專利名稱：真空斷路器的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種真空開關，特別涉及一種中高壓真空斷路器，該 真空斷路器具有設置在電子繼電器室內的移動通斷單元，該移動通斷 單元包括接觸柱塞以及做相對運動的絕緣體和驅動/控制桿，該驅動/ 控制桿通過一風箱插入到真空繼電器室內，該風箱為鐵制并且具有嵌
入到該真空繼電器室的殼體內的固定接觸體；其中，絕緣體的上端與 接觸柱塞緊密連接，其下端與驅動/控制桿緊密連接；該接觸柱塞具 有與一導體電連接的電導連接體，以與至少一個設置在側邊處的外凸 觸頭電導通。
背景技術：
斷路器能夠分斷已有的電連接并且能夠通斷超過160kA的電流， 舉例來說，在高壓供電系統發(fā)生短路或接地故障時會出現這類電流狀 況。斷路器不僅可以以與開關分斷器相同的方式通斷正常工作電流和 較小的過載電流，還可以分斷高過載電流和超高短路電流。作為具有 極高通斷性能的過流保護裝置，斷路器的電流通斷范圍可以從80kA 到160kA，其可以在無故障狀態(tài)和有限次數的諸如短路的故障狀態(tài)下 通斷設備或裝置部件中的電流。斷路器的種類不僅包括氣壓開關和流 量開關，還包括真空開關。真空開關的觸頭處于真空狀態(tài)中以防止電 弧的產生。
德國專利DE 10024356C1公開了 一種包括真空開關的絕緣氣體 開關組件，在該開關組件中，三個真空開關形式的斷路器被設置在一 個填充有絕緣氣體的盒子內。每一真空開關包括釆用真空區(qū)間形式的 真空繼電器室，該真空區(qū)間或真空繼電器室內設置有一固定接觸柱塞 和一活動接觸柱塞，并且其各自的接觸桿從該真空繼電器室的真空區(qū)間穿出。在這種情況下，該活動接觸柱塞的接觸桿經由一風箱從該真 空區(qū)間或該真空繼電器室穿出。在真空繼電器室外側，這一柱塞與一 電源連接引腳連接，并且提供有一操縱裝置以操縱該活動接觸柱塞的 控制桿。真空開關不僅必須確保開關間隙和隔離間隙所需要的隔離性 能，還必須確保，當隔離間隙處于打開狀態(tài)時，漏電流或表面電流不 會從真空繼電器室的上接頭傳到下接頭，即，電源連接引腳處于被連 接狀態(tài)。為了實現這一目的，這些接頭必須相互保持適當的距離，并 且該真空開關必須設置在一填充有絕緣氣體的盒子內。這使得真空開 關以及由其組成的開關組件體積較大。
公知地，在真空開關的真空繼電器室內的真空狀態(tài)中，必須利用 能夠產生電流的磁場滅弧。在磁場影響下產生的電弧依附在設置于真 空開關的真空繼電器室內的固定接觸體和接觸柱塞的通斷接觸件的 平坦接觸面上移動。當隔離間隙閉合時，通斷接觸件在一外部力作用 下在其圓形端表面處完全相互接觸。這一接觸力基本上來自于由與外 部設備相關聯的彈簧施加的力。為了能夠控制產生電流的磁場的強度 和方向，該通斷接觸件具有可以根據自身方向感應出軸向或垂直向電 磁場的內部凹槽。在導通過程中，接觸柱塞的通斷觸頭高速縱向移動， 然后與固定接觸體的通斷觸頭發(fā)生碰撞，以一與驅動系統和移動面積 相對應的頻率反復撞擊該通斷觸頭。在該真空開關的工作過程中，這 種撞擊首先會引起機械振蕩，其將在所述金屬制的風箱上產生較大負 荷，活動接觸柱塞因此從真空室移出。在一定次數的通斷操作后，真 空室存在斷裂危險，并且會引起其內氣流分離。而且，導通過程中所 述活動接觸柱塞的通斷接觸體的碰撞及其反復的撞擊運動還會導致 電弧的反復形成。這會引起該平坦接觸面上的金屬過熱現象，并且因 此在所述端觸頭上產生多個磨損點。在分斷過程中，該端觸頭上的焊 點在分斷驅動力作用下裂開。在這種情況下，該端觸頭上可能會產生 鋒利的焊刺，其將嚴重降低該端觸頭的接觸面上電場的均勻性，并且因此降低打開端觸頭之間的擊穿電壓。
