所述驅(qū)動器用于驅(qū)動所述吸盤運動；和 控制器，所述控制器用于對所述第一開關(guān)、第二開關(guān)和驅(qū)動器進行控制以取、放晶片。
8.如權(quán)利要求7所述的吸盤系統(tǒng)，其特征在于，所述第一氣源為無塵干燥氣源，所述第二氣源為真空源。
9.如權(quán)利要求8所述的吸盤系統(tǒng)，其特征在于，所述第二開關(guān)為兩位三通電磁閥，所述第二開關(guān)的兩個輸入端分別與所述第一氣源和所述第二氣源相連。
10.如權(quán)利要求8所述的吸盤系統(tǒng)，其特征在于，還包括 連接在所述第一氣體通路和所述第一開關(guān)之間的調(diào)速閥，所述調(diào)速閥用于調(diào)整從所述第一氣源流入所述第一氣體通路的流量。
11.如權(quán)利要求8所述的吸盤系統(tǒng)，其特征在于，還包括 連接在所述第二氣體通路和所述第二開關(guān)之間的真空壓力傳感器，所述真空壓力傳感器用于檢測所述第二氣體通路的真空壓力并反饋給所述控制器。
12.如權(quán)利要求9所述的吸盤系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)吸取晶片時，所述控制器控制所述第一開關(guān)關(guān)閉，并控制所述第二開關(guān)的閥位以使所述真空源與所述第二氣體通路相連以使所述多個真空吸盤的吸附面處產(chǎn)生真空吸力，且所述控制器通過控制所述驅(qū)動器驅(qū)動所述多個真空吸盤下降以使所述多個真空吸盤與所述晶片接觸并將所述晶片吸住，所述控制器通過所述驅(qū)動器驅(qū)動所述吸盤提升并移動至預(yù)定位置。
13.如權(quán)利要求9所述的吸盤系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)放置晶片時，所述控制器控制所述第一開關(guān)開啟，并控制所述第二開關(guān)的閥位以使所述無塵干燥氣源與所述第二氣體通路相連以使所述多個真空吸盤的吸附面處失去真空吸力。
14.一種傳輸系統(tǒng),其特征在于,包括 相互平行設(shè)置的第一電動缸和第二電動缸； 橫梁，所述橫梁的第一端設(shè)置在所述第一電動缸之上，所述橫梁的第二端設(shè)置在所述第二電動缸之上，所述橫梁分別與所述第一電動缸和第二電動缸垂直； 第一電機和第二電機，所述第一電機用于驅(qū)動所述橫梁的第一端在所述第一電動缸上移動，所述第二電機驅(qū)動所述橫梁的第二端在所述第二電動缸上移動；和 一個或多個如權(quán)利要求1_6任一項所述的吸盤,所述一個或多個吸盤吊裝在所述橫梁之上。
全文摘要
本發(fā)明提出一種吸盤，包括吸盤本體，具有多個出氣孔，多個出氣孔與第一氣體通路相連，用于向外排出第一氣體通路中的由第一氣源所提供的氣體；和圍繞吸盤本體均勻分布的多個真空吸盤，多個真空吸盤與第二氣體通路相連，所述多個真空吸盤用于在放置晶片時向外排出所述第二氣體通路中的由所述第一氣源所提供的氣體、以及用于在吸取晶片時通過所述第二氣體通路與真空源相連以產(chǎn)生真空吸力。本發(fā)明還提出一種具有上述吸盤的吸盤系統(tǒng)、及具有上述吸盤系統(tǒng)的傳輸系統(tǒng)。應(yīng)用本發(fā)明的傳輸系統(tǒng)，能夠顯著提高吸盤吸放電池片速度、減輕吸盤重量及提高傳輸效率，此外，還具有控制吸放的能力，降低碎片率，降低設(shè)備成本。
文檔編號H01L21/683GK102751224SQ20111010222
公開日2012年10月24日 申請日期2011年4月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月22日
發(fā)明者付金生 申請人:北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司