專利名稱:極耳位裝置、正極片制造設(shè)備以及制造方法
極耳位裝置、正極片制造設(shè)備以及制造方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及電池制造,尤其是涉及一種極耳位裝置、正極片制造設(shè)備以及正極片制造方法。
背景技術(shù):
在鎳氫電池的生產(chǎn)過程中,涉及正極片的制造。傳統(tǒng)正極片的制造過程包括在正極基體(通常是發(fā)泡鎳)上用打極耳機(jī)打出極耳位,然后用上粉機(jī)在正極基體上鋪滿一層活性物質(zhì),之后用輥壓機(jī)對活性物質(zhì)進(jìn)行輥壓,最后利用吹嘴在極耳位處將活性物質(zhì)吹走。上述正極片的制造過程具有以下問題一是傳統(tǒng)的打極耳機(jī)是采用機(jī)械打擊的方法在正極基體上打出極耳位,這使得正極基體在極耳位處的強(qiáng)度變?nèi)?,?yán)重的情況是極耳位處被打穿。在接下來的焊接極耳的工序中,會使正極基體與極耳連接不牢固。二是經(jīng)過輥壓的活性物質(zhì)與正極基體黏結(jié)較牢固,采用吹嘴難以吹干凈。
發(fā)明內(nèi)容基于此,有必要提供一種減少正極基體損傷的制造極耳位的極耳位裝置?!N極耳位裝置,用于在鋪設(shè)有活性物質(zhì)的正極基體上產(chǎn)生極耳位,包括定位基座、固定于定位基座上的支撐架、設(shè)于所述支撐架上的吸嘴以及通過管道與所述吸嘴連接的真空發(fā)生器,所述定位基座用于將吸嘴定位于預(yù)定的用于產(chǎn)生極耳位的位置。優(yōu)選地,還包括設(shè)于支撐架上的微調(diào)裝置,所述微調(diào)裝置用于調(diào)節(jié)支撐架的升降。優(yōu)選地,所述吸嘴包括前端的嘴部和與所述嘴部連通的氣腔部,所述嘴部為截面為矩形的方柱筒形,所述氣腔部的截面尺寸沿吸氣的方向逐漸變大且整體為四棱錐臺形狀。優(yōu)選地,所述矩形的長度比極耳位的寬度小0. 5毫米。還提供一種正極片制造設(shè)備。一種正極片制造設(shè)備,包括用于傳送正極基體的傳送裝置、沿正極基體傳送方向依次排列的上粉裝置、極耳位裝置和輥壓機(jī),所述極耳位裝置用于在鋪設(shè)有活性物質(zhì)的正極基體上產(chǎn)生極耳位,包括與所述正極基體平行設(shè)置的定位基座、固定于定位基座上的支撐架、設(shè)于所述支撐架上的吸嘴以及通過管道與所述吸嘴連接的真空發(fā)生器,所述定位基座用于將吸嘴定位于預(yù)定的用于產(chǎn)生極耳位的位置。優(yōu)選地,所述極耳位裝置還包括設(shè)于支撐架上的微調(diào)裝置,所述微調(diào)裝置用于調(diào)節(jié)支撐架的升降。優(yōu)選地,所述吸嘴可由所述微調(diào)裝置調(diào)整至距離正極基體表面0. 1毫米到0. 2毫米的位置。優(yōu)選地,所述吸嘴包括前端的嘴部和與所述嘴部連通的氣腔部,所述嘴部為截面為矩形的方柱筒形,所述氣腔部的截面尺寸沿吸氣的方向逐漸變大且整體為四棱錐臺形狀。優(yōu)選地,所述矩形的長度比極耳位的寬度小0. 5毫米。此外,還提供一種正極片制造方法一種正極片制造方法,包括如下步驟將正極基體送入傳送裝置,使所述正極基體沿傳送方向移動;將所述正極基體表面鋪設(shè)一層活性物質(zhì);在預(yù)設(shè)的極耳位,將所述活性物質(zhì)從所述正極基體上吸除;將所述活性物質(zhì)進(jìn)行輥壓。優(yōu)選地,所述將活性物質(zhì)從正極基體上吸除的步驟具體包括采用矩形開口的吸嘴對準(zhǔn)極耳位的一端,其中所述矩形開口的長度小于極耳位寬度0. 5毫米;吸除與所述矩形開口相同形狀的活性物質(zhì),并隨著正極基體的移動,正極基體表面的活性物質(zhì)逐漸被吸除;當(dāng)正極基體移動到吸嘴對準(zhǔn)極耳位的另一端時,停止吸除。上述極耳位裝置、正極片制造設(shè)備以及正極片制造方法,采用吸除活性物質(zhì)而不是機(jī)械打擊的方法生成極耳位,因此正極基體上完全無損傷,不會產(chǎn)生后續(xù)的極耳焊接不牢固的問題。此外,由于輥壓步驟在吸除活性物質(zhì)的步驟之后,活性物質(zhì)也較易吸除,減少殘留。