公知地，如果合適的話，為了使限制絕緣氣體的使用成為可能， 外凸觸頭和電源連接引腳可以具有與真空繼電器室的真空室內或其 上的負載導體連接的電導連接體，并且通過一彈性導體與在真空繼電 器室內移動的接觸柱塞導通。此外，在這種情況下，設置在真空繼電 器室內的活動接觸柱塞通過一絕緣體與從該真空繼電器室移出的驅
動/控制桿連接。這種類型的真空開關可以從德國專利DE19964249C2 中獲知。這種開關存在這樣的問題導通和分斷過程中，活動接觸柱 塞和負載導體或外凸導體之間的電導連接體必須是彈性連接體，以使 其能隨活動接觸柱塞的縱軸向運動而從動。必須確保所述要求的彈性 性能能夠持續(xù)一段較長的時間，并且承受很多次的開關通斷操作，以 使該開關具備足夠長的壽命。德國專利DE 19964249C2公開了 一種 電導連接體，該電導連接體由超薄銅膜箔以一層疊在另一層上面的形 式構成。由此引起的問題是真空中形成了互相粘著的氧化物層， 隨時間推移，其將妨礙該電導連接體的彈性性能。為了解決上述問題， 德國專利DE19964249C2提出電導連接體可以由交替層結構的導 體金屬層和附著防護層形成，或以這樣的方式設置在真空繼電器室內 的保護區(qū)域中，使得出現電弧時產生的衍生物不致沉淀堆積在該彈性 電導連接體上。
這一實施方式存在這樣的缺點其要么必須在真空繼電器室內另 外提供一個以保護模式設置有電導連接體的內殼，要么必須提供交替 設置的電導層和附著防護層，前者會大大增加組裝工作，后者將會使 電導連接體的設計復雜化。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種連接到外凸觸頭的彈性傳導連接體 的簡單、不復雜并且更好的實施方式。
本申請開始提到的根據本發(fā)明的真空開關已經實現了這一目的，其中，真空繼電器室的與環(huán)繞接觸柱塞的外凸觸頭位于同一高度的內 橫截面區(qū)域的部分面積上覆蓋有薄膜或片晶狀的電導覆蓋單元，該電 導覆蓋元被設置為一層位于另一層之上，并且每一層至少部分重疊。
根據本發(fā)明的電傳導連接體的這一實施方式提供了一種甚至當 產生電弧時的衍生物質作用于其上的時候都不會附著而且保持長久 的可用性的方法。此外，根據本發(fā)明的彈性導電連接體的設計和實施 在技術上可以以一種不太復雜的方式實現。
由于所提供的導電覆蓋單元類似薄膜或者片晶，優(yōu)選由金屬薄膜 片晶或金屬片晶制成，覆蓋真空繼電器室的內部橫截面的環(huán)繞接觸柱 塞的面積，所述導電覆蓋單元和柱塞相對于彼此運動，在柱塞的每一 次運動中不產生相對位移，也就是說每一次開關過程實際上是不一致 的。在這種情況下，位于接觸柱塞上的材料區(qū)域由于接觸柱塞的運動 而運動，然而相反地，優(yōu)選固定于環(huán)上的覆蓋單元的反面則不會由于 接觸柱塞的運動而運動。與現有技術中一層位于另一層之上的情況相 比，這不僅導致層與層之間相對于彼此移位，而且導致層被布置、移 動及舉升離開彼此一段距離。運動過程中覆蓋單元的內端和外端相對 于彼此的運動可以移除任何粘附。然而另一方面，由于這種清掃，使 得真空繼電器室中位于覆蓋單元覆蓋區(qū)域之上或之下的兩個真空腔
