專利名稱：晶圓片表面清洗潔凈度的檢測裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種半導體光刻中用于檢測晶圓片清潔度的裝置。
背景技術：
半導體工藝中，光刻是一個至關重要的環(huán)節(jié)。晶圓片的表面經過光刻后會留有很多雜質和毛邊，清洗步徹底、或則清洗過深和晶圓片清洗區(qū)域產生步對稱偏移，都會造成晶圓片的良率降低。

實用新型內容本實用新型目的是針對現有技術存在的缺陷提供一種晶圓片表面清洗潔凈度的檢測裝置。本實用新型為實現上述目的，采用如下技術方案本實用新型晶圓片表面清洗潔凈度的檢測裝置，包括晶圓片基座、對射傳感器、控制器和報警模塊，其中晶圓片設置于晶圓片基座上，對射傳感器分別設置于晶圓片兩端，對射傳感器的對射面與晶圓片清洗面重合，控制器的輸出端分別接出射傳感器和報警模塊的輸入端，入射傳感器的輸出端接控制器的輸入端?？刂破鞑捎矛F場可編程邏輯控制器。本實用新型簡化了作業(yè)流程，結構簡單，節(jié)約了成本。

圖1 :本實用新型結構圖。
具體實施方式
如圖1所示，晶圓片表面清洗潔凈度的檢測裝置，其特征在于包括晶圓片基座1、 對射傳感器3-1、3-2、控制器和報警模塊，其中晶圓片設置于晶圓片基座1上，對射傳感器 3-1、3-2分別設置于晶圓片兩端，對射傳感器3-1、3-2的對射面與晶圓片清洗面重合，控制器的輸出端分別接出射傳感器3-1和報警模塊的輸入端，入射傳感器3-2的輸出端接控制器的輸入端。控制器采用現場可編程邏輯控制器。當檢測到晶圓片上有雜物，控制器控制清洗設備2進行重新清洗，當清洗達到設定的次數后任然有雜質，則通過報警裝置報警。
權利要求1.一種晶圓片表面清洗潔凈度的檢測裝置，其特征在于包括晶圓片基座(1)、對射傳感器(3-1、3-2)、控制器和報警模塊，其中晶圓片設置于晶圓片基座(1)上，對射傳感器 (3-1,3-2)分別設置于晶圓片兩端，對射傳感器(3-1、3-2)的對射面與晶圓片清洗面重合， 控制器的輸出端分別接出射傳感器(3-1)和報警模塊的輸入端，入射傳感器(3-2)的輸出端接控制器的輸入端。
2.根據權利要求1所述的晶圓片表面清洗潔凈度的檢測裝置，其特征在于控制器采用現場可編程邏輯控制器。
專利摘要本實用新型公布了一種晶圓片表面清洗潔凈度的檢測裝置，包括晶圓片基座、對射傳感器、控制器和報警模塊，其中晶圓片設置于晶圓片基座上，對射傳感器分別設置于晶圓片兩端，對射傳感器的對射面與晶圓片清洗面重合，控制器的輸出端分別接出射傳感器和報警模塊的輸入端，入射傳感器的輸出端接控制器的輸入端。本實用新型簡化了作業(yè)流程，結構簡單，節(jié)約了成本。
文檔編號H01L21/00GK201946574SQ20102062279
公開日2011年8月24日 申請日期2010年11月25日 優(yōu)先權日2010年11月25日
發(fā)明者張春華, 張馨月 申請人:無錫春輝科技有限公司