專利名稱：太陽(yáng)光電模塊及其表面層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種太陽(yáng)光電模塊，且特別是有關(guān)于一種光穿透率高且散熱佳的 太陽(yáng)光電模塊及其表面層。
背景技術(shù)：
典型太陽(yáng)光電模塊的封裝結(jié)構(gòu)如圖1所示，是由空氣(Air) 100、玻璃(Glass) 102、 黏膠(EVA、PVB) 104、太陽(yáng)電池(Solar Cell) 106、高反射背板(Backsheet) 108 與空氣 100 所構(gòu)成。這種玻璃與太陽(yáng)電池類似三明治夾層方式以黏膠膠合構(gòu)成的太陽(yáng)光電模塊仍具有 許多封裝損失，譬如造成光反射損失而降低發(fā)電功率。而太陽(yáng)光電模塊主要光損失(optical loss)來(lái)源于諸如空氣與模塊表面玻璃的 反射損失、太陽(yáng)光電模塊各封裝材料間的界面反射損失、模塊日曬溫度效應(yīng)的損失以及模 塊表面污染或遮陰損失。針對(duì)以上損失，目前改善方法多在高效率太陽(yáng)光電模塊封裝材料與結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，以 達(dá)到提升模塊功率目的。例如使用表面抗反射結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的太陽(yáng)電池。近來(lái)也有關(guān)于降低光 損失的專利發(fā)表，如美國(guó)專利US 6，101，946提出制造具壓花結(jié)構(gòu)的玻璃表面來(lái)達(dá)到增加 光穿透率的效果，美國(guó)專利US2008/0000517 Al提出具表面凹凸結(jié)構(gòu)的高反射背板設(shè)計(jì)構(gòu) 想，美國(guó)專利US 5，994，641則是將鋸齒結(jié)構(gòu)面對(duì)太陽(yáng)光裝置于太陽(yáng)電池?cái)?shù)組間隙。由于目前技術(shù)多著重于模塊材料開發(fā)與制作技術(shù)，各家業(yè)者都把重點(diǎn)放在高透光 材料組件如玻璃表面壓花結(jié)構(gòu)技術(shù)、太陽(yáng)電池抗反射層技術(shù)；另一重點(diǎn)為背板組件的高 反射技術(shù)，而相當(dāng)少有模塊結(jié)構(gòu)兼具高透光與散熱設(shè)計(jì)，有效提高大面積光穿透率與降低 模塊溫度，達(dá)到提升模塊效率的目的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種太陽(yáng)光電模塊的表面層，以外加的儲(chǔ)槽維持裝置使表 面層維持在一定高度，可提高光穿透與增加散熱的效果。為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的而提出一種太陽(yáng)光電模塊的表面層，用以外加一太陽(yáng)光電模 塊的表面，其特征在于這種表面層為具有一定高度的液體，且液體的折射率在1 1. 55之 間或者液體的熱阻系數(shù)小于玻璃的熱阻系數(shù)。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述液體包括水或者酒精。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述表面層的高度小于5厘米。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述表面層具有波紋。 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述波紋是通過(guò)被動(dòng)方式或主動(dòng)方式產(chǎn)生的。其中，被動(dòng) 方式為通過(guò)外力或液體流動(dòng)路徑阻力，以產(chǎn)生波紋；主動(dòng)方式則為上述液體本身特性所造 成的流動(dòng)波紋。 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述表面層可通過(guò)一儲(chǔ)槽維持裝置，使所述液體維持在 所述高度。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述儲(chǔ)槽維持裝置包括儲(chǔ)存裝置、循環(huán)系統(tǒng)或模塊背板 儲(chǔ)槽或波紋產(chǎn)生器。