專利名稱:發(fā)光元件的制造方法,使用發(fā)光元件的有機(jī)顯示面板、有機(jī)發(fā)光裝置及有機(jī)顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及發(fā)光元件的制造方法、使用發(fā)光元件的有機(jī)顯示面板、有機(jī)發(fā)光裝置及有機(jī)顯示裝置。
背景技術(shù):
近年進(jìn)行研究開(kāi)發(fā)的有機(jī)電致發(fā)光元件(以下,記作“有機(jī)EL元件”)是利用有機(jī)材料的場(chǎng)致發(fā)光現(xiàn)象的發(fā)光元件。有機(jī)EL元件具有在第1電極(陽(yáng)極)與第2電極(陰極)之間夾入有機(jī)發(fā)光層的構(gòu)造。在有機(jī)發(fā)光層的側(cè)方形成由絕緣材料構(gòu)成的提,由該提規(guī)定有機(jī)發(fā)光層的形狀。簡(jiǎn)單說(shuō)明有機(jī)EL元件的制造工序的一例,首先,在基板上形成第1電極,在該基板上以覆蓋第1電極的方式形成用于形成提的提材料層。其后,對(duì)提材料層選擇性曝光后,使用顯影液進(jìn)行顯影處理,由此除去提材料層的非固化部分,在相當(dāng)于第1電極的部分形成開(kāi)口。開(kāi)口形成后,在通過(guò)開(kāi)口露出的第1電極上形成包括有機(jī)發(fā)光層的功能層,在功能層上形成第2電極(例如參照專利文獻(xiàn)1)。專利文獻(xiàn)1 日本特許第4439589號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
在相當(dāng)于第1電極的提材料層的部分形成開(kāi)口時(shí),第1電極上的提材料層并沒(méi)有被顯影處理全部除去,而在第1電極上殘留一部分提材料層(以下,將殘留的提材料層稱為 “提殘?jiān)?。通常,提由UV固化樹(shù)脂等樹(shù)脂材料構(gòu)成,該樹(shù)脂材料是絕緣性材料。因此,由于提殘?jiān)嬖谟诘?電極上,招致有機(jī)EL元件中的驅(qū)動(dòng)電壓的上升。提如上所述是樹(shù)脂材料即有機(jī)材料,因此能夠通過(guò)UV臭氧處理等來(lái)去除提殘?jiān)?但相反存在提的撥液性受損的問(wèn)題。本發(fā)明的目的在于提供一種在維持提的撥液性的情況下減少提殘?jiān)⑶曳乐钩霈F(xiàn)新的設(shè)想的不良情況于未然的發(fā)光元件的制造方法。為了解決上述課題,本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法,包括第1工序,在基板的上方形成包含第1電極的基底層;第2工序,在所述基底層上形成中間層;第3工序, 在所述中間層上形成具有感光性樹(shù)脂材料的樹(shù)脂材料層;第4工序,在將所述樹(shù)脂材料層選擇性曝光后,使用溶解所述樹(shù)脂材料層及所述中間層這二者的顯影液進(jìn)行顯影處理,由此(a)除去所述樹(shù)脂材料層的非固化部分而形成貫穿所述樹(shù)脂材料層通到所述中間層的開(kāi)口,(b)使所述顯影液的一部分通過(guò)所述開(kāi)口浸入到所述中間層側(cè),將所述中間層中的與所述開(kāi)口對(duì)應(yīng)的第1區(qū)域及作為其周邊的第2區(qū)域的至少表面部除去;第5工序,通過(guò)對(duì)在所述第4工序后殘留的樹(shù)脂材料層加熱,使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空 (overhang)部分軟化而垂向下方,從而覆蓋在由于所述第2區(qū)域的至少表面部被除去而產(chǎn)生的所述樹(shù)脂材料層下方的空間露出的所述中間層的端部,并填埋所述樹(shù)脂材料層下方的空間,由此使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分與所述基底層或所述中間層上接觸而形成由所述樹(shù)脂材料層構(gòu)成的隔壁;第6工序,在所述第5工序之后,在多個(gè)所述隔壁之間形成包括有機(jī)發(fā)光層的功能層;和第7工序,在所述功能層的上方形成第2電極。在本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法中,在基板的上方形成包括第1電極的基底層后,在該基底層上不形成樹(shù)脂材料層,而是在該基底層上進(jìn)一步形成中間層,在該中間層上形成樹(shù)脂材料層。并且,在第4工序的顯影處理時(shí),形成通到中間層的開(kāi)口,將與該中間層的第1區(qū)域?qū)?yīng)的樹(shù)脂材料層的一部分(以下記作“開(kāi)口對(duì)象部分”)連同中間層的所述第1區(qū)域及第2區(qū)域的表面部一起除去。通過(guò)除去中間層的所述第1區(qū)域及第2區(qū)域的表面部,從而在該中間層的第1區(qū)域上形成的開(kāi)口對(duì)象部分失去基礎(chǔ),與該第1區(qū)域及第2區(qū)域的表面部一起被除去。由此, 能夠降低在顯影處理后開(kāi)口對(duì)象部分的一部分作為殘?jiān)嬖谟诨讓由系目赡苄?。此外,在?工序的顯影處理時(shí),不僅除去中間層中的與開(kāi)口對(duì)應(yīng)的所述第1區(qū)域,其周邊的第2區(qū)域也一并除去。由于除去比與開(kāi)口對(duì)應(yīng)的所述第1區(qū)域更廣的區(qū)域,因此能更切實(shí)地除去開(kāi)口對(duì)象部分。