專利名稱：一種鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種化工設(shè)備，更具體地說，本實用新型涉及一種電化學(xué) 腐蝕裝置。
背景技術(shù)：
鋁電解電容器用電極箔的制造過程主要分為腐蝕和化成兩個工序。腐蝕工 序的主要過程是將鋁箔在特定的腐蝕液中進行預(yù)處理、腐蝕、后處理，目的是 在鋁箔表面形成數(shù)量極大的微細(xì)孔洞，以此提高比表面積，從而提高靜電容量， 同時還要保證電極箔具有足夠的機械強度。
鋁電解電容器用腐蝕箔的腐蝕過程， 一般采用電化學(xué)腐蝕即在侵蝕溶液 中設(shè)置兩對或兩對以上的陰極電極板，電極板接電源負(fù)極，加電輥(或稱給電 輥)接電源正極，加電輥與鋁箔直接接觸，通過加電輥給鋁箔施加正電；或者， 通過間接電場加電相鄰的兩個電板板分別連接電源的兩極，讓鋁箔從電極板 之間穿過。電化學(xué)腐蝕過程對槽液中的鋁箔進行電解腐蝕，在鋁箔的表面產(chǎn)生 很多的孔洞。
當(dāng)鋁箔在腐蝕過程中，產(chǎn)生很多腐蝕產(chǎn)物如氫氣、鋁離子等，如果這些物 質(zhì)不能及時地擴散而與槽液其它部分混合均勻，就會導(dǎo)致鋁箔、鄰近極板處腐 蝕產(chǎn)物的濃度相對較高，且鋁箔邊部與中間的槽液濃度也會不均勻，這樣就容 易導(dǎo)致腐蝕箔不同位置上靜電容量偏差大、平均值低等問題，給鋁箔銷售以及 后續(xù)電容器設(shè)計、制造帶來損失。
為了解決上述問題，有的技術(shù)采取了一種鋁箔電解腐蝕裝置，其在鋁箔經(jīng) 過的位置兩邊、成對設(shè)置水平的噴淋管，在各噴淋管的縱向上開設(shè)噴淋孔，噴 淋孔的孔口方向朝上或斜對向通過的鋁箔。借助通過噴淋孔噴出的腐蝕液來促進腐蝕槽液循環(huán)、均勻，從而改進箔的不同位置上靜電容量偏差大、平均值低 等問題。但是，經(jīng)過分析研究發(fā)現(xiàn)因為不同的腐蝕工藝需要不同的電解電流， 當(dāng)電解電流較大時，噴淋管會影響該處的電流明顯減少甚至阻斷該處的電流， 導(dǎo)致腐蝕孔洞在生長的過程中被中斷，從而影響腐蝕后鋁箔的靜電容量。 發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)的上述缺點，本實用新型的目的是要提供一種鋁箔的電解腐 蝕循環(huán)裝置，該裝置具有如下優(yōu)點能夠促使腐蝕槽液均勻循環(huán)，降低鋁箔及 鄰近極板處的腐蝕產(chǎn)物濃度，但又不影響電解腐蝕過程中的電流，從而有效減 少鋁箔靜電容量的位置偏差、提高鋁箔的平均靜電容量。
為此，本實用新型的技術(shù)解決方案是一種鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，其包 括電解槽，在電解槽中設(shè)有底輥、導(dǎo)電的極板，所述極板的數(shù)目為l對或l對 以上且間隔設(shè)置形成鋁箔的電化學(xué)腐蝕通道，所述極板包括兩個主側(cè)面、兩個 邊側(cè)面，而相鄰極板的兩個邊側(cè)面上分別緊密連接有絕緣的屏蔽板從而構(gòu)成四 周封閉而上下開口的內(nèi)槽;所述電解槽中裝設(shè)有將該內(nèi)槽以外的槽體分隔為上、 下部分的隔離板，該隔離板上設(shè)有允許鋁箔通過的縫隙；所述內(nèi)槽的上端高于 所述隔離板的上表面，而所述內(nèi)槽的下端低于所述隔離板的下表面；在高于所 述隔離板的電解槽壁處開設(shè)有槽液的輸出管口 ，在低于所述隔離板的電解槽壁 處開設(shè)有槽液的輸入管口；所述循環(huán)裝置還包括腐蝕液儲槽及其循環(huán)泵，所述 輸出管口連通著該腐蝕液儲槽，所述輸入管口連通著該循環(huán)泵的出口，循環(huán)泵 的入口與腐蝕液儲槽連通。
本實用新型腐蝕循環(huán)裝置將兩塊極板的側(cè)面用屏蔽板封閉，形成簡易的內(nèi) 外槽結(jié)構(gòu)；且極板和屏蔽板形成的內(nèi)槽高度高于外槽，外槽的液面上部加裝隔 離板，隔離新液與老液，槽液只能從極板之間的底部進入內(nèi)槽，從極板的上端 溢出，這樣就形成強制而有序的槽液流向，從而使得腐蝕槽液均勻循環(huán)，既能有效降低鋁箔及鄰近極板處的腐蝕產(chǎn)物濃度，同時，因為取消了傳統(tǒng)的極板中 間的噴淋管，可以避免電流被阻斷或電場紊亂，不影響電解腐蝕過程中的電流； 從而有效減少鋁箔靜電容量的位置偏差、提高鋁箔的平均靜電容量，解決了邊 部低容、橫向偏差大等問題，間接提高了比容。實驗證明采用本實用新型腐 蝕循環(huán)裝置比傳統(tǒng)的循環(huán)裝置，制得的鋁箔靜電容量偏差下降2-5%，平均比 容提高1-5%。而且與現(xiàn)有某些改進設(shè)備比較，本實用新型裝置的結(jié)構(gòu)簡單、 加工容易、效果可靠。
