專利名稱：一種校準(zhǔn)洗邊機(jī)臺(tái)的晶圓片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造工藝，特別是一種校準(zhǔn)洗邊機(jī)臺(tái)的晶圓片。
背景技術(shù)：
在集成電路制造工藝中要進(jìn)行多次光刻步驟，光刻質(zhì)量的好壞直接影響產(chǎn)品的合 格率。一般的光刻工藝要經(jīng)歷晶圓片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后 烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測(cè)等工序。在實(shí)際操作時(shí)，顯影工藝中要進(jìn)行邊緣光刻膠的去除 (又稱去除邊圈)。圖1示出了涂布光刻膠的步驟示意圖，在旋涂光刻膠的過(guò)程中，機(jī)械手 將晶圓片101固定在晶圓片軌道上旋轉(zhuǎn)涂膠位置的真空托盤(pán)102上，真空托盤(pán)102帶動(dòng)晶 圓片101高速旋轉(zhuǎn)，使滴落在晶圓片101表面的光刻膠103在晶圓片表面均勻鋪開(kāi)。當(dāng)晶 圓片101旋轉(zhuǎn)到一定程度時(shí)，由于離心力的作用表面的光刻膠103向晶圓片101邊緣流動(dòng) 并流到背面。使晶圓片101邊緣和背面隆起從而形成邊圈。邊圈是必須去除的，否則當(dāng)干 燥時(shí)，光刻膠剝落并產(chǎn)生顆粒。這些顆粒可能落在電路有源區(qū)、晶圓片傳送系統(tǒng)和工藝設(shè)備 里面，導(dǎo)致晶圓片上缺陷密度增加，設(shè)置在晶圓片背面的光刻膠可能會(huì)因?yàn)樗掣皆诰A 片托盤(pán)上而導(dǎo)致故障?，F(xiàn)有技術(shù)通常利用光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)內(nèi)的晶片邊緣曝光單元(WEE，Wafer Edge Exposure Unit)對(duì)晶圓片進(jìn)行洗邊。這種方法利用激光曝光晶片的邊緣，使邊緣的光刻膠 軟化，然后在后續(xù)的顯影工藝中去除邊緣的光刻膠。還有一種常見(jiàn)的洗邊的方法是在光刻 膠旋轉(zhuǎn)涂膠器配備了一種邊圈去除裝置(EBR Edge Bead Removal)，在旋轉(zhuǎn)的晶圓片底側(cè) 噴出少量的溶劑，溶劑從傾斜的邊緣轉(zhuǎn)到頂端邊緣。操作時(shí)要小心控制確保溶劑不能達(dá)到 光刻膠上的電路有源區(qū)，否則溶劑將破壞掉光刻膠的電路有源區(qū)部分。典型的去邊圈溶劑 是丙烯乙二醇一甲胺以太醋酸鹽(PGMEA)或者乙烯丙二醇一甲胺以太醋酸鹽(EGMEA)。然 而在實(shí)際操作中，這兩種洗邊方法都難以實(shí)現(xiàn)對(duì)洗邊寬度的精確控制。不能精確洗邊的缺 陷在于若洗掉的邊圈過(guò)寬，將會(huì)破壞掉光刻膠的刻有電路圖形部分；若洗邊不徹底，在晶 圓片的邊緣將留有部分的邊圈。當(dāng)干燥時(shí)，殘留的光刻膠剝落并產(chǎn)生顆粒誤落入電路有源 區(qū)，導(dǎo)致晶圓片上缺陷密度的增加。如果將洗邊失敗的晶圓片被送往化學(xué)機(jī)械研磨工藝中， 將給后續(xù)研磨工藝帶來(lái)難度。因此在洗邊前工程師需要判斷光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)洗邊的精確度。通常判斷光刻 膠涂布顯影機(jī)臺(tái)洗邊的精確度的方法是首先，光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)對(duì)涂布光刻膠晶圓片 邊緣進(jìn)行曝光，軟化了晶圓片邊緣的光刻膠，然后將晶圓片送入光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)中的 顯影槽，經(jīng)過(guò)顯影液浸泡后，已經(jīng)軟化了的邊緣光刻膠就可以去除了。然后工程師用肉眼判 斷去除邊圈的寬度與欲洗掉邊圈的寬度是否吻合，若有誤差則對(duì)光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)進(jìn)行 校準(zhǔn)，再用校準(zhǔn)后的光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)再次對(duì)晶圓片去除邊圈，如此反復(fù)進(jìn)行多次，最后 達(dá)到精確去除邊圈的目的。最后利用校準(zhǔn)后的光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)對(duì)大批量晶圓片進(jìn)行去 除邊圈。由于這種方法依靠肉眼判斷去除邊圈寬度的誤差，且肉眼判斷時(shí)沒(méi)有任何可靠性 較高的依據(jù)，因此存在著精確度較差的問(wèn)題。[0005]因此，需要一套評(píng)測(cè)光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)洗邊寬度是否精準(zhǔn)的方法和產(chǎn)品，從而 有效解決邊圈去除精確度差的問(wèn)題，進(jìn)一步提高半導(dǎo)體器件生產(chǎn)的良品率。
發(fā)明內(nèi)容在
發(fā)明內(nèi)容部分中引入了一系列簡(jiǎn)化形式的概念，這將在具體實(shí)施方式
部分中進(jìn) 一步詳細(xì)說(shuō)明。本實(shí)用新型的發(fā)明內(nèi)容部分并不意味著要試圖限定出所要求保護(hù)的技術(shù)方 案的關(guān)鍵特征和必要技術(shù)特征，更不意味著試圖確定所要求保護(hù)的技術(shù)方案的保護(hù)范圍。為了解決上述邊圈去除精確度差的問(wèn)題，進(jìn)一步提高半導(dǎo)體器件生產(chǎn)的良品率， 本實(shí)用新型的一個(gè)方面提供了一種用于校準(zhǔn)洗邊機(jī)臺(tái)的晶圓片，在所述晶圓片上設(shè)置有多 組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，所述各組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記分別與所述晶圓片邊緣相距有預(yù)先設(shè)定的洗邊寬度。