室子區(qū)域的必要排空成為可能，以便形成10'M0一Torr或者更高的高 真空。當上述真空形成時，像薄膜或薄板之類的彈性覆蓋單元被抬高， 結果可能是移除其下邊或位于其間的導電離子或者氣體粒子等。
本發(fā)明的改進和細化起因于從屬權利要求。在這種情況下，所述 覆蓋單元至少部分形成導電連接，而且，導線形成繞接觸柱塞布置的 環(huán)狀或者環(huán)形截面。如果需要，允許所述彈性導電連接形成為限制于 部分環(huán)形截面。然而，形成于所述接觸柱塞和環(huán)形導體之間的整個環(huán) 形可能成為導電連接的形式。
可以得到一種抗粘附的彈性實例，因為導電連接由組成彈性覆蓋單元的大量連接單元彈性形成，所述彈性覆蓋單元在由接觸柱塞所形 成的軸的方向上相對于彼此偏移布置。 一方面，可以保證位于其他覆 蓋單元之上的覆蓋單元僅位于其他覆蓋單元表面的子區(qū)域上，其表面 的大部分區(qū)域與薄膜或者相鄰、處于其上或者其下的覆蓋單元保持一 段距離。此外，本發(fā)明的該實施例使得覆蓋單元形成為連接單元上實 現其他功能的連接單元的組成部件。因而優(yōu)選提供了一種覆蓋單元的 布置形式，至少一個覆蓋單元的子區(qū)域，每個彈性連接單元覆蓋旋轉 方向上相鄰連接單元的至少一個覆蓋單元的子區(qū)域。
真空室內部形成為環(huán)狀并形成于接觸柱塞和外部接觸體之間的 整個橫截面積，則能夠被完全覆蓋，由于他們共同的覆蓋子區(qū)域，其 上的連接單元覆蓋了所述真空斷路腔室和/或環(huán)和/或形成于接觸柱塞 和所述環(huán)之間的圓形環(huán)內的導體的橫截面。
所述覆蓋單元和/或連接單元臨時布置為一層位于另一層之上的 層狀形式，優(yōu)選覆蓋單元和/或連接單元布置為一個位于另一個之上 的螺旋狀形式。根據本發(fā)明的一個改進，所述連接單元的彈性和可移 動性也可以是一個有益的幫助，因為連接單元包括一個內部環(huán)和一個 外部環(huán)，以及至少一個連接內部環(huán)和外部環(huán)的支撐構件，優(yōu)選形成一 個覆蓋單元。在這種情況下，連接構件各自的外部環(huán)安裝于所述導體 的環(huán)中，并且連接構件各自的內部環(huán)安裝于所述柱塞環(huán)中成為可能， 此時所述柱塞環(huán)布置于所述接觸柱塞中?？傊?，提供一個包含連接單 元的組件成為可能，所述連接單元具有大量一層位于另一層之上的彈 性層狀覆蓋單元，所述組件一方面布置于和外部接觸物接觸的環(huán)上， 另 一方面連接并布置于柱塞環(huán)上，所述柱塞環(huán)直接傳遞接觸柱塞的運 動。在連接的運動過程中，所述柱塞環(huán)和連接單元的內部環(huán)直接跟隨 柱塞的運動，然而，外部環(huán)則被緊緊固定于導體環(huán)中。形成弧形的橋 狀的所述支撐構件的形態(tài)有助于所述運動，所述支撐構件在所述連接 單元的外部環(huán)的徑向反面之間形成機械連接?？傊?，本發(fā)明該實施例的接觸柱塞和環(huán)形導體或者導體環(huán)之間的 導電連接由一個表面形成，當從一個個重疊布置或/和僅靠布置的單 個覆蓋單元上面或者下面觀察的時候，該表面是光學致密的。所述表 面在所述外部接觸物的高度覆蓋了所述真空室內部橫截面。在所述真 空開關的操作過程中也用到所述光學致密表面來保證帶電離子不會 從上開關區(qū)移出，即在所述導體之上的區(qū)域，所述區(qū)域在靜態(tài)接觸與 向下到金屬波紋管和驅動桿的動態(tài)接觸之間。然而，另一方面，所述 彈性線/彈性連接意味著永遠不可能完全排空所述真空斷路腔室，也 就是說，關于應用中的圖釋，也不可能通過所述彈性線/彈性連接將 位于所述環(huán)形導體下方的粒子排出腔室。
