專利名稱：基板位置偏離檢測系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及基板位置偏離檢測系統(tǒng)，特別是涉及用光學(xué)方法檢測 基板的位置偏離的基板位置偏離檢測系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
通常，對作為基板的半導(dǎo)體晶片(下面稱為"晶片")實施處理的 基板處理系統(tǒng)，為了更有效地對多枚晶片實施處理，包括對晶片實施 處理的處理裝置、和從以整齊排列的狀態(tài)收容多枚晶片的容器中將晶 片搬送到處理裝置中的搬送裝置。
容器是具有能夠搬入搬出晶片的開口部的箱體，在內(nèi)部具有多個 槽縫，該槽縫是相對于配置有開口部的面垂直地能夠收容晶片的保持 晶片的周邊部的溝槽狀的槽縫。并且，容器通過在各個槽縫中插入晶 片能夠?qū)⒍嗝毒韵嗷テ叫械卣R排列的狀態(tài)收容在內(nèi)部的規(guī)定的 收容位置。搬送裝置將收容在容器的規(guī)定的收容位置上的晶片逐片地 或者--起搬送到處理裝置中，該處理裝置對晶片實施各種處理。
但是，在上述基板處理系統(tǒng)中，由于對容器施加震動等會使晶片 從規(guī)定的收容位置發(fā)生偏離。當(dāng)晶片從規(guī)定的收容位置發(fā)生偏離時， 搬送裝置從容器中將晶片維持從規(guī)定的收容位置發(fā)生偏離地取出，被 搬送的晶片就會沿走向預(yù)先設(shè)定以外的路徑中。其結(jié)果是，由于晶片 與基板處理系統(tǒng)的其他構(gòu)成要素相互沖突而導(dǎo)致破損。這樣的晶片破 損是應(yīng)該防止的，所以在搬送之前有必要確認(rèn)容器中的晶片有沒有出 現(xiàn)位置偏離。
作為晶片的位置偏離的檢測裝置，公知的是如在圖7中所示，檢 測出晶片從容器的規(guī)定的收容位置向開口部的前方偏離的狀態(tài)的凸出 的檢測裝置30 (例如參照專利文獻1 )。該檢測裝置30在容器31的開 口部的前方，在容器31的上方和下方分別具備構(gòu)成透過型傳感器的投 射光部32和接收光部33，從投射光部32向接收光部33投射光線，通
過檢測該投射的光線是否被凸出的晶片W遮擋，從而檢測出晶片W的 凸出。
另外，作為另一種晶片的位置偏離的檢測裝置，公知的是檢測出 跳槽的檢測裝置，上述跳槽是指各個晶片沒有正確地插入在各個槽縫 中，在容器中收容有規(guī)定枚數(shù)以上或者規(guī)定枚數(shù)以下的晶片的狀態(tài)(例 如參照專利文獻2)。
然而，作為新一代的容器，研究了包括在底面具有開口部的大致
呈箱狀的主體、和自由開閉該開口部的板狀的蓋體的BOP (Bottom Opening Pod:底部開口盒)(下面稱為"BOP")。該BOP收容保持有 多枚晶片的盒。該盒為框體，互相平行地配置有保持晶片的周邊部的 溝槽狀的多個槽縫。在該盒中，通過在各個槽縫中插入晶片，多枚晶 片相互平行地以整齊排列的狀態(tài)被收容在規(guī)定的收容位置。在BOP中， 盒被載置在蓋體上，使得在蓋體中該蓋體的上表面(載置面)與被收 容的各個晶片相互平行。
在BOP中盒與蓋體聯(lián)動，通過盒與蓋體一同下降從BOP中取出 該盒，通過使盒與蓋體一同上升，該盒被收容在BOP中。在此，在蓋 體上升、下降時，蓋體的上升、下降的方向相對于蓋體的載置面垂直， 使盒不發(fā)生偏離，另外，為了穩(wěn)定地載置盒，蓋體的載置面的面積設(shè) 定為比晶片的面積大。
專利文獻1特開2003-100852號公報
專利文獻2特開平07-147316號公報

發(fā)明內(nèi)容
但是，晶片在BOP中或者與其它晶片平行地移動從盒中凸出的情 況下，在取出或收容盒時凸出的晶片與BOP的開口部的邊緣或主體的 內(nèi)壁面沖突，使該晶片有破損的危險。因此，即使是在BOP中，在盒 的取出或者收容之前，需要對晶片從盒的凸出進行檢測。
為了檢測出晶片的凸出，使用上述透過型傳感器的情況下，有必 要在與晶片凸出的方向相垂直的方向，即沿著與蓋體的載置面相垂直 的方向配置投射光部和接收光部，而且投射光部和接收光部需要盡可 能靠近收容在盒中的晶片。