圖1為一實(shí)施例的極耳位裝置;圖2為圖1中A部的局部放大圖;圖3為一實(shí)施例的正極片制造設(shè)備的俯視示意圖;圖4為一實(shí)施例的正極片制造方法流程圖;圖5為圖4中步驟S300的流程圖。
具體實(shí)施方式以下結(jié)合附圖進(jìn)行進(jìn)一步說明。如圖1所示,為一實(shí)施例的極耳位裝置。該極耳位裝置用于在鋪設(shè)有活性物質(zhì)的正極基體90上產(chǎn)生極耳位。結(jié)合圖3,極耳位920大致為矩形的凹槽,用于在后續(xù)工藝中焊接極耳。該極耳位裝置包括定位基座10、固定于定位基座10上的支撐架20、設(shè)于支撐架20 上的吸嘴30以及通過管道40與吸嘴30連接的真空發(fā)生器50。定位基座10用于將吸嘴30定位于預(yù)定的用于產(chǎn)生極耳位的位置。在未裁剪的正極基體90上,極耳位920相互之間間隔固定的距離,并且與正極基體90兩側(cè)的距離也是固定的。定位基座10使吸嘴30相對于正極基體90兩側(cè)的距離固定。支撐架20可為任意形狀、結(jié)構(gòu)的支架,只需滿足可支撐吸嘴30即可。本實(shí)施例中, 支撐架20優(yōu)選為彎折的板狀結(jié)構(gòu),包括平行于定位基座10的支撐板22和基本垂直于支撐板22的主體板24。結(jié)合圖2,吸嘴30包括前端的嘴部32和與嘴部32連通的氣腔部34。嘴部32為截面為矩形的方柱筒形,氣腔部34的截面尺寸沿吸氣的方向逐漸變大且整體為四棱錐臺形狀。吸嘴30用于吸除正極基片90上鋪設(shè)的部分活性物質(zhì),使正極基片90上形成凹槽形的極耳位920。嘴部32的截面矩形長度與極耳位920的寬度大致相同,以吸出符合要求的極耳位。優(yōu)選矩形長度比極耳位的寬度小0.5毫米。當(dāng)吸嘴30吸除活性物質(zhì)時,會稍微擴(kuò)大吸除的區(qū)域,因此設(shè)置矩形長度比極耳位的寬度小0. 5毫米較為理想。嘴部30的寬度則較窄,可增大吸嘴30的吸力。真空發(fā)生器50通過管道40與吸嘴30連通,可在工作時使吸嘴30產(chǎn)生較大的吸力。進(jìn)一步地,該極耳位裝置還包括設(shè)于支撐架20上,具體的,是設(shè)于主體板24上的微調(diào)裝置60,微調(diào)裝置60用于調(diào)節(jié)支撐架20的升降。從而可以調(diào)節(jié)吸嘴30升降。微調(diào)裝置60可采用多種方式實(shí)現(xiàn),如螺旋微調(diào)裝置、導(dǎo)桿微調(diào)裝置、滑軌微調(diào)裝置等。如圖3所示,為一實(shí)施例的正極片制造設(shè)備的俯視示意圖。包括用于傳送正極基體900的傳送裝置(圖未示),傳送裝置優(yōu)選為圖1所示的極片托輥80 ;沿正極基體900傳送方向依次排列的上粉裝置100、極耳位裝置200和輥壓機(jī)300。極耳位裝置200用于在鋪設(shè)有活性物質(zhì)的正極基體900上產(chǎn)生極耳位920。上粉裝置100用于在正極基體900上鋪設(shè)一層活性物質(zhì)。隨著正極基體900在傳送裝置上移動,正極基體900表面逐漸被上粉裝置100鋪設(shè)一層活性物質(zhì)。