專利名稱：制造高分辨率有機(jī)薄膜圖案的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)施例涉及一種制造有機(jī)薄膜圖案的方法，并且更為具體地，涉及一種能實(shí)現(xiàn)簡單制造工藝、穩(wěn)定性及低成本的制造高分辨率有機(jī)薄膜圖案的方法。
背景技術(shù)：
有機(jī)物容易與其它物質(zhì)結(jié)合并且容易處理以便呈現(xiàn)期望的光電特性，因此它們作為有利于高性能且低成本下一代電子設(shè)備的材料而受到矚目。雖然低分子有機(jī)材料已經(jīng)用于利用真空沉積方法制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備或有機(jī)薄膜晶體管，但是由于真空工藝和陰影掩膜的有限分辨率而不容易制造高分辨率器件。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)施例克服了上述問題，還提供了另外的優(yōu)點(diǎn)。本實(shí)施例提供一種能實(shí)現(xiàn)簡單制造工藝、穩(wěn)定性及低成本的制造高分辨率有機(jī)薄膜圖案的方法。根據(jù)本實(shí)施例的一方面，提供一種形成有機(jī)薄膜圖案的方法，該方法包括在基板上形成第一有機(jī)層；通過選擇性地向所述第一有機(jī)層照射光能來選擇性地去除所述第一有機(jī)層，并將所述第一有機(jī)層的剩余部分形成為犧牲層；在所述基板以及所述犧牲層的整個(gè)表面上形成第二有機(jī)層；以及通過利用溶劑去除所述犧牲層來剝離形成在所述犧牲層上的第二有機(jī)層，并將剩余的第二有機(jī)層形成為第二有機(jī)層圖案。在形成所述第一有機(jī)層時(shí)，所述第一有機(jī)層可以包括氟基聚合物。在選擇性地去除所述第一有機(jī)層時(shí)，使用激光燒蝕方法向布置在所述第一有機(jī)層上的具有預(yù)定圖案的掩膜照射激光。在選擇性地去除所述第一有機(jī)層時(shí)，可以照射受激準(zhǔn)分子激光。在形成所述第二有機(jī)層時(shí)，所述第二有機(jī)層可以包括包含布置在所述基板上且位于第一電極與第二電極之間的有機(jī)發(fā)光材料的有機(jī)發(fā)光器件(OLED)的有機(jī)發(fā)光材料。可以形成不同顏色的多層有機(jī)發(fā)光材料以便發(fā)出白光。在形成所述第二有機(jī)層時(shí)，所述第二有機(jī)層可以是有機(jī)薄膜晶體管的有源層。在形成所述第二有機(jī)層時(shí)，所述第二有機(jī)層可以包括有機(jī)濾色器材料。在形成所述第二有機(jī)層時(shí)，所述第二有機(jī)層可以利用沉積方法形成。在剝離所述第二有機(jī)層時(shí)，所述溶劑可以是氟基溶劑。根據(jù)本實(shí)施例的另一方面，提供一種形成有機(jī)薄膜圖案的方法，該方法包括(a) 在基板上形成第一有機(jī)層；(b)通過選擇性地向所述第一有機(jī)層照射光能來選擇性地去除所述第一有機(jī)層，并由所述第一有機(jī)層的剩余部分形成犧牲層；(c)在所述基板以及所述犧牲層的整個(gè)表面上形成第二有機(jī)層；(d)通過利用溶劑去除所述犧牲層來剝離所述第二有機(jī)層的形成在所述犧牲層上的部分，并且由剩余的第二有機(jī)層形成第二有機(jī)層圖案；以及(e)在形成有所述第二有機(jī)層圖案的基板上連續(xù)執(zhí)行(a)至(d)的單元工藝，并且在所述基板的未形成所述第二有機(jī)層圖案的區(qū)域上形成另一第二有機(jī)層圖案。
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在形成所述第一有機(jī)層時(shí)，所述第一有機(jī)層可以包括氟基聚合物。在選擇性地去除所述第一有機(jī)層時(shí)，使用激光燒蝕方法向布置在所述第一有機(jī)層上的具有預(yù)定圖案的掩膜照射激光。在選擇性地去除所述第一有機(jī)層時(shí)，可以照射受激準(zhǔn)分子激光。在形成所述第二有機(jī)層時(shí)，所述第二有機(jī)層可以包括包含布置在所述基板上且位于第一電極與第二電極之間的有機(jī)發(fā)光材料的OLED的有機(jī)發(fā)光材料。有機(jī)發(fā)光材料可以包括低分子材料。在某些實(shí)施例中，在形成所述第二有機(jī)層期間形成的有機(jī)發(fā)光材料具有與連續(xù)執(zhí)行所述單元工藝期間形成的有機(jī)發(fā)光材料不同的顏色。在形成所述第二有機(jī)發(fā)光層期間形成的有機(jī)發(fā)光材料和連續(xù)執(zhí)行所述單元工藝期間形成的有機(jī)發(fā)光材料可以實(shí)現(xiàn)全彩色。在形成所述第二有機(jī)層時(shí)，所述第二有機(jī)層可以包括濾色器材料。在形成所述第二有機(jī)層期間形成的濾色器材料具有與連續(xù)執(zhí)行所述單元工藝期間形成的濾色器材料不同的顏色。在形成所述第二有機(jī)發(fā)光層期間形成的濾色器材料和連續(xù)執(zhí)行所述單元工藝期間形成的濾色器材料可以實(shí)現(xiàn)全彩色。在形成所述第二有機(jī)層時(shí)，所述第二有機(jī)層可以利用沉積方法形成。在剝離所述第二有機(jī)層時(shí)，所述溶劑可以是氟基溶劑。此外，上述步驟(e)可以被重復(fù)執(zhí)行預(yù)定的次數(shù)。