但是,在第4工序中,中間層在第2區(qū)域被除去,結(jié)果在樹(shù)脂材料層下方形成空間, 可能會(huì)產(chǎn)生樹(shù)脂材料層的浮起、剝落等新不良情況。因此,在本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法中,在第5工序中,通過(guò)由加熱使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分軟化而垂向下方,從而覆蓋在所述空間露出的所述中間層的端部,并填埋所述空間。由此,使樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分與基底層或中間層上接觸而形成隔壁。因此,隔壁與基底層或中間層的密接性提高,能夠防止隔壁的浮起、剝落等可能發(fā)生的不良情況于未然。
圖1是示意表示實(shí)施方式1的顯示裝置1的整體結(jié)構(gòu)的框圖。圖2是表示實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板的一部分的俯視圖。圖3是示意表示實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板的局部剖面的剖面圖。圖4是表示不形成殘?jiān)訒r(shí)的有機(jī)EL顯示面板的制造工序的工序圖。圖5是表示實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板的制造工序的一例的工序6是表示實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中的圖4所示工序的后續(xù)部分的一例的工序圖。圖7(a)是描繪顯影處理后的提材料層的照片的示意圖。圖7(b)是描繪烘烤后的提材料層的照片的示意圖。圖8是示意表示實(shí)施方式1的變形例中的有機(jī)EL顯示面板的局部剖面的剖面圖。圖9是表示實(shí)施方式1的變形例中的有機(jī)EL顯示面板的制造工序的一例的工序圖。圖10是表示實(shí)施方式1的變形例中的有機(jī)EL顯示面板的一部分的俯視圖。
圖11是表示顯示裝置100的外觀的外觀立體圖。圖12(a)是表示顯影處理后的提材料層的照片。圖12(b)是表示烘烤后的提材料層的照片。
具體實(shí)施例方式[實(shí)施方案]作為本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法,包括第1工序,在基板的上方形成包含第1電極的基底層;第2工序,在所述基底層上形成中間層;第3工序,在所述中間層上形成具有感光性樹(shù)脂材料的樹(shù)脂材料層;第4工序,在將所述樹(shù)脂材料層選擇性曝光后,使用溶解所述樹(shù)脂材料層及所述中間層這二者的顯影液進(jìn)行顯影處理,由此(a)除去所述樹(shù)脂材料層的非固化部分而形成貫穿所述樹(shù)脂材料層通到所述中間層的開(kāi)口,(b)使所述顯影液的一部分通過(guò)所述開(kāi)口浸入到所述中間層側(cè),將所述中間層中的與所述開(kāi)口對(duì)應(yīng)的第 1區(qū)域及作為其周邊的第2區(qū)域的至少表面部除去;第5工序,通過(guò)對(duì)在所述第4工序后殘留的樹(shù)脂材料層加熱,使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分軟化而垂向下方,從而覆蓋在由于所述第2區(qū)域的至少表面部被除去而產(chǎn)生的所述樹(shù)脂材料層下方的空間露出的所述中間層的端部,并填埋所述樹(shù)脂材料層下方的空間,由此使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分與所述基底層或所述中間層上接觸而形成由所述樹(shù)脂材料層構(gòu)成的隔壁;第6工序,在所述第5工序之后,在多個(gè)所述隔壁之間形成包括有機(jī)發(fā)光層的功能層;和第7工序,在所述功能層的上方形成第2電極。在本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法中,在基板的上方形成包括第1電極的基底層后,在該基底層上不形成樹(shù)脂材料層,而是在該基底層上進(jìn)一步形成中間層,在該中間層上形成樹(shù)脂材料層。并且,在第4工序的顯影處理時(shí),形成通到中間層的開(kāi)口,所以將與該中間層的第 1區(qū)域?qū)?yīng)的樹(shù)脂材料層的一部分(以下記作“開(kāi)口對(duì)象部分”)連同中間層的所述第1區(qū)域及第2區(qū)域的表面部一起除去。通過(guò)除去中間層的所述第1區(qū)域及第2區(qū)域的表面部,從而在該中間層的第1區(qū)域上形成的開(kāi)口對(duì)象部分失去基礎(chǔ),與該第1區(qū)域及第2區(qū)域的表面部一起被除去。由此, 能夠降低在顯影處理后開(kāi)口對(duì)象部分的一部分作為殘?jiān)嬖谟诨讓由系目赡苄浴4送?,在?工序的顯影處理時(shí),不僅除去中間層中的與開(kāi)口對(duì)應(yīng)的所述第1區(qū)域,其周邊的第2區(qū)域也一并除去。由于除去比與開(kāi)口對(duì)應(yīng)的所述第1區(qū)域更廣的區(qū)域,因此能更切實(shí)地除去開(kāi)口對(duì)象部分。但是,在第4工序中,中間層在第2區(qū)域被除去,結(jié)果在樹(shù)脂材料層下方形成空間, 可能會(huì)產(chǎn)生樹(shù)脂材料層的浮起、剝落等新不良情況。