涂敷、顯影裝置及涂敷、顯影方法以及存儲介質的制作方法

文檔序號：6934612閱讀：140來源：國知局

專利名稱：涂敷、顯影裝置及涂敷、顯影方法以及存儲介質的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及例如對半導體晶圓(wafer)或LCD基板(液晶顯示器用玻璃基板)等基板進行抗蝕劑液的涂敷處理以及曝光后的顯影處理的涂敷、顯影裝置及涂敷、顯影方法以及存儲介質。
背景技術：
對半導體器件或LCD基板等基板涂敷抗蝕劑液，并將該抗蝕劑按規(guī)定圖案曝光后，進行顯影處理，從而在基板上作成所希望的抗蝕劑圖案，這一連串的處理，一般采用在進行抗蝕劑液的涂敷處理或顯影處理的涂敷、顯影裝置上連接曝光裝置的系統(tǒng)來進行。該系統(tǒng)將以下功能塊排列成一列而構成，該功能塊是承載塊(carrierblock), 載放收容了構成基板的半導體晶圓(以下稱為"晶圓")的晶圓輸送盒(wafer cassette),具備對該晶圓輸送盒進行晶圓交接的交接臂；處理塊，對從承載塊輸送的晶圓進行抗蝕劑液的涂敷處理或顯影處理；以及接口塊(interfaceblock)，連接該處理塊和曝光裝置。
可是，對于形成了抗蝕劑圖案的晶圓，進行規(guī)定檢查例如抗蝕劑圖案的線寬、抗蝕劑圖案和基底圖案的重疊度、以及顯影缺陷等的檢查，僅對判定為合格的晶圓進行下個工序。這時，若采用在涂敷、顯影裝置內設置檢查模塊的聯(lián)機(in-line)系統(tǒng)則更加便利，因此如圖 10所示，本發(fā)明人采用在承載塊Bl和處理塊B3之間隔著具備多個檢查模塊11的檢查塊B2的結構。圖中B4是接口塊，B5是曝光裝置。
在這種系統(tǒng)中，所述晶圓輸送盒IO內的晶圓乂人^^載塊B1過4全查塊B2而不停地輸送至處理塊B3，在此進行抗蝕劑液的涂敷處理后，經由接口塊B4輸送至曝光裝置B5，進行規(guī)定曝光處理。然后，曝光后的晶圓在處理塊B3中進行顯影處理，然后，在檢查塊B2中進行規(guī) 定檢查。另一方面，對于不進行檢查的晶圓，在處理塊B3中進行顯影處理之后，使之過檢查塊B2而不停地返回到承載塊Bl。
這時，例如逐批地預先決定對該批內的晶圓是否進行檢查或在進行檢查時該檢查的種類。然后例如在進行檢查的場合，若承載塊Bl 的交接臂(未圖示)從晶圓輸送盒10內取出晶圓，則從控制涂敷、顯影裝置的控制部(未圖示)向進行檢查的檢查模塊輸出檢查預約信號，在檢查模塊中對接受檢查預約信號的晶圓按接受檢查預約信號的順序進行檢查。
如此在向檢查模塊11輸送晶圓之前，預先向該檢查模塊11輸出檢查預約信號的原因在于容易制作輸送程序，此外還有這樣的原因，即，由于檢查模塊11的準備需要規(guī)定時間，所以通過與對晶圓形成抗蝕劑圖案的處理并行進行檢查模塊的準備，來輸送所述處理后的晶圓至檢查塊B2時立即進行檢查，從而抑制生產量的降低。
可是檢查模塊11發(fā)生故障(trouble)時，對于用該檢查模塊11 進行檢查的預定晶圓，進行旁路輸送，直到解除檢查模塊11的故障，并恢復。該旁路輸送指的是將晶圓暫且輸送至設于檢查塊B2的緩沖模塊12，以取代向該檢查模塊11的輸送，由此輸送到該檢查模塊的下個輸送目的地例如承載塊Bl 。
此外，當解除了檢查模塊11的故障時，將用于確認檢查的晶圓從承載塊Bl直接輸送至檢查塊B2，在所述檢查模塊11中對所述用于確認檢查的晶圓進行檢查，進行用于確認該檢查模塊11是否正常的確認檢查。該用于確認檢查的晶圓在結束該檢查模塊11中的檢查后，再回到承載塊B1。
但是，在上述結構中，盡管解除檢查模塊11的故障，并成為能夠使用的狀態(tài)，但是還存在不會輸送至檢查模塊11而不能接受檢查的晶圓多的問題。對這一點，借助圖ll進行具體說明。圖11中橫軸是時間，圖11中第1級表示承載塊B1中從晶圓輸送盒IO取出晶圓的定時和晶圓返回到該晶圓輸送盒10的定時。此外，圖11中第2級表示檢查模塊11中的晶圓的處理狀態(tài)，第3級表示晶圓對緩沖模塊 12的輸送狀態(tài)。
首先對于第l級，以這種場合為例進行說明，即，l批由25塊晶圓設定，將各批A F的晶圓在一個檢查模塊11中進行檢查后，使之返回到下個輸送目的地即承載塊B1的場合。各批A-F左端的時刻是承載塊Bl中從該批A ~ F的晶圓輸送盒10取出最初晶圓的時刻，各批A F右端的時刻表示包括檢查在內的所有處理結束的該批A~F 的最后晶圓返回到該晶圓輸送盒10的定時。即，時刻T1表示批A的最初晶圓(Al )從晶圓輸送盒10被取出的時刻，時刻T4表示批A 的最后晶圓(A25)返回到晶圓輸送盒10的時刻。又，在各批A-F 中，從晶圓輸送盒IO取出最初晶圓時，從控制部向檢查晶圓的預定的檢查模塊ll輸出檢查預約信號。即，批A中，在最初晶圓(Al) 從晶圓輸送盒10被取出的時刻Tl輸出檢查預約信號a。
此外，若對第2級進行說明，則各批A ~ F左端的時刻相當于各批A ~ F的最初晶圓搬入該檢查模塊11的時刻，各批A ~ F右端的時刻相當于該批A ~ F的最后晶圓被從該檢查模塊11搬出的時刻。例如時刻T2表示批A的最初晶圓(Al ) ^殳入4企查^t塊11的定時，時刻 T4表示批A的最后晶圓(A25)從檢查模塊11搬出，同時下一批B 的最初晶圓(Bl )搬入該檢查模塊11的定時。
在此，對于檢查模塊ll,通過設于檢查塊B2的輸送部件來進行晶圓交接，該輸送部件例如具備2個臂，用一個臂從檢查模塊11取出檢查后的晶圓(A25 ),接著將保持在另一臂上的檢查前的晶圓(Bl ) 交接到該檢查模塊ll。因而，在晶圓(A25)取出與晶圓(Bl)交接之間存在若干時滯(time lag),但是該時間極短，因此在這里為了方便圖示而用相同的時刻來表示。此外，時刻T4相當于第1級中該晶圓(A25)返回到晶圓輸送盒10的時刻，但是從檢查模塊11被取出的晶圓(A25 )立即輸送至承載塊Bl ，因此在該圖中為了方便說明用相同的時刻來表示。以下也同樣。
此外，時刻T3表示預定使用的檢查模塊11上發(fā)生故障的時刻，時刻T5表示該檢查模塊11的故障被解除并且成為能夠使用的時刻。該例中，正在檢查批A的晶圓的中途在該檢查模塊11上發(fā)生故障。
可是如已做說明的那樣，當批A ~ F的最初晶圓從晶圓輸送盒10 被取出時，檢查預約信號輸出至檢查模塊11，但是檢查模塊ll上發(fā) 生故障且無法使用的情況下，控制部禁止輸出該檢查預約信號。因而在該例中，時刻T3與時刻T5之間檢查模塊11因故障而處于無法使用的狀態(tài)，對于批D和批E，在這發(fā)生故障的情況下，最初晶圓從晶圓輸送盒10被取出，因此控制部不輸出針對這些批D、 E的檢查預約信號。
