專利名稱：半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜工藝腔室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池行業(yè)領(lǐng)域，具體涉及一種用于半導(dǎo)體太陽(yáng) 能鍍膜的工藝腔室。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的用于半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜的工藝腔室，包括腔壁、氣體注射器、負(fù)載架以及承 受器，負(fù)載架裝置主要有兩方面的作用一是負(fù)載架邊腳能起到支撐玻璃作用，機(jī)械手臂將 玻璃送入工藝腔室內(nèi)部時(shí)，首先將玻璃架在負(fù)載架的邊腳上，承受器再執(zhí)行上升與玻璃接 觸后再進(jìn)行工藝；二是對(duì)抽真空的時(shí)候起到阻力作用，讓工藝氣體不容易被瞬間抽走，停留 在玻璃的表面能更好地進(jìn)行沉積，能夠有效地控制薄膜的均勻性和生產(chǎn)的良率。根據(jù)目前工藝腔室內(nèi)部裝置分析色差主要分布在玻璃的兩端邊沿上，外觀判斷屬 于熱量擴(kuò)散或加熱不均勻而導(dǎo)致色差現(xiàn)象發(fā)生，玻璃從加熱腔室出來(lái)后直接放到工藝腔室 內(nèi)部的負(fù)載架邊腳上，由于負(fù)載架邊腳沒(méi)有加熱裝置，玻璃放在上面之后熱量會(huì)快速分散， 然后承受器進(jìn)行上升，與玻璃完全接觸后工藝開(kāi)始進(jìn)行，工藝完成后，我們發(fā)現(xiàn)玻璃兩端出 現(xiàn)了鍍膜不均勻的現(xiàn)象，根據(jù)色差現(xiàn)象再次分析，玻璃屬于加熱不均勻和邊緣熱量擴(kuò)散的 原因造成。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，而提供一種鍍膜更 為均勻，色差小的用于半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜的工藝腔室。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜工藝腔室，包括腔壁、氣體注射器、負(fù)載架以及承受器，所 述的氣體注射器設(shè)置在腔壁的上端，所述的承受器設(shè)置在氣體注射器的下端，其特征在于 所述的負(fù)載架設(shè)置在所述的承受器上，在所述的腔壁上設(shè)置有氣體緩沖層。所述的氣體緩沖層上設(shè)置有定位孔，在所述的腔壁上設(shè)置有T字型校準(zhǔn)栓，在T字 型校準(zhǔn)栓的尾部設(shè)置有突出的校準(zhǔn)柱，所述的氣體緩沖層的定位孔套在校準(zhǔn)柱上。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜工藝腔室，負(fù)載架不是設(shè)置在腔 壁上，而是設(shè)置在承受器上，用來(lái)支撐玻璃，在腔壁上再設(shè)獨(dú)立的氣體緩沖層單獨(dú)來(lái)阻止氣 體。采用本實(shí)用新型的工藝腔室，玻璃的負(fù)載架設(shè)置在承受器上，在對(duì)玻璃進(jìn)行支撐后，玻 璃的邊緣不會(huì)快速的降溫，經(jīng)承受器加熱后，玻璃溫度均勻，鍍膜效果好，色差小。
圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型緩沖層結(jié)構(gòu)示意圖。其中1、氣體注射器，2、承受器，3、氣體緩沖層，31、定位孔，4、支撐架，5、支撐栓底 板，6、腔壁。
具體實(shí)施方式
[0014]
以下結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型作詳細(xì)說(shuō)明如圖1所示，一種用于半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜的工藝腔室，包括腔壁6、氣體注射器1支 撐栓底板5、承受器2，其中氣體注射器1設(shè)置在腔壁6的上端，承受器2設(shè)置在氣體注射器 1的下端，支撐架4設(shè)置在承受器2的下端，腔壁上設(shè)置有氣體緩沖層3。氣體緩沖層3上設(shè)置有定位孔31，在腔壁上設(shè)置有T字型校準(zhǔn)栓，在T字型校準(zhǔn)栓 的尾部設(shè)置有突出的校準(zhǔn)柱，所述的氣體緩沖層的定位孔套在校準(zhǔn)柱上。氣體緩沖層主要作用就是對(duì)抽真空的時(shí)候起到阻力作用，機(jī)械手臂將玻璃送進(jìn)工 藝腔室內(nèi)部時(shí)放在承受器表面的負(fù)載架上后，承受器執(zhí)行上升命令與玻璃接觸再進(jìn)行工 藝，氣體緩沖層的優(yōu)點(diǎn)是避免玻璃的邊緣與現(xiàn)有技術(shù)的負(fù)載架的邊腳接觸而導(dǎo)致熱量擴(kuò) 散，使色差現(xiàn)象發(fā)生；氣體緩沖層的安裝方法，將T字型校準(zhǔn)栓安裝在工藝腔室壁上，T字型 的尾部上方有突出的校準(zhǔn)柱，將新型的負(fù)載架直接架在T字型的校準(zhǔn)柱上來(lái)固定。
權(quán)利要求1.一種半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜工藝腔室，包括腔壁、氣體注射器、負(fù)載架以及承受器，所述 的氣體注射器設(shè)置在腔壁的上端，所述的承受器設(shè)置在氣體注射器的下端，其特征在于所 述的負(fù)載架設(shè)置在所述的承受器上，在所述的腔壁上設(shè)置有氣體緩沖層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜工藝腔室，其特征在于所述的氣體緩沖 層上設(shè)置有定位孔，在所述的腔壁上設(shè)置有T字型校準(zhǔn)栓，在T字型校準(zhǔn)栓的尾部設(shè)置有突 出的校準(zhǔn)柱，所述的氣體緩沖層的定位孔套在校準(zhǔn)柱上。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜工藝腔室，包括腔壁、氣體注射器、負(fù)載架以及承受器，所述的氣體注射器設(shè)置在腔壁的上端，所述的承受器設(shè)置在氣體注射器的下端，其特征在于所述的負(fù)載架設(shè)置在所述的承受器上，在所述的腔壁上設(shè)置有氣體緩沖層。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜工藝腔室，負(fù)載架不是設(shè)置在腔壁上，而是設(shè)置在承受器上，用來(lái)支撐玻璃，在腔壁上再設(shè)獨(dú)立的氣體緩沖層單獨(dú)來(lái)阻止工藝氣體。采用本實(shí)用新型的工藝腔室，玻璃的負(fù)載架設(shè)置在承受器上，在對(duì)玻璃進(jìn)行支撐后，玻璃的邊緣不會(huì)快速的降溫，經(jīng)承受器加熱后，玻璃溫度均勻，鍍膜效果好，色差小。
文檔編號(hào)H01L31/18GK201868459SQ201020179750
公開(kāi)日2011年6月15日 申請(qǐng)日期2010年5月5日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月5日
發(fā)明者張 浩, 昝圣達(dá), 朱峰林 申請(qǐng)人:江蘇綜藝光伏有限公司