專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對(duì)基板實(shí)施處理的基板處理裝置。
技術(shù)背景一直以來，為了對(duì)半導(dǎo)體晶片、光掩模用玻璃基板、液晶顯示裝置用玻 璃基板、光盤用玻璃基板等基板進(jìn)行種種處理，而使用基板處理裝置。例如，在對(duì)基板的背面進(jìn)行清洗處理的基板處理裝置中，設(shè)置有用于使基板的表面和背面反轉(zhuǎn)的基板反轉(zhuǎn)裝置。例如，在JP特開2006-12880號(hào)公 報(bào)中公開有具備基板反轉(zhuǎn)裝置的基板處理裝置。在這種基板處理裝置中，在對(duì)基板的背面進(jìn)行清洗處理之前，利用基板 反轉(zhuǎn)裝置使基板以背面朝向上方的方式反轉(zhuǎn)。此外，在對(duì)基板的背面進(jìn)行清 洗處理之后，利用基板反轉(zhuǎn)裝置使該基板以表面朝向上方的方式再次反轉(zhuǎn)。將基板搬入基板反轉(zhuǎn)裝置以及從基板反轉(zhuǎn)裝置搬出基板的操作通常由 搬運(yùn)機(jī)械手來完成。在搬運(yùn)機(jī)械手中，用于保持基板的兩個(gè)手部以上下重疊 的方式設(shè)置。例如，在搬運(yùn)機(jī)械手用下側(cè)的手部保持反轉(zhuǎn)前的基板的狀態(tài)下， 用上側(cè)的手部將反轉(zhuǎn)后的基板從基板反轉(zhuǎn)裝置搬出，在用下側(cè)的手部將反轉(zhuǎn) 前的基板搬入基板反轉(zhuǎn)裝置時(shí)，進(jìn)行下述動(dòng)作。首先，上側(cè)的手部在位于基 板反轉(zhuǎn)裝置的高度的狀態(tài)前進(jìn)到基板反轉(zhuǎn)裝置內(nèi)，并保持反轉(zhuǎn)后的基板來后 退。接著，為了使下側(cè)的手部位于基板反轉(zhuǎn)裝置的高度而使上下的手部上升 之后，下側(cè)的手部前進(jìn)到基板反轉(zhuǎn)裝置內(nèi)，并將反轉(zhuǎn)前的基板裝載在基板反 轉(zhuǎn)裝置內(nèi)。這樣，利用一個(gè)手部將反轉(zhuǎn)后的基板從基板反轉(zhuǎn)裝置搬出之后，為了將 反轉(zhuǎn)前的基板搬入基板反轉(zhuǎn)裝置，而必須使上下的手部在上下方向移動(dòng)。因 此，從基板反轉(zhuǎn)裝置搬出基板以及將基板搬入基板反轉(zhuǎn)裝置都需要一定的時(shí) 間。其結(jié)果妨礙了基板處理裝置的生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種能夠迅速地進(jìn)行基板的搬入和搬出的反轉(zhuǎn) 裝置、以及具備該反轉(zhuǎn)裝置的基板處理裝置。(1) 本發(fā)明的一個(gè)方面的反轉(zhuǎn)裝置，包括第一保持機(jī)構(gòu)，其將基板 以垂直于第一軸的狀態(tài)進(jìn)行保持；第二保持機(jī)構(gòu)，其將基板以垂直于第一軸 的狀態(tài)進(jìn)行保持；支承構(gòu)件，其用于支承第一以及第二保持機(jī)構(gòu)，并使第一 以及第二保持機(jī)構(gòu)在第一軸的方向上重疊；旋轉(zhuǎn)裝置，其使支承構(gòu)件與第一 以及第二保持機(jī)構(gòu)一起圍繞與第一軸近似垂直的第二軸一體地旋轉(zhuǎn)。在該反轉(zhuǎn)裝置中，通過第一以及第二保持機(jī)構(gòu)的至少一個(gè)將基板保持在 與第一軸垂直的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)裝置將第一以及第二保持機(jī)構(gòu) 一體地圍繞與第一軸近似垂直的第二軸旋轉(zhuǎn)。由此，將由第一保持機(jī)構(gòu)或者 第二保持機(jī)構(gòu)保持的基板反轉(zhuǎn)。在使用兩個(gè)搬運(yùn)保持部將基板搬入搬出反轉(zhuǎn)裝置時(shí)，能夠通過兩個(gè)搬運(yùn) 保持部中的一個(gè)將反轉(zhuǎn)后的基板從第一保持機(jī)構(gòu)或者第二保持機(jī)構(gòu)中的一 個(gè)搬出，并通過兩個(gè)搬運(yùn)保持部中的另一個(gè)將反轉(zhuǎn)前的基板搬入到第一保持 機(jī)構(gòu)或者第二保持機(jī)構(gòu)中的另一個(gè)。此時(shí)，第一保持機(jī)構(gòu)和第二保持機(jī)構(gòu)以 與第一軸的方向重疊的方式被支承。因此，由于將兩個(gè)搬運(yùn)保持部以在與第 一軸平行的方向上重疊的方式配置，所以幾乎不使兩個(gè)搬運(yùn)保持部在與第一 軸平行的方向上移動(dòng)就能夠?qū)⒒灏岢龌蛘甙崛氲谝槐３謾C(jī)構(gòu)或第二保持 機(jī)構(gòu)。由此，能夠迅速地將基板搬出搬入反轉(zhuǎn)裝置。此外，通過將兩個(gè)搬運(yùn)保持部以在與第一軸平行的方向上重疊的方式配 置，從而通過兩個(gè)搬運(yùn)保持部能夠?qū)蓮埢逋瑫r(shí)搬入第一以及第二保持機(jī) 構(gòu)，并且，通過兩個(gè)搬運(yùn)保持部能夠?qū)蓮埢逋瑫r(shí)搬出第一以及第二保持 機(jī)構(gòu)。由此，能夠迅速地將基板搬出搬入反轉(zhuǎn)裝置，并且，能夠高效地使多 個(gè)基板反轉(zhuǎn)。(2) 第一以及第二保持機(jī)構(gòu)包括具有與第一軸垂直的一面以及另一面 的共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，第一保持機(jī)構(gòu)包括多個(gè)第一支承部，其設(shè)置在共 用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的一面上，用于支承基板的外周部；第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件， 其以與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的一面相對(duì)向的方式設(shè)置；多個(gè)第二支承部，其 設(shè)置在第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的面上，用于支承 基板的外周部；第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用的反轉(zhuǎn)保持