然后檢查模塊11的故障被解除且成為能夠使用時，從晶圓輸送盒10給出用于確認;險查的晶圓CW,即使對于該用于檢查確認的晶圓 CW,也在從晶圓輸送盒10給出時，向檢查模塊11輸出檢查預約信號w。因此檢查模塊11接受用于確認檢查的晶圓CW的檢查預約信號w,作為批C的檢查預約信號c之后的序號。
可是，在檢查模塊11無法使用的時間(從時刻T3到時刻T5的時間)，這時向該檢查模塊ll輸送的晶圓即在檢查模塊ll上發(fā)生故障之前已輸出檢查預約信號的晶圓、該例中為從批A的中途至最后的晶圓、批B及批C的晶圓，已經處于向檢查模塊11輸送的狀態(tài)，因此旁路輸送至檢查塊B2的緩沖模塊12，以取代檢查模塊11。這時該例中在批C的中途檢查模塊11的故障被解除，對于批C的全部晶圓預先輸出了檢查預約信號c，因此批C的全部晶圓旁路輸送至緩沖模塊12。
另一方面，如批D、 E的全部晶圓那樣，對于沒有輸出4企查預約信號的晶圓，以不進行4企查的晶圓同樣處理，進行跳躍(skip )輸送。該跳躍輸送指的是如不做檢查的晶圓那樣輸送至該檢查模塊11的下個輸送目的地，該例中輸送至承載塊B1 。在此，所述確認用晶圓CW的檢查預約信號W是批C的晶圓W
的檢查預約信號c之后被接受的，因此確認晶圓W在將批C的晶圓 W旁路輸送之后輸送至檢查模塊11，在該檢查模塊11中進行確認檢查。
然后，自該確認用晶圓CW的確iU企查結束之后，再開始該檢查模塊11對批的晶圓的檢查，但已經決定跳躍輸送批D、批E的晶圓 W，因此在該例中，從批F的晶圓輸送至檢查模塊11,在該模塊11 中進行檢查。
如此，盡管在時刻T5解除了檢查模塊11的故障，且定時上可從批C的中途進行檢查，但是對于批D、批E會進行跳躍輸送，因此如這些批D、 E的晶圓那樣，不能進行檢查的晶圓會增多。
此外，進行重疊檢查的重疊檢查模塊中，進行一日一次定期檢查 (維護)，在該定期檢查過程中不能將晶圓W輸送至該重疊檢查模塊，自確認用晶圓CW的該重疊檢查模塊的確認檢查進行之后結束定期檢查，因此發(fā)生同樣的問題。對于這個問題，具體借助圖12進行說明。圖12也與已做描述的圖11同樣地記載，圖12中橫軸表示時間，圖 12中第1級表示承載塊B1中晶圓從晶圓輸送盒10被取出的定時和晶圓返回到該晶圓輸送盒10的定時。此外，圖中第2^示重疊檢查模塊中的晶圓的處理狀態(tài)，第3級表示晶圓對緩沖模塊12的輸送狀態(tài)。
該場合，各批A F成為從晶圓輸送盒IO取出最初晶圓時，向重疊檢查模塊輸出檢查預約信號。在該例中，時刻T13 ~時刻T15之間為定期檢查時間，該定期檢查還包含確認用晶圓CW的該重疊檢查模塊的確認才企查時間。
在此，重疊檢查模塊的定期檢查時間內，所述控制部禁止輸出對批的晶圓的檢查預約信號，因此在該例中，對于在所述定期檢查時間內從承載塊Bl給出的批D、批E的晶圓，不會輸出檢查預約信號。然后對于輸出了檢查預約信號的批A C的晶圓W，在定期檢查中預定向該檢查模塊輸送的晶圓被旁路輸送，對于沒有輸出檢查預約信號的批D、批E的晶圓W要進行跳躍輸送。
然后，在批C的檢查預約信號C之后該重疊檢查模塊所接受所述
確認用晶圓CW的檢查預約信號w,因此在批C的晶圓旁路輸送后輸送至該重疊檢查模塊。因而在批D的跳躍輸送過程中輸送至該檢查模塊而進行確認檢查，在該檢查結束后從該檢查模塊搬出的定時結束定期檢查。然后，自該定期檢查結束后，再開始重疊檢查模塊對批的晶圓的檢查，因此在該例中，從批F的晶圓開始在重疊檢查模塊中進行檢查。
因而在該例中，即使重疊檢查模塊處于接受確認用晶圓CW的狀態(tài)，該確認用晶圓CW也在批C旁路輸送后凈皮輸送，因此發(fā)生確認4企查的開始較慢，相應地會延長定期檢查時間的問題，或者不管時刻T15 是否結束重疊檢查模塊的定期檢查，對于批D、批E的晶圓W都會進行跳躍輸送，因此發(fā)生不能進行檢查的晶圓會變多的問題。
可是在專利文獻1中，記載了在輸送盒工位(cassette station)和處理工位之間隔著具備多個檢查裝置的檢查塊的結構。這里所記載的系統(tǒng)，從輸送盒工位經由檢查工位將晶圓輸送至處理工位，使結束處理的晶圓暫且回到承載工位的托架(carrier)內后，由此進行將晶圓輸送至檢查工位進行檢查的稱為重新起動(restart)控制的輸送控制。但是在該專利文獻l中，沒有考慮;險查裝置上發(fā)生故障時或進行;險查裝置的維護時對晶圓的輸送控制，4艮據該專利文獻1的結構也不能解決本發(fā)明的課題。
專利文獻1:日本特開2005 - 175052號^H艮

發(fā)明內容
本發(fā)明鑒于這些事實構思而成，其目的在于提供這樣的技術，即，在解除了檢查模塊的故障之后，通過選擇向該檢查模塊能夠優(yōu)先輸送制品用基板和用于確認檢查的基板中的哪一個，來提高處理自由度，同時在進行確認檢查的場合也能迅速將制品用基板輸送至該檢查模塊而進行檢查的技術。此外，本發(fā)明的其它目的是提供縮短檢查模塊中定期檢查所花的時間且在該定期檢查后能夠迅速將所述制品用基板輸送至該檢查模塊而進行檢查的技術。
為此本發(fā)明提供一種逐批對多塊制品用基板進行處理的涂敷、顯
影裝置，其特征在于具備承載塊，載放逐批收容多塊制品用基板的制品用托架，且具有在與所述托架鄰接的塊之間進行基板交接的交接部件；處理塊，包括多個模塊和第一基板輸送部件，所述多個模塊中包含用于對從所述承載塊交接的制品用基板進行抗蝕劑的涂敷處理以及對涂敷了抗蝕劑且已曝光的制品用基板進行顯影處理的模塊，所述第一基板輸送部件對這些模塊進行制品用基板的交接；檢查塊，包括用于對顯影處理的制品用基板按接受檢查預約的順序進行檢查的檢查模塊和對該檢查模塊進行基板交接的第二基板輸送部件；收容部，收容用于確認所述檢查模塊是否正常的用于確認檢查的基板；選擇部件，由操作員對發(fā)生故障的所述檢查模塊進行選擇，以選擇在解除故障后優(yōu)先輸送所述制品用基板和所述用于確認檢查的基板中的哪一個；以及控制部件，控制所述交接部件及第二基板輸送部件，
所述控制部件執(zhí)行以下步驟當所述制品用基板通過比輸送路徑上的所述檢查模塊超前n (n為1以上的整數)個的基準模塊時，對所述檢查模塊，輸出用于對該制品用基板所屬的批進行檢查的檢查預約信號的步驟；在所述檢查模塊發(fā)生故障的期間，禁止輸出針對所述制品用基板的檢查預約信號，將向該檢查模塊輸送的預定的制品用基板輸送至該檢查模塊的下個輸送順序的模塊的步驟；當該檢查模塊的故障解除且所述選擇部件選擇了制品用基板時，解除針對所述制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止的步驟；以及當該檢查模塊的故障被解除且所述選擇部件選擇了用于確認檢查的基板時，從所述收容部搬出所述用于確認檢查的基板，并輸出針對該用于確認才企查的基板的沖企查預約信號，同時在借助所述用于確認檢查的基板的所述檢查模塊的確認檢查結束后，解除針對所述制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止的步驟。
