專利名稱：用于處理基質的方法和裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于處理基質(Substrat)的方法，尤其用于光電模塊的制造，以及一種適合用于執(zhí)行該方法的裝置。
背景技術：
在光電技術以及特別是電路板技術中，借助于生產溶液(Prozessloesimg)從相應的基質除去防蝕層(Resist-Schicht)。在此，部分地應用了生產溶液，其起泡沫或者與抗蝕劑或其它的材料(它在清潔時與這些材料相接觸)相結合導致了泡沫形成。這樣的抗蝕劑為蠟狀的所謂的熱熔體或者熱墨或聚合物或者顏料，其可借助于印刷機或照相平板印刷術以及絲網印刷來涂覆。所提到的泡沫形成可導致過程中斷或設備故障，甚至可能使得生產溶液完全不再能使用。在生產溶液復循環(huán)(Umpumpen)或噴灑到基質上時以及必要時還在從處理腔到箱或容器中的回路中也可產生泡沫。即所謂的除泡劑被用作用于減少泡沫的添加劑。然而出于成本以及環(huán)保原因其越來越被否定，這是因為不僅廢水的TOC負載而且CSB值升高，并且因此廢水的引入值 (Einleitwert)被超出。這即意味著，帶有有機的物質的水的負載太高。

發(fā)明內容
本發(fā)明目的在于提出一種開頭提到的方法以及一種適合于執(zhí)行其的裝置，利用其可避免現有技術的問題并且尤其生產溶液中的泡沫形成在從基質除去防蝕層時可保持盡可能小。該目的通過帶有權利要求1的特征的一種方法以及帶有權利要求7的特征的一種裝置來實現。本發(fā)明的有利的以及優(yōu)選的設計方案為其它權利要求的內容并且接下來詳細地來闡述。下面列舉的特征中的一些被提到僅用于本方法或者僅用于本裝置。但是，其應能夠不依賴于此不僅適用于本方法而且適用于本裝置。權利要求的說法通過明確的參考說明書的內容來完成。根據本發(fā)明設置成，基質首先在主洗提模塊(Haupt-Mrippmodul)中并且然后在次級洗提模塊(Nach-Strippmodul)中利用生產溶液來潤濕，其中，可能也能夠放棄次級洗提模塊。生產溶液收集在模塊下面的容器中或至少在主洗提模塊下面的容器中。在此，對于次級洗提模塊設置有至少一個容器，其中對于主洗提模塊設置有至少兩個容器。生產熔液被從主洗提模塊中首先直接地引入第二容器中，尤其利用至少一個簡單彎曲的或彎折的管。該第二容器與主洗提模塊的第一容器通過在它們之間的壁來分開，而該壁在明顯低于處于其中的生產溶液的表面水平的區(qū)域中通過凹口、孔洞、空隙等是可滲透液體的。尤其地，液體滲透性盡可能遠地在下部設置在容器中。在此，兩個容器可通過壁應用到大的容器中來形成，即通過它的分隔。那么，所提到的凹口等設置在壁的下部區(qū)域中，或者壁不完全插入直至底部。生產溶液被從第一容器中提取，尤其借助于泵被泵出，并且被重新引回到過程循環(huán)(Verfahrenskreislauf)中用于基質的潤濕。
即因此設置成，在主洗提模塊中生產溶液收集在第二容器中并且在此在其表面處產生有泡沫或存在的泡沫上升至表面。通過與第一容器的傳導液體的連接，其同樣填充以生產溶液，但是盡可能沒有泡沫。因此，基本上無泡沫的生產溶液可在那里被抽取用于基質的重新噴灑或潤濕。為了在主洗提模塊中收集生產溶液，可能也在次級洗提模塊中，可相應地設置有一種池等作為帶有的最深的點的收集池，管或其它的管線從其出來引導到所提到的容器中。這種回流管恰好可通過所提到的彎曲或通常它的造型來減少泡沫形成或盡可能再溶解泡沫。在本發(fā)明的另一設計方案中可設置成，泡沫在第二容器中在處于其中的溶液的表面處被在容器的側壁上移動，即可以說被移除到單獨的、布置在其旁邊的泡沫池中。其可以以不同的方式來實現，例如利用機械的滑塊，通過吹以壓縮空氣或通過噴灑、尤其噴灑以生產溶液本身。特別是噴灑被視為有利的，因為在此不僅泡沫可以說被機械地移動，而且至少部分地被溶解或破壞。