構(gòu)件中的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用的反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件在第一軸的方向上相互離開的狀態(tài)、或第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用 的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)，第二保持機(jī)構(gòu)包括多個(gè)第三支承部，其 設(shè)置在共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的另一面上，用于支承基板的外周部；第二反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件，其以與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的另一面相對(duì)向的方式設(shè)置；多個(gè)第四支承部，其設(shè)置在第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的面上，用于支承基板的外周部；第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共 用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu) 件和共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件在第一軸的方向上相互離開的狀態(tài)、或第二反轉(zhuǎn)保 持構(gòu)件和共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)。此時(shí)，在第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互離開的狀態(tài)下， 基板被搬入到在共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的一面上設(shè)置的多個(gè)第一支承部和在 與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的面上設(shè)置的多個(gè)第二 保持部之間。在該狀態(tài)下，以使第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件 相互接近的方式，通過第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用的反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件中的至少一個(gè)。由此，通過多個(gè)第一以及第二支承部來保持基板的 外周部。在該狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)裝置使第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以 及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件圍繞第二軸一體地旋轉(zhuǎn)。由此，反轉(zhuǎn)由第一反轉(zhuǎn)保持 構(gòu)件以及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件所保持的基板。此外，在第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互離開的狀態(tài)下， 基板被搬入到在共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的另一面上設(shè)置的多個(gè)第三支承部和 在與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的面上設(shè)置的多個(gè)第 四保持部之間。在該狀態(tài)下，以使第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu) 件相互接近的方式，通過第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用的反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中的至少一個(gè)。由此，通過多個(gè)第三以及第四支承部來保持基板 的外周部。在該狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)裝置使第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以 及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件圍繞第二軸一體地旋轉(zhuǎn)。由此，反轉(zhuǎn)由第二反轉(zhuǎn)保持 構(gòu)件以及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件所保持的基板。 (3) 第一以及第二保持機(jī)構(gòu)分別保持由搬運(yùn)裝置的第一以及第二搬運(yùn) 保持部搬入的基板，第一保持機(jī)構(gòu)對(duì)基板的保持位置和第二保持機(jī)構(gòu)對(duì)基板 的保持位置之間的距離，近似等于搬運(yùn)裝置的第一搬運(yùn)保持部對(duì)基板的保持 位置和第二搬運(yùn)保持部對(duì)基板的保持位置之間的距離。此時(shí)，幾乎不必使搬運(yùn)裝置的第一以及第二搬運(yùn)保持部沿與第一軸平行 的方向移動(dòng)就能夠通過第一以及第二搬運(yùn)保持部中的一個(gè)將反轉(zhuǎn)后的基板 從第一以及第二保持機(jī)構(gòu)中的一個(gè)搬出，并通過第一以及第二搬運(yùn)保持部中 的另一個(gè)將反轉(zhuǎn)前的基板搬入第一以及第二保持機(jī)構(gòu)中的另一個(gè)。由此，能 夠迅速地將基板搬出搬入反轉(zhuǎn)裝置。此外，通過第一以及第二搬運(yùn)保持部能夠同時(shí)將兩張基板搬入第一以及 第二保持機(jī)構(gòu)，并能夠通過第一 以及第二搬運(yùn)保持部同時(shí)將兩張基板搬出第 一以及第二保持機(jī)構(gòu)。由此，能夠迅速地將基板搬出搬入反轉(zhuǎn)裝置，并且， 能夠高效地使多個(gè)基板反轉(zhuǎn)。(4) 共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件 可以具有搬運(yùn)裝置的第一以及第二保持部沿第一軸的方向能夠通過的切口 區(qū)域。此時(shí)，即使在與第一軸平行的方向上的多個(gè)第一、第二、第三以及第四 支承部的長(zhǎng)度較短，搬運(yùn)裝置的第一以及第二搬運(yùn)保持部也能夠通過共用的 反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的切口區(qū)域而移 動(dòng)。