此外，本發(fā)明的另一發(fā)明是一種逐批對多塊制品用基板進行處理
的涂敷、顯影裝置，其特征在于具備承載塊，載放逐批收容多塊制
品用基板的制品用托架，且具有在與所述托架鄰接的塊之間進行基板
交接的交接部件；處理塊，包括多個模塊和第一基板輸送部件，所述多個模塊中包含用于對從所述承載塊交接的制品用基板進行抗蝕劑的涂敷處理以及對涂敷了抗蝕劑且已曝光的制品用基板進行顯影處理的模塊，所述第一基板輸送部件對這些模塊進行制品用基板的交接；檢查塊，包括用于對顯影處理的制品用基板按接受檢查預約的順序進行檢查的檢查模塊和對該檢查模塊進行基板交接的第二基板輸送部件；收容部，收容用于確認所述檢查模塊是否正常的用于確認檢查的基板；以及控制部件，控制所述交接部件及第二基板輸送部件，
所述控制部件執(zhí)行以下步驟當所述制品用基板通過比輸送路徑上的所述檢查模塊超前n (n為1以上的整數)個的基準模塊時，對所述檢查模塊，輸出用于對該制品用基板所屬的批進行檢查的檢查預約信號的步驟；在進行所述檢查模塊的定期檢查的期間，禁止輸出針對所述制品用基板的檢查預約信號，將向該檢查模塊輸送的預定的制品用基板輸送至該檢查模塊的下個輸送順序的模塊的步驟；在該檢查模塊的定期檢查結束之前，從所述收容部搬出所述用于確認檢查的基板，并輸出針對該用于確認檢查的基板的檢查預約信號的步驟；以及在借助所述用于確認檢查的基板的所述檢查模塊的確認檢查結束后，解除針對所述制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止的步驟。
在此，所述檢查塊可構成為設置在承載塊與處理塊之間。此外，所述收容部可為收容用于確認檢查的基板的托架，且該托架可構成為載放在所述承載塊上。而且，當通過所述基準模塊時輸出所述檢查預約信號的制品用基板可為該制品用基板所屬的批的前頭制品用基板。還有，所述制品用基板通過基準模塊的時候可為所述制品用基板搬入或搬出所述基準模塊的時候。還有，本發(fā)明的涂敷、顯影方法是在處理塊對從承載塊交接的制品用基板進行抗蝕劑的涂敷處理及對已涂敷抗蝕劑且曝光的制品用基板進行顯影處理，并在檢查模塊對該顯影處理的制品用基板進行斗企查之后返回承載塊，并通過用于確認檢查的基板進行用于確認所述檢查模塊是否正常的確認檢查的逐批處理多塊制品基板的涂敷、顯影方法，其特征在于包含當所述制品用基板通過比輸送路徑上的所述檢查模塊超前n (n 為1以上的整數)個的基準模塊時，對所述檢查模塊，輸出用于對該制品用基板所屬的批進行檢查的檢查預約信號的工序；在所述檢查模塊對所述制品用基板按檢查預約信號的接受順序進行檢查的工序；在故障解除后，操作員選擇向發(fā)生故障的所述檢查模塊優(yōu)先輸送所述制品用基板和所述用于確認檢查的基板中的哪一個的工序；在所述檢查模塊發(fā)生故障的期間，禁止輸出針對制品用基板的檢查預約信號，將向該檢查模塊輸送的預定的制品用基板輸送至該檢查模塊的下個輸送順序的模塊的工序；當該檢查模塊的故障被解除且選擇制品用基板作為優(yōu)先輸送的基板時，解除針對制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止的工序；以及當該檢查模塊的故障解除且選擇用于確認檢查的基板作為優(yōu)先輸送的基板時，輸出針對所述用于確認檢查的基板的檢查預約信號，將該用于確認檢查的基板輸送至該檢查模塊，并在結束借助所述用于確認檢查的基板的所述檢查模塊的確認檢查后，解除針對制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止的工序。此外，本發(fā)明的另一種涂敷、顯影方法是在處理塊對從承載塊交接的制品用基板進行抗蝕劑的涂敷處理及對已涂敷抗蝕劑且曝光的制品用基板進行顯影處理，并在檢查模塊對該顯影處理的制品用基板進行;險查之后返回承載塊，并通過用于確認檢查的基板進行用于確認所述檢查模塊是否正常的確認檢查的逐批處理多塊制品基板的涂敷、顯影方法，其特征在于包含當所述制品用基板通過比輸送路徑上的所述檢查模塊超前n (n為1以上的整數)個的基準模塊時，對所述檢查模塊，輸出用于對該制品用基板所屬的批進行檢查的檢查預約信號的工序；在所述檢查模塊對所述制品用基板按檢查預約信號的接受順序進行檢查的工序；在進行所述檢查模塊的定期檢查的期間，禁止輸出針對制品用基板的檢查預約信號，將向該檢查模塊輸送的預定的制品用基板輸送至該檢查模塊的下個輸送順序的模塊的工序；在結束該4全查模塊的定期檢查之前，輸出針對所述用于確認檢查的基板的檢查預約信號，將該用于確認檢查的基板輸送至該檢查模塊的工序；以及在結束借助所述用于確認檢查的基板的所述檢查模塊的確認檢查后，解除針對制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止。再有，本發(fā)明的存儲介質是用于對制品用基板涂敷抗蝕劑液并對涂敷了抗蝕劑液且曝光的制品用基板進行顯影處理的涂敷、顯影裝置且存放了在計算機上工作的計算機程序的存儲介質，其特征在于所述計算機程序編排步驟，以實施所述涂敷、顯影方法。在檢查模塊發(fā)生故障的情況下，能夠在該故障解除后選擇優(yōu)先向該檢查模塊輸送制品用基板和用于確認檢查的基板中的哪一個，提高了處理自由度。此外，優(yōu)先向所述檢查模塊輸送用于確認檢查的基板的場合，就制品用基板而言禁止輸出檢查預約信號，因此檢查模塊優(yōu) 先接受用于確認檢查的基板的檢查預約信號。因此，在該檢查模塊中迅速實施確認檢查，能夠在該確認檢查之后迅速進行再開始檢查的制品用基板的檢查。此外，在其它例中，對檢查模塊進行定期檢查的場合，該定期檢查過程中對各制品用基板而言禁止輸出檢查預約信號，因此檢查模塊優(yōu)先接受用于確認檢查的基板的檢查預約信號。因此在該檢查模塊中迅速實施借助確認4企查基板的確認4企查，所以縮短了定期#企查時間，能夠在該確認檢查之后迅速進行再開始^r查的制品用基板的檢查。

圖l是表示本發(fā)明涂敷、顯影裝置的一實施方式的平面圖。圖2是表示所述涂敷、顯影裝置的外觀斜;見圖。圖3是表示所述涂敷、顯影裝置的縱剖側一見圖。圖4是所述涂敷、顯影裝置的控制部的結構圖。圖5是所述涂敷、顯影裝置中的輸送路徑圖。圖6是所述涂敷、顯影裝置中的輸送路徑圖。圖7是所述涂敷、顯影裝置中的輸送路徑圖。圖8是用于說明所述涂敷、顯影裝置的作用的說明圖。圖9是用于說明所述涂敷、顯影裝置的作用的說明圖。圖10是表示傳統(tǒng)涂敷、顯影裝置中的輸送路徑的概略圖。圖ll是是用于說明傳統(tǒng)涂敷、顯影裝置的作用的說明圖。圖12是用于說明傳統(tǒng)涂敷、顯影裝置的作用的說明圖。