在該泡沫池中，那么可同樣再次存在生產溶液，其中泡沫在表面處， 其中，生產溶液再次被抽取并且有利地被引回到第一容器中，特別有利地再次通過泵。替代地，支路可設置到廢水排出管或廢水處理部處。為了能夠更好地控制泡沫離開第二容器到泡沫池中的運動，即當泡沫在第二容器的側壁上被移動時，這里可設置有一種高度可調節(jié)的壩或一種隔板條(Schottleiste)。其相應地可在高度上這樣調節(jié)，使得其處于生產溶液的液面的高度上或在其上方一小段。由此實現了，僅僅泡沫在側面上被推動并且盡可能沒有生產溶液。在本發(fā)明的有利的設計方案中，在泡沫池中也可通過尤其再次噴灑以生產溶液來破除或去除泡沫。在泡沫到泡沫池的運動方向上可設置有多個彼此串聯的噴嘴裝置或噴灑裝置，以便可以說多倍地破除泡沫以及使泡沫良好地移動。各個裝置那么不再需要利用太大的壓力來運行，這對于生產溶液中的運動以及轉化再次是有利的。前面提到的回流管有利地可這樣構造，使得其在生產溶液的表面之下在第二容器中結束。由此可在引入第二容器中時減少泡沫形成。次級洗提模塊可類似于主洗提模塊那樣來構建，即例如大致同樣長或也具有用于在其中使用的生產溶液的第一和第二容器。有利地，次級洗提模塊更短地并且更簡單地來構建并且僅具有唯一的容器。在次級洗提模塊中所使用的生產溶液再次被收集在其中，有利地類似于在主洗提模塊中那樣，并且然后被引入容器中。為此，可再次設置有之前所說明的回流管。在帶有僅僅一個容器的次級洗提模塊的簡化的構造中可能將生產溶液從那里再次引回到主洗提模塊的容器中的一個中用于那里重新的使用。對此，可再次設置有可滲透液體的壁或者帶有凹口等的壁。替代地，可設置有從次級洗提模塊中的容器出來的葉柵 (Kaskade)，其同樣在盡可能地避免泡沫形成的情況下運送生產溶液。不僅在主洗提模塊中而且在次級洗提模塊中可供應有用于來自唯一的容器(即主洗提模塊的第一容器)的生產溶液的噴灑裝置等。那么，避免泡沫形成可完全集中于該容器中的生產溶液。這些和其它的特征除了來自于權利要求也來自于說明書和附圖，其中，各個特征相應地能夠單獨地或者多個以子組合的形式在本發(fā)明的實施形式中并且在其它領域來實現并且示出有利的以及本身能夠保護的實施方案，這里針對其要求保護。該申請劃分成各個段落以及中間標題不在其普遍性上限制在其下做出的陳述。


本發(fā)明的實施例在附圖中示意性地示出并且接下來詳細地來闡述。在附圖中圖1顯示了根據本發(fā)明的用于處理基質的設備的示意性的側視圖示，圖2在帶有功能圖的放大圖中顯示了來自圖1的主洗提模塊和次級洗提模塊，圖3顯示了在基質的通過方向上對根據圖2的主洗提模塊的視圖，圖4顯示了對對應于圖3的圖示的俯視圖以及圖5顯示了在一替代的主洗提模塊中代替噴灑管用于基質的浸滲池(Tauchkid) 的視圖。
具體實施例方式在圖1中示出了根據本發(fā)明的用于處理基質13的設備11，其中，基質13對于用于光電模塊的太陽能電池是有利的。設備11以已知的方式具有移入模塊15，侵蝕模塊 (Aetzmodul) 17聯接到其處。在那里，基質13上的結構通過侵蝕被打開，如也已知的那樣， 因此不必對此詳細研究。在侵蝕模塊17之后有同樣已知的沖洗模塊19。那么聯接有主洗提模塊21，如之前大體闡述過的那樣，次級洗提模塊23再跟隨其后。然后再跟隨有第二沖洗模塊25、干燥模塊27和移出模塊四。因此在通過方向上從左向右以本身已知的方式處理基質13。主洗提模塊21在基質13或其通行道(Durchlaufbahn)上具有上部的噴灑管31a 并且在其下面具有下部的噴灑管31b。它們相應地將生產溶液33噴灑到基質13上，這替代地也可僅從一側實現。如之前所描述的那樣，利用噴濺的生產溶液33將基質13從抗蝕劑中釋放。容器32位于在基質13下面，生產溶液33最終收集在容器32中。泡沫34位于生產溶液33的表面上，以接下來所描述的方式應盡可能地避免或去除泡沫34。