根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，所述每組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括有至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，且 同一組的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)均勻分布在與所述晶圓片同心的圓周上。根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為圓形形狀，所述圓形的圓心距離 所述晶圓片邊緣的距離為所述洗邊寬度。根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為正三角形，所述正三角形的中心 距離所述晶圓片邊緣的距離為所述洗邊寬度。根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為正方形，所述正方形的中心距離 所述晶圓片邊緣的距離為所述洗邊寬度。根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為弧線，所述弧線與所述晶圓片的 邊緣平行，所述弧線的中心距離所述晶圓片邊緣的距離為所述洗邊寬度。根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記距離所述晶圓片邊緣的距離為1毫 米、2毫米或者3毫米。根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記是通過(guò)刻蝕的方法形成在所述晶圓 片上的。根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，所述刻蝕方法選自干法蝕刻、濕法蝕刻或者干法 蝕刻與濕法蝕刻的組合。本實(shí)用新型利用在校準(zhǔn)洗邊機(jī)臺(tái)的晶圓片上設(shè)置若干對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，通過(guò)比較洗邊后 的光刻膠邊緣與對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記是否對(duì)齊，來(lái)校對(duì)洗邊機(jī)臺(tái)的精確度。因此本實(shí)用新型能夠校對(duì) 多種洗邊機(jī)臺(tái)的洗邊寬度，且適合所有類(lèi)型的洗邊機(jī)臺(tái)校準(zhǔn)使用，制作簡(jiǎn)單，操作方便，可 廣泛應(yīng)用于洗邊機(jī)臺(tái)的校準(zhǔn)中。

本實(shí)用新型的下列附圖在此作為本實(shí)用新型的一部分用于理解本實(shí)用新型。附圖 中示出了本實(shí)用新型的實(shí)施例及其描述，用來(lái)解釋本實(shí)用新型的原理。在附圖中，圖1是旋轉(zhuǎn)涂布光刻膠的步驟示意圖；圖2是本實(shí)用新型的帶有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的晶圓片示意圖；圖3是本實(shí)用新型的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為弧線的晶圓片示意圖；圖4是本實(shí)用新型的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為正三角形的晶圓片示意圖；圖5是本實(shí)用新型的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為正方形的晶圓片示意圖。
具體實(shí)施方式
在下文的描述中，給出了大量具體的細(xì)節(jié)以便提供對(duì)本實(shí)用新型更為徹底的理解。然而，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)顯而易見(jiàn)的是，本實(shí)用新型可以無(wú)需一個(gè)或多個(gè)這些細(xì) 節(jié)而得以實(shí)施。在其他的例子中，為了避免與本實(shí)用新型發(fā)生混淆，對(duì)于本領(lǐng)域公知的一些 技術(shù)特征未進(jìn)行描述。為了徹底了解本實(shí)用新型，將在下列的描述中提出詳細(xì)的步驟，以便說(shuō)明本實(shí)用 新型是如何解決校對(duì)洗邊機(jī)臺(tái)精度的問(wèn)題。顯然，本實(shí)用新型的施行并不限定于半導(dǎo)體領(lǐng) 域的技術(shù)人員所熟習(xí)的特殊細(xì)節(jié)。本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例詳細(xì)描述如下，然而除了這些 詳細(xì)描述外，本實(shí)用新型還可以具有其他實(shí)施方式。下面通過(guò)三個(gè)實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的不同實(shí)施方式進(jìn)行闡述。實(shí)施例一圖2示出了根據(jù)本實(shí)用新型的可以校準(zhǔn)洗邊機(jī)臺(tái)的晶圓片201，晶圓片201上設(shè)置 有多組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，例如第一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記202、第二組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記203和第三組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記204，各 組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與晶圓片201的邊緣之間的寬度分別等于預(yù)先設(shè)定的洗邊寬度，例如第一組對(duì) 準(zhǔn)標(biāo)記202距離晶圓片201邊緣的距離為1毫米，則對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記202作為洗邊寬度為1毫米 的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；第二組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記203距離晶圓片201邊緣的距離為2毫米，則對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記203作 為洗邊寬度為2毫米的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；第三組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記204距離晶圓片201邊緣的距離為3毫 米，則對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記204作為洗邊寬度為3毫米的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。