具體實施方式
首先，參照圖1的平面圖及圖2的斜視圖，就本發(fā)明一實施方式的涂敷、顯影裝置2進行說明。該涂敷、顯影裝置2中，收容用于進行涂敷、顯影處理的制品用基板即晶圓W的制品晶圓用托架C1及收容用于確認檢查的基板即確認用晶圓CW的確認晶圓用托架C2，通過輸送機構(未圖示)從涂敷、顯影裝置2外部搬入搬出。在此，所述確認用晶圓用托架C2相當于收容部。圖中21是載放所述托架Cl 、 C2的承載塊。例如在制品晶圓W用托架Cl中密封收容例如25塊晶圓W，每個托架C1中晶圓W的批不同。這里批指的是按處理種類匯集成組的基板群。所述承載塊21中設有載放所述托架Cl、 C2的載置部22、在從該載置部22看時設于前方壁面的開合部23、和形成經由開合部23從托架C1、 C2取出晶圓W的交接部交接臂24。該交接臂24構成為使臂自由升降、自由向左右、前后移動且繞豎直軸自由旋轉，根據來自后述控制部100的指令進行控制。在所述承載塊21背側，分別由框體將周圍包圍的檢查塊40及處理塊51按此順序連接。例如圖3所示，檢查塊40具備例如2個交接臺TRS1、 TRS2;例如3個4企查才莫塊IM1 ~ IM3;在該交接臺TRS1、 TRS2、檢查模塊IM1 ~IM3及后述處理塊Sl的交接臺TRS3、 TRS4 之間進行晶圓交接的第二基板輸送部件即輸送臂4;以及使從處理塊 S1搬入檢查塊40的晶圓W暫時滯留的緩沖模塊B。所述交接臺TRS1 、 TR2例如上下層疊，此外檢查模塊IM1-IM3也上下層疊。所述輸送臂4具有2個臂，所述臂構成為自由升降、自由向左右、前后移動且繞豎直軸自由旋轉，且根據來自后述控制部100的指令進行控制。所述交接臺TRS1載放例如從托架Cl、 C2取出并由此向處理塊 Sl給出的晶圓，交接臺TRS2載放從檢查塊40輸送至承載塊21的晶圓。此外，該例中，檢查模塊IM1是檢測晶圓上的宏觀(macro)缺陷的宏觀檢查模塊，檢查模塊IM2是測定晶圓上形成的膜的厚度或圖案的線寬的膜厚/線寬檢查模塊，檢查模塊IM3是檢測曝光的重疊偏移即這次形成的圖案與基底圖案的位置偏差的重疊檢查模塊。各檢查模塊分別具備接受從后述控制部100輸出的檢查預約信號的預約信號接受部41、 42、 43,按接受檢查預約信號的序號對晶圓(制品用晶圓 W及確認用晶圓CW)進行規(guī)定才企查。再有，各檢查模塊IMl-IM3分別具^f言號收發(fā)部44、 45、 46, 當發(fā)生一些故障時輸出規(guī)定警報，并且在解除了該故障時向所述控制部100輸出故障解除信號或可接受確i人檢查的信號、定期沖企查結束信號等，或接收來自控制部IOO的定期檢查指令。所述警報通過警報或燈的點亮、后述控制部IOO對顯示畫面的顯示等來輸出。在處理塊Sl中，交互地排列設置從跟前側依次將加熱/冷卻系統(tǒng) 的處理模塊多級化的3個貨架模塊25A、 25B、 25C和用于進行與后述液體處理模塊的晶圓W交接的2個第一基板輸送部件即主臂26A、 26B。所述主臂26A、 26B都具備2個臂，且所述臂構成為自由升降、自由向左右、前后移動且繞豎直軸自由旋轉，根據來自后述控制部100的指令進行控制。所述貨架模塊25A、 25B、 25C及主臂26A、 26B從承載塊21側看排列成前后一列，各連接部位G上形成未圖示的用于輸送晶圓的開口部，晶圓W在處理塊S1內，可從一端側的貨架模塊25A自由移動到另一端側的貨架模塊25C。此外，從承載塊21看，主臂26A、 26B 置于由在前后方向排列的貨架模塊25A、 25B、 25C側的一面?zhèn)群屠?如右側的液體處理塊側的一面?zhèn)群蜆嫵勺髠?一面的背面部構成的分區(qū)壁所圍成為空間內。在利用主臂26A、 26B進行晶圓W的交接的位置上，設有將涂敷抗蝕劑的涂敷裝置(COT)或進行顯影處理的顯影裝置(DEV)等液體處理裝置多級化的液體處理模塊28A、 28B。例如圖2所示，該液體處理模塊28A、 28B為收容各液體處理裝置的處理容器29層疊成多級例如5級的結構。此外，對于所述貨架模塊25A、 25B、 25C，除了分配用于進行晶圓W的交接的交"l妄臺(TRS)或在顯影處理后用于進行晶圓W的加熱處理的加熱模塊(LHP)或在涂敷抗蝕劑液前后或進行顯影處理之前用于進行晶圓W的冷卻處理的冷卻^^莫塊(CPL)以外，還分配在涂敷抗蝕劑液之后進行曝光處理前的晶圓W的加熱處理的加熱模塊 (PAB )或進行曝光處理后的晶圓W的加熱處理的加熱模塊(PEB ) 等，例如上下分配10級。在此，所述交接臺TRS3、 TRS4用于在承載塊21與處理塊Sl之間進行晶圓W的交接。在處理塊S1的貨架模塊25C的背側，經由第一接口塊S2及第二接口塊S3連接曝光裝置S4。所述第一接口塊S2具備對所述處理塊 Sl的貨架模塊25C的冷卻模塊CPL或對加熱模塊PEB進行晶圓W 的交接的交接臂31;周邊曝光裝置或緩沖輸送盒等多級排列的貨架模塊32A和晶圓W的交接臺或高精度調溫模塊等多級配置的貨架模塊 32B。此外，在所述第二接口塊S3中，設有交接臂33,從而第一接口塊S2的貨架模塊32B或對曝光裝置S4的內臺34及外臺35進行晶圓 W交接。
在此，主臂26A、 26B構成為取出置于交接對象的模塊上的晶圓 W，接著將保持的下個晶圓W交接給該模塊。然后，主臂26A、 26B 根據預先作成的輸送計劃表(輸送晶圓W的模塊的序號)，將置于各模塊的晶圓W逐塊地向下個模塊轉移。這里模塊指的是放置晶圓W 的部位，不僅包含所述各種處理模塊，而且還包含托架或交接臺、緩沖輸送盒。
該涂敷、顯影裝置2具備例如包含計算機的控制部100，在圖4 中示出該結構。圖中50為總線，連接了用于進行各種運算的CPU51 及工作存儲器52、程序存放部53。所述程序存放部53中存放了編排命令以實施后述那樣的涂敷、顯影裝置2的作用，即晶圓的處理或晶圓的交接控制等的例如由軟件構成的程序。然后，控制部100讀出該程序，從而控制部100向交接臂24或輸送臂4、主臂26A、 26B等輸出指令，控制后述涂敷、顯影裝置2的作用。此外，該程序以收容在例如硬盤、小型光盤、磁光盤、存儲卡等存儲介質的狀態(tài)被存放。
再有，控制部100上連接主計算機101，該主計算機101設定包含例如向涂敷、顯影裝置2輸送的每個托架Cl在涂敷、顯影處理后是否進入進行檢查的批，或進行檢查的場合使用哪個檢查模塊，或在使用多個檢查模塊的場合以什么樣的順序使用等處理的流程(recipe) 信息的識別碼，并管理各托架Cl搬入涂敷、顯影裝置2的定時。在托架Cl輸送至涂敷、顯影裝置2之前，主計算機101向控制部100 發(fā)送與該識別碼對應的信號，控制部IOO根據該信號讀出程序，通過讀出的程序，控制包括交接臂24或輸送臂4等的輸送動作在內的一連串的處理工序。