因此,在本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法中,在第5工序中,通過(guò)由加熱使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分軟化而垂向下方,從而覆蓋在所述空間露出的所述中間層的端部,并填埋所述空間。由此,使樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分與基底層或中間層上接觸而形成隔壁。因此,隔壁與基底層或中間層的密接性提高,能夠防止隔壁的浮起、剝落等可能發(fā)生的不良情況于未然。在此,作為本發(fā)明的其它方案,所述中間層和所述樹(shù)脂材料可以由同一顯影液蝕刻。在本方案的發(fā)光元件的制造方法中,由于所述中間層和所述樹(shù)脂材料由同一顯影液蝕刻,因此不需要另外增加用于除去所述中間層的工序,從生產(chǎn)工序方面考慮是有效的。在此,作為本發(fā)明的其它方案,作為所述中間層,可以使用鎢氧化物、鉬氧化物或鎢鉬氧化物,作為所述樹(shù)脂材料層,可以使用丙烯酸酯樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂或酚醛樹(shù)脂,作為所述顯影液可以使用TMAH即四甲基氫氧化銨。在此,作為本發(fā)明的其它方案,可以使用對(duì)所述第4工序中的所述顯影液不具有溶解性的材料構(gòu)成所述第1工序中的基底層。在本方案的發(fā)光元件的制造方法中,由于使用對(duì)所述第4工序中的所述顯影液不具有溶解性的材料構(gòu)成所述基底層,因此能夠防止所述基底層被所述顯影液溶解。在此,作為本發(fā)明的其它方案可以是,所述基底層僅由第1電極構(gòu)成,作為所述第 1電極使用ITO或IZOo在此,作為本發(fā)明的其它方案可以是,所述第5工序中,通過(guò)使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分軟化而垂向下方,從而覆蓋在所述樹(shù)脂材料層下方的空間露出的所述中間層的端部,并填埋所述樹(shù)脂材料層下方的空間,由此使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分與所述基底層或所述殘?jiān)由辖佑|,并且使相對(duì)的樹(shù)脂材料層彼此不接觸而形成開(kāi)口,形成由樹(shù)脂材料層構(gòu)成的多個(gè)隔壁,所述第6工序中,在相當(dāng)于所述多個(gè)隔壁之間即所述開(kāi)口的部分形成包括有機(jī)發(fā)光層的功能層。在此,作為本發(fā)明的其它方案可以是,使所述中間層中的除了所述第1區(qū)域及所述第2區(qū)域的表面部之外的一部分在所述第4工序后殘留于所述基底層上,在所述第6工序中,將所述功能層形成在殘留的所述中間層上。此時(shí),作為本發(fā)明的其它方案,所述中間層可以是對(duì)于所述功能層注入和/或輸送電荷的電荷注入輸送層。在本方案的發(fā)光元件的制造方法中,由于所述電荷注入輸送層的一部分在所述第 4工序后殘留于基底層上,因此能夠?qū)λ龉δ軐佑行У剡M(jìn)行電荷的注入和/或輸送。在此,作為本發(fā)明的其它方案可以是,將所述基底層設(shè)為作為第1電極的陽(yáng)極,將所述電荷注入輸送層設(shè)為對(duì)于所述功能層注入空穴的空穴注入層。在本方案的發(fā)光元件的制造方法中,由于所述電荷注入輸送層是對(duì)所述功能層注入空穴的空穴注入層,因此能夠有效地對(duì)所述功能層注入空穴。在此,作為本發(fā)明的其它方案可以是,在所述第4工序中,將所述中間層中的所述第1區(qū)域及所述第2區(qū)域全部除去,在所述第6工序中,將所述功能層形成在所述基底層上。在此,作為本發(fā)明的一方案的有機(jī)顯示面板,使用由上述本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法制造的發(fā)光元件。本方案的有機(jī)顯示面板,通過(guò)使用由作為上述本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法制造的發(fā)光元件而得到,因此,在第1電極上不殘留樹(shù)脂材料層的殘?jiān)?。由此,本方案的有機(jī)顯示面板中,能夠抑制驅(qū)動(dòng)電壓的上升。在此,作為本發(fā)明的一方案的有機(jī)發(fā)光裝置,使用由上述本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法制造的發(fā)光元件。
