專利名稱：移栽容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光掩膜移載容器技術(shù)領(lǐng)域的移載容器，特別是涉及一 種避免氣流傷害光掩膜的移載容器，并且可長(zhǎng)時(shí)間維持與控制移載容器內(nèi) 部潔凈度與環(huán)境條件的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
目前受到電子產(chǎn)品不斷朝向輕薄短小、高頻、高效能等特性發(fā)展的影 響，用于電子產(chǎn)品中的核心晶片就必須更進(jìn)一步的微小化與高效能化，而欲 使晶片微小化與具有高效能則需要使晶片上的集成電路線徑微細(xì)化，以容
入更多的集成電路及元件，因此現(xiàn)有的集成電路線徑已由早期的0. 25微米 向90 45奈米等制程發(fā)展，而晶片上集成電路線徑微細(xì)化的成敗關(guān)鍵主要 在于半導(dǎo)體制程中的黃光微影制程技術(shù)，而其關(guān)鍵設(shè)備是在掃描步進(jìn)機(jī)
(Scanner)與光掩膜(Reticle,光掩膜即光罩，本文均稱為光掩膜)的使用。
而以其中的光掩膜為例，當(dāng)光掩膜表面附著微?；虍a(chǎn)生霧化時(shí)，其會(huì)直 接影響到晶圓的優(yōu)良率，因此其制程需要在極高等級(jí)的無(wú)塵室中進(jìn)行。但是 在半導(dǎo)體的無(wú)塵室中，不論是清洗、制作、濺鍍、黃光微影或蝕刻等，其均 需要使用到很多的溶劑，而這些有害物質(zhì)在經(jīng)過制程加熱或曝光等的動(dòng)作 時(shí)，會(huì)與環(huán)境中的水氣等產(chǎn)生化合作用，而在晶圓或光掩膜的表面附著或產(chǎn) 生其他影響優(yōu)良率的附加物，為解決這些問題，業(yè)界則開發(fā)有如美國(guó)專利第 US 4， 532， 970號(hào)與美國(guó)專利第US 4， 534, 389號(hào)的晶圓、光掩膜密閉移轉(zhuǎn)系 統(tǒng)，以確保微粒、水氣等有害物質(zhì)不致進(jìn)入緊鄰光掩膜與晶圓的環(huán)境中。
但是前述的密閉移轉(zhuǎn)系統(tǒng)并無(wú)法克服殘留于容器內(nèi)的有害物質(zhì)所產(chǎn)生 的問題。以光掩膜為例，造成光掩膜污損的原因除了微粒外，更進(jìn)一步包 含環(huán)境中的水氣、有毒氣體、塑膠制移載容器所釋出的硫化物和制作光掩 膜制程中殘留或是光掩膜上圖形材質(zhì)本身釋出的氨(NH/)、以及光掩膜清洗 過程中殘留的化學(xué)分子等有害物質(zhì)，以結(jié)晶為例，其化學(xué)式為(麗丄S04，此 一結(jié)晶物由前述不同原因釋出的氨(NH4+)及硫酸根離子(S042—)經(jīng)高能量光源 與環(huán)境水氣等化合而成，因此經(jīng)常發(fā)生光掩膜在清洗后，再經(jīng)一段時(shí)間的儲(chǔ) 存后，只要一經(jīng)黃光微影制程中的紫外線照射曝光就會(huì)產(chǎn)生結(jié)晶的現(xiàn)象。
造成此一問題的主要原因來(lái)自于儲(chǔ)存容器的氣密性不足，使移載容器 外的環(huán)境空氣中的微粒、水分子不斷的滲入，進(jìn)而提供其化學(xué)反應(yīng)所需的元 素。再者該移載容器主要是以塑膠制成，塑膠材料會(huì)不斷釋出硫化物等有害
3物質(zhì)，且外部氣體會(huì)滲透進(jìn)入光掩膜，和光掩膜圖形材質(zhì)本身或是移載容器 內(nèi)氨氣產(chǎn)生反應(yīng)，造成有害物質(zhì)附著于光掩膜正反兩面與光掩膜護(hù)膜表面。
為了解決這些問題，業(yè)界開發(fā)有在光掩膜的移載容器內(nèi)加設(shè)不銹鋼內(nèi) 罩.除了能產(chǎn)生靜電導(dǎo)出的功效外，并可用以吸收塑膠材質(zhì)所釋出的硫化 物，同時(shí)在移載容器上加裝充、填氣結(jié)構(gòu)，用以將干凈的惰性氣體注入該移 載容器內(nèi)，并擠出移載容器內(nèi)的有害氣體，同時(shí)進(jìn)一步提升該移載容器的