再者，控制部100中具備用于掌握各批的各晶圓W位于涂敷、顯影裝置2內的哪個場所的晶圓監(jiān)視部54;檢查預約信號輸出部55;操作員操作的除檢查外按鈕56;顯示部57;確認檢查部58;以及臂控制部59。
所述檢查預約信號輸出部55是這樣的部件，即，在晶圓W通過比輸送路徑上預定使用的檢查模塊超前n (n為1以上的整數)個的基準模塊時，對所述檢查模塊輸出用于對該晶圓W所屬的批進行檢查的檢查預約信號，或者禁止輸出該檢查預約信號或解除輸出禁止的部件，當確認用晶圓CW通過比輸送路徑上預定確認檢查的檢查模塊超前n (n為1以上的整數)個的檢查用基準模塊時，對所述檢查模塊輸出檢查預約信號。
這里，晶圓W通過所述基準模塊的時候包含晶圓W借助主臂 26A、 26B或輸送臂4交接到所述基準模塊的時候，或晶圓W從所述基準模塊交接到主臂26A、 26B或輸送臂4的時候。此外，確認用晶圓CW通過所述檢查用基準模塊的時候包含確認用晶圓CW借助交接臂24、輸送臂4、主臂26A、 26B交接到所述檢查用基準模塊的時候，或用于確認檢查的晶圓W從所述檢查用基準模塊交接到交接臂24、輸送臂4、主臂26A、 26B的時候。
此外，如果所述整數n過大，從所述基準模塊輸送到檢查模塊的工序數就會變多，因此一方面延長所述檢查模塊的準備時間，但所述整數n卻越小時，如后所述，在檢查模塊的故障解除后可迅速在該檢查模塊中進行制品用晶圓W的檢查。而且，確認用晶圓CW如后所述，從承載塊21直接輸送至檢查塊40，從所述4企查用基準模塊輸送到該檢查模塊的工序數最少，因此所述整數n優(yōu)選1以上且10以下，而且優(yōu)選向檢查模塊輸送之前對該檢查模塊輸出關于制品用晶圓W 及確認用晶圓CW的檢查預約信號，因此所述整數n特別優(yōu)選1以上且5以下。
所述除檢查外按鈕56形成選擇部件，例如按壓時成為除檢查外指定的狀態(tài)，如果恢復該除檢查外按鈕56就會解除除檢查外指定。在此，進行除檢查外指定的場合指的是在檢查模塊的故障被解除后，將確認用晶圓CW優(yōu)先輸送至該檢查模塊的場合，在進行除檢查外指定的狀態(tài)下，即使檢查模塊的故障被解除，也禁止控制部100輸出針對
制品用晶圓W的所述檢查預約信號。此外，如果使該除檢查外按鈕56 恢復，就會解除除檢查外指定，從而解除針對制品用晶圓W的所述檢查預約信號的輸出禁止。不進行所述除檢查外指定的場合指的是在解除檢查模塊的故障后，向該檢查模塊優(yōu)先輸送制品用晶圓W的場合。
此外，顯示部57中顯示來自檢查模塊的警報信號或故障解除信號、借助確認用晶圓CW的確認;險查結束的用意等。此外，確認沖企查部58是進行如下控制的部件，即，在解除了檢查模塊的故障時，輸出確認用晶圓CW的來自承載塊21的給出指令，將確認用晶圓CW 輸送至所述檢查模塊，進行該檢查模塊的確認檢查。所述臂控制部59 是控制交接臂24或輸送臂4、主臂26A、 26B、接口臂31、 33的部件。
接著，就本發(fā)明的作用，以通過檢查模塊IM1來對晶圓W進行規(guī)定纟企查的場合為例進行說明。
當檢查模塊IM中沒有發(fā)生故障時，按照圖5所示的路徑輸送晶圓W。首先，如果從外部向承載塊21搬入托架Cl，開合部23就會打開，同時托架C1的蓋體被揭開，利用交接臂24取出晶圓W。然后晶圓W通過交接臂24交接到交接臺TRS1 ，并通過檢查模塊40的輸送臂4輸送至交接臺TRS3。接著，主臂26A從交接臺TRS3接受晶圓W，然后通過主臂26A及26B，按照冷卻模塊CPL—涂敷裝置COT —加熱模塊PAB —冷卻模塊CPL的路徑輸送，進行了抗蝕劑液涂敷的晶圓W被送至第一接口塊S2。
然后在第一接口塊S2內，晶圓W被輸送至周邊曝光裝置或高精度調溫模塊，且經由貨架模塊32B的交接臺輸送至第二接口塊S3。然后晶圓W借助交接臂33經由曝光裝置S4的內臺34輸送至曝光裝置S4，進行曝光處理。
曝光處理后的晶圓W以外臺35 —第二接口塊S3 —第一接口塊S2 的順序被輸送后，經由交接臂31輸送至處理塊Sl的貨架模塊25C的加熱模塊PEB (未圖示)。然后，晶圓W按照冷卻模塊CPL —顯影裝置DEV —加熱模塊LHP—交接臺TRS4的路徑被輸送，如此在顯影裝置中進行規(guī)定顯影處理，形成規(guī)定抗蝕劑圖案。
接著，檢查塊40的輸送臂4接受交接臺TRS4的晶圓W，輸送至檢查塊40的規(guī)定檢查模塊，該例中輸送至檢查模塊IM1。該檢查例如對于屬于相同的批的制品用晶圓W要進行相同的檢查。這時例如該批的前頭晶圓通過所述基準模塊時，從檢查預約信號輸出部55向該檢查模塊IM1的預約信號接受部41輸出檢查預約信號。在該例中所述基準模塊設為所述輸送路徑中比該檢查模塊IM1超前1個的模塊即交接臺TRS4 ，當主臂26A向該交接臺TRS4交接所述前頭晶圓W 時輸出檢查預約信號。
如此，在檢查模塊IM1中，按接受檢查預約信號的順序對制品用晶圓W進行規(guī)定檢查。在此，檢查預約信號逐批輸出，按接受檢查預約信號的批順序，沿著批內的晶圓W的序號進行規(guī)定檢查。如此，進行;險查的晶圓W輸送至該;險查才莫塊IM1的下個輸送目的地即交接臺 TRS2,然后通過交接臂24來返回到例如承載塊21的原來的托架C1。
另一方面，在檢查模塊IM1中發(fā)生故障的情況下，晶圓W按圖6 所示的路徑被輸送。這時若在檢查模塊IM1中發(fā)生故障，則從信號收發(fā)部44向控制部100輸出警報信號。從而控制部100禁止檢查預約信號輸出部55輸出針對制品用晶圓的檢查預約信號，此外操作員判斷是否要進行除檢查外指定，要進行除檢查外指定的場合，按壓除檢查外按4iL 56。
首先，先對進行除檢查外指定的場合進行說明。該場合，禁止控制部100輸出針對制品用晶圓的檢查預約信號，因此在該檢查預約信號的輸出被禁止的過程中對于前頭晶圓通過所述基準模塊的批不會輸出檢查預約信號。此外，即使在檢查模塊IM1中已經接受檢查預約信號的晶圓W,也停止向該檢查模塊IM1的輸送，向輸送臂4等輸出指令(跳躍輸送)，以輸送至下個輸送目的地，該例中為交接臺TRS4。此外，對于禁止檢查預約信號的輸出的批的晶圓W,也同樣地向檢查
模塊IM1的下個輸送目的地即交接臺TRS4進行跳躍輸送。
另一方面，一旦解除該沖企查4莫塊IM1的故障，從檢查模塊IM1 的信號收發(fā)部44向控制部100輸出故障解除信號，基于該故障解除信號，控制部100的確認檢查部58輸出確認用晶圓CW的給出指令，該確認用晶圓CW按例如圖7所示的路徑被輸送。即，交接臂24從承載塊21的托架C2取出確認用晶圓CW，并置于一企查塊40的交接臺TRS1上，接著用輸送臂4來輸送到檢查模塊IM1。
