專利名稱：用于制造陶瓷生片的設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于制造陶瓷生片(陶瓷印刷電路基板，ceramic green sheet) 的設備，更特別地，涉及一種包括設置在漿料(slurry)施加單元與干燥單元之間的防止變干室(dry preventingchamber)的用于制造陶瓷生片的設備。
背景技術：
為了開發(fā)出超高容量的多層陶瓷電容器，對陶瓷生片的薄和高度層壓的要求已經(jīng)提高。然而，陶瓷生片厚度的降低和層疊的陶瓷生片數(shù)量的增大是增大芯片的短路率的因素。原因是，隨著陶瓷生片越來越薄，即使是生片輕微受損，也易于產(chǎn)生短路。因此，為了制造超高容量的多層陶瓷電容器，在薄膜上制造無瑕疵的陶瓷生片或許是必要的。同時，用于制造陶瓷生片的設備可包括將包含陶瓷粉末、粘合劑樹脂(binder resin)、及溶劑的漿料施加到膜上的施加單元以及用于使所施加的漿料變干的干燥單元。在這種情況下，當制造薄型陶瓷生片(即，Iym或更小的陶瓷生片)時，因為施加到膜上的漿料中所包含的溶劑的量較小，所以從施加漿料時開始，在漿料從施加設備移動到干燥設備的同時，漿料可能在施加設備中突然變干。由于漿料突然變干，所以在陶瓷生片中可能存在很多瑕疵。另外，因為從施加單元到干燥單元的距離較長，漿料突然變干可能更嚴重，從而導致薄型陶瓷生片的瑕疵可能更嚴重。此外，施加有漿料的膜可能由于外部異物而被污染，并且在漿料從施加單元移動到干燥單元的同時，由外部的風所施加的漿料的表面特性可能變得更差。另外，從漿料揮發(fā)出的溶劑留在工作間中，這可能是使工作環(huán)境惡化的因素。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的是提供一種用于制造陶瓷生片的設備，其能夠制造無瑕疵的薄型陶瓷生片，包括設置在漿料施加單元與干燥單元之間的防止變干室。根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施方式，提供了一種用于制造陶瓷生片的設備，包括 施加單元，將漿料施加到膜上；干燥單元，使施加到膜上的漿料變干；以及防止變干室，設置在施加單元與干燥單元之間，以防止?jié){料變干。防止變干室中的蒸汽壓力可維持在高于大氣壓力。從漿料中揮發(fā)出的溶劑在防止變干室中的濃度可維持在溶劑的燃燒或爆炸的下限值。
干燥單元可包括沿著膜的移動方向設置的排出口和輸入口。用于制造陶瓷生片的設備可進一步包括設置在防止變干室中的真空輥。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實施方式，提供了一種用于制造陶瓷生片的設備，包括施加單元，將漿料施加到膜上；干燥單元，使施加到膜上的漿料變干；以及防止變干室， 設置在施加單元與干燥單元之間，并包括向防止變干室的內(nèi)部提供外部氣體的入口以及將內(nèi)部氣體排放到外部的出口。用于制造陶瓷生片的設備可進一步包括多個閥，其中的每個閥都控制入口和出口的打開和關閉。出口和入口可在施加有漿料的膜的移動方向上依次設置在防止變干室的上端上。外部氣體可使用惰性氣體。從漿料中揮發(fā)出的溶劑在防止變干室中的濃度可維持在溶劑的燃燒或爆炸的下限值。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實施方式，提供了一種用于制造陶瓷生片的設備，包括施加單元，將漿料施加到膜上；干燥單元，使施加到膜上的漿料變干；防止變干室，設置在施加單元與干燥單元之間，并包括形成在防止變干室的至少一個表面上的開口部，以防止?jié){料變干；以及蒸汽壓力控制器，控制開口部的打開和關閉，并將防止變干室中的蒸汽壓力維持在高于大氣壓力。蒸汽壓力控制器可具有橢圓形卷狀件的形狀，并包括包含多個狹縫的狹縫部以及連接至狹縫部的阻擋部。用于制造陶瓷生片的設備可進一步包括設置在蒸汽壓力控制器內(nèi)部的兩側處的傳動輥(driving roller)，以通過蒸汽壓力控制器的轉動來控制開口部的打開和關閉。蒸汽壓力控制器可包括第一狹縫部，包含多個第一狹縫；以及第二狹縫部，包含與第一狹縫相對應的多個第二狹縫，并且在第一狹縫部上左右移動，以遮蓋或打開第一狹縫。從漿料中揮發(fā)出的溶劑在防止變干室中的濃度可維持在溶劑的燃燒或爆炸的下限值。


圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備的局部示意圖；圖2是在根據(jù)本發(fā)明的第二示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備中所包括的防止變干室的示意圖；圖3是在根據(jù)本發(fā)明的第三示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備中所包括的防止變干室的示意圖；圖4是在根據(jù)本發(fā)明的第四示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備中所包括的防止變干室的示意圖；圖5示出了根據(jù)由不包括防止變干室的用于制造陶瓷生片的設備所制造的比較實例的陶瓷生片的照片；以及圖6是本發(fā)明的由包括防止變干室的用于制造陶瓷生片的設備所制造的陶瓷生片的照片。
具體實施例方式在下文中，將參照附圖詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備。下面將要描述的本發(fā)明的示例性實施方式以實例的方式提供，以能將本發(fā)明的構思充分傳達給本領域技術人員。因此，本發(fā)明可以很多不同的形式來修改，而不應限于文中所闡述的實施方式。在圖中，為方便起見，可能放大了設備的尺寸和厚度。在整個說明書中，相似的參考標號表示相似的元件。圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備的局部示意圖。參照圖1，根據(jù)本發(fā)明的第一示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備可包括施加單元110、干燥單元120、以及設置在施加單元110與干燥單元120之間的防止變干室 130。施加單元110可用來將包含陶瓷粉末、粘合劑樹脂、及溶劑的漿料S施加到膜F 上。在此構造中，可使用任何陶瓷粉末、粘合劑樹脂、及溶劑，只要它們總體上是形成生片的材料。此外，膜F的材料的一個實例可為PET，但本發(fā)明的示例性實施方式并不限于此。施加單元110可通過將漿料噴涂到膜F上來施加漿料S。然而，本發(fā)明的示例性實施方式并不限于此。例如，施加單元110可為刮粉刀設備、輥式涂布設備(roll coating apparatus)、反向涂布設備(reverse coating apparatus)、狹縫壓鑄模涂布設備(slit die coatingapparatus)等。在這種情況下，施加到膜F上的漿料S可形成為薄型，例如，1 μ m或更小的厚度。漿料S可施加到垂直于地面的膜F上。然而，本發(fā)明的示例性實施方式并不限于此?？赏ㄟ^真空輥(vacuum roll) 140將施加有漿料S的膜F移動到干燥單元120。在這種情況下，真空輥140可包括多個真空孔。在這種情況下，在通過真空孔施加真空之后， 通過真空輥140的旋轉從豎直或傾斜狀態(tài)到水平狀態(tài)的施加有漿料S的膜F可移動到干燥單元120。干燥單元120使施加到膜F上的漿料S變干，因而使得可形成陶瓷生片G。在這種情況下，干燥單元120可包括用于使?jié){料變干的加熱器。另外，干燥單元120可包括根據(jù)膜F的移動方向而依次設置的排出口 121和輸入口 122。S卩，排出口 121可靠近入口 123設置，以導入膜F，并且輸入口 122可靠近出口 124 設置，以排出膜F。