通常，由于當(dāng)在盒或蓋體上設(shè)置透過型傳感器時會使BOP的成本 升高，所以透過型傳感器要與盒或蓋體分開設(shè)置。從而，即使盒或蓋 體上升、下降透過型傳感器也不會一起上升、下降。并且，雖然投射 光部和接收光部靠近晶片而設(shè)置，但如上所述，由于蓋體的載置面的 面積比晶片的面積大，因此在盒或蓋體的上升、下降時，在蓋體的移 動通路上會存在有投射光部和接收光部，恐怕會使透過型傳感器與蓋 體發(fā)生沖突。因此，為了使透過型傳感器與蓋體不發(fā)生沖突，有必要 在盒或蓋體的上升、下降時，使透過型傳感器在與蓋體的載置面水平 的方向上移動，避開蓋體的移動通路。
本發(fā)明的目的是提供一種在使用底部開口容器的情況下，不用移
動檢測裝置，而能夠檢測出基板的位置偏離的基板位置偏離檢測系統(tǒng)。
為了實現(xiàn)上述目的，權(quán)力要求1記載的基板位置偏離檢測系統(tǒng)， 其在從收容至少一枚基板的底部開口容器中取出上述基板或者向上述
底部開口容器中收容上述基板的基板取出裝置中，在所述基板的取出 或者收容時，檢測出上述基板的位置偏離，其特征在于上述底部開 口容器具備在底部具有開口部大致呈箱狀的主體、自由開閉上述開
口部的板狀的蓋體、和能夠收容在上述主體中而且保持上述基板的保 持體，上述蓋體是將上述保持體載置在上述蓋體的上表面，上述保持 體以與上述蓋體的上表面相平行的方式保持上述基板，上述基板取出 裝置具有載置上述底部開口容器的載置部和擔(dān)持上述蓋體的擔(dān)持部， 該擔(dān)持部使所述被載置的底部開口容器的所述蓋體與所述保持體一起 下降，上升，具備檢測裝置，所述檢測裝置包括光學(xué)部，其被配置 在所述擔(dān)持部并向上述升降方向投射光線同時接收光線；反射部，其 在上述被載置的底部開口容器中的主體的頂棚部以與上述光學(xué)部相對
的方式配置反射上述被投射的光線；和透過部，被配置在上述蓋體上
使上述被投射的光線和上述被反射的光線在上述升降方向上透過，上 述光學(xué)部、上述透過部和上述反射部被配置在上述升降方向上的一條 直線上，上述光學(xué)部投射的光線，不被由上述保持體保持在規(guī)定的收 容位置上的基板遮光。
權(quán)力要求2記載的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，是根據(jù)權(quán)利要求1所
述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)中，在關(guān)于上述升降方向的平面視圖中，
上述透過部不被由上述保持體保持在規(guī)定的收容位置的基板覆蓋。
權(quán)利要求3記載的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，是根據(jù)權(quán)利要求1或2 所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)中，檢測出被搬送的所述基板遮擋由上 述光學(xué)部投射的光線的時間。
權(quán)利要求4記載的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，是根據(jù)權(quán)利要求1或2
所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)中，檢測出搬送上述基板的搬送部遮擋 由上述光學(xué)部投射的光線的時間。
權(quán)利要求5記載的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，是根據(jù)權(quán)利要求1或2 所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)中，包括多個上述檢測裝置，多個上述 檢測裝置各自的上述光學(xué)部投射的光線，被沿著規(guī)定的搬送通路搬送 的上述基板同時遮擋。
權(quán)利要求6記載的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，是根據(jù)權(quán)利要求1或2 所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)中，包括多個上述檢測裝置，多個上述 檢測裝置各自的上述光學(xué)部投射的光線，被沿著規(guī)定的搬送通路搬送 所述基板的搬送部同時遮擋。