借助于泵36， 生產溶液33被從容器32中泵出并且再供給給噴灑管31a和31b用于從基質13中進一步除去防蝕層。用于基質13的上部的噴灑管38a和下部的噴灑管38b位于次級洗提模塊23中。 其用于從基質13中除去防蝕層的殘留物，其中，其通常不再是非常多的。其導致在次級洗提模塊23中在基質13下方的容器39中僅非常少地或幾乎不產生泡沫，使得在那里幾乎僅包含生產溶液33。借助于級聯管線(KaskadenleitimgHO可將這樣的、基本上無泡沫的生產溶液引導到主洗提模塊21的處于旁邊的容器32中。此外，通過泵42可實現供給噴灑管 38a和38b以生產溶液33。在根據圖2的詳細的圖示中可看出，收集池44位于基質13或其通行道下方。它收集了全部的由噴灑管31a和31b提取的生產溶液33并且借助于回流管46將其引導到容器32中，亦即到右邊的第二罐式容器(TanlAehaelter)49中。如所示出的那樣，回流管46 可簡單地或一再地彎曲、起褶或另外地構造，以便將引導到其中的生產溶液33無泡沫地或盡可能減少泡沫地引入第二罐式容器49中?；亓鞴?6的一端或者可靠近生產溶液33的表面水平終止。替代地其可更深地終止，這在許多情況中充當用于進一步減少泡沫。
非常多的泡沫34位于在第二罐式容器49中的生產溶液33的表面上，因為這里由于防蝕劑成分從基質13中脫離，泡沫形成被加強。在容器32中，通過間壁51也還形成有第一罐式容器48。這可簡單地通過間壁51的插入到容器32中來實現。在此，例如通過間壁51不完全伸延直到底面，在間壁51的下部的區(qū)域中設置有開口 52。替代地，也可在間壁 51中設置有開口或者缺口或凹口。因此，第一罐式容器48和第二罐式容器49液體導通地彼此相連接。通過在下部區(qū)域中的開口 52僅發(fā)生生產溶液33的交換，即沒有泡沫34。這引起，在第一罐式容器48中實際上僅包含純的生產溶液33或很少泡沫。在放大地示出的次級洗提模塊23中同樣設置有收集池55，其可以以非常簡單方式將生產溶液33引入容器39中。因為這里在生產溶液中33中幾乎不包含有防蝕劑成分， 或者甚至完全沒有，所以正好極大地減少泡沫形成。替代地，回流管46可類似于在主洗提模塊21中那樣來設置?？勺R別出的是，生產溶液33在容器39中不具有泡沫。此外可設置有級聯管線40，以便將生產溶液33 (其是無泡沫的并且基本上無防蝕劑的并且因此還非常未消耗的)引入容器32中，即可以說用于那里的生產溶液的更小。類似于回流管46，這種級聯管線40可構造用于避免泡沫。它可引導到第一罐式容器48中，或者如所示出的那樣到第二罐式容器49中。在圖3中在基質的通過方向上顯示了通過主洗提模塊21的剖面圖。可識別出的是，在第二罐式容器49上形成的泡沫34被處理或移動。對此，右邊側向地在第二罐式容器 49旁邊由側壁50分隔地存在泡沫池59。泡沫34應被引入到其中并且被破除，以便能夠再次使用生產溶液33。為了盡可能僅泡沫34被向右運輸并且沒有生產溶液33從第二罐式容器49中流出，設置有高度可調節(jié)的隔板條57。其可被這樣高地移動，使得它大致對應于在第二罐式容器49中的純的生產溶液33的表面水平。然后，僅泡沫34還被向右在其上移動進入泡沫池59中。為了移動泡沫34，完全在左邊在第二罐式容器49上設置有管狀的長形的泡沫噴嘴61a作為噴灑裝置，并且靠近側壁50或隔板條57設置有泡沫噴嘴61b。因此這些噴嘴加熱了泡沫噴嘴，這是因為其構造用于移動泡沫或者甚至用于破除泡沫并且服務于此。但是， 其絕不應用于產生泡沫或者促進其產生。噴嘴可具有圓形的噴嘴開口或者長形的，例如根據隙縫式噴嘴的類型。多數或者甚至許多這種噴嘴設置在長形的管處，因此其正好被標識為管狀的和長形的。這些泡沫噴嘴全體向右并且傾斜向下指向，即大致在一個方向上，泡沫噴嘴61a 甚至以還更平的角度。