氣密性，以防止外部微粒進(jìn)入，如中國(guó)臺(tái)灣專利公告第223680號(hào)及第 1262164號(hào)等，其均在通過該移載容器結(jié)構(gòu)的改變，來(lái)提高移載容器的氣密 性。惟氣密性的改良是一項(xiàng)重大的工程，不僅需要增加開發(fā)、制模與組裝 的成本，且受到材質(zhì)、蓋合力量與蓋合接觸面積等因素的影響，移載容器并 無(wú)法達(dá)到完全氣密的效果，因此移載容器內(nèi)的氣體仍然會(huì)漸漸向外流失，由 于微粒與水分子極小，因此移載容器在經(jīng)長(zhǎng)時(shí)間儲(chǔ)存后，外部環(huán)境中如微粒 與水分子等有害物質(zhì)仍會(huì)漸漸滲入該移載容器內(nèi)部，而失去維持光掩膜潔 凈度的作用，其同樣會(huì)造成光掩膜與光掩膜護(hù)膜的污損、霧化與結(jié)晶等，而 進(jìn)一步影響到后續(xù)晶圓加工的優(yōu)良率、產(chǎn)量與成本。
再者，前述具有充、填氣結(jié)構(gòu)的光掩膜盒，主要是將其充氣閥件設(shè)置于 光掩膜盒的底座或殼罩上，使其直接連通光掩膜盒的內(nèi)部，如此當(dāng)充氣設(shè)備 通過充氣閥件注氣時(shí)，其氣流會(huì)直接沖擊光掩膜表面，造成氣體中殘留的 微粒直接撞擊光掩膜表面的圖形材質(zhì)，甚至強(qiáng)力的氣流也會(huì)傷及圖形，使光 掩膜圖形受損，進(jìn)而在晶圓制造時(shí)形成不良品，故亦有待進(jìn)一步的改良。
由此可見，上述現(xiàn)有的移載容器在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便 與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為解決上述存在的問題，相關(guān)廠商莫不 費(fèi)盡心思來(lái)謀求解決之道，但長(zhǎng)久以來(lái)一直未見適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完成，而 一般產(chǎn)品又沒有適切結(jié)構(gòu)能夠解決上述問題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決 的問題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，實(shí)屬當(dāng) 前重要研發(fā)課題之一，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進(jìn)的目標(biāo)。
有鑒于上述現(xiàn)有的移載容器存在的缺陷，為了克服前述移載容器的充 氣氣流容易傷及光掩膜圖形的問題，并且配合長(zhǎng)時(shí)間保持內(nèi)部潔凈度的需 求，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設(shè)計(jì)制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及其專業(yè)知 識(shí)，并配合學(xué)理的運(yùn)用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型的移載容器 的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，能夠改進(jìn)一般現(xiàn)有的移載容器，使其更加具有實(shí)用 性。經(jīng)過不斷的研究、設(shè)計(jì)，并經(jīng)過反復(fù)試作樣品及改進(jìn)后，終于創(chuàng)設(shè)出確 具實(shí)用價(jià)值的本發(fā)明移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，而能克服現(xiàn)有的移載
容器在充氣時(shí)容易傷及光掩膜圖形的困擾，同時(shí)可以進(jìn)一步維持移載容器 內(nèi)部的潔凈度與控制環(huán)境條件。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于，克服現(xiàn)有的移載容器存在的缺陷，而提供一種 新型的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，所要解決的技術(shù)問題是使其可以防 止傷害光掩膜圖形，藉以延長(zhǎng)光掩膜的使用壽命，非常適于實(shí)用。
本發(fā)明的另一目的在于，提供一種新型的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié) 構(gòu)，所要解決的技術(shù)問題是使其可以長(zhǎng)時(shí)間維持內(nèi)部的潔凈度，以避免微粒 或水氣等有害物質(zhì)進(jìn)入，并可以加速移載容器中有害物質(zhì)的釋出，而減少 光掩膜清洗與重新制作的次數(shù)，能夠有效的降低營(yíng)運(yùn)成本，從而更加適于 實(shí)用。