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，上述太陽(yáng)光電模塊包括硅基太陽(yáng)電池模塊、薄膜太陽(yáng) 電池模塊、化合物太陽(yáng)電池模塊、染料敏化太陽(yáng)電池模塊、納米太陽(yáng)電池模塊、有機(jī)太陽(yáng)電 池模塊或太陽(yáng)光電模塊系統(tǒng)。本發(fā)明的目的在于提供一種太陽(yáng)光電模塊，可提升太陽(yáng)光電模塊的光穿透率，進(jìn) 而增加模塊發(fā)電效率，并可兼具模塊散熱的效果。為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的另提出一種太陽(yáng)光電模塊，包括一太陽(yáng)能板以及一表面層， 其中太陽(yáng)能板的表面具有一基板，而表面層就位于上述基板上。其中，表面層為具有一定高 度的液體，這種液體的折射率在1 1. 55之間，以增加光穿透率；或者此一液體的熱阻系數(shù) 小于基板的熱阻系數(shù)。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，上述太陽(yáng)光電模塊還包括一儲(chǔ)槽維持裝置，以使上述 液體維持一定的高度。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，上述儲(chǔ)槽維持裝置包括儲(chǔ)存裝置、循環(huán)系統(tǒng)、模塊背板 儲(chǔ)槽或波紋產(chǎn)生器。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，上述太陽(yáng)光電模塊，其中該液體包括水或者酒精。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，上述表面層的高度小于5厘米。
在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，上述基板為表面具有平坦表面。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，上述基板包括表面具有凸起圖案的水流阻力基板。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，上述太陽(yáng)光電模塊包括硅基太陽(yáng)電池模塊、薄膜太陽(yáng) 電池模塊、化合物太陽(yáng)電池模塊、染料敏化太陽(yáng)電池模塊、納米太陽(yáng)電池模塊、有機(jī)太陽(yáng)電 池模塊或太陽(yáng)光電模塊系統(tǒng)。基于上述，本發(fā)明的表面層與太陽(yáng)光電模塊可達(dá)成簡(jiǎn)單模塊結(jié)構(gòu)、液體的波紋制 作容易及提升模塊發(fā)電功率的效果。以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對(duì)本發(fā)明的限定。


圖1是典型太陽(yáng)光電模塊的封裝結(jié)構(gòu)；圖2是依照本發(fā)明的一實(shí)施例的一種太陽(yáng)光電模塊的表面層；圖3是依照本發(fā)明的另一實(shí)施例的一種太陽(yáng)光電模塊的表面層；圖4是依照本發(fā)明的再一實(shí)施例的一種太陽(yáng)光電模塊的表面層；圖5A至圖5D分別是依照本發(fā)明的一實(shí)施例的數(shù)種太陽(yáng)光電模塊；圖6A與圖6B分別是依照本發(fā)明的另一實(shí)施例的兩種太陽(yáng)光電模塊；圖7是對(duì)典型太陽(yáng)光電模塊與本發(fā)明的太陽(yáng)光電模塊進(jìn)行測(cè)試得到的電流電壓 (I-V)曲線圖。其中，附圖標(biāo)記100 空氣102 玻璃104、516 黏膠
106太陽(yáng)電池
108、514 高反射背板
200太陽(yáng)光電模塊
202、504 表面
204、302、502、600 表面層
206,518 儲(chǔ)槽維持裝置
300,620 波紋
400、550、610 波紋產(chǎn)生器
500太陽(yáng)能板
508基板
510抗反射表面
512太陽(yáng)電池
520循環(huán)系統(tǒng)
522循環(huán)器
524電源供應(yīng)器
526液體閥裝置
528液體路徑
530儲(chǔ)存裝置
