專利名稱：高速基片對(duì)齊器設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及基片對(duì)齊器設(shè)備。
技術(shù)背景
集成電路(IC)由半導(dǎo)體材料的基片(晶片)生產(chǎn)。在IC制造期間，晶片典型 地容納在盒內(nèi)且移動(dòng)到處理站，在處理站處通過基片運(yùn)輸器將晶片從盒移除且放置在晶 片對(duì)齊器內(nèi)以實(shí)現(xiàn)對(duì)于進(jìn)一步晶片處理所希望的預(yù)先確定的定向。
在常規(guī)對(duì)齊器中，基片運(yùn)輸器可以將晶片放置在晶片對(duì)齊器上且然后在晶片對(duì) 齊過程期間從對(duì)齊器移開。這由于在晶片對(duì)齊過程前和過程后的基片運(yùn)輸器延伸和收回 導(dǎo)致增加的晶片對(duì)齊時(shí)間。同樣，如果將晶片的對(duì)齊特征或基準(zhǔn)放置在例如對(duì)齊卡盤安 放墊的對(duì)齊器特征上方，使得晶片基準(zhǔn)掩蓋對(duì)齊器的基準(zhǔn)傳感器，則這將導(dǎo)致晶片放置 和基準(zhǔn)感測(cè)的重試，因此進(jìn)一步增加了對(duì)齊時(shí)間。在對(duì)齊過程期間的基片運(yùn)輸器重復(fù)移 動(dòng)以及對(duì)晶片對(duì)齊特征的阻擋造成了對(duì)齊過程中的低效，因此降低了晶片處理和生產(chǎn)的 生產(chǎn)能力。
因?yàn)樵趯⒕胖迷趯?duì)齊器上時(shí)潛在的基片運(yùn)輸器重試和通過對(duì)齊器處理的大 量晶片，為處理而將一批晶片對(duì)齊所需的時(shí)間可能大體上增加。如下的表1圖示了以常 規(guī)基片對(duì)齊器進(jìn)行的常規(guī)對(duì)齊過程。
表 權(quán)利要求
1.一種基片對(duì)齊器設(shè)備，其包括適合于允許基片運(yùn)輸器將基片運(yùn)輸?shù)綄?duì)齊器設(shè)備和從對(duì)齊器設(shè)備運(yùn)輸?shù)目蚣埽粠в兄辽僖粋€(gè)感測(cè)裝置的可旋轉(zhuǎn)傳感器頭，以用于檢測(cè)基片的位置確定特征，可旋 轉(zhuǎn)傳感器頭通過驅(qū)動(dòng)軸可移動(dòng)地連接到框架，該驅(qū)動(dòng)軸接合到可旋轉(zhuǎn)傳感器頭，以用于 將可旋轉(zhuǎn)傳感器頭相對(duì)于框架移動(dòng)；和安裝到框架的基片支承件，以用于在由可旋轉(zhuǎn)傳感器頭檢測(cè)到位置確定特征時(shí)支承 基片；其中基片支承件具有接觸基片的外周邊緣的支承墊，且感測(cè)裝置能與位置確定特征 相對(duì)于支承墊的位置無關(guān)地檢測(cè)位置確定特征。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中可旋轉(zhuǎn)傳感器頭構(gòu)造為允許基片運(yùn)輸器在基片對(duì) 齊期間保持在框架內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中可旋轉(zhuǎn)傳感器頭包括基片安放墊。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中基片安放墊定位為接觸基片的邊緣。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中該至少一個(gè)感測(cè)裝置包括第一感測(cè)裝置和第二感 測(cè)裝置，第一感測(cè)裝置與第二感測(cè)裝置位于傳感器頭的相對(duì)側(cè)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中第一感測(cè)裝置和第二感測(cè)裝置包括反射光學(xué)傳感
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中第一感測(cè)裝置和第二感測(cè)裝置包括穿透束光學(xué)傳 感器，所述的穿透束光學(xué)傳感器每個(gè)具有發(fā)射器和接收器。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中基片支承件可移動(dòng)地安裝到框架且能相對(duì)于可旋 轉(zhuǎn)傳感器頭沿運(yùn)動(dòng)軸線移動(dòng)，該運(yùn)動(dòng)軸線大體上與可旋轉(zhuǎn)傳感器頭的旋轉(zhuǎn)軸線重合。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中支承墊大體上是透明的。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中基片支承件可移動(dòng)地安裝到旋轉(zhuǎn)框架，使得基 片支承件可相對(duì)于框架繞與可旋轉(zhuǎn)傳感器頭共同的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中基片支承件限定了用于在設(shè)備內(nèi)側(cè)緩沖基片的 基片緩沖器。
全文摘要
基片對(duì)齊器提供了最小的基片運(yùn)輸器延伸和收回運(yùn)動(dòng)以快速地對(duì)齊基片而不損壞背側(cè)，同時(shí)增加了基片處理的生產(chǎn)能力。在一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)齊器具有連接到框架的倒轉(zhuǎn)卡盤，帶有能將基片從卡盤傳遞到運(yùn)輸器的基片傳遞系統(tǒng)而不旋轉(zhuǎn)地再定位基片。倒轉(zhuǎn)卡盤消除了對(duì)齊器對(duì)基片基準(zhǔn)的阻擋，且與傳遞系統(tǒng)一起允許運(yùn)輸器在對(duì)齊期間保持在框架內(nèi)。在另一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)齊器具有連接到框架的可旋轉(zhuǎn)傳感器頭和帶有透明安放墊的用于在對(duì)齊期間支承基片的基片支承件，使得運(yùn)輸器可以在對(duì)齊期間保持在框架內(nèi)?；瑢?duì)齊與基準(zhǔn)在支承墊上的放置無關(guān)地進(jìn)行。在其他實(shí)施例中，基片支承件使用了緩沖器系統(tǒng)以在設(shè)備內(nèi)側(cè)緩沖基片，從而允許快速的基片交換。
文檔編號(hào)H01L21/68GK102024735SQ201010516708
公開日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2006年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月30日
發(fā)明者J·T·穆拉, M·霍塞克, T·博頓利, U·吉爾克里斯特 申請(qǐng)人:布魯克斯自動(dòng)化公司