權(quán)利要求7記載的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，是根據(jù)權(quán)利要求1~2 中任一項所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)中，上述光學(xué)部為光電傳感器， 上述反射部為回歸反射板。
權(quán)利要求8記載的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，是根據(jù)權(quán)利要求1 2 中任一項所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)中，上述基板取出裝置為半導(dǎo) 體制造系統(tǒng)的構(gòu)成要素。
依據(jù)權(quán)利要求1中所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，由于在升降方 向上投射光線同時接收光線的光學(xué)部，配置在擔(dān)持蓋體與保持體一起 升降的擔(dān)持部上，對投射的光線進行反射的反射部配置在底部開口容 器中的主體的頂棚部，透過部配置在蓋體上，所以在蓋體升降時，在 蓋體的移動通路上不存在光學(xué)部、反射部和透過部，不必使具備光學(xué) 部、反射部和透過部的檢測裝置移動。另外，由于光學(xué)部、透過部和 反射部配置在升降方向上的一條直線上，光學(xué)部投射的光線不被由保 持體保持在規(guī)定的收容位置的基板遮擋，所以在基板沒有從保持體突 出沒有發(fā)生從規(guī)定的收容位置偏離的情況下，光學(xué)部能夠接收到經(jīng)由 透過部被反射部反射的光線。另一方面，在基板從保持體突出而發(fā)生
從規(guī)定的收容位置偏離的情況下，由于光學(xué)部透射的光線被從保持體 突出的基板遮擋，使得光學(xué)部投射的光線不能到達反射部，其結(jié)果是， 光學(xué)部不能接收到反射部反射的光線。由此就能夠檢測出基板的位置 偏離。
根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，由于在關(guān)于升降
方向的平面視圖中，透過部不被由保持體保持在規(guī)定的收容位置的基 板覆蓋，所以在基板沒有從保持體突出沒有發(fā)生偏離規(guī)定的收容位置 的情況下，光學(xué)部能夠接收到經(jīng)由透過部被反射部反射的光線。另一 方面，在基板從保持體突出而從規(guī)定的收容位置偏離的情況下，由于 透過部被從保持體突出的基板覆蓋，所以光學(xué)部透射的光線不能到達 反射部，其結(jié)果是，光學(xué)部不能接收到被反射部反射的光線。由此就 能夠檢測出基板的位置偏離。
根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，檢測出被搬送的 基板遮擋由光學(xué)部透射的光線的時間。在搬送中沒有發(fā)生位置偏離的 基板遮擋上述光線的時間與在搬送中發(fā)生了位置偏離的基板遮擋上述 光線的時間不同。從而就能夠檢測出被搬送的基板的位置偏離。
根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，檢測出搬送基板 的搬送部遮擋由光學(xué)部投射的光線的吋間。沒有從搬送通路發(fā)生位置 偏離的搬送部遮擋上述光線的時間與在搬送通路中發(fā)生了位置偏離的 搬送部遮擋上述光線的時間不同。從而就能夠檢測出搬送部的位置偏 離。
根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，在被搬送的基板 沒有從規(guī)定的搬送通路發(fā)生位置偏離的情況下，多個光學(xué)部投射的光 線被被搬送的基板同時遮擋。另一方面，在被搬送的基板從規(guī)定的搬 送通路發(fā)生偏離的情況下，多個光學(xué)部投射的光線不會被被搬送的基 板同時遮擋，其結(jié)果是，遮擋各個光線的時間出現(xiàn)偏差。由此就能夠 檢測出被搬送的基板出現(xiàn)了位置偏離。