最后，本發(fā)明實施例中所述能夠電接觸到外部接觸體的環(huán)形導體 的彈性導電連接使得導電連接結構緊湊，因而能夠提供簡潔設計與緊 湊結構的真空開關。
本發(fā)明的彈性導電連接將電流從活動接觸柱塞經過所述環(huán)可靠 傳輸到外部接觸體。特別是，所述彈性導電連接足夠穩(wěn)定能夠保證流 向外部接觸體的電流以及從所述接觸柱塞流向導電連接的電流，然而 另一方面，同時跟隨接觸柱塞的運動。此外，所述導電連接是透氣的， 意味著排空所述真空腔室是可能的，另一方面，所述導電連接關閉了 所述真空腔室的下部分，以致由于電弧的產生而產生的金屬侵蝕不會 析出在排列于所述真空腔室中的絕緣物上，而是冷凝于此因而能夠形 成導電層。
之所以考慮這些條件是因為所述導體或導電連接由單個片段形 成，也就是說由具有薄而有彈性的覆蓋單元的連接單元形成，使得每 個片段或連接單元的長度，也就是每個連接單元的徑向長度，至少相 當于形成于外部環(huán)的外部固定連接點和到形成為內部環(huán)的運動接觸 柱塞的連接點之間的最大可能徑向距離。單個連接單元沿真空室的縱 向軸線方向彼此分開并相隔一定距離，因而允許并保證所述連接單元和所述覆蓋單元之間的透氣性，因而保證了排空整個真空腔室的能 力。連接單元彼此之間偏移，因而從真空腔室的縱向軸線的上方或下 方下觀察時，真空腔室的橫截面是完全充滿的。這避免了腐蝕粒子由 接觸表面或開關表面飛向導體并飛至絕緣物上。所述連接單元可相對 于彼此呈螺旋型、螺旋樓梯型、鋸齒型或者其他形態(tài)偏移，每種形態(tài) 下都假定真空腔室的整個內橫截面被覆蓋。所述導體的外部環(huán)穩(wěn)固排 列于接觸環(huán)上，所述接觸環(huán)布置于所述真空腔室、位于所述真空腔室 內部的兩個陶瓷體之間，使得能夠接觸外凸觸頭。所述連接單元相對 的內表面穩(wěn)固排列于所述柱塞環(huán)以及運動接觸柱塞上。


下面將通過舉例的方式、具體結合附圖來進行詳細的描述，其中
圖l示出了根據本發(fā)明的真空開關的外部透視示意圖2示出了圖l所示的真空開關在外部裝配有鑄造樹脂層形成的
鑄造樹脂殼體后的示意圖3示出了真空開關的真空繼電器室的縱向剖視圖； 圖4示出了傳導連接體的俯視圖5示出了圖4中的傳導連接體沿A-A軸方向的剖面示意圖； 圖6示出了傳導連接體從底部看過去的透視圖； 圖7示出了傳導連接體從上方來看的俯視示意圖； 圖8示出了連接單元的俯視圖； 圖9示出了圖8中連接單元沿B-B向的剖視圖； 圖10示出了圖8和9所示的連接單元從上方來看的剖視圖； 圖ll示出了固定接觸體和/或接觸柱塞的通斷接觸件的透視圖； 圖12示出了透過內通斷接觸面看到的圖ll所示的通斷接觸件的 示意圖13示出了圖11和12所示通斷接觸件在其內通斷接觸面處于移 入狀態(tài)下的剖視圖；以及圖14示出了圖13所示通斷接觸件在其內通斷接觸面處于移出狀 態(tài)下的示意圖。
具體實施例方式
圖1示出了真空開關的真空繼電器室1的透視圖，該真空開關包