本實(shí)施例的上述和其它特征以及優(yōu)點(diǎn)將通過參考附圖詳細(xì)地說明其示范性實(shí)施例而變得更加清楚。附圖中圖IA至ID是說明根據(jù)實(shí)施例的形成有機(jī)薄膜圖案的方法的示意性截面圖；圖2A至2D是說明根據(jù)另一實(shí)施例的形成有機(jī)薄膜晶體管的有機(jī)半導(dǎo)體層的方法的示意性截面圖；圖3A至3D是說明根據(jù)實(shí)施例的形成圖IA至ID的單元有機(jī)薄膜圖案的后續(xù)工藝的示意性截面圖；圖4圖示說明根據(jù)實(shí)施例的在基板上包括不同顏色的有機(jī)發(fā)光層(R、G和B)的有機(jī)發(fā)光器件；圖5圖示說明根據(jù)實(shí)施例的利用光學(xué)顯微鏡觀察到的在單元有機(jī)薄膜圖案形成工藝期間制造的各種有機(jī)材料的精細(xì)圖案陣列的照片；圖6圖示說明根據(jù)實(shí)施例的通過連續(xù)執(zhí)行單元有機(jī)薄膜圖案形成工藝制造的并且利用熒光顯微鏡觀察到的具有不同發(fā)光波長的有機(jī)發(fā)光材料的像素陣列的照片；并且圖7是利用本實(shí)施例的方法制造的有機(jī)發(fā)光器件的發(fā)光特性與利用傳統(tǒng)陰影掩膜技術(shù)制造的有機(jī)發(fā)光器件的發(fā)光特性之間比較的曲線圖。
具體實(shí)施例方式在下文中，將參照附圖詳細(xì)描述示范性實(shí)施例。
圖IA至ID是說明根據(jù)實(shí)施例的形成有機(jī)薄膜圖案的方法的示意性截面圖。參見圖1A，形成有機(jī)薄膜圖案的方法包括在待在其上形成期望的有機(jī)薄膜圖案的基板110上形成第一有機(jī)層130?；?10可以包括諸如具有SW2作為主成份的玻璃基板、塑料基板或金屬箔之類的各種材料。通過對氟基聚合物膜執(zhí)行深層涂覆方法、旋涂方法等在基板110上形成氟基聚合物膜。氟基聚合物膜可以是下面通式1至通式3所表示的材料中的任何一種。此外，氟基聚合物膜可以是包含大約10%至大約50%的量的氟的功能材料。通式權(quán)利要求
1.一種形成有機(jī)薄膜圖案的方法，該方法包括在基板上形成第一有機(jī)層；通過選擇性地向所述第一有機(jī)層照射光能來選擇性地去除所述第一有機(jī)層的一部分， 并將所述第一有機(jī)層的剩余部分形成為犧牲層；在所述基板和所述犧牲層的整個(gè)表面上形成第二有機(jī)層；以及通過利用溶劑去除所述犧牲層來剝離形成在所述犧牲層上的第二有機(jī)層，并將剩余的第二有機(jī)層形成為第二有機(jī)層圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成第一有機(jī)層時(shí)，所述第一有機(jī)層包括氟基聚合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在選擇性地去除所述第一有機(jī)層時(shí)，使用激光燒蝕方法向布置在所述第一有機(jī)層上的具有預(yù)定圖案的掩膜照射激光。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在選擇性地去除所述第一有機(jī)層時(shí)，照射受激準(zhǔn)分子激光。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成所述第二有機(jī)層時(shí)， 所述第二有機(jī)層由包含布置在所述基板上且位于第一電極與第二電極之間的有機(jī)發(fā)光材料的有機(jī)發(fā)光器件的有機(jī)發(fā)光材料形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中形成不同顏色的多層有機(jī)發(fā)光材料以便發(fā)出白光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成所述第二有機(jī)層時(shí)， 所述第二有機(jī)層是有機(jī)薄膜晶體管的有源層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成所述第二有機(jī)層時(shí)， 所述第二有機(jī)層由有機(jī)濾色器材料形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成所述第二有機(jī)層時(shí)， 所述第二有機(jī)層利用沉積方法形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在剝離所述第二有機(jī)層時(shí)， 所述溶劑是氟基溶劑。