距離晶圓片201邊緣寬度相等的一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記可以包含至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，且它 們可以均勻分布在與晶圓片201同心的圓周上。即，若距離晶圓片201邊緣某種寬度的對(duì)準(zhǔn) 標(biāo)識(shí)共有兩個(gè)，則這兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)的中心與圓心的連線之間的夾角呈180度，若這種寬度 的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)有三個(gè)，則這三個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)的中心與圓心連線之間的夾角呈120度，依次類(lèi)推。每一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)包括有若干個(gè)實(shí)心圓，這些實(shí)心圓呈圓弧形排開(kāi)，且它們所組成 的圓弧與晶圓片201的邊緣平行。每個(gè)實(shí)心圓的圓心距離晶圓片201邊緣的距離為它所對(duì) 應(yīng)的洗邊寬度。例如對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記202的圓心距離晶圓片201邊緣的距離為1毫米。以上所述的各組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記距離晶圓片201的邊緣的距離范圍可以根據(jù)不同的洗 邊需求來(lái)設(shè)定，例如距離晶圓片201的邊緣為1毫米、2毫米或3毫米等。實(shí)施例二圖3示出了根據(jù)本實(shí)用新型的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為弧線的示意圖。晶圓片301上設(shè)置有多 組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，例如第一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記302、第二組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記303和第三組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記304，各組對(duì) 準(zhǔn)標(biāo)記與晶圓片301的邊緣之間的寬度分別等于預(yù)先設(shè)定的洗邊寬度，例如第一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo) 記302距離晶圓片301邊緣的距離為1毫米，則對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記302作為洗邊寬度為1毫米的對(duì) 準(zhǔn)標(biāo)記；第二組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記303距離晶圓片301邊緣的距離為2毫米，則對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記303作為洗 邊寬度為2毫米的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；第三組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記304距離晶圓片301邊緣的距離為3毫米，則 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記304作為洗邊寬度為3毫米的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。距離晶圓片301邊緣寬度相等的一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記可以包含至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，且它 們可以均勻分布在與晶圓片301同心的圓周上。即，若對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記302共有三個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，則 這三個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)的中心與圓心的連線之間的夾角呈120度；若對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記303含有兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，則這兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)的中心與圓心連線之間的夾角呈180度，依次類(lèi)推。每一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)為一段與晶圓片301邊緣平行的弧線，每一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的各段弧 線均勻分布在晶圓片301的同心圓上，每段弧線的中心距離晶圓片301邊緣的距離為對(duì)應(yīng) 的洗邊寬度。