括一上氣密陶瓷圓簡2和一下氣密陶瓷圓簡3。該上陶瓷圓簡2通過 一連接蓋4封閉。該上氣密圓簡2和下氣密圓簡3之間形成有一具有 外凸觸頭6的觸環(huán)5,導體8的環(huán)7可以通過其與負載導體9電導通。 驅動或控制桿11通過一鐵制的風箱10以真空密封的方式插入到真空 繼電器室內部。由此，該真空繼電器室1的內部區(qū)域形成一真空室 12,在該真空室12中形成有10-7-10-9托或10-7-10-9亳巴的高真空。
該完全真空封裝(組裝)的真空開關的繼電器室1的外側上包覆有鑄 造樹脂罩13或鑄造樹脂殼，如圖2中所示。
圖3示出了該真空繼電器室1的真空室12在其通斷接觸件14a、 14b處于閉合位置時的剖視圖，即，從突出線導體15，其未詳細示出， 經固定接觸體16和活動接觸柱塞17以及導體8和外凸觸頭6，到負 載導體9的電導連接。在該位置處不形成隔離間隙。接觸柱塞17借 助通過陶瓷絕緣體18耦合的驅動或控制桿11沿箭頭19方向移動， 由此，通斷接觸件14a、 14b可以移動到彼此以較大距離分離的位置， 以在其間產生間隙，形成隔離間隙。
圖示的真空開關為中高壓真空開關。在這種情況下，真空繼電器 室1內形成有活動通斷單元，該活動通斷單元包括下通斷連接件 14b和設置為固定在其上的接觸柱塞17、絕緣體18以及驅動/控制桿 11。該活動通斷單元上設置有彈性電導連接體20以連接或構成導體 8，該電導連接體20與外凸觸頭6或觸環(huán)5或接觸柱塞17上的電源 連接引腳處于相同高度。該傳導連接體20提供流向負載導體9的電 流，通過這種方式與至少一個外凸觸頭6電導連接。
導體8包括一設置在觸環(huán)5上固定位置處的環(huán)7。此外，該導體8還包括一柱塞環(huán)21，優(yōu)選地，該柱塞環(huán)21的內表面設置在接觸柱
塞17外面上的固定位置處。該柱塞環(huán)21與環(huán)7通過多個連接單元 22相互連接。
圖8示出了單個連接單元22的俯視圖，其包括一外環(huán)23和內環(huán) 24，以及使該外環(huán)23和內環(huán)24相互連接的四個支撐構件25，其中， 外環(huán)23、內環(huán)24和支撐構件25由電導材料組成，類似薄膜或片晶。 從圖9和IO可以看出，支撐構件25形成由外環(huán)23升至內環(huán)24的覆 蓋單元26,這樣其可以以弧狀覆蓋從外環(huán)23的一側到徑向的相對側 的包括內環(huán)24在內的內部區(qū)域。
圖4示出了從上方沿縱軸26的方向看的接觸柱塞17的俯視圖， 從圖中可以看出，多個連接單元22、 22'、 22"、 22，"被設置為沿軸 26的方向以一個位于另一個之上的方式布置，卡入柱塞環(huán)21和環(huán)7 之間。在這種情況下，由于一個位于另一個之上的連接單元22、 22，、 22"、 22，"被設置為繞軸26沿旋轉方向相互偏移10-15度，所有這些 連接單元22和其各自的覆蓋單元26、 26'或支撐構件25、 25，整體 上覆蓋形成于環(huán)7和柱塞環(huán)21之間的環(huán)形表面區(qū)域。然而，這也意 味著該真空室12或真空繼電器室1的整個空的環(huán)形橫斷面區(qū)域被 連接單元22的覆蓋單元26全部覆蓋。由于這些覆蓋單元以一層位于 另一層之上的方式布置，各層之間相對偏移10-15度，所以，每一個 覆蓋單元被其各自的支撐構件25的部分區(qū)域覆蓋。因此，連接單元 22構成傳導連接20的彈性部件，并且與環(huán)7和柱塞環(huán)21 —起整體 上構成導體8。