根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，在搬送部沒有從 規(guī)定的搬送通路發(fā)生位置偏離的情況下，多個光學(xué)部投射的光線同時 被搬送部遮擋。另一方面，在搬送部從規(guī)定的搬送通路發(fā)生偏離的情 況下，多個光學(xué)部投射的光線不會被搬送部同時遮擋，其結(jié)果是，遮
擋各個光線的時間出現(xiàn)偏差。由此就能夠檢測出搬送部出現(xiàn)了位置偏離。
根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，由于光學(xué)部是光 電傳感器，反射部是回歸反射板，所以能夠降低成本。另外由于不必 在底部開口容器中安裝電器部件，所以底部開口容器容易處置。
根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，由于上述基板取 出裝置是半導(dǎo)體制造系統(tǒng)的構(gòu)成要素，所以在底部開口容器連接的半 導(dǎo)體制造系統(tǒng)中，不移動檢測裝置就能夠檢測出基板的位置偏離。


圖1是大致表示本實施方式的基板位置偏離檢測系統(tǒng)適用的基板 收入裝置和容器結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖2是表示在圖1的基板收入裝置和容器中，在晶片沒有從規(guī)定 的收容位置偏離的情況下的盒、蓋體和晶片的位置關(guān)系的截面圖。
圖3是表示在圖2中的盒、蓋體和晶片的位置關(guān)系的平面圖。
圖4是表示在圖1的基板收入裝置和容器中，在晶片發(fā)生了從規(guī) 定的收容位置偏離的情況下的盒、蓋體和晶片的位置關(guān)系的截面圖。
圖5是表示在圖4中的盒、蓋體和晶片的位置關(guān)系的平面圖。
圖6是大致表示本實施方式的基板位置偏離檢測系統(tǒng)的一個變形 例的結(jié)構(gòu)的平面圖。
圖7是大致表示現(xiàn)有的基板位置偏離檢測系統(tǒng)適用的基板收入裝 置和容器的結(jié)構(gòu)的截面圖。
符號的說明
W， WQ晶片
1容器
2主體
3蓋體
4盒
5盒模塊
6端口
8擔(dān)持體
10回歸反射型傳感器
11透過窗
12回歸反射板
具體實施例方式
下面參照

本發(fā)明的最佳實施方式。
圖1是表示應(yīng)用本實施方式的基板位置偏離檢測系統(tǒng)的基板收入 裝置和容器結(jié)構(gòu)的大致截面圖。
在圖1中，容器1 (底部開口容器)是具備在底部具有開口部的大
致呈箱狀的主體2、自由開閉該開口部的板狀的蓋體3、能夠收容在主 體2中而且保持晶片W的盒4的BOP。盒4 (保持體)是具有保持晶 片W的周邊部的溝槽狀的多個槽縫(圖中未顯示)的框狀體，通過在 各槽縫中插入晶片W將多枚晶片以互相平行地整齊排列的狀態(tài)保持。 另外，盒4保持晶片W并且被放置在蓋體3的載置面上使得各晶片與 蓋體3的上表面(載置面)相互平行。在BOP中，通過蓋體3將開口 部閉塞，使容器1的內(nèi)部與周圍環(huán)境相隔絕。在本實施方式中，晶片 W正確地被插入盒4的槽縫中的狀態(tài)(沒有從槽縫中跑出的狀態(tài))時 的晶片W的位置作為規(guī)定的收容位置。
大致呈箱狀的盒模塊5 (基板取出裝置)包括配置在該盒模塊5 頂棚部載置容器1的端口 (port) 6 (載置部)和經(jīng)由閘閥(圖中未顯 示)與例如傳送模塊(圖中未顯示)相連接的連接部7。進一步，在盒 模塊5的內(nèi)部，配置有擔(dān)持蓋體3的板狀擔(dān)持體8 (擔(dān)持部)和支持該 擔(dān)持體8的支持體9，支持體9的一端支持擔(dān)持體8，另一端連接在盒 模塊5的內(nèi)部的底面上。擔(dān)持體8具有面積比晶片W的面積更大的上 表面，支持體9具有升降機構(gòu)(圖中未顯示)使得擔(dān)持體8在盒模塊5 的頂棚部-底部方向上自由升降。
檢測裝置包括配置在擔(dān)持體8上，作為向升降方向投射光線并 且接收光線的光電傳感器的回歸反射型傳感器IO (光學(xué)部)；在主體2 的頂棚部以與回歸反射型傳感器10相對的方式配置并對被投射的光線 進行反射的回歸反射板12 (反射部)；和配置在蓋體3上，在升降方向 上透過投射的光線和反射的光線的透過窗11 (透過部)。另夕卜，回歸反
射型傳感器10、透過窗11和反射板12被配置在沿升降方向的一條直 線上，并且，回歸反射型傳感器10不從擔(dān)持體8的上表面突出，透過