以上所述的各組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記距離晶圓片301的邊緣的距離范圍可以根據(jù)不同的洗 邊需求來(lái)設(shè)定，例如距離晶圓片301的邊緣為1毫米、2毫米或3毫米等。實(shí)施例三圖4示出了根據(jù)本實(shí)用新型的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為正三角形的示意圖。晶圓片501上設(shè)置 有多組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，各組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與晶圓片501的邊緣之間的寬度分別等于預(yù)先設(shè)定的洗邊 寬度。每組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括有若干個(gè)與晶圓片501邊緣平行的正三角形，每個(gè)正三角形的中 心距離晶圓片501邊緣的距離為它所對(duì)應(yīng)的洗邊寬度。例如第一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記502的中心距 離晶圓片501邊緣的距離為1毫米、第二組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記503的中心距離晶圓片501邊緣的距 離為2毫米、第三組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記504的中心距離晶圓片501邊緣的距離為3毫米。距離晶圓片501邊緣寬度相等的一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記可以包含至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，且它 們可以均勻分布在與晶圓片501同心的圓周上。即，若對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記502共有三個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，則 這三個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)與圓心的連線之間的夾角呈120度；若對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記503含有兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，則 這兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)與圓心連線之間的夾角呈180度，依次類(lèi)推。每一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)包括有若干個(gè)正三角形，這些正三角形呈圓弧形排開(kāi)，且它們所 組成的圓弧與晶圓片501的邊緣平行。每個(gè)正三角形的中心距離晶圓片501邊緣的距離為 它所對(duì)應(yīng)的洗邊寬度。例如對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記502的圓心距離晶圓片501邊緣的距離為1毫米。以上所述的各組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記距離晶圓片501的邊緣的距離范圍可以根據(jù)不同的洗 邊需求來(lái)設(shè)定，例如距離晶圓片501的邊緣為1毫米、2毫米或3毫米等。實(shí)施例四圖5示出了根據(jù)本實(shí)用新型的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為正方形的示意圖。晶圓片501上設(shè)置有 多組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，各組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與晶圓片501的邊緣之間的寬度分別等于預(yù)先設(shè)定的洗邊寬 度。每組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括有若干個(gè)與晶圓片501邊緣平行的正方形，每個(gè)正方形的中心距離 晶圓片501邊緣的距離為它所對(duì)應(yīng)的洗邊寬度。例如第一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記502的中心距離晶圓 片501邊緣的距離為1毫米、第二組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記503的中心距離晶圓片501邊緣的距離為2 毫米、第三組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記504的中心距離晶圓片501邊緣的距離為3毫米。距離晶圓片501邊緣寬度相等的一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記可以包含至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，且它 們可以均勻分布在與晶圓片501同心的圓周上。即，若對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記502共有三個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，則 這三個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)與圓心的連線之間的夾角呈120度；若對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記503含有兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，則 這兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)與圓心連線之間的夾角呈180度，依次類(lèi)推。