作為較佳實施結(jié)構(gòu)，本實用新型具體還包括如下的改進
為提高槽液循環(huán)均勻性
邊側(cè)面連接的屏蔽板的上端等高且低于極板的上端；邊側(cè)面連接的屏蔽板 的下端等高且分別與極板的下端等高。
所述內(nèi)槽的上端高于所述輸出管口的高度。
在所述電解槽以內(nèi)的輸入管口還連通有多股均流管口 。
所述輸入管口的數(shù)目為2-3個，分別設(shè)在低于所述隔離板的電解槽壁不同 高度上。
所述輸出管口的高度高于所述腐蝕液儲槽的高度。 為了使得槽液溫度、含量、組分更好地配合槽液作均勻循環(huán) 所述腐蝕液儲槽附設(shè)有冷卻降溫管路或加熱管路，或者，所述腐蝕液儲槽 附設(shè)有冷卻降溫管路和加熱管路。
所述腐蝕液儲槽及其循環(huán)泵的管路上串聯(lián)有控制閥。
所述腐蝕液儲槽還連接有更新槽液的更新管路。
所述輸出管口的高度高于所述腐蝕液儲槽的高度。
為了避免在兩次電化學(xué)腐蝕中夾帶化學(xué)腐蝕而導(dǎo)致比電容下降、以及為進 一步增加電流腐蝕的效率所述極板的數(shù)目為2塊，且各極板的外向主側(cè)面、底面上被覆有隔離電流的屏蔽板；所述內(nèi)槽的下端還設(shè)置有一對噴口斜朝向中 間鋁箔的噴淋管，電解槽以內(nèi)的輸入管中的一股或兩股出口和噴淋管相連通。
以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型做進一步說明。


圖1為本實用新型裝置實施例1的結(jié)構(gòu)和流程示意圖。
圖2為本實用新型裝置實施例2的結(jié)構(gòu)和流程示意圖。
具體實施方式
實施例l:
如圖1，所示為本實用新型裝置實施例1的結(jié)構(gòu)和流程示意圖。其包括電 解槽10、加電輥20，在電解槽10中設(shè)有底輥30、導(dǎo)電的極板40，所述極板 40的數(shù)目為1對且間隔設(shè)置形成鋁箔A的電化學(xué)腐蝕通道，所述極板40包括 兩個主側(cè)面40i、兩個邊側(cè)面40j，而相鄰極板的兩個邊側(cè)面40j上分別緊密連 接有絕緣的屏蔽板50從而構(gòu)成四周封閉而上下開口的內(nèi)槽X;且各極板40的 外向主側(cè)面、底面上被覆有隔離電流的屏蔽板(未示出)；邊側(cè)面連接的屏蔽板 50的上端等高且低于極板40的上端；邊側(cè)面連接的屏蔽板50的下端等高且分 別與極板40的下端等高。
所述電解槽10中裝設(shè)有將該內(nèi)槽X以外的槽液分隔為上、下部槽液的絕緣 隔離板60，該隔離板60上設(shè)有允許鋁箔A通過的縫隙(未詳示)；所述內(nèi)槽X 的上端高于所述隔離板60的上表面、且高于所述輸出管口 70的高度，而所述 內(nèi)槽X的下端低于所述隔離板60的下表面。
在高于所述隔離板60的電解槽10壁處開設(shè)有槽液的輸出管口 70。在低于 所述隔離板60的電解槽10壁處開設(shè)有槽液的輸入管口 80;所述輸入管口 80 的數(shù)目為2個，分別設(shè)在低于所述隔離板60的電解槽10壁不同高度上。在所 述電解槽10以內(nèi)的輸入管口 80還連通有多股均流管口 81。所述循環(huán)裝置還包括腐蝕液儲槽90及其循環(huán)泵91，所述輸出管口 70連通 著該腐蝕液儲槽90的上部槽口，所述輸入管口 80連通著該循環(huán)泵91的出口。 所述腐蝕液儲槽90還附設(shè)有自循環(huán)泵93、流量閥94，以及蒸汽加熱管路包括 蒸汽管95。所述腐蝕液儲槽90及其循環(huán)泵91的管路上串聯(lián)有控制閥96。所述 腐蝕液儲槽90還連接有更新槽液的更新管路包括出液管97、補液管98。所述 輸出管口 70的高度高于所述腐蝕液儲槽90上部槽口的高度。
實施例2:
如圖2，所示為本實用新型裝置實施例2的結(jié)構(gòu)和流程示意圖。本實施例2 主要結(jié)構(gòu)類似實施例1，但在低于所述隔離板60的電解槽10壁不同高度處開 設(shè)有下部槽液的2個單股輸入管口 80。所述內(nèi)槽X的下端還設(shè)置有一對噴口朝 向中間鋁箔的噴淋管(未示出)。電解槽以內(nèi)的輸入管中的一股或兩股出口 (未 示出)和噴淋管相連通。所述腐蝕液儲槽90還附設(shè)有冷卻降溫管路包括熱交換 器92。