540模塊背板儲(chǔ)槽
630結(jié)構(gòu)
h 高度
具體實(shí)施例方式圖2是依照本發(fā)明的一實(shí)施例的一種太陽(yáng)光電模塊的表面層。請(qǐng)參照?qǐng)D2，在一個(gè)太陽(yáng)光電模塊200的表面202具有一層本實(shí)施例的表面層 204，其中表面層204為具有一定高度h的液體，其折射率在1 1. 55之間或者其熱阻系數(shù) 小于玻璃的熱阻系數(shù)。上述液體例如水或者酒精。當(dāng)這層表面層204是水時(shí)，其高度h約 小于5厘米(cm)；較佳是控制在3至15毫米(mm)之間。因?yàn)楸緦?shí)施例的表面層204可應(yīng) 用于各種不同類型的太陽(yáng)光電模塊，例如硅基太陽(yáng)電池模塊、薄膜太陽(yáng)電池模塊、化合物 太陽(yáng)電池模塊、染料敏化太陽(yáng)電池模塊、納米太陽(yáng)電池模塊、有機(jī)太陽(yáng)電池模塊、太陽(yáng)光電 模塊系統(tǒng)等類型，所以在圖2中并未詳細(xì)繪出太陽(yáng)光電模塊200的結(jié)構(gòu)。而且，太陽(yáng)光電模 塊200的表面可為水平表面或傾斜表面。在上述實(shí)施例中，將太陽(yáng)光電模塊200表面外加液體結(jié)構(gòu)(即表面層204)而具有 抗反射的效果，不僅提升太陽(yáng)光電模塊200輸出功率與較佳的散熱(cooling)效果，并可同 時(shí)達(dá)到太陽(yáng)光電模塊200防污、清潔容易的功能。 而且，在圖2中還可通過(guò)一儲(chǔ)槽維持裝置206，使表面層204 (液體)維持在所述高 度h，上述儲(chǔ)槽維持裝置206例如儲(chǔ)存裝置、循環(huán)系統(tǒng)或模塊背板儲(chǔ)槽。
圖3是依照本發(fā)明的另一實(shí)施例的一種太陽(yáng)光電模塊的表面層，其中使用與圖2 相同的組件符號(hào)代表相同的構(gòu)件。
請(qǐng)參照?qǐng)D3，在太陽(yáng)光電模塊200的表面202也可以是具有波紋300的表面層302。 此處所產(chǎn)生的波紋可通過(guò)被動(dòng)方式或主動(dòng)方式產(chǎn)生，如圖3的波紋300是以液體流動(dòng)路徑 阻力的被動(dòng)方式產(chǎn)生；也就是說(shuō)，可借著表面202呈凹凸起伏的水流阻力基板，使流經(jīng)其上 的表面層302產(chǎn)生波紋300。此外，也可利用液體本身特性來(lái)造成流動(dòng)波紋300，譬如氣泡 水液體的氣體散逸方式。圖4是依照本發(fā)明的再一實(shí)施例的一種太陽(yáng)光電模塊的表面層，其中使用與圖3 相同的組件符號(hào)代表相同的構(gòu)件。請(qǐng)參照?qǐng)D4，太陽(yáng)光電模塊200的表面202是一個(gè)平坦表面，其中表面層302的波 紋300可通過(guò)外力的被動(dòng)方式產(chǎn)生；也就是說(shuō)，可通過(guò)另外設(shè)置的波紋產(chǎn)生器400同時(shí)作為 儲(chǔ)槽維持裝置(如圖3的206)，以變化表面層302的波紋300強(qiáng)度、頻率、形狀等。其中，波 紋產(chǎn)生器400例如頻率開關(guān)抽水器或頻率開關(guān)水閘。由于表面層302本身具有玻璃表面抗反射的效果，再加上波紋300結(jié)構(gòu)符合導(dǎo)光 設(shè)計(jì)，因此可再提高透光度，并滿足全反射路徑而達(dá)到模塊光捕捉(light trapping)目的， 兼具太陽(yáng)光電模塊200抗反射的高透光設(shè)計(jì)，與一般太陽(yáng)電池與背板反射光捕捉的效果。圖5A則是依照本發(fā)明的一實(shí)施例的一種太陽(yáng)光電模塊。請(qǐng)參照?qǐng)D5A，太陽(yáng)能板500及一層表面層502構(gòu)成本實(shí)施例的結(jié)構(gòu)，其中太陽(yáng)能板 500的表面504具有一基板508。而表面層502為具有一定高度h的液體，其折射率在1 1. 55之間(如水或酒精)，或是這種液體的熱阻系數(shù)小于基板508的熱阻系數(shù)。在本實(shí)施 例中，表面層502為水，且其高度h約小于5厘米。而上述太陽(yáng)能板500例如具有平坦表面 的玻璃基板。