本方案的有機(jī)發(fā)光裝置,通過(guò)使用由作為上述本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法制造的發(fā)光元件而得到,因此,在第1電極上不殘留樹(shù)脂材料層的殘?jiān)?。由此,本方案的有機(jī)發(fā)光裝置中,能夠抑制驅(qū)動(dòng)電壓的上升。在此,作為本發(fā)明的一方案的有機(jī)顯示裝置,使用由上述本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法制造的發(fā)光元件。本方案的有機(jī)顯示裝置,通過(guò)使用由作為上述本發(fā)明的一方案的發(fā)光元件的制造方法制造的發(fā)光元件而得到,因此,在第1電極上不殘留樹(shù)脂材料層的殘?jiān)?。由此,本方案的有機(jī)顯示裝置中,能夠抑制驅(qū)動(dòng)電壓的上升。[實(shí)施方式1]<顯示裝置100的整體結(jié)構(gòu)>使用圖1說(shuō)明本實(shí)施方式的顯示裝置100的整體結(jié)構(gòu)。圖1是示意表示顯示裝置 100的整體結(jié)構(gòu)的框圖。如圖1所示,顯示裝置100具有有機(jī)EL顯示面板10和與其連接的驅(qū)動(dòng)控制部20 而構(gòu)成。有機(jī)EL顯示面板10是利用了有機(jī)材料的場(chǎng)致發(fā)光現(xiàn)象的頂部發(fā)光型有機(jī)EL顯示面板。此外,驅(qū)動(dòng)控制部20由4個(gè)驅(qū)動(dòng)電路21 M和控制電路25構(gòu)成。另外,在實(shí)際的顯示裝置100中,驅(qū)動(dòng)控制部20對(duì)于有機(jī)EL顯示面板10的配置不限于此。<有機(jī)EL顯示面板10的結(jié)構(gòu)>(有機(jī)EL顯示面板10的概略結(jié)構(gòu))詳細(xì)說(shuō)明有機(jī)EL顯示面板10的結(jié)構(gòu)。圖2是示意表示實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板10中的有機(jī)發(fā)光層與提的配置關(guān)系的圖。在圖2的例子中,采用井字狀的像素提55,由沿Y軸方向延伸的提要素5 劃分在 X軸方向相鄰的有機(jī)發(fā)光層56al、56bl、56cl,并劃分有機(jī)發(fā)光層56a2、56b2、56c2。有機(jī)發(fā)光層以子像素為單位被劃分,由在X軸方向相鄰的3個(gè)子像素10a、10b、10c 的組合構(gòu)成1個(gè)像素。另一方面,由沿X軸方向延伸的提要素5 劃分在Y軸方向相鄰的有機(jī)發(fā)光層 56al、56a2,并劃分有機(jī)發(fā)光層56bl、56b2,而且劃分有機(jī)發(fā)光層56cl、56c2。圖3是示意表示實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板10的要部剖面的局部剖面圖(圖 2的A-A的剖面)。如圖3所示,在實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板10中,在TFT基板1上以子像素為單位呈行列狀地圖案形成作為陽(yáng)極的第1電極2。在TFT基板1上,在第1電極 2之間,以一部分攀上兩側(cè)的第1電極的端部的狀態(tài)形成作為中間層的殘?jiān)?。此外,在第1電極2之間覆蓋殘?jiān)?形成提4,在由提4規(guī)定的區(qū)域內(nèi)層疊有機(jī)發(fā)光層5。而且,在有機(jī)發(fā)光層5上,分別以越過(guò)由提4規(guī)定的區(qū)域而與相鄰的有機(jī)發(fā)光層5 的電子注入層、第2電極、封止層8連續(xù)的方式形成電子注入層6、作為陰極的第2電極7及封止層8。以下,詳細(xì)說(shuō)明有機(jī)EL顯示面板10的各部分的材料等?!锤鞑糠纸Y(jié)構(gòu)〉
TFT基板1是在例如無(wú)堿玻璃、鈉玻璃、無(wú)熒光玻璃、磷酸系玻璃、硼酸系玻璃、石英、丙烯酸系樹(shù)脂、苯乙烯系樹(shù)脂、聚碳酸酯系樹(shù)脂、環(huán)氧系樹(shù)脂、聚乙烯、聚酯、硅氧烷系樹(shù)脂或氧化鋁等絕緣性材料的基板主體上形成有TFT、布線部件及覆蓋所述TFT的鈍化膜等 (未圖示)的結(jié)構(gòu)。所述基板主體也可以是有機(jī)樹(shù)脂膜。此外,為了將TFT基板1的表面高低差調(diào)整為平坦,可以在TFT基板1上設(shè)置層間絕緣膜。層間絕緣膜例如由聚酰亞胺系樹(shù)脂或丙烯酸系樹(shù)脂等絕緣材料構(gòu)成。第1電極2由Ag(銀)形成。另外,第1電極2也可以由銀、鈀和銅的合金、銀、銣和金的合金、MoCr (鉬和鉻的合金)、NiCr (鎳和鉻的合金)、Al (鋁)、鋁合金、ITO (氧化銦錫)、ΙΖ0(氧化銦鋅)等形成。由于本實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板10是頂部發(fā)光型,因此第1電極2優(yōu)選由光反射性的材料形成。還優(yōu)選由對(duì)于在后述的顯影處理所使用的顯影液不具有溶解性的材料構(gòu)成。另外,在第1電極2的表面可以設(shè)置公知的透明導(dǎo)電膜。作為透明導(dǎo)電膜的材料可以使用例如ITO (氧化銦錫)。殘?jiān)?由例如金屬氧化物形成。作為金屬氧化物可舉出例如鎢氧化物、鉬氧化物、鎢鉬氧化物等。殘?jiān)?優(yōu)選由具有電荷注入性和/或電荷輸送性的材料形成。提4由樹(shù)脂等有機(jī)材料形成,具有絕緣性。作為有機(jī)材料的例子,可舉出丙烯酸系樹(shù)脂、聚酰亞胺系樹(shù)脂、酚醛清漆型酚醛樹(shù)脂等。提4優(yōu)選具有有機(jī)溶劑耐受性。而且,提4 被施加蝕刻處理、烘烤處理等,因此優(yōu)選由對(duì)于這些處理不會(huì)過(guò)度變形、變質(zhì)等這樣的耐受性高的材料形成。