11.一種形成有機(jī)薄膜圖案的方法，該方法包括(a)在基板上形成第一有機(jī)層；(b)通過選擇性地向所述第一有機(jī)層照射光能來選擇性地去除所述第一有機(jī)層的一部分，并由所述第一有機(jī)層的剩余部分形成犧牲層；(c)在所述基板和所述犧牲層的整個(gè)表面上形成第二有機(jī)層；(d)通過利用溶劑去除所述犧牲層來剝離形成在所述犧牲層上的第二有機(jī)層，并且由剩余的第二有機(jī)層形成第二有機(jī)層圖案；以及(e)在形成有所述第二有機(jī)層圖案的基板上重復(fù)執(zhí)行步驟(a)至(d)，以在所述基板的未形成所述第二有機(jī)層圖案的區(qū)域上形成另一第二有機(jī)層圖案。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成第一有機(jī)層時(shí)，所述第一有機(jī)層包括氟基聚合物。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在選擇性地去除所述第一有機(jī)層時(shí)，使用激光燒蝕方法向布置在所述第一有機(jī)層上的具有預(yù)定圖案的掩膜照射激光。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在選擇性地去除所述第一有機(jī)層時(shí)，照射受激準(zhǔn)分子激光。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成所述第二有機(jī)層時(shí)，所述第二有機(jī)層由包含布置在所述基板上且位于第一電極與第二電極之間的有機(jī)發(fā)光材料的有機(jī)發(fā)光器件的有機(jī)發(fā)光材料形成。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中所述有機(jī)發(fā)光材料由低分子量的材料形成。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成所述第二有機(jī)層期間形成的有機(jī)發(fā)光材料具有與重復(fù)執(zhí)行步驟(a)至(d)期間形成的有機(jī)發(fā)光材料不同的顏色。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成所述第二有機(jī)層期間形成的有機(jī)發(fā)光材料和重復(fù)執(zhí)行步驟(a)至(d)期間形成的有機(jī)發(fā)光材料實(shí)現(xiàn)全彩色。
19.根據(jù)權(quán)利要求11所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成所述第二有機(jī)層時(shí)，所述第二有機(jī)層由濾色器材料形成。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成所述第二有機(jī)層期間形成的濾色器材料具有與重復(fù)執(zhí)行步驟(a)至(d)期間形成的濾色器材料不同的顏色。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成所述第二有機(jī)層期間形成的濾色器材料和重復(fù)執(zhí)行步驟(a)至(d)期間形成的濾色器材料實(shí)現(xiàn)全彩色。
22.根據(jù)權(quán)利要求11所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在形成所述第二有機(jī)層時(shí)，所述第二有機(jī)層利用沉積方法形成。
23.根據(jù)權(quán)利要求11所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中在剝離所述第二有機(jī)層時(shí)，所述溶劑是氟基溶劑。
24.根據(jù)權(quán)利要求11所述的形成有機(jī)薄膜圖案的方法，其中步驟(e)被重復(fù)執(zhí)行預(yù)定的次數(shù)。
全文摘要
一種制造高分辨率有機(jī)薄膜圖案的方法，該方法包括在基板上形成第一有機(jī)層；通過選擇性地向所述第一有機(jī)層照射光能來選擇性地去除所述第一有機(jī)層，并將所述第一有機(jī)層的剩余部分形成為犧牲層；在所述基板以及所述犧牲層的整個(gè)表面上形成第二有機(jī)層；以及通過利用溶劑去除所述犧牲層來剝離形成在所述犧牲層上的第二有機(jī)層，并將剩余的第二有機(jī)層形成為第二有機(jī)層圖案。
文檔編號(hào)H01L51/00GK102169959SQ20111000654
公開日2011年8月31日 申請日期2011年1月5日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月11日
發(fā)明者崔原碩, 徐旼撤, 李信斗, 金珉會(huì) 申請人:三星移動(dòng)顯示器株式會(huì)社, 首爾大學(xué)校產(chǎn)學(xué)協(xié)力團(tuán)