至于本實(shí)施例的太陽(yáng)光電模塊可以是各種不同類型的太陽(yáng)光電模塊，如硅基 太陽(yáng)電池模塊、薄膜太陽(yáng)電池模塊、化合物太陽(yáng)電池模塊、染料敏化太陽(yáng)電池模塊、納米太 陽(yáng)電池模塊、有機(jī)太陽(yáng)電池模塊、太陽(yáng)光電模塊系統(tǒng)等類型。在本圖中，太陽(yáng)能板500包括 基板508、具有抗反射表面510的太陽(yáng)電池512、高反射背板514以及黏膠516。另外，還可 搭配與太陽(yáng)光電模塊一體設(shè)計(jì)(如結(jié)合框架、表面結(jié)構(gòu)、模塊側(cè)邊、接線盒、背板等設(shè)計(jì))的 儲(chǔ)槽維持裝置518，用以維持表面層502的液體的高度h。在圖5A中，儲(chǔ)槽維持裝置518可任選組件搭配，以產(chǎn)生靜止的表面層502或流動(dòng) 的表面層502的功能；舉例來(lái)說(shuō)，儲(chǔ)槽維持裝置518包括使液體在基板508上進(jìn)行循環(huán)的循 環(huán)系統(tǒng)520與使液體流動(dòng)緩沖或補(bǔ)給之用的儲(chǔ)存裝置530。而循環(huán)系統(tǒng)520可包括用來(lái)推 動(dòng)液體的循環(huán)器522、電源供應(yīng)器524、作為排放或補(bǔ)給液體之用的液體閥裝置526、提供表 面層502達(dá)到維持靜止或循環(huán)或平衡功能的液體路徑528，并可利用太陽(yáng)光電模塊的框架 作為上述儲(chǔ)存裝置530。此外，電源供應(yīng)器524可以像圖中的外加電源，或者也可以擷取太 陽(yáng)能板500所發(fā)出的電源使用。使用圖5A的太陽(yáng)光電模塊進(jìn)行測(cè)試時(shí)，如果表面層502是高度h在3mm 5mm之 間的水，則最大功率Pmp可提升2. 31 % ；如果表面層510是高度h在3mm 5mm之間的酒精， 則最大功率Pmp可提升3. 15%。圖5B是圖5A的另一變形例的一種太陽(yáng)光電模塊，其中使用與圖5A相同的組件符 號(hào)代表相同的構(gòu)件。在圖5B中，儲(chǔ)槽維持裝置518還可以是置于太陽(yáng)能板500的高反射背 板514底下，用來(lái)散熱并作為液體流動(dòng)緩沖或補(bǔ)給之用的一模塊背板儲(chǔ)槽540，其亦可利用 太陽(yáng)光電模塊的框架制作，以維持此靜止(液體)表面層502的高度h。
圖5C是圖5A的再一變形例的一種太陽(yáng)光電模塊，其中使用與圖5A相同的組件符 號(hào)代表相同的構(gòu)件。在圖5C中，太陽(yáng)能板500是傾斜設(shè)置的，且在本圖的儲(chǔ)槽維持裝置518 還可加上波紋產(chǎn)生器550，以通過(guò)此產(chǎn)生液體流(即，表面層502)。舉例而言，波紋產(chǎn)生器 550可以是傾斜設(shè)計(jì)系統(tǒng)的頻率開關(guān)抽水器或者頻率開關(guān)水間，以變化波紋強(qiáng)度、頻率、形 狀等。當(dāng)然，本發(fā)明的太陽(yáng)光電模塊并不限于此。圖5D是圖5A的又一變形例的一種太陽(yáng)光電模塊，其中使用與圖5A相同的組件符 號(hào)代表相同的構(gòu)件。在圖5D中，太陽(yáng)能板500是傾斜設(shè)置的。至于儲(chǔ)槽維持裝置518則 包括圖5C的循環(huán)系統(tǒng)520、儲(chǔ)存裝置530與波紋產(chǎn)生器550，再加上圖5B的模塊背板儲(chǔ)槽 540。如此一來(lái)，高反射背板514可通過(guò)模塊背板儲(chǔ)槽540中的液體(表面層502)來(lái)散熱， 其亦可利用太陽(yáng)光電模塊的框架制作。圖6A則是依照本發(fā)明的另一實(shí)施例的一種太陽(yáng)光電模塊，其中使用與圖5A相同 的組件符號(hào)代表相同的構(gòu)件。請(qǐng)參照?qǐng)D6A，太陽(yáng)能板500及一層表面層600構(gòu)成本實(shí)施例的結(jié)構(gòu)，其中表面層 600為具有一高度h的液體，其折射率在1 1. 55之間(如水或酒精)，或者這種液體的熱 阻系數(shù)小于基板508的熱阻系數(shù)，以達(dá)到模塊散熱目的。當(dāng)表面層600為水，則其高度h約 小于5厘米。在本實(shí)施例中的基板508與太陽(yáng)能板500所包含的太陽(yáng)電池512、高反射背 板514以及黏膠516都可使用現(xiàn)有的各種太陽(yáng)光電模塊。