其以高壓噴出生產溶液33作為相當純凈的霧，霧將泡沫34從在第二罐式容器49中的生產溶液33的表面向右推動到泡沫池59中并且已經略微破除、即減少泡沫34。第三泡沫噴嘴61c位于在泡沫池59上方，其生產溶液33的輻射方向傾斜向左下方，亦即也就是說到泡沫池59中的泡沫34的整個表面上。其不用于移動泡沫34，而是用于破除，使得它再次接受純的生產溶液33的形式。然后借助于排出管62和排水泵63，生產溶液33可被從泡沫池59中取出并且或者根據狀態(tài)或防蝕劑含量引導到廢水處理部或者返回到循環(huán)中。第一罐式容器48的第一分罐式容器48'位于第二罐式容器49左邊。其通過帶有設置在下部的區(qū)域中的開口 52'的間壁50來分隔并且具有之前所說明的泵36，其供應噴灑管31a和31b。在根據圖4的俯視圖中可識別出，如何借助于泡沫噴嘴61a和61b，在生產溶液33 的表面上的泡沫34不僅在第一罐式容器48上而且在第二罐式容器49上可在圖示中被向下移動到泡沫池59上。也可識別出在第一罐式容器48與第二罐式容器49之間的間壁51。 之前所說明的第一分罐式容器48'位于左上方，通過所提到的間壁51'與第一罐式容器 48分開。可識別出，側壁50在第一罐式容器48和第二罐式容器49的整個寬度上并排伸延，并且同樣還有泡沫池59。同樣適用于泡沫噴嘴61a、61b和61c。在圖5中示出了圖2的圖示的一個變型，帶有主洗提模塊21 ‘，在其中帶有位于其中的生產溶液33的容器32'以及回流管46'對應于圖2的實施方案。該變型這里在于， 基質13不可以說自由地在空氣中由滾輪運輸道(Rollentransportbahn)來運輸并且利用噴灑管31來噴灑，而是通過浸滲池45'來移動。在此，波浪管6 和6 在基質上方和下方用于甚至在浸沒時還附加地攪拌生產溶液33并且因此增強處理效果。適用于上部的波浪管65a的是，其作為波浪管可浸沒到生產溶液33中或者部分地浸沒并且部分地突出于其，并且那么可能正好也能夠引起噴灑功能。波浪管6 和6 借助于在液體容器32'中的泵36'來供給。從圖5中可得出，這里浸沒池的原理還對于次級洗提模塊中在右邊實現，但是這不必是強制如此的。因此這里可放棄精確的闡述。原理上，代替噴灑，浸沒池中處理基質是已知的。就此而言，技術上的轉化對于專業(yè)人員也不是困難的。這里，優(yōu)點主要在于，在主洗提模塊21的腔中僅產生較少的泡沫。它們的組合也是可能的。這里示出了本發(fā)明在各個處理腔或工藝模塊中的應用，在其中基質被噴灑或者被浸在通流池或浸沒池中。但是其也可有利地使用在帶有所謂的直立的波浪的池中，使得能夠不浸沒地實現平面的潤濕。它也可與超聲波相組合地有效地來應用。
權利要求
1.一種用于處理基質的方法，尤其用于光電模塊的制造，其中，在方法步驟中，通過以生產溶液噴灑或潤濕從基質除去防蝕層，其特征在于，所述基質首先在主洗提模塊中并且然后在次級洗提模塊中利用所述生產溶液來潤濕，并且所述生產溶液收集在所述模塊下方的容器中，其中，每個模塊設置有至少一個所述容器，并且所述容器與不同的模塊彼此分隔，其中，所述生產溶液在所述主洗提模塊中收集在兩個容器中并且在此首先被直接引入第二容器中，所述第二容器通過壁與第一容器很大程度上分開，所述壁在明顯低于處于其中的生產溶液的表面水平的區(qū)域中通過凹口等是可滲透液體的，其中，從所述第一容器中所述生產溶液被提取并且被重新引回到過程循環(huán)中用于所述基質的潤濕。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述生產溶液在回流管中被從所述主洗提模塊中的平的收集裝置中引入所述第二容器中，其中，優(yōu)選地通過所述回流管的成型、尤其利用至少一個彎曲來減少泡沫形成。
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述回流管在所述第二容器中在所述生產溶液的表面水平之下終止。