有機(jī)發(fā)光層5優(yōu)選由例如聚芴、聚對(duì)苯乙烯撐、聚乙炔、聚苯、聚對(duì)苯乙撐、聚 3-己基噻吩、它們的衍生物等高分子材料、日本特開(kāi)平5-163488號(hào)公報(bào)所記載的類(lèi)喔星 (oxinoid)化合物、茈化合物、香豆素化合物、氮雜香豆素化合物、噁唑化合物、噁二唑化合物、紫環(huán)酮(perinone)化合物、吡咯并吡咯化合物、萘化合物、蒽化合物、芴化合物、熒蒽化合物、并四苯化合物、芘化合物、暈苯化合物、喹諾酮化合物及氮雜喹諾酮化合物、吡唑啉衍生物及吡唑啉酮衍生物、若丹明化合物、奠(chrysene)化合物、菲化合物、環(huán)戊二烯化合物、芪化合物、二苯基苯醌化合物、苯乙烯基化合物、丁二烯化合物、雙氰亞甲基吡喃化合物、雙氰亞甲基噻喃化合物、熒光素化合物、吡喃鐺化合物、噻喃鐺化合物、硒吡喃鐺化合物、碲吡喃鐺化合物、芳香族坎利酮化合物、低聚亞苯基化合物、噻噸化合物、花青苷化合物、吖啶化合物、8-羥基喹啉化合物的金屬配合物、2-聯(lián)吡啶化合物的金屬配合物、席夫鹽與III族金屬的配合物、8-羥基喹啉(喔星)金屬配合物、稀土類(lèi)配合物等熒光物質(zhì)形成。電子注入層6具有將從后述的第2電極7注入的電子向有機(jī)發(fā)光層5輸送的功能, 優(yōu)選由例如鋇、酞菁、氟化鋰或它們的組合、摻雜了這些材料的電子輸送材料形成。第2電極7例如由ITO (氧化銦錫)、IZO (氧化銦鋅)等形成。由于有機(jī)EL顯示面板10是頂部發(fā)光型,因此第2電極7優(yōu)選由光透過(guò)性的材料形成。封止層8具有抑制有機(jī)發(fā)光層5等暴露于水分、或暴露于空氣的功能,例如由 SiO (氧化硅)、SiN (氮化硅)、SiON (氮氧化硅)、SiC (碳化硅),SiOC (含碳氧化硅),AIN (氮化鋁)、A1203(氧化鋁)等材料形成。由于有機(jī)EL顯示面板10是頂部發(fā)光型,因此封止層 8優(yōu)選由光透過(guò)性的材料形成。
接著,在說(shuō)明本實(shí)施方式的有機(jī)EL顯示面板10的制造工序之前,作為本實(shí)施方式的比較例簡(jiǎn)單說(shuō)明不形成殘?jiān)訒r(shí)的有機(jī)EL顯示面板的制造工序。<不形殘?jiān)訒r(shí)的有機(jī)EL顯示面板的制造工序>圖4是表示不形成殘?jiān)訒r(shí)的有機(jī)EL顯示面板的制造工序的一例的圖。在圖4中,抽出有機(jī)EL顯示面板的一部分而示意表示。首先,如圖4 (a)所示,在TFT基板101的主面上通過(guò)濺射法形成Ag薄膜,用例如光刻對(duì)該Ag薄膜進(jìn)行圖案形成,由此呈行列狀形成第1電極102。接著,圖4(b)所示,形成由絕緣性有機(jī)材料構(gòu)成的提材料層1031。提材料層1031 的形成可通過(guò)例如涂敷等進(jìn)行。接著,在提材料層1031上重疊具有預(yù)定形狀的開(kāi)口部的掩模。然后,從掩模上方使之感光,用顯影液洗掉多余的提材料層1031(濕式工藝)。由此提材料層1031的圖案形成完成。通過(guò)以上,完成了提103(參照?qǐng)D4(c))。但是,在濕式工藝中,與開(kāi)口部對(duì)應(yīng)的提材料層1031并沒(méi)有被全部除去,在第1電極102上殘留一部分提材料層1031 (以下,將殘留的提材料層記作“提殘?jiān)?032”)。這是因?yàn)榈?電極102的表面形狀呈凹凸形狀,提殘?jiān)度氲?電極102的表面。因此,在顯影處理時(shí),雖然顯影液滲透到提殘?jiān)_(dá)不到除去提殘?jiān)?,依然作為殘?jiān)嬖凇L釟堅(jiān)?032呈膜狀存在,例如其膜厚為4nm。在提103形成后,如圖4(d)所示,在由提103劃分的區(qū)域內(nèi)通過(guò)例如噴墨法滴下含有有機(jī)EL材料的組合物墨(以下,簡(jiǎn)稱為“墨”),使該墨干燥而形成有機(jī)發(fā)光層104。但是,由于在第1電極102上存在提殘?jiān)?032,因此有機(jī)發(fā)光層104隔著提殘?jiān)?032形成在第1電極102上。接著,通過(guò)例如真空蒸鍍而形成成為電子注入層105的鋇薄膜,通過(guò)例如濺射形成成為第2電極106的ITO薄膜,進(jìn)而形成封止層107 (參照?qǐng)D4(e))。在上述制造方法中,由于在第1電極102上存在絕緣性的提殘?jiān)?032,因此會(huì)招致驅(qū)動(dòng)有機(jī)EL顯示面板時(shí)的驅(qū)動(dòng)電壓的上升。<本實(shí)施方式的有機(jī)EL顯示面板10的制造方法>接著,例示本實(shí)施方式的有機(jī)EL顯示面板10的制造工序。圖5、6是表示有機(jī)EL 顯示面板10的制造工序的一例的圖。在圖5、6中,抽出有機(jī)EL顯示面板10的一部分示意表不。首先,如圖5(a)所示,在TFT基板1的主面上通過(guò)濺射法形成Ag薄膜,通過(guò)例如光刻對(duì)該Ag薄膜進(jìn)行圖案形成,由此呈行列狀形成第1電極2。另外,Ag薄膜的制膜除了濺射法之外,也可采用真空蒸鍍法。接著,如圖5(b)所示,對(duì)含有第1電極2的TFT基板1的表面,通過(guò)真空蒸鍍、濺射等技術(shù),使用含有WOx、MoxOy或MoxWyOz的組成物形成作為WOx、MoxOy或MoxWyOz的薄膜的殘?jiān)?。殘?jiān)?的膜厚優(yōu)選是例如幾nm 幾十nm左右。接著,如圖5(c)所示,在殘?jiān)?上形成由絕緣性有機(jī)材料構(gòu)成的提材料層 41。提材料層41的形成可以通過(guò)例如涂敷等進(jìn)行。接著,在提材料層41上重疊具有預(yù)定形狀的開(kāi)口部的掩模。