本發(fā)明的還一目的在于，提供一種新型的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié) 構(gòu)，所要解決的技術(shù)問題是使其可以控制環(huán)境條件，能夠改變移載容器內(nèi)部 的環(huán)境條件，以節(jié)省后續(xù)制程的時(shí)間，并降低后續(xù)制程的成本，從而更加 適于實(shí)用。
本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的。依據(jù) 本發(fā)明提出的一種移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，該移載容器是用于容置
一光掩膜，其包含有 一底座，其頂面設(shè)有由兩承托件與一抵持件圍繞形 成的支撐體，供支撐光掩膜及光掩膜側(cè)邊貼靠，其中承托件底面形成有一中 空的回氣空間，兩承托件相異的外側(cè)分別形成有復(fù)數(shù)連通內(nèi)部與外部的通 氣孔； 一殼罩，其供選擇性相對(duì)前述底座蓋合與開啟，該殼罩可蓋合于底座 上形成一容置光掩膜的容置空間；至少兩入出氣元件，其設(shè)置于前述底座 上，該兩入出氣元件并設(shè)置于底座兩承托件的下方，且與承托件回氣空間相 連通；藉此，當(dāng)移載容器置于一裝置時(shí)，可通過裝置上相對(duì)入出氣元件的 啟閉元件，選4奪性同時(shí)開啟入出氣元件，令氣體可注入與排出移載容器，而 利用兩入出氣元件可使氣體經(jīng)由回氣空間注入或排出移栽容器的設(shè)計(jì)，使 得氣流可沿光掩膜上、下表面水平流動(dòng)，而組構(gòu)成一氣流不致?lián)p及光掩膜圖 形、且可長(zhǎng)時(shí)間保持潔凈度的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。 前述的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，其中所述的移載容器的底座具 有一連通承托件的承座，該承座的下段埋設(shè)有一螺帽件，供入出氣元件由 移載容器外部螺鎖于底座承座上，使得入出氣元件可便于由移載容器外部 組裝與拆解。
前述的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，其中所述的底座上設(shè)有一由承 托件與抵持件壓掣的金屬板，且金屬片在對(duì)應(yīng)承座處形成有對(duì)應(yīng)透孔，讓金 屬板可獲得限位作用。
前述的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，其中所述的移轉(zhuǎn)容器的入出氣 元件具有一管體及一活動(dòng)件，該管體內(nèi)部中段是形成有一供氣體流經(jīng)的中空隔片，又該活動(dòng)件的兩端分別形成有 一較大徑的抵頂端與 一較小徑的閉 合端，使活動(dòng)件可以閉合端穿套一復(fù)位彈簧后、穿經(jīng)隔片，并利用一活塞墊 圈嵌套于該閉合端上，使活動(dòng)件可在管體內(nèi)受復(fù)位彈簧提供的彈性偏壓力 產(chǎn)生浮動(dòng)，供利用活動(dòng)件的活塞墊圈相對(duì)遠(yuǎn)離或靠近管體隔片，供阻隔氣體 或4吏氣體連通。
前述的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，其中所述的移轉(zhuǎn)容器用作注氣 的入出氣元件在出氣端壓設(shè)有一濾片與一壓抵墊圏，供進(jìn)一步過濾由入出 氣元件所導(dǎo)入的氣體。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方
案，本發(fā)明移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果
1、 本發(fā)明移載容器的入出氣元件是設(shè)置于承托件內(nèi)部，使上沖的氣流 受到遮蔽，并經(jīng)適當(dāng)引導(dǎo)后，讓氣流沿著光掩膜上、下的水平表面流動(dòng)，而 并非以垂直方向沖擊光掩膜表面的圖形，故不致傷害光掩膜圖形，且可將 有害物質(zhì)順利帶走，能夠有效延長(zhǎng)光掩膜的使用壽命，并且可以加速移載 容器中有害物質(zhì)的釋出，而減少光掩膜清洗與重新制作的次數(shù)，能有效降低