因而，在干燥單元120中在與膜的移動方向相反的方向上可產(chǎn)生氣流，從而使得干燥單元120中的溶劑對于每個區(qū)域的濃度都可恒定。原因是，從漿料S揮發(fā)出的溶劑在干燥單元120的入口 123中的濃度比在干燥單元的出口 IM中的濃度增大得更多， 從而在生片中產(chǎn)生瑕疵。在此構造中，本發(fā)明的示例性實施方式示出了干燥單元120被構造成包括一個干燥室，但不限于此。例如，干燥單元可包括兩個以上的干燥室。防止變干室130可設置在施加單元110與干燥單元120之間。防止變干室130的內(nèi)部可具有高于大氣壓力的蒸汽壓力，以防止?jié){料S不穩(wěn)定地變干。在這種情況下，可通過控制從漿料S揮發(fā)出的溶劑的濃度來增大蒸汽壓力。即，蒸汽壓力可根據(jù)溶劑的濃度的增大而增大。因此，由于施加在膜F上的漿料S的厚度較小，可防止產(chǎn)生的漿料S快速地變干。 即，可只通過干燥單元120使施加到膜F上的漿料S變干，從而使得漿料S的干燥能夠得到控制，因此使得可制造無瑕疵的薄型陶瓷生片。此外，當從漿料S揮發(fā)出的溶劑在防止變干室130中的濃度不斷增大時，會易于產(chǎn)生燃燒和爆炸。因此，為了防止燃燒和爆炸，溶劑在防止變干室中的濃度可維持在溶劑的燃燒或爆炸的下限值。在這種情況下，溶劑的燃燒或爆炸的下限值可根據(jù)溶劑的種類而變化。 例如，當溶劑中的甲苯和乙醇的重量比為1 1時，溶劑的爆炸的下限值可為2.25Vol%， 從而使得防止變干室130內(nèi)部可維持在2. 25ν01%或更小。在這種情況下，為了可靠地防止爆炸，溶劑在防止變干室230中的濃度可維持在50%或更小，S卩，溶劑的爆炸下限值為 1. 13vol%或更小。因此，如在本發(fā)明的第一示例性實施方式中，用于制造陶瓷生片的設備包括設置在漿料施加單元與漿料干燥單元之間的防止變干室，以防止?jié){料變干，因而使得可抑制由于外部異物和施加單元與干燥單元之間的風所導致的初始干燥不穩(wěn)定。換句話說，通過根據(jù)第一示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備可制造無瑕疵的薄型生片。在下文中，將參照附圖2描述根據(jù)本發(fā)明的第二示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備。在此構造中，本發(fā)明的第二示例性實施方式具有與前述第一示例性實施方式相同的構造，除了防止變干室包括排出口和輸入口以外，因此將省略重復描述。圖2僅示出了防止變干室。圖2是在根據(jù)本發(fā)明的第二示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備中所包括的防止變干室的示意圖。參照圖2，根據(jù)本發(fā)明的第二示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備可以包括設置在施加漿料S的施加單元110與使?jié){料S變干的干燥單元120之間的防止變干室 230，以防止?jié){料S變干。防止變干室230將其中的蒸汽壓力維持在高于大氣壓力，因此使得可防止?jié){料S 在防止變干室230中變干?？赏ㄟ^控制從漿料S揮發(fā)出的溶劑的濃度來控制蒸汽壓力。然而，當僅通過控制溶劑的濃度來控制蒸汽壓力時，不易控制防止變干室中的蒸汽壓力，而且會花費大量時間來增大蒸汽壓力。為了解決這些問題，防止變干室230可包括入口 231。入口 231將氣體導入到防止變干室230中，以增大蒸汽壓力，因此使得可容易地使防止變干室230中的蒸汽壓力高于大氣壓力。在這種情況下，氣體可以是不會對漿料產(chǎn)生化學作用的惰性氣體。例如，可使用