然后,從掩模上方使之感光,用顯影液(例如TMAH(Tetra methyl ammonium hydroxide,四甲基氫氧化銨)水溶液)洗掉多余的提材料層41。由此提材料層41的圖案形成完成。但是,在執(zhí)行上述濕式工藝時(shí),殘?jiān)?也被上述顯影液溶解。因此,不僅提材料層41,殘?jiān)?也被除去,第1電極2的一部分露出(參照?qǐng)D6(a))。此時(shí),殘?jiān)?中不僅與開(kāi)口對(duì)應(yīng)的第 1區(qū)域3a溶解,該第1區(qū)域3a周邊的第2區(qū)域3b也溶解(即,側(cè)向蝕刻)。這樣,在執(zhí)行濕式工藝 時(shí),不僅提材料層41,就連殘?jiān)?也一同被除去,因此形成在殘?jiān)?上的提材料層41失去基礎(chǔ),與殘?jiān)? —起被除去。由此,能夠降低在顯影處理后提殘?jiān)嬖谟诘?電極2上的可能性。此外,由于用同一顯影液對(duì)提材料層41和殘?jiān)?蝕刻,因此不需另外追加用于除去殘?jiān)?的工序,從生成工序方面考慮是有效的。而且,不僅殘?jiān)?中的第1區(qū)域3a溶解,第2區(qū)域3b也溶解,因此能夠更切實(shí)地除去提材料層41。但是,由于第2區(qū)域3b溶解,在提材料層41下方形成空間。因此,提材料層41的相當(dāng)于第2區(qū)域3b的懸空部分(以下,簡(jiǎn)稱為“懸空部分”)與第1電極 2不接觸,成為浮起狀態(tài)。若保持該狀態(tài)不變,則可能出現(xiàn)提的浮起、剝落等新不良情況。因此,接著,對(duì)基板1進(jìn)行烘烤,使懸空部分軟化而向下方垂落。由此,覆蓋在提材料層41下方的空間露出的殘?jiān)?的端部3c,并填埋提材料層41下方的空間。由此, 懸空部分與第1電極2上接觸,形成提4(參照?qǐng)D6(b))。通過(guò)以上完成了提4。由于提4與第1電極2接觸,因此密接性提高,能夠防止提4的浮起、剝落等可能出現(xiàn)的不良情況于未然。接著,如圖6(c)所示,用例如噴墨法在由提4劃分的區(qū)域內(nèi)滴下含有有機(jī)EL材料的組合物墨(以下,簡(jiǎn)稱為“墨”。),使該墨干燥而形成有機(jī)發(fā)光層5。另外,有機(jī)發(fā)光層5 也可以通過(guò)分墨法、噴嘴式涂敷法、旋涂法、凹版印刷、凸版印刷等形成。接著,通過(guò)例如真空蒸鍍形成成為電子注入層6的鋇薄膜,通過(guò)例如濺射形成成為第2電極7的ITO薄膜,進(jìn)而形成封止層8 (參照?qǐng)D6 (d))。根據(jù)上述制造方法,由于在殘?jiān)?上形成的提材料層41在顯影處理時(shí)與殘?jiān)? —同被除去,因此能夠避免在第1電極2上存在提殘?jiān)臓顩r,結(jié)果,能夠抑制有機(jī)EL顯示面板10的驅(qū)動(dòng)電壓的上升。而且,由于使懸空部分軟化而向下方垂落,與第1 電極2上接觸,能夠防止提4的浮起、剝落等可能產(chǎn)生的不良情況于未然。<顯影處理后及烘烤后的提的形狀>接著,通過(guò)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證在顯影處理后和烘烤后提材料層41的形狀實(shí)際變化為怎樣的形狀。首先,說(shuō)明實(shí)驗(yàn)條件。本發(fā)明人此次使用玻璃基板1作為基板,使用APC作為第1 電極2,使用MoWOx作為殘?jiān)?。其中,在第1電極2上設(shè)置IT02a作為透明導(dǎo)電膜 (參照?qǐng)D7)。此外,作為曝光條件,以300mj/cm2曝光,作為顯影液使用TMAH進(jìn)行60秒顯影。另夕卜,使用0. 2%濃度的TMAH。其后,作為清洗液使用純水,清洗基板30秒,基板清洗后,以 220°C烘烤60分鐘。圖7(a)是描繪顯影處理后的提材料層41的照片的示意圖,圖7 (b)是描繪烘烤后的提材料層41的照片的示意圖。如圖7(a)所示,顯影處理后,由于側(cè)向蝕刻,MoffOx的一部分被除去,因此成為提材料層41的懸空部分浮起的狀態(tài)。與此相對(duì),烘烤后的提材料層41中,如圖7(b)所示,側(cè)向蝕刻上部的提材料層41的懸空部分因熱垂而垂向下方、成為傾斜(taper)形狀,成為與基板接觸的狀態(tài)。根據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果還能夠確認(rèn)到如此通過(guò)烘烤形成的提4覆蓋在因側(cè)向蝕刻而產(chǎn)生的空間露出的殘?jiān)?的端部,并填埋該空間。(補(bǔ)充)以上,基于實(shí)施方式說(shuō)明了本發(fā)明的有機(jī)EL顯示面板10,但是,當(dāng)然本發(fā)明不限于上述實(shí)施方式。例如可考慮以下的變形例。(1)在上述實(shí)施方式中,在濕式工藝中,殘?jiān)?的第1區(qū)域及第2區(qū)域被除去,露出第1電極2,但本發(fā)明不限于此,只要能將殘?jiān)?的第1區(qū)域及第2區(qū)域中的表面部除去即可。這是因?yàn)椋灰艹ケ砻娌?,就能將在殘?jiān)?上形成的提材料層 41 一并除去。因此,例如,如圖8所示,也可以只除去殘?jiān)?的第1區(qū)域及第2區(qū)域的包括表面部的一部分,而第1電極2不露出。在采用圖8的結(jié)構(gòu)時(shí),優(yōu)選殘?jiān)?由具有空穴注入性的材料形成。由此,能夠?qū)τ袡C(jī)發(fā)光層5有效地注入空穴。使用圖9簡(jiǎn)單說(shuō)明該結(jié)構(gòu)的有機(jī)EL顯示面板的制造方法。