由此，第一以及第二搬運(yùn)保持部不接觸共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第一反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件以及第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，就能將基板裝載在多個(gè)第一、第二、第三 以及第四支承部中的任一個(gè)上。此外，第一以及第二搬運(yùn)保持部不接觸共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第一反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件和第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件就能夠從多個(gè)第一、第二、第三以及第四支承 部中的任一個(gè)上接收基板。由此，能夠縮短在與第一軸平行的方向上的多個(gè)第一、第二、第三以及 第四支承部的長(zhǎng)度，從而可以使反轉(zhuǎn)裝置小型化。(5) 本發(fā)明的其他方面的基板處理裝置，對(duì)具有表面和背面的基板進(jìn) 行處理，該基板處理裝置具有反轉(zhuǎn)裝置，其使基板的表面和背面反轉(zhuǎn)；搬 運(yùn)裝置，其具有第一以及第二搬運(yùn)保持部，對(duì)反轉(zhuǎn)裝置搬入或搬出基板，反
轉(zhuǎn)裝置包括第一保持機(jī)構(gòu)，其將基板以垂直于第一軸的狀態(tài)進(jìn)行保持；第 二保持機(jī)構(gòu)，其將基板以垂直于第一軸的狀態(tài)進(jìn)行保持；支承構(gòu)件，其支承 第一以及第二保持機(jī)構(gòu)，并使第一以及第二保持機(jī)構(gòu)在第一軸的方向上重 疊；旋轉(zhuǎn)裝置，其使支承構(gòu)件與第一以及第二保持機(jī)構(gòu)一起圍繞與第一軸近 似垂直的第二軸一體地旋轉(zhuǎn)。在該基板處理裝置中，通過搬運(yùn)裝置的第一以及第二搬運(yùn)保持部將基板 搬出搬入反轉(zhuǎn)裝置。在反轉(zhuǎn)裝置中，被搬入的基板通過第一以及第二保持機(jī) 構(gòu)被保持為垂直于第一軸的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)裝置使第一以及第 二保持機(jī)構(gòu)圍繞與第一軸近似垂直的第二軸一體旋轉(zhuǎn)。由此，反轉(zhuǎn)由第一以 及第二保持機(jī)構(gòu)保持的基板。此時(shí)，能夠通過第一以及第二搬運(yùn)保持部中的一個(gè)從第一以及第二保持 機(jī)構(gòu)中的一個(gè)搬出反轉(zhuǎn)后的基板，并通過第一 以及第二搬運(yùn)保持部中的另一 個(gè)將反轉(zhuǎn)后的基板搬入第一以及第二保持機(jī)構(gòu)中的另一個(gè)。此外，第一以及 第二保持機(jī)構(gòu)以在第一軸的方向重疊的方式被支承。因此，通過將第一以及 第二搬運(yùn)保持部以在第一軸平行的方向重疊的方式配置，從而幾乎不使第一 以及第二搬運(yùn)保持部在與第一軸平行的方向移動(dòng)就能夠?qū)⒒灏岢龌蛘甙?入第一以及第二保持機(jī)構(gòu)。由此，能夠迅速地將基板搬出搬入反轉(zhuǎn)裝置。因 此，能夠提高基板處理裝置的生產(chǎn)率。此外，通過將第一以及第二搬運(yùn)保持部以在與第一軸平行的方向上重疊 的方式配置，從而通過第一以及第二搬運(yùn)保持部能夠?qū)蓮埢逋瑫r(shí)搬入第 一以及第二保持機(jī)構(gòu)，并且，通過第一以及第二搬運(yùn)保持部能夠?qū)蓮埢?同時(shí)搬出第一 以及第二保持機(jī)構(gòu)。由此，能夠迅速地將基板搬出搬入反轉(zhuǎn)裝置，同時(shí)，能夠高效地使多個(gè) 基板反轉(zhuǎn)。因此，能夠提高基板處理裝置的生產(chǎn)率。(6)第一保持機(jī)構(gòu)對(duì)基板的保持位置和第二保持機(jī)構(gòu)對(duì)基板的保持位 置之間的距離近似等于搬運(yùn)裝置的第一搬運(yùn)保持部對(duì)基板的保持位置和第 二搬運(yùn)保持部對(duì)基板的保持位置之間的距離。此時(shí)，不必使搬運(yùn)裝置的第一以及第二搬運(yùn)保持部在與第一軸平行的方 向上移動(dòng)就能夠通過第一以及第二搬運(yùn)保持部中的一個(gè)將反轉(zhuǎn)后的基板從 第一以及第二保持機(jī)構(gòu)搬出，并且，通過第一以及第二搬運(yùn)保持部的另一個(gè)
將反轉(zhuǎn)后的基板搬入第一以及第二保持機(jī)構(gòu)中的另一個(gè)。由此，能夠迅速地 將基板搬出搬入反轉(zhuǎn)裝置。此外，通過第一 以及第二搬運(yùn)保持部能夠同時(shí)將兩張基板搬入第一 以及 第二保持機(jī)構(gòu)，并能夠通過第一 以及第二搬運(yùn)保持部同時(shí)將兩張基板搬出第 一以及第二保持機(jī)構(gòu)。由此，能夠迅速地將基板搬出搬入反轉(zhuǎn)裝置，同時(shí)， 能夠高效地使多個(gè)基板反轉(zhuǎn)。(7)第一以及第二保持機(jī)構(gòu)包括具有與第一軸垂直的一面以及另一面 的共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，第一保持機(jī)構(gòu)包括多個(gè)第一支承部，其設(shè)置在共 用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的一面上，用于支承基板的外周部；第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件， 其以與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的一面相對(duì)向的方式設(shè)置；多個(gè)第二支承部，其設(shè)置在第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)佝的面上，用于支承基板的外周部；第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用的反轉(zhuǎn)保持 構(gòu)件中的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用的反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件在第一軸的方向上相互離開的狀態(tài)、或第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用 