這時如果通過該輸送路徑上輸送順序比該4企查一莫塊IM1提前1個的檢查用基準模塊即交接臺TRS1，檢查預約信號輸出部55向該檢查模塊IM1輸出該確認用晶圓CW的檢查預約信號。該例中，當利用交接臂24來向交接臺TRS1交接所述確認用晶圓CW時，輸出檢查預約信號。
在此，被除檢查外指定的狀態(tài)下，如已做的說明，禁止針對制品用晶圓的檢查預約信號的輸出，因此檢查模塊IM1優(yōu)先接受該確認用晶圓CW的檢查預約信號。因而確認用晶圓CW不等其它批的晶圓W 輸送而迅速輸送至該檢查模塊IM1,進行該檢查模塊IM1的確認檢查。該確認檢查指的是通過在該檢查模塊IM1中對所述確認用晶圓CW進行規(guī)定檢查，確認該檢查模塊IM是否正常的4企查。如此，進行確認檢查的確認用晶圓CW按輸送臂4 —交接臺TRS2 —交接臂24 —托架 C2的路徑被輸送，并從;險查塊40返回到承載塊2。
如此在進行檢查模塊IM1的確認檢查之后，操作員恢復除檢查外按鈕56，解除除檢查外指定。從而控制部IOO解除針對制品用晶圓W 的檢查預約信號的輸出禁止，然后，關于前頭晶圓輸送至基準模塊的批，輸出檢查預約信號，按照接受檢查預約信號的順序，將制品用晶圓W依次輸送至所述檢查模塊IM1，進行規(guī)定4企查。
另一方面，在不進行除檢查外指定的情況下，操作員不會按壓除檢查外按鈕56，而控制部IOO如已做說明的那樣禁止輸出針對制品用晶圓的檢查預約信號，因此在該檢查預約信號的輸出被禁止的情況下，對于前頭晶圓通過所述基準模塊的批不會輸出檢查預約信號。此
外，即使在檢查模塊IM1中已經接受檢查預約信號的晶圓W，也停止向該4企查模塊IM1輸送，而跳躍輸送至下個輸送目的地，該例中為交接臺TRS4。此外，對于檢查預約信號的輸出被禁止的批的晶圓W，也同樣跳躍輸送至檢查模塊IM1的下個輸送目的地即交接臺TRS4。
然后，一旦解除檢查模塊IM1的故障，檢查模塊IM1就會向控制部100輸出故障解除信號，基于該故障解除信號，控制部100解除檢查預約信號輸出部55中制品晶圓W的檢查預約信號的輸出禁止。從而，對于在所述故障解除后前頭晶圓Wl通過所述基準模塊的批，輸出檢查預約信號，該批的制品用晶圓按接受檢查預約信號的順序輸送至檢查模塊IM1，在該檢查模塊IM1中進行4企查。
以進行除檢查外指定的場合為例并借助圖8,對本發(fā)明的晶圓W 的輸送進行具體說明。該圖8對應于背景技術中說明的圖11，在此對與圖11的不同點進行說明。該圖中橫軸也表示時間，第1級表示承載塊21中制品用晶圓W從托架C1被取出的定時和所述晶圓W返回到該托架Cl的定時，第2級表示檢查模塊IM1中的晶圓的處理狀態(tài)。
首先第1級中與圖11的不同點在于在各批A F中，要輸送到檢查模塊IM1之前的定時即批的前頭晶圓W交接到交接臺TRS4(基準模塊)時，向檢查模塊IM1輸出檢查預約信號。即，批A中前頭晶圓Al輸送到檢查模塊IM1的時刻T2之前輸出檢查預約信號a。
此外，對于第2級，與圖ll的場合相同，時刻T3表示檢查模塊 IM1中發(fā)生故障的時刻，時刻T5表示該檢查模塊IM1的故障被解除且成為能夠使用的時刻。在該故障發(fā)生的期間從控制部100到檢查模塊IM1的檢查預約信號的輸出被禁止，因此在該時間(時刻T3和時刻T5之間)對于前頭晶圓通過所述交接臺TRS4的批B、批C、批D，不輸出檢查預約信號。然后操作員按壓除檢查外按鈕56進行除檢查外指定的時刻設為時刻Ta。操作員在確認故障發(fā)生的警報后，判斷是否進行除檢查外指定，因此故障發(fā)生與除檢查外指定的定時稍錯開。
然后在時刻T5故障一旦被解除，就從檢查模塊IM1向控制部100 輸出故障解除信號，基于來自控制部100的確認用晶圓CW的給出指令，從承載塊21給出所述確認用晶圓CW。在該確認用晶圓CW要輸送到檢查模塊IM1之前，即交接到交接臺TRS1 (檢查用基準模塊) 的時刻T6，控制部100向所述4企查模塊IM1輸出該確認用晶圓CW 的檢查預約信號w。
在此，檢查模塊IM1的故障發(fā)生的情況下，禁止控制部100輸出針對制品用晶圓W的檢查預約信號，因此該確認用晶圓的檢查預約信號w在批A的4全查預約信號a之后優(yōu)先被該一企查才莫塊IM1接受。因此確認用晶圓CW在批A的晶圓W ^皮輸送后，不等其它批的輸送而立即輸送至檢查模塊IM1。
另一方面，對于不會輸出檢查預約信號的批B ~批D的全部晶圓以及在發(fā)生故障后輸送到該檢查模塊IM1的預定的晶圓，進行跳躍輸送，從處理塊Sl直接輸送至該檢查模塊IM1的下個輸送目的地即交接臺TRS2。
然后，如果結束借助所述確認用晶圓CW的該;險查才莫塊IM1的確認檢查，例如該用意顯示于顯示部57上，操作員就會再次按壓除檢查外按鈕56,從而解除除檢查外指定。在此，時刻Tb相當于解除除 4企查外指定的時刻。從而控制部100解除對制品用晶圓W的檢查預約信號的輸出禁止，關于這以后的前頭晶圓通過所述基準模塊的批E、批F，輸出檢查預約信號。然后這些批E、批F的制品用晶圓W依次輸送至檢查模塊IMl,而在該檢查模塊IM1中按接受檢查預約信號的順序進行;險查。
如此依據本發(fā)明，可通過操作員選擇是否進行除檢查外指定，因此能夠在檢查模塊IM1的故障被解除后選擇優(yōu)先在檢查模塊IM1中檢查制品晶圓W還是先輸送用于確認檢查的晶圓CW,提高了處理自由度。然后，在優(yōu)先輸送確認用晶圓CW的場合，如已做說明的那樣，
自發(fā)生故障后檢查模塊IM1以第1的優(yōu)先順序接受確認用晶圓CW的檢查預約信號w,因此在解除了檢查模塊IM的故障后，能夠立即將確認;險查晶圓輸送至檢查模塊IM,進行該;險查模塊IM的確認才企查。因此，能夠使該確認檢查后再開始的檢查模塊IM1的開始使用時刻早于圖11所示的傳統(tǒng)例。因而，能夠將制品用晶圓W迅速輸送至檢查模塊IM1,在該例中，能夠用批E的制品用晶圓W在該檢查模塊IM1 中進行檢查，因此與以往相比，減少不會輸送到檢查模塊IM1而會輸送到下個輸送目的地的制品用晶圓W的塊數，能夠對更多的制品用晶圓W進行沖企查。
接著對本發(fā)明的其它實施方式進行說明。該實施方式中，進4亍重疊檢查的重疊檢查模塊IM3進行一日一次的定期檢查(維護)的場合，進行該定期檢查過程中禁止輸出針對制品用晶圓W的檢查預約信號，使得優(yōu)先接受確認用晶圓CW的檢查預約信號。