到形成提材料層41為止的工序如圖5(a) (c)所示。接著,在提材料層41上重疊具有預(yù)定形狀的開(kāi)口部的掩模。然后,從掩模上方使之感光,用顯影液(例如TMAH)洗掉多余的提材料層41。由此提材料層41的圖案形成完成。在執(zhí)行上述濕式工藝時(shí),殘?jiān)?也被上述顯影液溶解。但是,第1電極2不露出,在第1電極2上殘留有殘?jiān)?3(參照?qǐng)D9(a))。另外,顯影條件只要考慮被殘留的殘?jiān)?的厚度等而適當(dāng)設(shè)定即可。在執(zhí)行濕式工藝時(shí),殘?jiān)?中,不僅與開(kāi)口對(duì)應(yīng)的第1區(qū)域3a溶解,該第1 區(qū)域3a的周邊的第2區(qū)域3b也溶解,因此在提材料層41下方形成空間。因此,接著,如圖6(b)說(shuō)明的那樣,對(duì)基板1進(jìn)行烘烤,使懸空部分軟化而垂向下方,由此形成提4(參照?qǐng)D9(b))。關(guān)于作為其后工序的圖9(c)、(d),與圖6(c)、(d)同樣,因此省略說(shuō)明。另外,殘?jiān)?可以由具有空穴輸送性的材料構(gòu)成,此時(shí),通過(guò)在第1電極2 上殘留殘?jiān)?,從而能夠?qū)τ袡C(jī)發(fā)光層5有效地輸送空穴。(2)在上述實(shí)施方式中,采用了所謂的像素提(井字狀提),但本發(fā)明不限于此。例如,可以采用線提(線狀的提)。在圖10的例子中,采用了線提65,劃分在X軸方向相鄰的有機(jī)發(fā)光層66a、66b、66c。另外,如圖10所示,采用線提65時(shí),沿Y軸方向相鄰的有機(jī)發(fā)光層彼此不由提要素規(guī)定,但可通過(guò)適當(dāng)設(shè)定驅(qū)動(dòng)方法和陽(yáng)極的尺寸及間隔等,使得相互不影響地發(fā)光。(3)在上述實(shí)施方式中,以頂部發(fā)光型進(jìn)行了說(shuō)明,但不限于此,也可以是底部發(fā)光型。(4)在上述實(shí)施方式中,在有機(jī)發(fā)光層與第2電極之間僅夾入電子注入層,但也可以除此之外還夾入電子輸送層。(5)在上述實(shí)施方式中,未示出顯示裝置1的外觀,但可以做成具有例如圖11所示的外觀。(6)在上述實(shí)施方式中,說(shuō)明了顯示裝置所具有的EL顯示面板,但本發(fā)明不限于此。例如,也可以是與有機(jī)EL顯示面板的一個(gè)子像素對(duì)應(yīng)的發(fā)光元件。
(7)在上述實(shí)施方式中,以顯示裝置為例進(jìn)行了說(shuō)明,但不限于此,也可適用于發(fā)
光裝置。(8)在上述實(shí)施方式中,僅示出第1電極2或殘?jiān)?與有機(jī)發(fā)光層5直接接觸的結(jié)構(gòu),但本發(fā)明不限于此,可以是例如在第1電極2或殘?jiān)?與有機(jī)發(fā)光層之 間夾入空穴注入層、空穴輸送層的結(jié)構(gòu)。(9)在上述圖7(a)示出了描繪顯影處理后的提材料層的照片的示意圖,在上述圖 7(b)示出了描繪烘烤后的提材料層的照片的示意圖,而圖12(a)是表示顯影處理后的提材料層的照片,圖12(b)是表示烘烤后的提材料層的照片。從圖12(a)也可確認(rèn)到,顯影處理后,提材料層的懸空部分成為浮起的狀態(tài)。從圖12(b)也可確認(rèn)到,烘烤后的提材料層中,側(cè)向蝕刻上部的提材料層的懸空部分因垂熱而垂向下方、成為傾斜形狀,成為與基板接觸的狀態(tài)。從圖12(a)、(b)的照片也可確認(rèn)到,這樣通過(guò)烘烤而形成的提覆蓋在由于側(cè)向蝕刻而產(chǎn)生的空間露出的殘?jiān)拥亩瞬?,并填埋該空間。本發(fā)明能夠利用于例如家庭用、公共設(shè)施、或業(yè)務(wù)用的各種顯示裝置、電視裝置、 便攜式電子設(shè)備用顯示器等。附圖標(biāo)記說(shuō)明100、顯示裝置,10、有機(jī)EL顯示面板,20、驅(qū)動(dòng)控制部,21 24、驅(qū)動(dòng)電路,25、控制電路,1、TFT基板,2、第1電極,3、殘?jiān)樱?、提,5、有機(jī)發(fā)光層,6、電子注入層,7、第2電極,8、封止層。
權(quán)利要求
1.一種發(fā)光元件的制造方法,包括第1工序,在基板的上方形成包含第1電極的基底層; 第2工序,在所述基底層上形成中間層;第3工序,在所述中間層上形成具有感光性樹(shù)脂材料的樹(shù)脂材料層; 第4工序,在將所述樹(shù)脂材料層選擇性曝光后,使用溶解所述樹(shù)脂材料層及所述中間層這二者的顯影液進(jìn)行顯影處理,由此(a)除去所述樹(shù)脂材料層的非固化部分而形成貫穿所述樹(shù)脂材料層通到所述中間層的開(kāi)口,(b)使所述顯影液的一部分通過(guò)所述開(kāi)口浸入到所述中間層側(cè),將所述中間層中的與所述開(kāi)口對(duì)應(yīng)的第1區(qū)域及作為其周邊的第2區(qū)域的至少表面部除去;第5工序,通過(guò)對(duì)在所述第4工序后殘留的樹(shù)脂材料層加熱,使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分軟化而垂向下方,從而覆蓋在由于所述第2區(qū)域的至少表面部被除去而產(chǎn)生的所述樹(shù)脂材料層下方的空間露出的所述中間層的端部,并填埋所述樹(shù)脂材料層下方的空間,由此使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域懸空部分與所述基底層或所述中間層上接觸而形成由所述樹(shù)脂材料層構(gòu)成的隔壁;第6工序,在所述第5工序之后,在多個(gè)所述隔壁之間形成包括有機(jī)發(fā)光層的功能層;和第7工序,在所述功能層的上方形成第2電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件的制造方法, 所述中間層和所述樹(shù)脂材料由同一顯影液蝕刻。