從圖5可以看出，每一連接單元22與其外環(huán)23—起 被設置在環(huán)7中的固定位置處，并且與其內環(huán)24 —起被設置在柱塞 環(huán)21中的固定位置處，并且每一單個的以一個位于另一個之上的形 式設置的連接單元之間分別沿縱向保留一定間隙，這樣，連接單元 22與其覆蓋單元26和支撐構件25之間存在氣連接或氣區(qū)連接，另 一方面，這些連接單元22構成一個蓋，其無法從圖4所示的俯視圖中觀察到。在組裝位置處，這將導致如圖3所示的暫時的定位狀態(tài)，
其與連接單元22的通斷接觸件14a、 14b的閉合位置相對應，該蓋具 有一如圖6所示的凹形下表面和如圖7所示的凸形上表面。覆蓋單元 26和支撐構件25為彈性設計，以在每一個單獨的從閉合的開關位置 到打開的分斷位置的通斷過程中隨接觸柱塞17從動，并再次返回。
與固定接觸體16緊密連接的上通斷接觸件14a和與活動接觸柱 塞17緊密連接的下通斷接觸件14b具有相同的設計，因此，在下文 中，將僅對圖11-14所示的下通斷接觸件14b進行描述。每一通斷接 觸件14a、 14b具有接觸通斷面28，其分為兩部分，包括一環(huán)狀外通 斷接觸面29以及一環(huán)狀內通斷接觸面30。外通斷接觸面29設置在 通斷接觸件14a、 14b各自的固定件31的固定位置處，并且內通斷接 觸面30設置在支撐頭32上，這樣，其可以與外通斷接觸面29做相 對運動。此外，內沖頭或內柱塞34可以在彈簧33的彈力驅動下沿活 動接觸柱塞17的軸27的方向移動，作用于內通斷接觸面30的內側 上。彈簧33的一端設置在基體或固定件31的基面上，另一端疊在內 柱塞34的擋環(huán)35上。當內通斷接觸面30處于圖13所示的移入位置 時，上通斷接觸件14a和下通斷接觸件14b的通斷接觸面29、 30在 某一區(qū)域上彼此重疊以形成一平坦的接觸通斷面28。在該位置處， 彈簧33已經通過擋環(huán)35移動到其壓縮位置。 一旦活動接觸柱塞17 移動到該位置處以形成一隔離間隙，上、下通斷接觸件14a、 14b的 外通斷接觸面29就立刻移動到彼此分離的位置。盡管如此，上、下 通斷接觸件14a、 14b的內通斷和接觸表面30首先仍然保持在某一區(qū) 域上彼此重疊的狀態(tài)，直到正在卸載的彈簧33的驅動力足夠將柱塞 34移至內接通接觸面30的移出位置處，如圖14所示。當接觸柱塞 17移動到遠離固定接觸體16的位置時，下、上通斷接觸件14a、 14b 的內通斷接觸面30也移動到彼此遠離的位置，從而形成隔離間隙。 相反地，當接觸柱塞17向固定接觸體16移動時，內通斷接觸面30首先在一定面積上相互接觸，內通斷接觸面30與外通斷接觸面29抵 抗彈簧33的作用力相對移動，直到到達圖13所示的內通斷接觸面的 移入位置處，并且由此到達圖3所示的通斷接觸件14a、 14b的接觸 位置。
外通斷接觸面29由環(huán)狀高傳導材料制成。這種材料適于以極小 的阻抗傳輸通常必須由真空開關承載的額定電流。相反地，內通斷接 觸面30由光盤狀材料組成，其具有高強度，尤其耐腐蝕和耐磨損， 從而能夠經受并消除短暫出現的弧電流。設置在底部的彈簧33由能 夠承載短路電流的諸如銅鎢合金的材料制成。具體地，外通斷接觸面 29由不含氧的諸如銅銀合金的材料組成，內通斷接觸面30由諸如銅 鉻合金的材料構成。