該定期檢查是基于1日一次從主計算機101經由控制部100輸出至該檢查模塊IM3令它做定期檢查的指令來進行的。然后進行該定期檢查的期間，控制部100的檢查預約信號輸出部55禁止輸出針對制品用晶圓的檢查預約信號。另一方面，檢查模塊IM3在執(zhí)行定期檢查的期間以規(guī)定定時向控制部100輸出可接受確認用檢查的信號。基于該信號，控制部100在確iU企查部58中輸出確認用晶圓CW的給出指令，從承載塊21給出確認用晶圓CW，并輸送至檢查模塊IM3。然后在向交接臺TRS1 (檢查用基準模塊)交接該確認用晶圓CW的定時，輸出該確認用晶圓CW的檢查予約信號，實施該檢查模塊IM3借助該確認用晶圓CW的確認檢查。如此在借助確認用晶圓CW的確認檢查結束的時刻結束定期檢查。
若結束定期檢查，則從該檢查模塊IM3向控制部100輸出定期檢查結束信號，基于該定期檢查結束信號，在控制部100的檢查預約信號輸出部55中解除針對制品晶圓的檢查預約信號的輸出禁止。從而在定期檢查結束后對前頭晶圓W輸送至所述基準模塊的批輸出檢查預約信號。
這時，在進行該檢查模塊IM3的定期檢查的過程中，即使在該檢查模塊IM3已經接受檢查預約信號的晶圓W，并且已停止了檢查預約信號的輸出的批的晶圓W，也向下個輸送目的地即交接臺TRS2跳躍輸送。該跳躍輸送中，制品用晶圓W越過該檢查模塊IM3而輸送至下個輸送目的地，因此確認用晶圓CW與制品用晶圓W的跳躍輸送并行地輸送至該檢查才莫塊IM3。因此無需等待其它批的輸送而立即輸送至檢查模塊IM3，迅速進行確認檢查。
對于該實施方式，借助圖9進行更具體的說明。該圖9與背景技術中說明的圖12對應，在此對與圖12的不同點進行說明。該圖中橫軸也表示時間，第1級表示承載塊21中從托架Cl取出制品用晶圓W 的定時和制品用晶圓W回到該托架C1的定時，第2級表示檢查模塊 IM3中的晶圓W的處理狀態(tài)。
首先第l級中與圖12的不同點在于各批A-F中要輸送到檢查模塊IM3之前，即批的前頭晶圓交接到交接臺TRS4 (基準模塊)的定時，向重疊檢查模塊IM3輸出檢查預約信號。即，批A中，在最初晶圓Al輸送至檢查模塊IM3的時刻T12之前輸出檢查預約信號a。
此外，對于第2級，與圖12的場合相同，時刻T13表示預定使用的檢查模塊IM3的定期檢查開始的時刻，時T15'表示定期檢查結束且該檢查模塊IM3成為能夠使用的時刻。然后，在該實施方式中，在進行檢查模塊IM3的定期檢查的期間，禁止控制部100輸出針對制品用晶圓W的檢查預約信號，因此該定期檢查中對于前頭晶圓輸送至所述基準模塊的批B不會輸出檢查預約信號。然后定期檢查進行至某一程度的定時，從檢查模塊IM3向控制部100輸出可接受確認檢查的信號，基于該信號，控制部100通過確認檢查部58給出所述確認用晶圓CW，并輸送至檢查模塊IM3。該確認用晶圓CW在交接到交接臺TRS1 (檢查用基準模塊)的定時，從控制部100向檢查模塊IM3輸出檢查預約信號W。在該定期檢查的期間，如已做說明的那樣，禁
止輸出制品用晶圓的檢查預約信號，因此該檢查模塊IM3以批A的檢查預約信號a之后的序號優(yōu)先接受該確認用晶圓CW的檢查預約信號 w。因此確認用晶圓CW不等其它批的輸送而立即輸送到才企查才莫塊 IM3,進行確認4企查。
另一方面，對于停止了檢查預約信號的輸出的批B的全部晶圓以及輸出了檢查預約信號且向檢查模塊IM3輸送的預定的批A的剩下晶圓進行跳躍輸送，直接輸送至該檢查模塊IM3的下個輸送目的地即交接臺TRS2。這時如已做說明的那樣，確認用晶圓CW與該跳躍輸送并行地輸送至檢查模塊IM3。
若結束借助所述確認檢查用晶圓CW的確iU企查，則該確認4企查結束信號輸出至控制部100,結束定期4僉查，控制部100解除針對制品晶圓的檢查預約信號的輸出禁止。然后，對于前頭晶圓輸送至所述基準模塊的批C、批D、批E、批F的晶圓W，向檢查模塊IM3輸出檢查預約信號，在該檢查模塊IM3中按接受檢查預約信號的順序進行制品用晶圓W的4企查。
如此，依據本實施方式，使檢查預約信號在輸送至檢查模塊IM3 之前輸出，且在進行檢查模塊IM3的定期檢查的期間，禁止輸出針對制品晶圓的檢查預約信號，并將確認用晶圓CW與制品用晶圓W的跳躍輸送并行地輸送至檢查模塊IM3，進行確認4企查，因此以能夠在該檢查模塊IM3中接受確認用晶圓CW的定時，能夠立即將確認檢查晶圓CW輸送至檢查模塊IM3。因此能夠比傳統(tǒng)例縮短定期檢查時間。從而與以往相比，減少跳躍輸送的制品用晶圓W的塊數，能夠對更多的制品用晶圓W進行4企查。
以上，在檢查塊40中，以檢查模塊IM1 —檢查模塊IM2 —檢查模塊IM3的路徑輸送并進行檢查的情況下，檢查模塊IM1中發(fā)生故障時，通過跳躍輸送來輸送至下個輸送目的地即^r查^t塊IM2。
此外，收容確認用晶圓CW的收容部并不限于托架C2,例如可由緩沖器等構成，并設于檢查塊40或處理塊S1內。再者，進行除檢查外指定的場合，可在故障發(fā)生前進行。例如可以預先在發(fā)生故障進進行除^r查外指定的方式，例如先指定開始處理時，例如與故障發(fā)生同時進行除檢查外指定，并設定在借助確認用晶圓CW的檢查模塊IM 的確認檢查結束的階段解除除檢查外指定。
以上說明的本發(fā)明的涂敷、顯影裝置并不限于上述的例子，涂敷抗蝕劑液的塊和進行顯影處理的塊可為不同結構，并且檢查塊的位置也不限于上述的例子。此外，本發(fā)明中的基板除了半導體晶圓W夕卜，還可以是FPD基板等。
權利要求
1.一種逐批對多塊制品用基板進行處理的涂敷、顯影裝置，其特征在于具備承載塊，載放逐批收容多塊制品用基板的制品用托架，且具有在與所述托架鄰接的塊之間進行基板交接的交接部件；處理塊，包括多個模塊和第一基板輸送部件，所述多個模塊中包含用于對從所述承載塊交接的制品用基板進行抗蝕劑的涂敷處理以及對涂敷了抗蝕劑且已曝光的制品用基板進行顯影處理的模塊，所述第一基板輸送部件對這些模塊進行制品用基板的交接；檢查塊，包括用于對顯影處理的制品用基板按接受檢查預約的順序進行檢查的檢查模塊和對該檢查模塊進行基板交接的第二基板輸送部件；收容部，收容用于確認所述檢查模塊是否正常的用于確認檢查的基板；選擇部件，由操作員對發(fā)生故障的所述檢查模塊進行選擇，以選擇在解除故障后優(yōu)先輸送所述制品用基板和所述用于確認檢查的基板中的哪一個；以及控制部件，控制所述交接部件及第二基板輸送部件，所述控制部件執(zhí)行以下步驟當所述制品用基板通過比輸送路徑上的所述檢查模塊超前n(n為1以上的整數)個的基準模塊時，對所述檢查模塊，輸出用于對該制品用基板所屬的批進行檢查的檢查預約信號的步驟；在所述檢查模塊發(fā)生故障的期間，禁止輸出針對所述制品用基板的檢查預約信號，將向該檢查模塊輸送的預定的制品用基板輸送至該檢查模塊的下個輸送順序的模塊的步驟；當該檢查模塊的故障解除且所述選擇部件選擇了制品用基板時，解除針對所述制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止的步驟；以及當該檢查模塊的故障被解除且所述選擇部件選擇了用于確認檢查的基板時，從所述收容部搬出所述用于確認檢查的基板，并輸出針對該用于確認檢查的基板的檢查預約信號，同時在借助所述用于確認檢查的基板的所述檢查模塊的確認檢查結束后，解除針對所述制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止的步驟。