營(yíng)運(yùn)成本。
2、 本發(fā)明的移載容器利用入出氣元件的設(shè)計(jì)，使移載容器內(nèi)部可保持 正壓狀態(tài)，可以防止外部的微粒、水分子等無(wú)法進(jìn)入，以長(zhǎng)時(shí)間維持移轉(zhuǎn) 容器內(nèi)部環(huán)境的潔凈度，并且可以解決現(xiàn)有的移載容器需要不斷提升氣密 度的困擾與不便。
3、 本發(fā)明的移載容器可通過不斷注入與排出的氣體，形成一種循環(huán)氣 流，不致發(fā)生現(xiàn)有技術(shù)長(zhǎng)時(shí)間儲(chǔ)存后，正壓消失的狀況，并且能將移載容器 與光掩膜所釋出的有害物質(zhì)排出，使該移載容器的內(nèi)部環(huán)境能長(zhǎng)時(shí)間維持 潔凈度，減少光掩膜表面的微粒附著與霧化、結(jié)晶等現(xiàn)象，而能提升晶圓 制作的優(yōu)良率。
4 、本發(fā)明的移載容器內(nèi)部可以長(zhǎng)時(shí)維持其潔凈度，故在儲(chǔ)存光掩膜時(shí) 不需受限于早進(jìn)早出的原則，能增進(jìn)光掩膜管理的便利性。
5、本發(fā)明的移載容器可以對(duì)移載容器提供循環(huán)流動(dòng)的干凈氣體，其進(jìn) 一步可因應(yīng)不同制程的需要，預(yù)先通過入出氣元件注入所需材料，以控制其 內(nèi)部環(huán)境，如改變濕度、溫度、乃至特殊制程氣體或物質(zhì)等，可以減少后續(xù) 制程處理的時(shí)間與成本。
綜上所述，本發(fā)明是有關(guān)一種移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，尤指一種 可提升潔凈度、且避免傷害光掩膜的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)。該移 載容器，包含有可相對(duì)蓋合的一底座與一殼罩，且底座頂面設(shè)有一由兩承托 件與一抵持件所組成的"n"型支撐體，以支撐光置；而入出氣結(jié)構(gòu)，是在 底座上設(shè)有至少兩個(gè)可選擇性產(chǎn)生氣密作用的入出氣元件，該兩入出氣元件是設(shè)置于中空的承件件范圍內(nèi)，使得移載容器置在對(duì)應(yīng)裝置時(shí)，可通過設(shè)
合的移轉(zhuǎn)容器內(nèi)部注入干凈氣體，并將移轉(zhuǎn)容器內(nèi)部的氣體導(dǎo)出，使得氣體 可在該移轉(zhuǎn)容器內(nèi)部形成進(jìn)、出的循環(huán)流動(dòng)狀態(tài)，能夠長(zhǎng)時(shí)間維持移轉(zhuǎn)容 器內(nèi)部環(huán)境的潔凈度，同時(shí)由于入出氣結(jié)構(gòu)是設(shè)置于承托件的下方，可以避 免氣流直接沖擊光掩膜表面，不致發(fā)生傷害光掩膜表面的現(xiàn)象。本發(fā)明可
以防止傷害光掩膜圖形，藉以延長(zhǎng)光掩膜的使用壽命；另可以長(zhǎng)時(shí)間維持
內(nèi)部的潔凈度，以避免^l粒或水氣等有害物質(zhì)進(jìn)入，并可加速移載容器中 有害物質(zhì)的釋出，而減少光掩膜清洗與重新制作的次數(shù)，能有效的降低營(yíng)
運(yùn)成本；還可以控制環(huán)境條件，能改變移載容器內(nèi)部的環(huán)境條件，以節(jié)省 后續(xù)制程的時(shí)間，并降低后續(xù)制程的成本。本發(fā)明具有上述諸多優(yōu)點(diǎn)及實(shí) 用價(jià)值，其不論在產(chǎn)品結(jié)構(gòu)或功能上皆有較大改進(jìn)，在技術(shù)上有顯著的進(jìn) 步，并產(chǎn)生了好用及實(shí)用的效果，且較現(xiàn)有的移載容器具有增進(jìn)的突出多 項(xiàng)功效，從而更加適于實(shí)用，誠(chéng)為一新穎、進(jìn)步、實(shí)用的新設(shè)計(jì)。
上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的 技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和 其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附 圖，詳細(xì)說明如下。