在分斷過程中，即當固定接觸體16和接觸柱塞17移動到彼此分 離的位置時，外通斷接觸面29首先通過作用在驅動/控制桿11上的 驅動力移動到彼此分離的位置，而內通斷接觸面30在彈簧33施加在 內柱塞34上的力的驅動下從起初契合在一起的接觸通斷面28移出， 并且承載由此產生的短路電流。在這一過程中，內通斷接觸面30的 向外的運動相互配合，使得其能保持彼此接觸的狀態(tài)，直到外通斷接 觸面29之間形成足夠的間隙，這將防止因撞擊產生的電弧飛濺到外 通斷接觸面29的圓環(huán)上。當固定接觸體16和接觸柱塞17移動到彼 此相距更遠的位置時，內通斷接觸面30也被分斷，僅僅在這些接觸 面之間產生電弧，并且在分開足夠遠的距離后，電弧被消除。
此外，內通斷接觸面30疊在作為用于支撐內通斷接觸面30的螺 旋狀布置的觸頭的一個部件的支撐頭32上。這使得軸向磁場的產生 成為可能，由此，即使是相對較大和較強的電弧也將在該磁場影響下 擴散。在這種情況下，內柱塞34包括這樣一種結構網狀切片37上 設置有以相互對其的方式螺旋狀排列的支撐頭32，并且支撐頭32為 電導連接設計。圖12、 13和14僅為示例性說明，并且相對應地，其簡化了彈簧
33和支撐頭32的功能以及其螺旋觸頭的設置和配置，即設置為螺旋 狀的觸頭。
絕緣體18由陶瓷材料組成。優(yōu)選地，真空繼電器室1的罩包括 由硅材料或硅鑄造樹脂組成的鑄造樹脂套或鑄造樹脂殼。
總的來說，結合各種不同的措施增加真空繼電器室的壽命和壽命 周期，改善真空室12和真空繼電器室1的整體隔離性能，并且由此 使得該真空繼電器室l，進而該真空開關，具有緊湊的整體的物理結 構，在這種情況下，為了結構的完整性，必須再次強調，上陶瓷圓簡 2和下陶瓷圓簡3由氣密陶瓷材料組成，否則，不可能在真空室12 中維持真空狀態(tài)。
即使這一設計對根據本發(fā)明的真空開關來說并不必要，由于其優(yōu) 秀的隔離特性，其也可以根據需要被設置在填充有絕緣氣體的開關組 件殼體內。
權利要求
1、一種真空開關，更具體地，一種中高壓真空斷路器，所述真空斷路器包括設置在真空繼電器室(1)內的移動通斷單元，所述移動通斷單元包括接觸柱塞(17)，以及相對移動的絕緣體(18)和驅動/控制桿(11)，所述驅動/控制桿11通過一鐵制的風箱(10)插入到所述真空繼電器室(1)內，所述風箱(10)具有嵌入到所述真空繼電器室(1)內的固定接觸體(16)，所述絕緣體(18)的上端與所述接觸柱塞(17)緊密連接，其下端與所述驅動/控制桿(11)緊密連接，并且所述接觸柱塞(17)具有連接導體(8)的彈性電導連接體(20)以與至少一個設置在側處的觸頭(6)電連接；所述真空開關特征在于，所述真空繼電器室(1)的與環(huán)繞所述接觸柱塞(17)的至少一個外凸觸頭(6)位于同一高度的內橫截面區(qū)域的部分面積上覆蓋有設置在其上的薄膜或片晶狀的電導覆蓋單元(26)，所述電導覆蓋元(26)被設置為一層位于另一層之上，并且每一層至少部分重疊。
2、 如權利要求1所述的真空開關，其特征在于，所述電導覆蓋 單元(26)至少部分由所述電導連接體(20)構成。
3、 如權利要求1或2所述的真空開關，其特征在于，所述導體(8) 以環(huán)(7)或環(huán)繞所述接觸柱塞(17)設置的環(huán)截面的形式存在。
4、 如前述權利要求中的任何一個所述的真空開關，其特征在于， 所述傳導連接體(20)彈性地由多個連接單元(22)構成，所述連接 單元(22)包括設置為繞由所述接觸柱塞(17)構成的軸(27)沿旋 轉方向彼此偏離的彈性覆蓋單元(26)。