窗11不從蓋體3的載置面和下表面突出，反射板12以與收容在容器1 中的盒4和該盒4保持的規(guī)定收容位置的晶片W不接觸的方式被配置。
另外，在蓋體3上的透過窗11，在關(guān)于擔(dān)持體8的升降方向的平 面視圖中，在不由被保持在規(guī)定收容位置的晶片W遮擋的位置，配置 在晶片W突出的方向上的、由被保持在盒4的規(guī)定收容位置的晶片W 所覆蓋的部分的附近(參照下面的圖3)。
擔(dān)持體8通過支持體9的升降機構(gòu)上升使該擔(dān)持體8的上表面與 蓋體3的下表面相接觸。并且，擔(dān)持體8在擔(dān)持有蓋體3和在蓋體3 上載置的盒4的狀態(tài)下下降并從容器1中取出盒4，同時將蓋體3和盒 4搬送到盒模塊5的內(nèi)部。另外，在盒模塊5的內(nèi)部擔(dān)持蓋體3和盒4 的擔(dān)持體8上升將盒4從盒模塊5的內(nèi)部搬送到容器1的內(nèi)部。在該 搬送工序中，蓋體3和盒4的移動方向通常是盒模塊5的頂棚部-底部 方向，以與蓋體3的上表面平行的方式被保持在盒4中的晶片W通常 相對于蓋體3和盒4的移動方向垂直。
圖2是表示在圖1的基板收入裝置和容器中，在晶片沒有發(fā)生偏 離規(guī)定的收容位置的情況下，盒、蓋體和晶片的位置關(guān)系的截面圖。 圖3是表示圖2中的盒、蓋體和晶片的位置關(guān)系平面圖。圖4是表示 在圖1的基板收入裝置和容器中，在晶片產(chǎn)生從規(guī)定的收容位置偏離 的情況下，盒、蓋體和晶片的位置關(guān)系的截面圖。圖5是表示圖4中 的盒、蓋體和晶片的位置關(guān)系的平面圖。
在晶片W沒有從規(guī)定的收容位置發(fā)生偏離的情況下，如在圖3中 所示，由于關(guān)于升降方向的平面視圖中，透過窗11沒有被晶片W覆 蓋，所以通過回歸反射型傳感器10向頂棚部投射的光線透過透過窗11 沒有被晶片W遮擋到達回歸反射板12。該到達的光線通過回歸反射板 12向底部方向反射，透過透過窗11被回歸反射型傳感器10接收(參 照圖2)。
在某晶片W。發(fā)生從規(guī)定的收容位置偏離的情況下，如在圖5中所 示，在關(guān)于升降方向的平面視圖中，由于透過窗11被突出的晶片W0 覆蓋，所以由回歸反射型傳感器10投射向頂棚部的光線，在透過透過
窗11之后被突出的晶片Wo遮擋，不能到達回歸反射板12。其結(jié)果是， 被投射的光線沒有被回歸反射板12反射，不能被回歸反射型傳感器10
接收(參照圖4)。
如此，由于投射光線的回歸反射型傳感器10，在晶片w沒有偏離
規(guī)定收容位置的情況下能夠接收到光線，而在晶片w。從規(guī)定的收容位
置偏離的情況下不能接收到光線，所以就能夠根據(jù)是否接收到光線檢 測出晶片的位置是否發(fā)生偏離。
按照本實施方式的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，由于沿升降方向投射
光線的同時還接收光線的回歸反射型傳感器10，配置在擔(dān)持蓋體3并 與盒4 一起升降的擔(dān)持體8上，反射被投射的光線的回歸反射板12配 置在容器1的主體2的頂棚部，而透過窗11配置在蓋體3上，所以在 蓋體3升降時，在蓋體3的移動通路上回歸反射型傳感器10、透過窗 11和回歸反射板12不存在，包括回歸反射型傳感器10、透過窗l(fā)l和 回歸反射板12的檢測裝置能夠不與蓋體3相沖突，所以就能夠不必移
由于回歸反射型傳感器10、透過窗11和回歸反射板12被配置在 沿升降方向的一條直線上，回歸反射型傳感器10投射的光線，不被由 盒4保持在收容位置上的晶片W遮擋，所以在晶片W沒有從盒4突 出沒有發(fā)生從規(guī)定的收容位置偏離的情況下，回歸反射型傳感器10能 夠接收到經(jīng)由透過窗11被回歸反射板12反射的光線。另一方面，在 晶片W出盒4突出發(fā)生從規(guī)定的收容位置偏離的情況下，由于回歸反 射型傳感器10投射的光線被突出的晶片Wo遮擋，使該光線不能到達 回歸反射板12，其結(jié)果是，回歸反射型傳感器10不能接收到回歸反射 板12反射的光線。由此就能夠檢測出晶片W的位置偏離。