圖l是本發(fā)明移載容器的外觀立體示意圖。
圖2是本發(fā)明的底座俯視分解立體示意圖，用以說明該移載容器入出氣 元件的構(gòu)成及其相對(duì)關(guān)系。
圖3是本發(fā)明的底座仰視分解立體示意圖。
圖4是本發(fā)明移載容器的組合結(jié)構(gòu)剖面示意圖。
圖5是本發(fā)明移載容器實(shí)際運(yùn)用的裝置外觀立體示意圖。
圖6是本發(fā)明的移載容器與裝置接合前的局部平面剖視圖。
圖7是本發(fā)明的移載容器與裝置接合后的局部平面剖視圖。
圖8是本發(fā)明移載容器在實(shí)際使用時(shí)的氣流示意圖。
1:移載容器 10 承座 12 金屬板 14
11 13 15
底座
螺帽件
透孔
承托件 150:回氣空間
151:通氣孔 16 20:殼罩 21 22:儲(chǔ)存元件 25
抵持件
外殼
內(nèi)襯26:壓抵件3:入出氣元4牛
30:管體300:隔片301第一槽孔302:第二槽孔303螺紋段32:活動(dòng)件
33:抵頂端34:閉合端
35:復(fù)位彈簧36.活塞墊圏
37:濾片38 壓抵墊圈
50:光掩膜60裝置
61:承板62定位元件
63:讀取元件644企知元件
80:啟閉元件81管體
810:隔片811:第一槽孔812:第二槽孔83'活動(dòng)件
84:抵頂端85:閉合端
86:復(fù)位彈簧87:活塞墊圏
88:才氐頂凸柱
具體實(shí)施例方式
為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功 效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明提出的移載容器的遮蔽式入 出氣結(jié)構(gòu)其具體實(shí)施方式
、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。
有關(guān)本發(fā)明的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)及功效，在以下配合參考圖 式的較佳實(shí)施例的詳細(xì)說明中將可清楚呈現(xiàn)。通過具體實(shí)施方式
的說明，當(dāng)
;了解，然而所附圖式僅是提供參考與說明之用，并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明;以限制。
本發(fā)明是一種用于儲(chǔ)存或運(yùn)輸制程中的光掩膜的移載容器，請(qǐng)參閱圖
1、圖2所示，圖l是本發(fā)明的移載容器的外觀立體示意圖，圖2是本發(fā)明 的底座俯視分解立體示意圖，用以說明該移載容器入出氣元件的結(jié)構(gòu)構(gòu)成 及其相對(duì)關(guān)系。該移載容器l，包含有一承置光掩膜50的底座10、 一供蓋 合底座IO形成密合空間的殼罩20、以及至少二個(gè)可對(duì)容置空間注氣或排氣 的入出氣元件3。
關(guān)于本發(fā)明較佳實(shí)施例的詳細(xì)構(gòu)成，請(qǐng)同時(shí)結(jié)合參閱圖2、圖3及圖4 所示，圖3是本發(fā)明的底座仰視分解立體示意圖，圖4是本發(fā)明移載容器 的組合結(jié)構(gòu)剖面示意圖。其中，上述的底座IO,其頂面設(shè)有一金屬板13，再 者底座10上并設(shè)有兩承托件15與一抵持件16;該承托件15與抵持件16,可將金屬板13壓掣于底座10頂面，又兩承 托件15與抵持件16并在金屬板13圍繞形成n型支撐體，供支撐光掩膜50 及光掩膜50側(cè)邊貼靠，且各承托件15的底面形成有一回氣空間150，再者 兩承托件15相異的外側(cè)頂緣分別形成設(shè)有復(fù)數(shù)連通內(nèi)部與外部的通氣孔 151，且底座10形成有至少兩個(gè)凸出頂面與底面的^R座11;
該金屬板13，形成有對(duì)應(yīng)的透孔14，使該兩承座11可分別對(duì)應(yīng)連通 前述的承托件15回氣空間150(如圖4所示)，且供金屬板13限位之用，再 者承座11下段內(nèi)緣可形成一螺紋段或埋設(shè)有一螺帽件12,本發(fā)明以埋設(shè)螺 帽件12為主要實(shí)施例，以供鎖設(shè)前述的入出氣元件3，能便于使用者由移 載容器1外部組裝或拆解該入出氣元件3。
上述的殼罩20，是由一外殼21與一金屬制內(nèi)襯25所組成，其中