的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)，第二保持機(jī)構(gòu)包括多個(gè)第三支承部，其 設(shè)置在共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的另一面上，用于支承基板的外周部；第二反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件，其以與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的另一面相對(duì)向的方式設(shè)置；多個(gè)第 四支承部，其設(shè)置在第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的面 上，用于支承基板的外周部；第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共 用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu) 件和共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件在第一軸的方向上相互離開的狀態(tài)、或第二反轉(zhuǎn)保 持構(gòu)件和共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)。此時(shí)，在第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互離開的狀態(tài)下， 基板被搬入到在共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的一面上設(shè)置的多個(gè)第一支承部和在 與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的面上設(shè)置的多個(gè)第二 保持部之間。在該狀態(tài)下，以使第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件 相互接近的方式，通過第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用的反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件中的至少一個(gè)。由此，通過多個(gè)第一以及第二支承部來保持基板的 外周部。在該狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)裝置使第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以
及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件圍繞第二軸一體旋轉(zhuǎn)。由此，反轉(zhuǎn)由第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu) 件以及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件所保持的基板。此外，在第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互離開的狀態(tài)下， 基板被搬入到在共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的另一面上設(shè)置的多個(gè)第三支承部和 在與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的面上設(shè)置的多個(gè)第 四保持部之間。在該狀態(tài)下，以使第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu) 件相互接近的方式，通過第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用的反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中的至少一個(gè)。由此，通過多個(gè)第三以及第四支承部來保持基板 的外周部。在該狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)裝置使第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以 及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件圍繞第二軸一體旋轉(zhuǎn)。由此，反轉(zhuǎn)由第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu) 件以及共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件所保持的基板。(8) 共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件 具有搬運(yùn)裝置的第一以及第二搬運(yùn)保持部沿第一軸的方向能夠通過的切口 區(qū)域。此時(shí)，即使在與第一軸平行的方向上的多個(gè)第一、第二、第三以及第四 支承部的長(zhǎng)度較短，搬運(yùn)裝置的第一以及第二搬運(yùn)保持部也能夠通過共用的 反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的切口區(qū)域而移 動(dòng)。由此，第一以及第二搬運(yùn)保持部不接觸共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第一反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件以及第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，就能將基板裝載在多個(gè)第一、第二、第三 以及第四支承部中的任一個(gè)上。此外，第一以及第二搬運(yùn)保持部不接觸共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第一反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件和第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件就能夠從多個(gè)第一、第二、第三以及第四支承 部中的任一個(gè)上接收基板。由此，能夠縮短在與第一軸平行的方向上的多個(gè)第一、第二、第三以及 第四支承部的長(zhǎng)度，從而可以使反轉(zhuǎn)裝置小型化。