4.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，通過噴灑裝置，泡沫在所述第二容器中在所述生產溶液的表面處在所述容器的側壁上被移動到單獨的、布置在那旁邊的泡沫池中，其中，潰散的泡沫或凈化生產溶液被從所述泡沫池中提取或泵出并且被引回到所述第一容器中。
5.根據權利要4所述的方法，其特征在于，所述泡沫還在所述泡沫池中被從上面借助于噴灑裝置噴灑以生產溶液用于破除所述泡沫或去除所述泡沫并且轉化成生產溶液。
6.根據權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，生產溶液被從所述次級洗提模塊或設置在那里的容器引導到所述主洗提模塊中的所述第二容器中，尤其經由至少一個葉柵來導引。
7.一種用于處理基質的裝置，尤其用于光電模塊的制造，優(yōu)選地用于執(zhí)行根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，設置有用于所述基質的主洗提模塊和后續(xù)的次級洗提模塊，帶有用于將生產溶液施加到通過所述洗提模塊的運輸路徑中的基質上的噴灑裝置或潤濕裝置，其特征在于，所述主洗提模塊具有用于收集所述生產溶液的兩個容器，生產溶液在收集之后引入所述第二容器中，其中，所述第二容器通過壁與第一容器很大程度上分開， 所述壁在明顯低于處于其中的生產溶液的表面水平的區(qū)域中通過凹口等是可滲透液體的。
8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，在所述主洗提模塊中的平的收集裝置，其帶有回流管，所述回流管引導到所述第二容器中、尤其到處于其中的生產溶液的表面水平之下、優(yōu)選地到下部的三分之一中。
9.根據權利要求8所述的裝置，其特征在于，所述回流管構造用于減少流過的生產溶液的泡沫形成，尤其通過至少一個彎曲。
10.根據權利要求7至9中任一項所述的裝置，其特征在于，在所述主洗提模塊中的所述容器上方的噴灑裝置，其具有向所述容器中的至少一個、優(yōu)選地兩個容器的側面區(qū)域的噴灑方向，其中，在所述側面區(qū)域中布置有泡沫池用于接收在所述容器的側壁上移動的泡沫，其中，尤其另一噴灑裝置指向所述泡沫池的內部中用于破除處于其中的泡沫作為生產溶液。
11.根據權利要求7至10中任一項所述的裝置，其特征在于，帶有用于所述主洗提模塊中的所述基質的生產溶液的浸滲池作為潤濕裝置，尤其也在所述次級洗提模塊中，其中，優(yōu)選地設置有從所述浸滲池到所述第二容器中的溢流。
12.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，在用于通過所述浸滲池的基質的通行道上方和下方的波浪管用于有目的地以生產溶液施加或潤濕。
13.根據權利要求7至12中任一項所述的裝置，其特征在于，從用于在所述次級洗提模塊中收集生產溶液的容器到所述主洗提模塊的第二容器中的級聯的管線。
全文摘要
在用于處理基質的一種方法和一種裝置中，通過以生產溶液噴灑從基質除去防蝕層?；|首先在主洗提模塊中并且然后在次級洗提模塊中被噴灑以生產溶液，其收集在模塊下方的容器中。每個模塊設置有容器。生產溶液在主洗提模塊中被收集到兩個容器中并且在此首先被直接引入到第二容器中，第二容器通過壁(其在明顯低于生產溶液的表面水平的區(qū)域中是可滲透液體的)與第一容器很大程度上分開。從第一容器中生產溶液被無泡沫地提取并且被重新引回到過程循環(huán)中用于潤濕基質。
文檔編號H01L21/00GK102576199SQ201080031214
公開日2012年7月11日 申請日期2010年7月5日 優(yōu)先權日2009年7月6日
發(fā)明者H·卡普勒, J·拉姆普雷希特 申請人:吉布爾·施密德有限責任公司