極耳位裝置200包括與正極基體900平行設(shè)置的定位基座210、固定于定位基座 210上的支撐架220、設(shè)于支撐架220上的吸嘴230以及通過管道(參考圖1)與吸嘴230 連接的真空發(fā)生器(參考圖1)。定位基座210用于將吸嘴定位于預(yù)定的用于產(chǎn)生極耳位的位置。在未裁剪的正極基體900上,極耳位920相互之間間隔固定的距離,并且與正極基體900兩側(cè)的距離也是固定的。定位基座210使吸嘴230相對于正極基體900兩側(cè)的距離固定。進(jìn)一步地,極耳位裝置200還包括設(shè)于支撐架220上的微調(diào)裝置(參考圖1所示實(shí)施例中的微調(diào)裝置60),微調(diào)裝置用于調(diào)節(jié)支撐架220的升降。優(yōu)選地,微調(diào)裝置可將吸嘴230調(diào)整至距離正極基體900表面0. 1毫米到0. 2毫米的位置。極耳位裝置200的其他結(jié)構(gòu)可參考圖1中所示實(shí)施例進(jìn)行設(shè)置。如圖4所示,為一實(shí)施例的正極片制造方法流程圖。該方法包括如下步驟SlOO 將正極基體送入傳送裝置,使所述正極基體沿傳送方向移動。傳送裝置自動連續(xù)地使正極基體沿設(shè)定方向移動。S200 將所述正極基體表面鋪設(shè)一層活性物質(zhì)?;钚晕镔|(zhì)是構(gòu)成正極片的部分材料。在傳送裝置的帶動下,正極基體沿傳送方向移動,并且隨著正極基體的移動,其表面逐漸覆蓋一層活性物質(zhì)。S300 在預(yù)設(shè)的極耳位,將所述活性物質(zhì)從所述正極基體上吸除。在正極基體移動一段距離后,在預(yù)設(shè)需要生成極耳位的位置,用吸嘴將活性物質(zhì)吸除,并且在極耳位形成后,停止吸除。S400 將所述活性物質(zhì)進(jìn)行輥壓。采用輥壓機(jī)進(jìn)行輥壓。其中步驟S300具體包括S310 采用矩形開口的吸嘴對準(zhǔn)極耳位的一端,其中所述矩形開口的長度小于極耳位寬度0.5毫米。由于極耳位是一個矩形的凹槽,其長度沿正極基體傳送的方向延伸,采用長度與凹槽寬度相仿的矩形吸嘴從極耳位的一端開始吸除活性物質(zhì)。S320:吸除與所述矩形開口相同形狀的活性物質(zhì),并隨著正極基體的移動,正極基體表面的活性物質(zhì)逐漸被吸除。S330 當(dāng)正極基體移動到吸嘴對準(zhǔn)極耳位的另一端時,停止吸除。上述極耳位裝置、正極片制造設(shè)備以及正極片制造方法,采用吸除活性物質(zhì)而不是機(jī)械打擊的方法生成極耳位,因此正極基體上完全無損傷,不會產(chǎn)生后續(xù)的極耳焊接不牢固的問題。此外,由于輥壓步驟在吸除活性物質(zhì)的步驟之后,活性物質(zhì)也較易吸除,減少殘留。以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式,其描述較為具體和詳細(xì),但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形和改進(jìn),這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此,本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種極耳位裝置,用于在鋪設(shè)有活性物質(zhì)的正極基體上產(chǎn)生極耳位,其特征在于,包括定位基座、固定于定位基座上的支撐架、設(shè)于所述支撐架上的吸嘴以及通過管道與所述吸嘴連接的真空發(fā)生器,所述定位基座用于將吸嘴定位于預(yù)定的用于產(chǎn)生極耳位的位置。