每一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)包括有若干個(gè)正方形，這些正方形呈圓弧形排列，且它們所組成 的圓弧與晶圓片501的邊緣平行。每個(gè)正方形的中心距離晶圓片501邊緣的距離為它所對(duì) 應(yīng)的洗邊寬度。例如對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記502的圓心距離晶圓片501邊緣的距離為1毫米。以上所述的各組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記距離晶圓片501的邊緣的距離范圍可以根據(jù)不同的洗 邊需求來(lái)設(shè)定，例如距離晶圓片501的邊緣為1毫米、2毫米或3毫米等。如圖2所示，根據(jù)本實(shí)用新型的帶有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的晶圓片201的制作方法包括以下步驟 (1)首先利用光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)在晶圓片201上均勻涂布一層光刻膠，光刻膠 的厚度在500納米左右；(2)根據(jù)不同寬度的洗邊需要，計(jì)算出各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在晶圓片201上的位置坐標(biāo)，然 后將各位置坐標(biāo)參數(shù)輸入掃描式曝光機(jī)(Scanner機(jī)臺(tái))，由Scanner機(jī)臺(tái)對(duì)晶圓片201上 各位置坐標(biāo)處進(jìn)行曝光，再利用光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)進(jìn)行顯影，形成距離晶圓片201邊緣 不同寬度的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記202的圖案的光刻膠層；(3)利用蝕刻機(jī)臺(tái)在帶有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖案的光刻膠上進(jìn)行蝕刻，將對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記蝕刻在 晶圓片201上；(4)去除晶圓片201上剩余的光刻膠層。步驟(3)中的蝕刻機(jī)臺(tái)對(duì)晶圓片201所作的蝕刻可以是干法蝕刻或者濕法蝕刻， 干法蝕刻是把晶圓片201表面暴露于氣態(tài)中產(chǎn)生的等離子體，等離子體通過(guò)光刻膠中開(kāi)出 的窗口，在晶圓片201發(fā)生物理或化學(xué)反應(yīng)，或者這兩種反應(yīng)同時(shí)發(fā)生，從而去掉暴露的表 面材料。濕法蝕刻采用浸泡或者噴射的方式來(lái)進(jìn)行濕法腐蝕，液體化學(xué)試劑以化學(xué)方式去 除晶圓片201表面的材料。蝕刻方法是本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的技術(shù)手段，因此本實(shí)用新型 對(duì)此不作限制。步驟(4)中去除晶圓片201上剩余的光刻膠層可以采用灰化方法，或者其它去膠 方法，本實(shí)用新型對(duì)此不作限定。利用根據(jù)本實(shí)用新型的帶有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的晶圓片201進(jìn)行校準(zhǔn)光刻膠涂布顯影機(jī) 臺(tái)的洗邊寬度精準(zhǔn)度的方法為首先對(duì)光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)設(shè)定第一洗邊寬度，例如洗掉1毫米寬度的光刻膠， 然后利用光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)在晶圓片201上涂布一層光刻膠，將晶圓片送入Scanner機(jī) 臺(tái)利用激光曝光光刻膠的邊圈，然后將晶圓片201送入顯影槽進(jìn)行顯影，從而去除光刻膠 的邊圈。洗邊后利用顯微鏡觀察光刻膠邊緣與對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記202是否對(duì)齊，若不對(duì)齊，則對(duì)光刻 膠涂布顯影機(jī)臺(tái)進(jìn)行校準(zhǔn)，直至光刻膠邊緣與1毫米的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記203精確對(duì)齊，說(shuō)明此時(shí)光 刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)能夠?qū)?毫米的洗邊寬度進(jìn)行精確洗邊。若再利用根據(jù)本實(shí)用新型的晶 圓片201對(duì)光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)進(jìn)行2毫米洗邊寬度的校對(duì)，則將晶圓片201上剩余光刻 膠洗掉，重復(fù)進(jìn)行以上校對(duì)方法。上述實(shí)施例中，利用激光曝光光刻膠的邊圈還可以替換為利用化學(xué)溶劑噴射在光 刻膠的邊圈上，從而洗去邊圈。本實(shí)用新型可以根據(jù)洗邊需要在晶圓片201上設(shè)置距離晶圓片201邊緣任意寬度 的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，然后利用光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)對(duì)帶有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的晶圓片洗邊，因此可以校對(duì) 光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)的多種洗邊寬度。洗邊后利用顯微鏡比對(duì)光刻膠邊緣與對(duì)應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo) 記是否對(duì)齊，由于這種方法在比對(duì)時(shí)以對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為依據(jù)，相比較現(xiàn)有技術(shù)中沒(méi)有任何比對(duì) 標(biāo)記的校準(zhǔn)方法，具有校準(zhǔn)更精確的效果。