此外，在本實施方式的基板位置偏離檢測系統(tǒng)中，由于透過窗11 的結(jié)構(gòu)比較小，在上述平面視圖中，在回歸反射型傳感器io投射的光 線不被規(guī)定的收容位置的晶片W遮擋的情況下，透過窗11不被該晶 片W覆蓋，而在回歸反射型傳感器10投射的光線被突出的晶片Wo 遮擋的情況下，透過窗11就被該晶片Wq覆蓋。
只要將檢測裝置配置在回歸反射型傳感器10投射的光線沒有被規(guī) 定的收容位置的晶片W遮擋，回歸反射型傳感器10投射的光線被突
出的晶片Wq遮檔的位置上即可。例如在透過窗11比較大的情況下， 透過窗11沒有必要全部被突出的晶片Wo覆蓋，只要覆蓋透過窗11的 一部分的晶片Wo遮擋住回歸反射型傳感器IO投射的光線即可。
另外，為了防止在擔(dān)持體8升降時收容在盒4中的晶片W與主體 2的內(nèi)壁面發(fā)生沖突，例如透過窗11位于在上述平面視圖中不由被保 持在規(guī)定的收容位置的晶片W覆蓋的位置上，配置在晶片W突出的 方向上的蓋體3的外緣附近即可。由此，由于在上述平面視圖中光線 被從蓋體3的外緣附近向升降方向投射，所以就能夠檢測出晶片W從 蓋體3突出，其結(jié)果是，能夠事先檢測出在擔(dān)持體8升降時，被收容 在盒4中的晶片W與主體2的內(nèi)壁面發(fā)生沖突的可能性。
另外，在基板位置偏離檢測系統(tǒng)中，也可以檢測出被搬送的晶片 W遮擋由回歸反射型傳感器10投射的光線的時間。例如檢測從盒4搬 出的晶片W遮擋由回歸反射型傳感器IO投射的光線的時間的情況下， 在搬送中沒有發(fā)生位置偏離的晶片W遮擋住光線的時間與在搬送中發(fā) 生位置偏離的晶片W遮擋住光線的時間是不同的。所以就能夠檢測出 被搬送的晶片W的位置偏離。
另外，在基板位置偏離檢測系統(tǒng)中，也可以檢測出搬送晶片W的 搬送部、例如在下面敘述的拾取器20遮擋由回歸反射型傳感器10投 射的光線的時間。例如，在檢測與應(yīng)該從盒4搬出晶片W的盒4接近 的搬送部，遮擋由回歸反射型傳感器IO投射的光線的時間的情況下， 在沒有從搬送通路發(fā)生位置偏離的搬送部遮擋住光線的時間與從搬送 通路發(fā)生了位置偏離的搬送部遮擋住光線的時間是不同的。由此就能 夠檢測出搬送部的位置偏離。
另外，具備基板位置偏離檢測系統(tǒng)的檢測裝置的數(shù)目并不限于一 個。例如在由搬送部搬出保持在盒4中的晶片W時，如在圖6中所示， 在上述平面視圖中，兩個檢測裝置(透過窗11)關(guān)于利用拾取器20(搬 送部)的晶片W的搬出方向垂直，與晶片W的取出通路中心線(在 圖中用點劃線表示)等距離地配置。
在此情況下，當(dāng)拾取器20將晶片W保持在正規(guī)位置上將該晶片 W出盒4中搬出時，即當(dāng)晶片W被沿著規(guī)定的通路搬送時，由于兩個 回歸反射型傳感器10投射的各個光線同時被搬送的晶片W遮擋，所
以由兩個回歸反射型傳感器io接收光線被中斷的時間是同時的。另一
方面，當(dāng)拾取器20將晶片W沒有保持在正規(guī)位置上地將該晶片W從
盒4中搬出時，即當(dāng)晶片W不是被沿著規(guī)定的通路搬送時，由于兩個 回歸反射型傳感器10投射的各個光線不是同時被晶片W遮擋，所以 由兩個回歸反射型傳感器10接收光線被中斷的時間不是同時的。因此， 通過比較兩個檢測裝置接收光線的時間，就能夠檢測出晶片W是否被 沿著規(guī)定的搬送通路搬送，因而能夠檢測出拾取器20是否將晶片W保 持在正規(guī)的位置上。
另外，在拾取器20沒有保持晶片W的情況下，通過比較兩個回 歸反射型傳感器10投射的各個光線是否同時被拾取器20的端部21、 22遮擋，也可以檢測出拾取器20的位置偏離。
在本實施方式中，由于檢測裝置的結(jié)構(gòu)要素只是回歸反射型傳感 器10、透過窗11和回歸反射板12，所以能夠抑制基板位置偏離檢測 系統(tǒng)的制造成本。并且，在BOP上僅配置有回歸反射板12和透過窗 11，由于沒有必要安裝光電傳感器之類的電氣部件，所以在清洗BOP 吋該BOP容易處置。
在上述各實施方式中，基板是半導(dǎo)體晶片，但基板并不限于此， 例如是LCD (Liquid Crystal Display液晶顯示器)或FPD (Flat Panel Display平板顯示器)等的玻璃基板也是可以的。
權(quán)利要求