另外與圖5A —樣，本實(shí)施例的結(jié) 構(gòu)可搭配與太陽(yáng)光電模塊一體設(shè)計(jì)的儲(chǔ)槽維持裝置518，其包括使液體在基板508上進(jìn)行 循環(huán)的循環(huán)系統(tǒng)520與使液體流動(dòng)緩沖或補(bǔ)給之用的儲(chǔ)存裝置530，并可加設(shè)一個(gè)波紋產(chǎn) 生器610，用以使表面層600的液體在基板508上產(chǎn)生波紋620并可變化波紋620強(qiáng)度、頻 率、形狀等，其中波紋產(chǎn)生器610譬如頻率開關(guān)抽水器或者頻率開關(guān)水閘等。而基板508如 果是表面具有凸起圖案的水流阻力基板(如圖3的202)，也可使表面層600的液體產(chǎn)生波 紋620。與典型太陽(yáng)光電模塊結(jié)構(gòu)比較，本圖的表面層600能達(dá)成簡(jiǎn)單模塊結(jié)構(gòu)、波紋620 制作容易與提升模塊發(fā)電功率的效果。使用圖6A的太陽(yáng)光電模塊進(jìn)行測(cè)試時(shí)，如果表面層600是高度在3mm 5mm之間 的水，儲(chǔ)槽維持裝置518的儲(chǔ)存裝置530大小為15cmX 15cm,則最大功率Pmp可提升2. 67% ； 如果表面層600是高度在3mm 5mm之間的酒精，則最大功率Pmp可提升3. 85%。圖6B是圖6A的另一變形例的一種太陽(yáng)光電模塊，其中使用與圖6A相同的組件符 號(hào)代表相同的構(gòu)件。在圖6B中，太陽(yáng)能板500是傾斜設(shè)置的，且可設(shè)計(jì)基板508的表面具 有結(jié)構(gòu)630，使表面層600流動(dòng)時(shí)產(chǎn)生波紋620，因此不需圖6A的波紋產(chǎn)生器610就可產(chǎn)生 波紋620。而且，在圖6B的儲(chǔ)槽維持裝置518還可在太陽(yáng)能板500的高反射背板514底下 加設(shè)模塊背板儲(chǔ)槽540，用來(lái)散熱并作為液體流動(dòng)緩沖或補(bǔ)給之用。另外，關(guān)于本發(fā)明的太陽(yáng)光電模塊的散熱效果，請(qǐng)見圖7，其是在模塊溫度80°C下 分別用典型太陽(yáng)光電模塊(圖1)與本發(fā)明的太陽(yáng)光電模塊(圖6)進(jìn)行測(cè)試，得到的電流 電壓曲線圖。從圖7可知，本發(fā)明的太陽(yáng)光電模塊在高溫80°C時(shí)不但具有高透光的效果，還 能使最大功率Pmp提升20. 85%。綜上所述，本發(fā)明利用太陽(yáng)光電模塊外加表面層的結(jié)構(gòu)，以液體作為表面層，并可 進(jìn)一步設(shè)計(jì)表面層波紋(ripple)達(dá)到表面壓花(texture)的高透光結(jié)構(gòu)。此外，本發(fā)明的 液體表面層可兼具太陽(yáng)光電模塊散熱的效果。因此，本發(fā)明的結(jié)構(gòu)具備波紋制作容易、模塊防污與清潔容易、提升模塊發(fā)電功率與散熱效果佳的優(yōu)勢(shì)。 當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟 悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變 形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
一種太陽(yáng)光電模塊的表面層，用以外加在一太陽(yáng)光電模塊的表面，其特征在于該表面層為具有一高度的一液體，該液體包括折射率在1～1.55之間與熱阻系數(shù)小于玻璃的熱阻系數(shù)其中之一的液體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)光電模塊的表面層，其特征在于，該液體包括水或酒精。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)光電模塊的表面層，其特征在于，該高度小于5厘米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)光電模塊的表面層，其特征在于，具有波紋。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽(yáng)光電模塊的表面層，其特征在于，該波紋是通過(guò)被動(dòng)方 式或主動(dòng)方式產(chǎn)生的。