氮、氬、氦、氖等。除此之外，當溶劑在防止變干室230中的濃度為預定值或更大時，可能產(chǎn)生燃燒或爆炸。在這種情況下，溶劑在防止變干室230中的濃度可維持在燃燒或爆炸的下限值的 50%或更小，以更可靠地控制。因此，當溶劑在防止變干室230中的濃度增大到預定值或更大時，防止變干室可包括出口 232，以將其中的氣體排放到外部。除此之外，防止變干室可通過經(jīng)由入口 231導入的氣體來稀釋溶劑的濃度，并將蒸汽壓力維持在高于大氣壓力。在此，防止變干室可包括多個閥233，這多個閥能分別控制入口 231和出口 232的打開和關閉。因此，可通過閥233的操作來維持溶劑在防止變干室230中的濃度恒定。另外，出口 232和入口 231可在施加有漿料S的膜F的移動方向上依次設置在防止變干室230的上端上。在這種情況下，通過出口 232和入口 231的氣體的流動方向可與施加有漿料S的膜F的移動方向相反。因此，可降低溶劑對于防止變干室230中的每個區(qū)域所產(chǎn)生的濃度梯度，因而使得可確保初始施加的漿料S的穩(wěn)定性。原因是，溶劑在防止變干室230中的濃度在膜F的入口 234中可比在其出口 235中高。因此，如在本發(fā)明的第二示例性實施方式中，防止變干室包括將惰性氣體導入到其中的入口和出口，因而使得可容易地控制防止變干室中的蒸汽壓力，并可有效地防止由于揮發(fā)出的溶劑所導致的燃燒或爆炸。在下文中，將參照附圖3描述根據(jù)本發(fā)明的第三示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備。在此構造中，本發(fā)明的第三示例性實施方式具有與前述第二示例性實施方式相同的構造，除了防止變干室包括排出口和輸入口以外，因此將省略重復描述。圖3僅示出了防止變干室。圖3是在根據(jù)本發(fā)明的第三示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備中所包括的防止變干室的示意圖。參照圖3，根據(jù)本發(fā)明的第三示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備包括施加單元110、干燥單元120、以及設置在施加單元110與干燥單元120之間的防止變干室 330。防止變干室330可包括開在其頂部上的開口部331。開口部331可設置有蒸汽壓力控制器335。蒸汽壓力控制器335可控制開口部331的打開和關閉。在這種情況下，蒸汽壓力控制器335可具有橢圓形卷狀件的形狀。在此構造中，蒸汽壓力控制器335可包括包含多個狹縫333的狹縫部332以及從狹縫部332向后延伸地設置的阻擋部334。該卷狀件內(nèi)部的兩側處可設置有傳動輥336，以使蒸汽壓力控制器335旋轉。在此構造中，可通過使蒸汽壓力控制器335旋轉來控制狹縫部332的處于開口部 331中的區(qū)域。即，蒸汽壓力控制器335通過旋轉來控制開口部331的打開和關閉，因此使得可控制其中的蒸汽壓力。例如，當防止變干室330中的蒸汽壓力低于大氣壓力時，蒸汽壓力控制器335旋轉成使得阻擋部334可處于開口部331中。因此，可通過從漿料S揮發(fā)出的溶劑來增大防止變干室330中的蒸汽壓力。另一方面，當從漿料S揮發(fā)出的溶劑在防止變干室330中的濃度為預定值或更大時，蒸汽壓力控制器335旋轉成使得狹縫部332可處于開口部331中。因此，將溶劑從防止變干室330排放到外部，可防止產(chǎn)生燃燒或爆炸。在這種情況下，當將溶劑排放到外部時，通過控制狹縫部332的處于開口部331中的區(qū)域來控制溶劑的排放速率。因此，蒸汽壓力控制器335控制防止變干室330中的蒸汽壓力維持在高于大氣壓力，從而使得蒸汽壓力控制器可用于防止?jié){料S在防止變干室330中變干。此外，蒸汽壓力控制器335可用于將從漿料S揮發(fā)出的溶劑在防止變干室330中的濃度維持在燃燒或爆炸的下限值，以防止由于從漿料S揮發(fā)出的溶劑所導致的在防止變干室330中產(chǎn)生燃燒或爆炸。因此，如在本發(fā)明的此示例性實施方式中，防止變干室包括蒸汽壓力控制器以防止?jié){料的不穩(wěn)定初始干燥，因而使得可制造高質量的生片，同時可防止可能在防止變干室中產(chǎn)生燃燒或爆炸。