5、 如權利要求4所述的真空開關，其特征在于，存在至少一個覆 蓋單元(26)的子區(qū)域，每一所述彈性連接單元(22)覆蓋至少一個 覆蓋單元(26)的至少一個子區(qū)域，每一所述彈性連接單元(22)覆 蓋一個旋轉方向上臨近連接單元(22)的至少一個子區(qū)域。
6、 如權利要求4或5所述的真空開關，其特征在于，由于其共同的覆蓋子區(qū)域，其上的連接單元(22)完全覆蓋了所述真空繼電器 室(1)和/或環(huán)(7)和/或形成于所述接觸柱塞(17)和所述環(huán)(7) 之間的圓形環(huán)內的導體(8)的橫截面。
7、 如前述權利要求中的任何一個所述的真空開關，其特征在于， 所述覆蓋單元(26)和/或連接單元(22)為一層位于另一層之上的 層狀設置。
8、 如前述權利要求中的任何一個所述的真空開關，其特征在于， 所述覆蓋單元(26)和/或連接單元(22)為一個位于另一個之上的 螺旋狀設置。
9、 如前述權利要求中的任何一個所述的真空開關，其特征在于， 所述連接單元(22)包括一外環(huán)(23)和一內環(huán)(24),以及連接所 述內環(huán)和所述外環(huán)(23, 24)的至少一個支撐構件(25)，并且優(yōu)選 地構成一覆蓋單元(26)。
10、 如前述權利要求中的任何一個所述的真空開關，其特征在于， 所述連接單元各自的外環(huán)(23)安裝于所述導體(8)的環(huán)(7)中。
11、 如前述權利要求中的任何一個所述的真空開關，其特征在于， 所述連接單元(22)各自的內環(huán)(24)固定于柱塞環(huán)(21)中。
12、 如前述權利要求中的任何一個所述的真空開關，其特征在于， 所述柱塞環(huán)(21)設置在所述接觸柱塞(17)上。
13、 如前述權利要求中的任何一個所述的真空開關，其特征在于， 所述上陶瓷圓簡(2)、所述下陶瓷圓簡(3)和所述絕緣體(18)由 氣密陶瓷組成。
14、 如前述權利要求中的任何一個所述的真空開關，其特征在于， 所述真空開關嵌于鑄造樹脂殼體(13)的外側上。
全文摘要
本發(fā)明涉及中高壓真空開關，特別涉及一種真空斷路器，包括一設置在真空繼電器室(1)內的移動通斷單元，所述移動通斷單元具有可相互移動的元件，包括接觸柱塞(17)、絕緣體(18)和通過鐵制風箱插入到所述真空繼電器室(1)內的驅動/控制桿(11)。所述真空開關還包括嵌入到所述真空繼電器腔室(1)殼體內的固定接觸體。所述絕緣體(18)的上端固定到所述接觸柱塞(17)，并且其下端固定到所述驅動/控制桿(11)。所述接觸柱塞(17)通過彈性電導連接體(20)與導體(8)相連接，所述導體與至少一個設置在側邊處的外凸觸頭(6)相連接。本發(fā)明的目的在于提供一種與外凸觸頭相連接的簡單、經濟、改進的彈性電導連接體。為達到此目的，所述真空繼電器腔室(1)的內橫截面表面，在與所述至少一個外凸觸頭(6)相同高度處，環(huán)繞所述接觸柱塞(17)，被設置位于另一層之上且至少部分相互覆蓋的薄膜狀或片晶狀電導覆蓋單元(26)所覆蓋。
文檔編號H01H1/58GK101617377SQ200780033332
公開日2009年12月30日 申請日期2007年9月7日 優(yōu)先權日2006年9月7日
發(fā)明者克勞斯·博登斯坦, 蘭格·德特夫 申請人:開藝歐洲股份有限公司