該外殼21，周緣設(shè)有一儲(chǔ)存元件22,該儲(chǔ)存元件22是以無(wú)線射頻識(shí) 別系統(tǒng)(RFID)為實(shí)施例，儲(chǔ)存元件22供記錄移載容器1內(nèi)光掩膜50的相 關(guān)資訊；
該內(nèi)襯25，是鎖設(shè)于外殼21內(nèi)緣，該內(nèi)襯25內(nèi)設(shè)有若干壓抵件26,壓 抵件26可壓掣及推抵于光掩膜50的頂面與側(cè)面，使得光掩膜50可定位于 底座10的n型支撐體上。
上述的入出氣元件3，具有選擇性啟閉的功能，該入出氣元件3并設(shè)置 于底座10的承座11內(nèi)，入出氣元件3是由一管體30及一選擇性啟閉管體 30的活動(dòng)件32所組成，其中
該管體30，內(nèi)部中段分別形成有一供氣體流經(jīng)的中空隔片300，使管體 30內(nèi)部在隔片300兩側(cè)分別形成一第一槽孔301與一第二槽孔302，且入出 氣元件3的管體30在對(duì)應(yīng)第二槽孔302的外緣形成有一螺紋段303，供入 出氣元件3將管體30鎖設(shè)于前述承座11的螺帽件12上。
該活動(dòng)件32，兩端分別形成有一較大徑的抵頂端33與一較小徑的閉合 端34，該活動(dòng)件32的閉合端34可穿經(jīng)一復(fù)位彈簧35后，由管體30第一槽 孔301經(jīng)隔片300進(jìn)入第二槽孔302，并在該開合端34上套設(shè)有一活塞墊 圈36，使活動(dòng)件32在管體30內(nèi)選擇性移動(dòng)。讓復(fù)位彈簧35可提供一彈性 偏壓力，以推抵活動(dòng)件32在位移后自動(dòng)復(fù)位，使活動(dòng)件32上的活塞墊圈 36相對(duì)開啟或密閉該管體30的隔片300，供阻隔氣體在第一槽孔301與第 二槽孔302之間流動(dòng)，且當(dāng)活動(dòng)件32受外力推抵時(shí)，可讓活動(dòng)件32的活 塞墊圈36遠(yuǎn)離隔片300，使得氣體可由管體30的第一槽孔301向第二槽孔 302流動(dòng)。
再者，用于注氣的入出氣元件3由移載容器1外部鎖設(shè)于底座10承座 11時(shí)，可依序壓掣一壓抵墊圈38與一濾片37,以進(jìn)一步過濾進(jìn)入移載容 器1內(nèi)的干凈氣體，防止樣i?；蛴泻ξ镔|(zhì)進(jìn)入移載容器1內(nèi)。藉此，通過移載容器1兩入出氣元件3的設(shè)計(jì)，使注入移載容器1內(nèi) 部的氣流可沿光掩膜50表面水平流動(dòng)，而不致直接沖擊光掩膜50表面圖 形，且讓移載容器l內(nèi)部的氣體產(chǎn)生循環(huán)流動(dòng)，令干凈氣體可不斷的注入移 載容器1內(nèi)形成正壓，以避免外部微粒與有害物質(zhì)進(jìn)入，同時(shí)將釋出的有 害物質(zhì)利用流動(dòng)氣體不斷的帶出，而組構(gòu)成一不傷及光掩膜圖形、且可長(zhǎng) 時(shí)間維持潔凈度與控制內(nèi)部環(huán)境條件的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)。
請(qǐng)參閱圖5所示，是本發(fā)明的移載容器實(shí)際運(yùn)用的裝置的外觀立體示 意圖。通過上述的設(shè)計(jì)，本發(fā)明在實(shí)際運(yùn)用時(shí)，則是如圖5所示，本發(fā)明 移載容器1可運(yùn)用于各式容置或運(yùn)輸?shù)难b置60中，其中裝置60可為光掩 膜管理系統(tǒng)儲(chǔ)存拒、光掩膜充氣拒、光掩膜運(yùn)輸設(shè)備、以及制程設(shè)備的光 掩膜進(jìn)、出單元(Load、 Unload)等，該裝置60至少包含有一置設(shè)移載容器 1的承板61及兩具有充、排氣作用的啟閉元件80,其中
該承板61，其上具有復(fù)數(shù)防止微粒沉積的網(wǎng)孔，供進(jìn)一步保持裝置60 內(nèi)部的潔凈度，又承板61上設(shè)有至少一定位元件62，使得對(duì)應(yīng)的移載容器 1可穩(wěn)固定位于該承板61上；再者，承板61并設(shè)有至少一檢知元件64，供 感應(yīng)移載容器1是否定位置設(shè)置于承板61上，再者裝置6Q上并具有一典 型無(wú)線射頻識(shí)別系統(tǒng)(RFID)的讀取元件63，該讀取元件63可以對(duì)應(yīng)移載容 器1的儲(chǔ)存元件22，讀取元件63供傳輸與讀取移載容器1內(nèi)光掩膜50相 關(guān)資訊；