權(quán)利要求1、一種鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，其包括電解槽，在電解槽中設(shè)有底輥、導(dǎo)電的極板，所述極板的數(shù)目為1對或1對以上且間隔設(shè)置形成鋁箔的電化學(xué)腐蝕通道，所述極板包括兩個主側(cè)面、兩個邊側(cè)面，其特征在于相鄰極板的兩個邊側(cè)面上分別緊密連接有絕緣的屏蔽板從而構(gòu)成四周封閉而上下開口的內(nèi)槽；所述電解槽中裝設(shè)有將該內(nèi)槽以外的槽體分隔為上、下部分的隔離板，該隔離板上設(shè)有允許鋁箔通過的縫隙；所述內(nèi)槽的上端高于所述隔離板的上表面，而所述內(nèi)槽的下端低于所述隔離板的下表面；在高于所述隔離板的電解槽壁處開設(shè)有槽液的輸出管口，在低于所述隔離板的電解槽壁處開設(shè)有槽液的輸入管口；所述循環(huán)裝置還包括腐蝕液儲槽及其循環(huán)泵，所述輸出管口連通著該腐蝕液儲槽，所述輸入管口連通著該循環(huán)泵的出口，循環(huán)泵的入口與腐蝕液儲槽連通。
2、 如權(quán)利要求l所述鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，其特征在于邊側(cè)面連接 的屏蔽板的上端等高且低于極板的上端；邊側(cè)面連接的屏蔽板的下端等高且分 別與極板的下端等高。
3、 如權(quán)利要求l所述鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，其特征在于所述腐蝕液儲槽附設(shè)有冷卻降溫管路或加熱管路，或者，所述腐蝕液儲槽附設(shè)有冷卻降溫 管路和加熱管路。
4、 如權(quán)利要求l所述鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，其特征在于所述內(nèi)槽的 上端高于所述輸出管口的高度。
5、 如權(quán)利要求l所述鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，其特征在于在所述電解 槽以內(nèi)的輸入管口連通有多股均流管口 。
6、 如權(quán)利要求l所述鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，其特征在于所述輸入管 口的數(shù)目為2-3個，分別設(shè)在低于所述隔離板的電解槽壁不同高度上。
7、 如權(quán)利要求l所述鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，其特征在于所述腐蝕液 儲槽及其循環(huán)泵的管路上串聯(lián)有控制閥。
8、 如權(quán)利要求l所述鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，其特征在于所述腐蝕液 儲槽連接有更新槽液的更新管路。
9、 如權(quán)利要求l所述鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，其特征在于所述輸出管 口的高度高于所述腐蝕液儲槽的高度。
10、 如權(quán)利要求l所述鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，其特征在于所述極板 的數(shù)目為2塊，且各極板的外向主側(cè)面、底面上被覆有隔離電流的屏蔽板；所述內(nèi)槽的下端還設(shè)置有一對噴口斜朝向中間鋁箔的噴淋管，電解槽以內(nèi)的輸入 管中的一股或兩股出口和噴淋管相連通。
專利摘要本實用新型涉及一種鋁箔的電解腐蝕循環(huán)裝置，包括電解槽、極板、腐蝕液儲槽、循環(huán)泵；而相鄰極板的兩個邊側(cè)面上分別緊密連接有絕緣的屏蔽板從而構(gòu)成四周封閉而上下開口的內(nèi)槽；電解槽中裝設(shè)有將該內(nèi)槽以外的槽體分隔為上、下部分的隔離板；內(nèi)槽上端高于隔離板上表面，內(nèi)槽下端低于隔離板下表面；在高于隔離板的電解槽壁處開設(shè)有槽液輸出管口，在低于隔離板的電解槽壁處開設(shè)有槽液的輸入管口；輸出管口連通腐蝕液儲槽，輸入管口連通循環(huán)泵出口。本實用新型循環(huán)裝置能促使腐蝕槽液均勻循環(huán)，降低鋁箔及鄰近極板處的腐蝕產(chǎn)物濃度，但又不影響電解腐蝕過程中的電流，有效減少鋁箔靜電容量的位置偏差、提高其平均靜電容量。
文檔編號H01G9/042GK201326027SQ20082023488
公開日2009年10月14日 申請日期2008年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月9日
發(fā)明者呂根品 申請人:乳源瑤族自治縣東陽光化成箔有限公司