而且由于scanner機(jī)臺(tái)曝光的精準(zhǔn)度為微米級(jí) 另IJ，而在一般情況下，晶圓片的洗邊寬度為毫米級(jí)別，因此保證了對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記作為校對(duì)洗邊寬 度的依據(jù)的精確度。此外，這種方法適用于所有類(lèi)型的光刻膠涂布顯影機(jī)臺(tái)的洗邊校對(duì)。本實(shí)用新型已經(jīng)通過(guò)上述實(shí)施例進(jìn)行了說(shuō)明，但應(yīng)當(dāng)理解的是，上述實(shí)施例只是 用于舉例和說(shuō)明的目的，而非意在將本實(shí)用新型限制于所描述的實(shí)施例范圍內(nèi)。此外本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，本實(shí)用新型并不局限于上述實(shí)施例，根據(jù)本實(shí)用新型的教導(dǎo)還 可以做出更多種的變型和修改，這些變型和修改均落在本實(shí)用新型所要求保護(hù)的范圍以 內(nèi)。本實(shí)用 新型的保護(hù)范圍由附屬的權(quán)利要求書(shū)及其等效范圍所界定。
權(quán)利要求一種用于校準(zhǔn)洗邊機(jī)臺(tái)的晶圓片，其特征在于在所述晶圓片上設(shè)置有多組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，所述各組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記分別與所述晶圓片邊緣相距有預(yù)先設(shè)定的洗邊寬度。
2.如權(quán)利要求1所述的晶圓片，其特征在于所述每組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括有至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn) 標(biāo)識(shí)，且同一組的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)均勻分布在與所述晶圓片同心的圓周上。
3.如權(quán)利要求1所述的晶圓片，其特征在于所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為圓形形狀，所述圓形的圓 心距離所述晶圓片邊緣的距離為所述洗邊寬度。
4.如權(quán)利要求1所述的晶圓片，其特征在于所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為正三角形，所述正三角形 的中心距離所述晶圓片邊緣的距離為所述洗邊寬度。
5.如權(quán)利要求1所述的晶圓片，其特征在于所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為正方形，所述正方形的中 心距離所述晶圓片邊緣的距離為所述洗邊寬度。
6.如權(quán)利要求1所述的晶圓片，其特征在于所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為弧線，所述弧線與所述晶 圓片的邊緣平行，所述弧線的中心距離所述晶圓片邊緣的距離為所述洗邊寬度。
7.如權(quán)利要求1所述的晶圓片，其特征在于所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記距離所述晶圓片邊緣的距 離為1毫米、2毫米或者3毫米。
8.如權(quán)利要求1所述的晶圓片，其特征在于所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記是通過(guò)刻蝕的方法形成在 所述晶圓片上的。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種校準(zhǔn)洗邊機(jī)臺(tái)的晶圓片，其特征在于在晶圓片上設(shè)置有多組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，各組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記分別與晶圓片邊緣相距有預(yù)先設(shè)定的洗邊寬度。每組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括有至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，且同一組的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記均勻分布在與晶圓片同心的圓周上，每組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記距離晶圓片的圓心的距離相等。且同一組的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記均勻分布在晶圓片的一個(gè)同心圓上。利用晶圓片對(duì)洗邊機(jī)臺(tái)進(jìn)行洗邊，然后比較光刻膠邊緣與對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記是否對(duì)齊，若不對(duì)齊則調(diào)整洗邊機(jī)臺(tái)，直至光刻膠邊緣與對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)齊，此時(shí)洗邊機(jī)臺(tái)可以精確洗邊。本實(shí)用新型的校準(zhǔn)洗邊機(jī)臺(tái)的晶圓片可以對(duì)洗邊機(jī)臺(tái)進(jìn)行多種洗邊寬度的校對(duì)，使用方便，制作簡(jiǎn)單，可以廣泛應(yīng)用于洗邊機(jī)臺(tái)的校準(zhǔn)中。
文檔編號(hào)H01L21/68GK201749843SQ20102020309
公開(kāi)日2011年2月16日 申請(qǐng)日期2010年5月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月20日
發(fā)明者田曉丹 申請(qǐng)人:中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司