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)光元件的制造方法,作為所述中間層,使用鎢氧化物、鉬氧化物或鎢鉬氧化物, 作為所述樹(shù)脂材料層,使用丙烯酸酯樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂或酚醛樹(shù)脂, 作為所述顯影液使用TMAH即四甲基氫氧化銨。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光元件的制造方法,使用對(duì)所述第4工序中的所述顯影液不具有溶解性的材料構(gòu)成所述第1工序中的基底層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)光元件的制造方法,所述基底層僅由第1電極構(gòu)成,作為所述第1電極使用ITO或ΙΖ0。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件的制造方法,所述第5工序中,通過(guò)使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分軟化而垂向下方,從而覆蓋在所述樹(shù)脂材料層下方的空間露出的所述中間層的端部,并填埋所述樹(shù)脂材料層下方的空間,由此使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分與所述基底層或所述殘?jiān)由辖佑|,并且使相對(duì)的樹(shù)脂材料層彼此不接觸而形成開(kāi)口,形成由樹(shù)脂材料層構(gòu)成的多個(gè)隔壁,所述第6工序中,在相當(dāng)于所述多個(gè)隔壁之間即所述開(kāi)口的部分形成包括有機(jī)發(fā)光層的功能層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 6中的任一項(xiàng)所述的發(fā)光元件的制造方法,使所述中間層中的除了所述第1區(qū)域及所述第2區(qū)域的表面部之外的一部分在所述第 4工序后殘留于所述基底層上,在所述第6工序中,將所述功能層形成在殘留的所述中間層上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的發(fā)光元件的制造方法,所述中間層是對(duì)于所述功能層注入和/或輸送電荷的電荷注入輸送層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的發(fā)光元件的制造方法, 將所述基底層設(shè)為作為第1電極的陽(yáng)極,將所述電荷注入輸送層設(shè)為對(duì)于所述功能層注入空穴的空穴注入層。
10.根據(jù)權(quán)利要求1 6中的任一項(xiàng)所述的發(fā)光元件的制造方法,在所述第4工序中,將所述中間層中的所述第1區(qū)域及所述第2區(qū)域全部除去, 在所述第6工序中,將所述功能層形成在所述基底層上。
11.一種有機(jī)顯示面板,使用由權(quán)利要求1 10中的任一項(xiàng)所述的發(fā)光元件的制造方法制造的發(fā)光元件。
12.—種有機(jī)發(fā)光裝置,使用由權(quán)利要求1 10中的任一項(xiàng)所述的發(fā)光元件的制造方法制造的發(fā)光元件。
13.一種有機(jī)顯示裝置,使用由權(quán)利要求1 10中的任一項(xiàng)所述的發(fā)光元件的制造方法制造的發(fā)光元件。
全文摘要
在基底層上形成中間層之后,在所述中間層上形成具有感光性樹(shù)脂材料的樹(shù)脂材料層。然后,將所述樹(shù)脂材料層選擇性曝光后,使用溶解所述樹(shù)脂材料層以及所述中間層這二者的顯影液進(jìn)行顯影處理。由此,(a)除去所述樹(shù)脂材料層的非固化部分而形成貫穿所述樹(shù)脂材料層通到所述中間層的開(kāi)口,(b)使所述顯影液的一部分通過(guò)所述開(kāi)口浸入到所述中間層側(cè),將所述中間層中的與所述開(kāi)口對(duì)應(yīng)的第1區(qū)域及作為其周邊的第2區(qū)域的至少表面部除去。通過(guò)由加熱使所述樹(shù)脂材料層的相當(dāng)于所述第2區(qū)域的懸空部分軟化而垂向下方,從而覆蓋在所述空間露出的所述中間層的端部,并填埋所述樹(shù)脂材料層下方的空間。由此,使所述懸空部分與所述基底層或所述中間層上接觸而形成由所述樹(shù)脂材料層構(gòu)成的隔壁。
文檔編號(hào)H01L51/50GK102440071SQ20108002069
公開(kāi)日2012年5月2日 申請(qǐng)日期2010年7月5日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月5日
發(fā)明者小松隆宏, 山田隆太, 竹內(nèi)孝之, 近藤哲郎 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社