在下文中，將參照附圖4描述根據(jù)本發(fā)明的第四示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備。在此構造中，本發(fā)明的第四示例性實施方式與具有前述第三示例性實施方式相同的構造，除了蒸汽壓力控制器之外，因此將省略重復描述。圖4僅示出了防止變干室。圖4是在根據(jù)本發(fā)明的第四示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備中所包括的防止變干室的示意圖。參照圖4，根據(jù)本發(fā)明的第四示例性實施方式的用于制造陶瓷生片的設備可包括施加單元110、干燥單元120、以及設置在施加單元110與干燥單元120之間的防止變干室 430。可設置用于控制防止變干室430的開口部431中的蒸汽壓力的蒸汽壓力控制器 436。蒸汽壓力控制器436可包括第一狹縫部432 包含多個第一狹縫433 ；以及第二狹縫部434，包含與第一狹縫433相對應的多個第二狹縫435。第一狹縫部432和第二狹縫部434可具有平的基板的形狀。第一狹縫部432和第二狹縫部434可彼此交疊地設置。在此結構中，第二狹縫部434可在第一狹縫部432上左右移動。這樣，第一狹縫部432中的第一狹縫433可由于第二狹縫部434的移動而被遮蓋或打開。在此結構中，蒸汽壓力控制器436通過旋轉來控制第一狹縫433的打開和關閉， 因此使得可控制防止變干室430中的蒸汽壓力。例如，當防止變干室430中的蒸汽壓力低于大氣壓力時，第二狹縫部434可移動成遮蓋第一狹縫433。因此，從外部阻擋防止變干室 430的開口部，從而使得防止變干室430中的蒸汽壓力可由于從漿料S揮發(fā)出的溶劑而增大。另一方面，當從漿料S揮發(fā)出的溶劑在防止變干室430中的濃度為預定值或更大時，第二狹縫部434移動成使第一狹縫433和第二狹縫435相互交疊，因而使得可打開第一狹縫 433。因此，通過第一狹縫433和第二狹縫435將防止變干室430中的溶劑排放到外部，因而使得可防止由于溶劑所導致的燃燒或爆炸。這樣，當將溶劑排放到外部時，通過第一狹縫 433的打開和關閉程度可控制溶劑的排放速率。因而，蒸汽壓力控制器436控制防止變干室430中的蒸汽壓力維持在高于大氣壓力，以使蒸汽壓力控制器可用于防止?jié){料S在防止變干室430中變干。另外，蒸汽壓力控制器436將從漿料揮發(fā)出的溶劑在防止變干室430中的濃度維持在燃燒或爆炸的下限值，以使蒸汽壓力控制器可用于防止由于溶劑所導致的燃燒或爆炸。本發(fā)明的示例性實施方式描述了通過第二狹縫部434的移動來控制第一狹縫433 的打開和關閉，但不限于此。例如，第二狹縫部434固定而第一狹縫部432可移動，或者第一狹縫部432和第二狹縫部434可移動。因此，如在本發(fā)明的此示例性實施方式中，防止變干室包括蒸汽壓力控制器，以防止?jié){料的不穩(wěn)定初始干燥，因而使得可制造高質量的生片，同時可防止可能在防止變干室中產(chǎn)生燃燒或爆炸。在下文中，將參照圖5和圖6根據(jù)是否有防止變干室來評述陶瓷生片的表面。
圖5示出了根據(jù)由不包括防止變干室的用于制造陶瓷生片的設備所制造的比較實例的陶瓷生片的照片。圖6是本發(fā)明的由包括防止變干室的用于制造陶瓷生片的設備所制造的陶瓷生片的照片。在此，溶劑在防止變干室中的濃度維持在0. 23V01%。如圖5和圖6所示，能確定，根據(jù)比較實例的陶瓷生片的表面比根據(jù)本發(fā)明的陶瓷生片具有更多瑕疵。根據(jù)本發(fā)明，用于制造陶瓷生片的設備包括設置在施加單元與干燥單元之間的防止變干室，以防止?jié){料變干，因而使得可制造無瑕疵的薄型生片。另外，用于制造陶瓷生片的設備包括防止變干室，因而使得可防止?jié){料由于外部異物而被污染。另外，用于制造陶瓷生片的設備包括防止變干室，因而使得可防止工作間內(nèi)部由于從漿料揮發(fā)出的溶劑而被污染。此外，防止變干室包括蒸汽壓力控制器，因而使得可防止由溶劑引起的燃燒或爆炸。雖然已出于例證的目的公開了本發(fā)明的示例性實施方式，但是本領域技術人員將理解，在不背離所附權利要求公開的本發(fā)明的范圍和精神的前提下，各種改變、增加和替換都是可行的。因此，這些改變、增加和替換應被理解成落在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