2.—種逐批對多塊制品用基板進行處理的涂敷、顯影裝置，其特征在于具備承載塊，載放逐批收容多塊制品用基板的制品用托架，且具有在與所述托架鄰接的塊之間進行基板交接的交接部件；處理塊，包括多個模塊和第一基板輸送部件，所述多個模塊中包含用于對從所述承載塊交接的制品用基板進行抗蝕劑的涂敷處理以及對涂敷了抗蝕劑且已曝光的制品用基板進行顯影處理的模塊，所述第一基板輸送部件對這些模塊進行制品用基板的交接；檢查塊，包括用于對顯影處理的制品用基板按接受檢查預約的順序進行檢查的檢查模塊和對該檢查模塊進行基板交接的第二基板輸送部件；收容部，收容用于確認所述檢查模塊是否正常的用于確認檢查的基板；以及控制部件，控制所述交接部件及第二基板輸送部件，所述控制部件執(zhí)行以下步驟當所述制品用基板通過比輸送路徑上的所述檢查模塊超前n (n 為1以上的整數)個的基準模塊時，對所述檢查模塊，輸出用于對該制品用基板所屬的批進行檢查的檢查預約信號的步驟；在進行所述檢查模塊的定期檢查的期間，禁止輸出針對所述制品用基板的檢查預約信號，將向該檢查模塊輸送的預定的制品用基板輸送至該檢查模塊的下個輸送順序的模塊的步驟；在該檢查模塊的定期檢查結束之前，從所述收容部搬出所述用于確認檢查的基板，并輸出針對該用于確認檢查的基板的檢查預約信號的步驟；以及在借助所述用于確認檢查的基板的所述檢查才莫塊的確認檢查結束后，解除針對所述制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止的步驟。
3. 如權利要求1或2所述的涂敷、顯影裝置，其特征在于所述檢查塊設于承載塊和處理塊之間。
4. 如權利要求1或2所述的涂敷、顯影裝置，其特征在于所述收容部是收容用于確認檢查的基板的托架，該托架載放于所述承載塊上。
5. 如權利要求1或2所述的涂敷、顯影裝置，其特征在于當通過所述基準模塊時，輸出了所述檢查預約信號的制品用基板是該制品用基板所屬的批的前頭制品用基板。
6. 如權利要求1或2所述的涂敷、顯影裝置，其特征在于所述制品用基板通過基準模塊的時候是所述制品用基板從所述第一基板輸送部件或第二基板輸送部件交接到所述基準模塊的時候，或者所述制品用基板從所述基準模塊交接到所述第一基板輸送部件或第二基板輸送部件的時候。
7. —種逐批處理多塊制品基板的涂敷、顯影方法，在處理塊對從承載塊交接的制品用基板進行抗蝕劑的涂敷處理及對已涂敷抗蝕劑且曝光的制品用基板進行顯影處理，并在檢查模塊對該顯影處理的制品用基板進行檢查之后返回承載塊，并通過用于確認檢查的基板進行用于確認所述檢查模塊是否正常的確認檢查，其特征在于包含當所述制品用基板通過比輸送路徑上的所述檢查模塊超前n (n 為1以上的整數)個的基準模塊時，對所述檢查模塊，輸出用于對該制品用基板所屬的批進行檢查的檢查預約信號的工序；在所述檢查模塊對所述制品用基板按檢查預約信號的接受順序進行檢查的工序；在故障解除后，操作員選擇向發(fā)生故障的所述檢查模塊優(yōu)先輸送所述制品用基板和所述用于確認檢查的基板中的哪一個的工序；在所迷檢查模塊發(fā)生故障的期間，禁止輸出針對制品用基板的檢查預約信號，將向該檢查模塊輸送的預定的制品用基板輸送至該檢查模塊的下個輸送順序的模塊的工序；當該檢查模塊的故障被解除且選擇制品用基板作為優(yōu)先輸送的基板時，解除針對制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止的工序；以及當該檢查模塊的故障解除且選擇用于確認檢查的基板作為優(yōu)先輸送的基板時，輸出針對所述用于確認檢查的基板的檢查預約信號，將該用于確認檢查的基板輸送至該檢查模塊，并在結束借助所述用于確認檢查的基板的所述檢查模塊的確認檢查后，解除針對制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止的工序。
8. —種逐批處理多塊制品基板的涂敷、顯影方法，在處理塊對從承載塊交接的制品用基板進行抗蝕劑的涂敷處理及對已涂敷抗蝕劑且曝光的制品用基板進行顯影處理，并在檢查模塊對該顯影處理的制品用基板進行檢查之后返回承載塊，并通過用于確認檢查的基板進行用于確認所述檢查模塊是否正常的確認檢查，其特征在于包含當所述制品用基板通過比輸送路徑上的所述檢查模塊超前n (n 為1以上的整數)個的基準模塊時，對所述檢查模塊，輸出用于對該制品用基板所屬的批進行檢查的檢查預約信號的工序；在所述檢查模塊對所述制品用基板按檢查預約信號的接受順序進行檢查的工序；在進行所述檢查模塊的定期檢查的期間，禁止輸出針對制品用基板的檢查預約信號，將向該檢查模塊輸送的預定的制品用基板輸送至該檢查模塊的下個輸送順序的模塊的工序；在結束該檢查模塊的定期檢查之前，輸出針對所述用于確認;險查的基板的檢查預約信號，將該用于確認檢查的基板輸送至該檢查模塊的工序；以及在結束借助所述用于確認檢查的基板的所述檢查模塊的確認檢查后，解除針對制品用基板的檢查預約信號的輸出禁止。
9. 一種存儲介質，用于對制品用基板涂敷抗蝕劑液并對抗蝕劑進行顯影處理的涂敷、顯影裝置且存放了在計算機上工作的計算機程序，其特征在于所述計算機程序編排步驟，以實施權利要求7或8所述的涂敷、顯影方法。
全文摘要
本發(fā)明提供涂敷、顯影裝置及涂敷、顯影方法以及存儲介質。在解除檢查模塊的故障后，迅速將制品用基板輸送至該檢查模塊并進行檢查。當所述制品用基板通過比輸送路徑上的所述檢查模塊超前n個的基準模塊時，對所述檢查模塊，輸出用于對該制品用基板所屬的批進行檢查的檢查預約信號。在所述檢查模塊發(fā)生故障的期間，禁止輸出針對所述制品用基板的檢查預約信號，將向該檢查模塊輸送的預定的制品用基板輸送至該檢查模塊的下個輸送順序的模塊。當該檢查模塊的故障被解除且將用于確認檢查的基板優(yōu)先輸送至檢查模塊時，輸出針對所述用于確認檢查的基板的檢查預約信號，并輸送至所述檢查模塊，進行該檢查模塊的確認檢查。
文檔編號H01L21/00GK101630632SQ20091014536
公開日2010年1月20日申請日期2009年5月27日優(yōu)先權日2008年5月27日
發(fā)明者松本武志, 金子知廣申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社

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