該裝置60的兩啟閉元件80，是與移載容器1的兩入出氣元件30對(duì)應(yīng) 連接，而前述啟閉元件80可選擇性啟閉前述的入出氣元件3,該啟閉元件 80具有一管狀的管體81與一選擇性密閉管體81的活動(dòng)件83;其中
該管體81，其內(nèi)部中段是形成有一供氣體流經(jīng)的中空隔片810，使管體 81內(nèi)部在隔片810兩側(cè)分別形成一第一槽孔811與一第二槽孔812，且啟閉 元件80的管體81第一槽孔811是對(duì)應(yīng)前述的移載容器1;
該活動(dòng)件83，兩端分別形成有一較大徑的4氐頂端84與一較小徑的閉合 端85，使活動(dòng)件83可以閉合端85穿套一復(fù)位彈簧86后，由管體81第一槽 孔811穿經(jīng)隔片810進(jìn)入第二槽孔812,并利用一活塞墊圈87嵌套于該閉 合端85上，使活動(dòng)件83可在管體81內(nèi)浮動(dòng)。該復(fù)位彈簧86將提供一彈 性偏壓力，以推抵活動(dòng)件83上的活塞墊圈87密閉該管體81隔片810,供阻 隔氣體在第一槽孔811與第二槽孔812間流動(dòng)，且當(dāng)活動(dòng)件83受外力推抵 時(shí)，可讓活動(dòng)件83活塞墊圈87遠(yuǎn)離隔片810,使得管體81的第一槽孔811 與第二槽孔812相互連通，再者活動(dòng)件83的抵頂端84對(duì)應(yīng)移載容器1的 表面凸伸有一抵頂凸柱88。
本發(fā)明在實(shí)際操作上，請(qǐng)參閱圖6、圖7、圖8所示，圖6是本發(fā)明的 移載容器與裝置接合前的局部平面剖視圖，圖7是本發(fā)明移載容器與裝置接合后的局部平面剖視圖，圖8是本發(fā)明移載容器在實(shí)際使用時(shí)的氣流示 意圖。本發(fā)明在實(shí)際操作時(shí)，時(shí)將容置有光掩膜50的移載容器1置入裝置 60內(nèi)，當(dāng)裝置60的檢知元件64感應(yīng)移載容器1定位后，可啟動(dòng)讀取元件 63對(duì)應(yīng)存取該移載容器1的儲(chǔ)存元件22內(nèi)的光掩膜50相關(guān)資訊，同時(shí)令 移載容器1的兩入出氣元件3與裝置60的兩啟閉元件80同時(shí)相對(duì)插接，而 如圖6、圖7所示，使得入出氣元件3的管體30可推抵啟閉元件80的活動(dòng) 件84，而啟閉元件80活動(dòng)件84的抵頂凸柱88可同步推抵入出氣元件3的 活動(dòng)件32，使兩啟閉元件80與兩入出氣元件3可以同步開啟，讓干凈氣體 可以在移載容器1的底座10與殼罩20之間的空間內(nèi)流動(dòng)。并且由于干凈 氣體在注入時(shí)，是由啟閉元件80經(jīng)入出氣元件3注入底座10的承托件15 回氣空間150內(nèi)，該干凈氣體進(jìn)一步由承托件15外側(cè)頂緣的通氣孔151進(jìn) 出，使氣流是沿著光掩膜50的表面流動(dòng)，而不致直接沖擊光掩膜50表面的 圖形，避免造成圖形的傷害，能夠有效的延長(zhǎng)光掩膜50的使用壽命，并且 可以將有害物質(zhì)順利帶走，而加速移載容器l中有害物質(zhì)的釋出，而減少光 掩膜50清洗與重新制作的次數(shù)，能夠有效的降低營(yíng)運(yùn)成本。
再者，通過移載容器1內(nèi)部氣體可不斷的注入與排出，使移載容器1內(nèi) 部環(huán)境產(chǎn)生一氣體的循環(huán)流動(dòng)狀態(tài)，如此可以使移載容器1內(nèi)部環(huán)境形成 正壓，有效的防止了移載容器1外部的微粒、水氣等有害物質(zhì)進(jìn)入。更甚 者，可以依后續(xù)制程的需要，通過循環(huán)流動(dòng)的氣體，預(yù)先控制移載容器l內(nèi) 部的環(huán)境條件，如濕度、溫度等，而可以節(jié)省后續(xù)制程的時(shí)間與成本。
以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式 上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā) 明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利 用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但 凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例 所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍 內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，該移載容器是用于容置一光掩膜，其特征在于其包含有一底座，其頂面設(shè)有由兩承托件與一抵持件圍繞形成的支撐體，供支撐光掩膜及光掩膜側(cè)邊貼靠，其中承托件底面形成有一中空的回氣空間，兩承托件相異的外側(cè)分別形成有復(fù)數(shù)連通內(nèi)部與外部的通氣孔；一殼罩，其供選擇性相對(duì)前述底座蓋合與開啟，該殼罩可蓋合于底座上形成一容置光掩膜的容置空間；至少兩入出氣元件，其設(shè)置于前述底座上，該兩入出氣元件并設(shè)置于底座兩承托件的下方，且與承托件回氣空間相連通；藉此，當(dāng)移載容器置于一裝置時(shí)，可通過裝置上相對(duì)入出氣元件的啟閉元件，選擇性同時(shí)開啟入出氣元件，令氣體可注入與排出移載容器，而利用兩入出氣元件可使氣體經(jīng)由回氣空間注入或排出移載容器的設(shè)計(jì)，使得氣流可沿光掩膜上、下表面水平流動(dòng)，而組構(gòu)成一氣流不致?lián)p及光掩膜圖形、且可長(zhǎng)時(shí)間保持潔凈度的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，其特征在于 其中所述的移載容器的底座具有一連通承托件的承座，該承座的下段埋設(shè) 有一螺帽件，供入出氣元件由移載容器外部螺鎖于底座承座上，使得入出 氣元件可便于由移載容器外部組裝與拆解。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，其特征在于 其中所述的底座上設(shè)有 一 由承托件與抵持件壓掣的金屬板，且金屬片在對(duì) 應(yīng)承座處形成有對(duì)應(yīng)透孔，讓金屬板可獲得限位作用。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，其特征在于其中所述的移轉(zhuǎn)容器的入出氣元件具有一管體及一活動(dòng)件，該管體內(nèi) 部中段是形成有一供氣體流經(jīng)的中空隔片，又該活動(dòng)件的兩端分別形成有 一較大徑的抵頂端與 一較'J 、徑的閉合端，使活動(dòng)件可以閉合端穿套一復(fù)位 彈簧后、穿經(jīng)隔片，并利用一活塞墊圈嵌套于該閉合端上，使活動(dòng)件可在 管體內(nèi)受復(fù)位彈簧提供的彈性偏壓力產(chǎn)生浮動(dòng)，供利用活動(dòng)件的活塞墊圈 相對(duì)遠(yuǎn)離或靠近管體隔片，供阻隔氣體或使氣體連通。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，其特征在于 其中所述的移轉(zhuǎn)容器用作注氣的入出氣元件在出氣端壓設(shè)有一濾片與一壓 抵墊圈，供進(jìn)一步過濾由入出氣元件所導(dǎo)入的氣體。
全文摘要
本發(fā)明是有關(guān)一種移載容器的遮蔽式入出氣結(jié)構(gòu)，該移載容器，包含相對(duì)蓋合的一底座與一殼罩，底座頂面設(shè)有一由兩承托件與一抵持件組成的門型支撐體，以支撐光置；該入出氣結(jié)構(gòu)，在底座上設(shè)有至少兩個(gè)可選擇性產(chǎn)生氣密作用的入出氣元件，設(shè)于中空承件件范圍內(nèi)，使移載容器置在對(duì)應(yīng)裝置時(shí)，可通過設(shè)于裝置上的對(duì)應(yīng)啟閉元件選擇性開啟移載容器的兩入出氣元件，而對(duì)密合移轉(zhuǎn)容器內(nèi)部注入干凈氣體，并將移轉(zhuǎn)容器內(nèi)部氣體導(dǎo)出，使氣體可在移轉(zhuǎn)容器內(nèi)部形成進(jìn)、出循環(huán)流動(dòng)狀態(tài)，能長(zhǎng)時(shí)間維持移轉(zhuǎn)容器內(nèi)部環(huán)境潔凈度，同時(shí)由于入出氣結(jié)構(gòu)是設(shè)置于承托件下方，可避免氣流直接沖擊光掩膜表面，不致發(fā)生傷害光掩膜表面的現(xiàn)象，而可以提升潔凈度，并且能避免傷害光掩膜。
文檔編號(hào)H01L21/677GK101609260SQ20081012520
公開日2009年12月23日 申請(qǐng)日期2008年6月16日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月16日
發(fā)明者盧詩(shī)文, 蔡銘貴, 陳俐殷 申請(qǐng)人:億尚精密工業(yè)股份有限公司