權利要求
1.一種用于制造陶瓷生片的設備，包括 施加單元，將漿料施加到膜上；干燥單元，使施加到所述膜上的所述漿料變干；以及防止變干室，設置在所述施加單元與所述干燥單元之間，以防止所述漿料變干。
2.根據(jù)權利要求1所述的用于制造陶瓷生片的設備，其中，所述防止變干室中的蒸汽壓力維持在高于大氣壓力。
3.根據(jù)權利要求1所述的用于制造陶瓷生片的設備，其中，從所述漿料揮發(fā)出的溶劑在所述防止變干室中的濃度維持在所述溶劑的燃燒或爆炸的下限值。
4.根據(jù)權利要求1所述的用于制造陶瓷生片的設備，其中，所述干燥單元包括沿著所述膜的移動方向設置的排出口和輸入口。
5.根據(jù)權利要求1所述的用于制造陶瓷生片的設備，進一步包括設置在所述防止變干室中的真空輥。
6.一種用于制造陶瓷生片的設備，包括 施加單元，將漿料施加到膜上；干燥單元，使施加到所述膜上的所述漿料變干；以及防止變干室，設置在所述施加單元與所述干燥單元之間，并包括向所述防止變干室的內(nèi)部提供外部氣體的入口以及將內(nèi)部氣體排放到外部的出口。
7.根據(jù)權利要求6所述的用于制造陶瓷生片的設備，進一步包括多個閥，每個閥均控制所述入口和所述出口的打開和關閉。
8.根據(jù)權利要求6所述的用于制造陶瓷生片的設備，其中，所述出口和所述入口在施加有所述漿料的所述膜的移動方向上依次設置在所述防止變干室的上端上。
9.根據(jù)權利要求6所述的用于制造陶瓷生片的設備，其中，所述外部氣體使用惰性氣體。
10.根據(jù)權利要求6所述的用于制造陶瓷生片的設備，其中，從所述漿料揮發(fā)出的溶劑在所述防止變干室中的濃度維持在所述溶劑的燃燒或爆炸的下限值。
11.一種用于制造陶瓷生片的設備，包括 施加單元，將漿料施加到膜上；干燥單元，使施加到所述膜上的所述漿料變干；以及防止變干室，設置在所述施加單元與所述干燥單元之間，并包括形成在所述防止變干室的至少一個表面上的開口部，以防止所述漿料變干；以及蒸汽壓力控制器，控制所述開口部的打開和關閉，并將所述防止變干室中的蒸汽壓力維持在高于大氣壓力。
12.根據(jù)權利要求11所述的用于制造陶瓷生片的設備，其中，所述蒸汽壓力控制器具有橢圓形卷狀件的形狀，并包括包含多個狹縫的狹縫部以及連接至所述狹縫部的阻擋部。
13.根據(jù)權利要求11所述的用于制造陶瓷生片的設備，進一步包括設置在所述蒸汽壓力控制器內(nèi)部的兩側處的傳動輥，以通過所述蒸汽壓力控制器的旋轉來控制所述開口部的打開和關閉。
14.根據(jù)權利要求11所述的用于制造陶瓷生片的設備，其中，所述蒸汽壓力控制器包括第一狹縫部，包含多個第一狹縫；以及第二狹縫部，包含與所述第一狹縫相對應的多個第二狹縫，并在所述第一狹縫部上左右移動，以遮蓋或打開所述第一狹縫。
15.根據(jù)權利要求11所述的用于制造陶瓷生片的設備，其中，從所述漿料揮發(fā)出的溶劑在所述防止變干室中的濃度維持在所述溶劑的燃燒或爆炸的下限值。
全文摘要
在此公開了一種用于制造陶瓷生片的設備。該用于制造陶瓷生片的設備可包括施加單元，將漿料施加到膜上；干燥單元，使施加到膜上的漿料變干；以及防止變干室，設置在施加裝置與干燥單元之間，以阻止?jié){料變干。
文檔編號H01G4/12GK102202464SQ201110049170
公開日2011年9月28日 申請日期2011年3月1日 優(yōu)先權日2010年3月22日
發(fā)明者小野雅章, 崔元燮 申請人:三星電機株式會社