1. 一種基板位置偏離檢測系統(tǒng)，其在從收容至少一枚基板的底部開口容器中取出所述基板或者向所述底部開口容器中收容所述基板的基板取出裝置中，在所述基板的取出或者收容時，檢測出所述基板的位置偏離，其特征在于所述底部開口容器具備在底部具有開口部大致呈箱狀的主體、自由開閉所述開口部的板狀的蓋體、和能夠收容在所述主體中而且保持所述基板的保持體，所述蓋體是將所述保持體載置在所述蓋體的上表面，所述保持體以與所述蓋體的上表面相平行的方式保持所述基板，所述基板取出裝置具有載置所述底部開口容器的載置部和擔(dān)持所述蓋體的擔(dān)持部，該擔(dān)持部使所述被載置的底部開口容器的所述蓋體與所述保持體一起下降·上升，具備檢測裝置，所述檢測裝置包括光學(xué)部，其被配置在所述擔(dān)持部并向所述升降方向投射光線同時接收光線；反射部，其在所述被載置的底部開口容器中的主體的頂棚部以與所述光學(xué)部相對的方式配置反射所述被投射的光線；和透過部，被配置在所述蓋體上使所述被投射的光線和所述被反射的光線在所述升降方向上透過，所述光學(xué)部、所述透過部和所述反射部被配置在所述升降方向上的一條直線上，所述光學(xué)部投射的光線，不被由所述保持體保持在規(guī)定的收容位置上的基板遮光。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，其特征在于 在關(guān)于所述升降方向的平面視圖中，所述透過部不被由所述保持體保持在規(guī)定的收容位置的基板覆蓋。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，其特征在于: 檢測出被搬送的所述基板遮擋由所述光學(xué)部投射的光線的時間。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，其特征在于:檢測出搬送所述基板的搬送部遮擋由所述光學(xué)部投射的光線的時間。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，其特征在于 包括多個所述檢測裝置，多個所述檢測裝置各自的所述光學(xué)部投射的光線，被沿著規(guī)定的 搬送通路搬送的所述基板同時遮擋。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，其特征在于 包括多個所述檢測裝置，多個所述檢測裝置各自的所述光學(xué)部投射的光線，被沿著規(guī)定的 搬送通路搬送所述基板的搬送部同時遮擋。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1 2中任一項所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，其特 征在于所述光學(xué)部為光電傳感器，所述反射部為回歸反射板。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1 2中任一項所述的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，其特 征在于所述基板取出裝置為半導(dǎo)體制造系統(tǒng)的構(gòu)成要素。
全文摘要
本發(fā)明提供在使用底部開口容器時，不移動檢測裝置而檢測出基板位置偏離的基板位置偏離檢測系統(tǒng)。其是適用于容器1和盒模塊5的基板位置偏離檢測系統(tǒng)，所述容器1具備在底部具有開口部的主體2、自由開閉開口部的蓋體3和載置于蓋體3并保持晶片W的盒4，所述盒模塊5具有使蓋體3與盒4一起升降的擔(dān)持體8，所述基板位置偏離檢測系統(tǒng)具備檢測裝置，所述檢測裝置包括配置在擔(dān)持體8上，在升降方向上投射、接收光線的回歸反射型傳感器10；在主體2的頂棚部以與回歸反射型傳感器10相對的方式配置的反射光線的回歸反射板12；和配置在蓋體3上的透過光線的透過窗11，該檢測裝置的結(jié)構(gòu)要素配置在升降方向上的一條直線上，回歸反射型傳感器10投射的光線，不被由盒4保持在規(guī)定收容位置上的晶片W遮擋。
文檔編號H01L21/66GK101383307SQ200810210558
公開日2009年3月11日 申請日期2008年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月4日
發(fā)明者若林真士 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社