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的太陽(yáng)光電模塊的表面層，其特征在于，該被動(dòng)方式為通過(guò)外 力或所述液體流動(dòng)路徑阻力，以產(chǎn)生該波紋。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)光電模塊的表面層，其特征在于，通過(guò)一儲(chǔ)槽維持裝置， 使該液體維持在該高度。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的太陽(yáng)光電模塊的表面層，其特征在于，該儲(chǔ)槽維持裝置包括 儲(chǔ)存裝置、循環(huán)系統(tǒng)、模塊背板儲(chǔ)槽或波紋產(chǎn)生器。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)光電模塊的表面層，其特征在于，該太陽(yáng)光電模塊包括 硅基太陽(yáng)電池模塊、薄膜太陽(yáng)電池模塊、化合物太陽(yáng)電池模塊、染料敏化太陽(yáng)電池模塊、納 米太陽(yáng)電池模塊、有機(jī)太陽(yáng)電池模塊或太陽(yáng)光電模塊系統(tǒng)。
10.一種太陽(yáng)光電模塊，其特征在于，包括 一太陽(yáng)能板，其表面具有一基板；一表面層，位于該基板上，其中該表面層為具有一高度的液體，且該液體包括折射率在1 1. 55之間與熱阻系數(shù)小于該基板的熱阻系數(shù)其中之一的液體。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的太陽(yáng)光電模塊，其特征在于，還包括一儲(chǔ)槽維持裝置，以使 該液體維持在該高度。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的太陽(yáng)光電模塊，其特征在于，該儲(chǔ)槽維持裝置包括儲(chǔ)存裝 置、循環(huán)系統(tǒng)、模塊背板儲(chǔ)槽或波紋產(chǎn)生器。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的太陽(yáng)光電模塊，其特征在于，該液體包括水或酒精。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的太陽(yáng)光電模塊，其特征在于，該表面層的該高度小于5厘米。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的太陽(yáng)光電模塊，其特征在于，該基板為表面具有平坦表面。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的太陽(yáng)光電模塊，其特征在于，該基板為表面具有凸起圖案 的水流阻力基板。
17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的太陽(yáng)光電模塊，其特征在于，包括硅基太陽(yáng)電池模塊、薄膜 太陽(yáng)電池模塊、化合物太陽(yáng)電池模塊、染料敏化太陽(yáng)電池模塊、納米太陽(yáng)電池模塊、有機(jī)太 陽(yáng)電池模塊或太陽(yáng)光電模塊系統(tǒng)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種太陽(yáng)光電模塊及其表面層。所述表面層，用以在一太陽(yáng)光電模塊的表面，其特征在于這種表面層為具有一定高度的液體，且液體的折射率在1～1.55之間，可增加光穿透率；或者液體的熱阻系數(shù)小于玻璃的熱阻系數(shù)，可增加太陽(yáng)光電模塊散熱能力。上述太陽(yáng)光電模塊還可外加一儲(chǔ)槽維持裝置，使表面層維持在一定高度，可提高光穿透率與增加散熱的效果。
文檔編號(hào)H01L51/42GK101989624SQ20091016554
公開日2011年3月23日 申請(qǐng)日期2009年7月30日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月30日
發(fā)明者葉芳耀, 彭成瑜, 賴瑞千 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院