2.如權(quán)利要求1所述的極耳位裝置,其特征在于,還包括設(shè)于支撐架上的微調(diào)裝置,所述微調(diào)裝置用于調(diào)節(jié)支撐架的升降。
3.如權(quán)利要求1所述的極耳位裝置,其特征在于,所述吸嘴包括前端的嘴部和與所述嘴部連通的氣腔部,所述嘴部為截面為矩形的方柱筒形,所述氣腔部的截面尺寸沿吸氣的方向逐漸變大且整體為四棱錐臺形狀。
4.如權(quán)利要求3所述的極耳位裝置,其特征在于,所述矩形的長度比極耳位的寬度小 0. 5毫米。
5.一種正極片制造設(shè)備,其特征在于,包括用于傳送正極基體的傳送裝置、沿正極基體傳送方向依次排列的上粉裝置、極耳位裝置和輥壓機(jī),所述極耳位裝置用于在鋪設(shè)有活性物質(zhì)的正極基體上產(chǎn)生極耳位,包括與所述正極基體平行設(shè)置的定位基座、固定于定位基座上的支撐架、設(shè)于所述支撐架上的吸嘴以及通過管道與所述吸嘴連接的真空發(fā)生器,所述定位基座用于將吸嘴定位于預(yù)定的用于產(chǎn)生極耳位的位置。
6.如權(quán)利要求要求5所述的正極片制造設(shè)備,其特征在于,所述極耳位裝置還包括設(shè)于支撐架上的微調(diào)裝置,所述微調(diào)裝置用于調(diào)節(jié)支撐架的升降。
7.如權(quán)利要求要求6所述的正極片制造設(shè)備,其特征在于,所述吸嘴可由所述微調(diào)裝置調(diào)整至距離正極基體表面0. 1毫米到0. 2毫米的位置。
8.如權(quán)利要求要求5所述的正極片制造設(shè)備,其特征在于,所述吸嘴包括前端的嘴部和與所述嘴部連通的氣腔部,所述嘴部為截面為矩形的方柱筒形,所述氣腔部的截面尺寸沿吸氣的方向逐漸變大且整體為四棱錐臺形狀。
9.如權(quán)利要求要求8所述的正極片制造設(shè)備,其特征在于,所述矩形的長度比極耳位的寬度小0. 5毫米。
10.一種正極片制造方法,其特征在于,包括如下步驟將正極基體送入傳送裝置,使所述正極基體沿傳送方向移動;將所述正極基體表面鋪設(shè)一層活性物質(zhì);在預(yù)設(shè)的極耳位,將所述活性物質(zhì)從所述正極基體上吸除;將所述活性物質(zhì)進(jìn)行輥壓。
11.如權(quán)利要求10所述的正極片制造方法,其特征在于,所述將活性物質(zhì)從正極基體上吸除的步驟具體包括采用矩形開口的吸嘴對準(zhǔn)極耳位的一端,其中所述矩形開口的長度小于極耳位寬度 0. 5毫米;吸除與所述矩形開口相同形狀的活性物質(zhì),并隨著正極基體的移動,正極基體表面的活性物質(zhì)逐漸被吸除;
全文摘要
本發(fā)明涉及一種極耳位裝置,用于在鋪設(shè)有活性物質(zhì)的正極基體上產(chǎn)生極耳位。該極耳位裝置包括定位基座、固定于定位基座上的支撐架、設(shè)于所述支撐架上的吸嘴以及通過管道與所述吸嘴連接的真空發(fā)生器,所述定位基座用于將吸嘴定位于預(yù)定的用于產(chǎn)生極耳位的位置。此外還涉及一種采用上述極耳位裝置的正極片制造設(shè)備以及一種正極片制造方法。上述極耳位裝置、正極片制造設(shè)備以及正極片制造方法,采用吸除活性物質(zhì)而不是機(jī)械打擊的方法生成極耳位,因此正極基體上完全無損傷,不會產(chǎn)生后續(xù)的極耳焊接不牢固的問題。此外,由于輥壓步驟在吸除活性物質(zhì)的步驟之后,活性物質(zhì)也較易吸除,減少殘留。
文檔編號H01M4/26GK102176517SQ201010619698
公開日2011年9月7日 申請日期2010年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月31日
發(fā)明者周定坤, 孔令坤, 廖興群, 李文良, 王小明 申請人:深圳市豪鵬科技有限公司