(9) 搬運(yùn)裝置包括使第一以及第二搬運(yùn)保持部進(jìn)退的進(jìn)退機(jī)構(gòu)，第一 以及第二搬運(yùn)保持部各自具有沿進(jìn)退方向延伸的多個(gè)保持部分，共用的反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件、第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的切口區(qū)域包括第一以 及第二搬運(yùn)保持部的多個(gè)保持部分能夠通過的多個(gè)切口部。 此時(shí)，第一以及第二搬運(yùn)保持部通過進(jìn)退機(jī)構(gòu)的進(jìn)退動(dòng)作而進(jìn)入反轉(zhuǎn)裝 置的第一以及第二保持機(jī)構(gòu)或者從第一以及第二保持機(jī)構(gòu)推出。此時(shí)，第一 以及第二搬運(yùn)保持部能夠以沿進(jìn)退方向延伸的多個(gè)保持部分通過切口區(qū)域 的多個(gè)切口部的方式進(jìn)行進(jìn)退。(10) 多個(gè)第一支承部的前端和多個(gè)第四支承部的前端之間的距離以及 多個(gè)第二支承部的前端和多個(gè)第三支承部的前端之間的距離，設(shè)定為與搬運(yùn) 裝置的第一搬運(yùn)保持部對(duì)基板的保持位置和第二搬運(yùn)保持部對(duì)基板的保持 位置之間的距離近似相等。此時(shí)，不必使搬運(yùn)裝置的第一以及第二搬運(yùn)保持部沿與第一軸平行的方 向移動(dòng)就能夠通過第一以及第二搬運(yùn)保持部中的一個(gè)從多個(gè)第一以及第四 支承部中的一個(gè)接收基板，并通過第一以及第二搬運(yùn)保持部中的另一個(gè)將反 轉(zhuǎn)前的基板裝載在多個(gè)第一以及第四支承部的另一個(gè)上。此外，不必使搬運(yùn)裝置的第一以及第二搬運(yùn)保持部沿與第一軸平行的方 向移動(dòng)就能夠通過第一以及第二搬運(yùn)保持部中的一個(gè)從多個(gè)第二以及第三 支承部中的一個(gè)接收基板，并通過第一以及第二搬運(yùn)保持部中的另一個(gè)將反 轉(zhuǎn)前的基板裝載在多個(gè)第二以及第三支承部中的另一個(gè)上。進(jìn)而，能夠通過第一 以及第二搬運(yùn)保持部同時(shí)將兩張基板裝載在多個(gè)第 一以及第四支承部上，并能夠通過第一 以及第二搬運(yùn)保持部從多個(gè)第一 以及 第四支承部同時(shí)接收兩張基板。此時(shí)，能夠通過第一以及第二搬運(yùn)保持部將 兩張基板同時(shí)裝載在多個(gè)第二以及第三支承部上，并能夠通過第一以及第二 搬運(yùn)保持部從多個(gè)第二以及第三支承部同時(shí)接收兩張基板。(11) 共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件固定在支承構(gòu)件上，第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使第一反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件與共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)地移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到第一反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互離開的狀態(tài)、或第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和 共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)，第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件與 共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)地移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和 共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互離開的狀態(tài)、或第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用的反轉(zhuǎn)保 持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)。此時(shí)，利用第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以接近共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu) 件的方式移動(dòng)，由此，通過多個(gè)第一以及第二支承部保持基板。此外，利用
第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以接近共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的方式移動(dòng)， 由此，通過多個(gè)第三以及第四支承部保持基板。由此，能夠以簡(jiǎn)單的機(jī)構(gòu)反 轉(zhuǎn)基板。(12) 共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件包括第三反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，其以與第一反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件相對(duì)向的方式設(shè)置；第四反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，其以與第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件 相對(duì)向的方式設(shè)置，多個(gè)第一支承部設(shè)置在第三反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與第一反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件相對(duì)向的面上，多個(gè)第三支承部設(shè)置在第四反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與第二 反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件對(duì)向的面上，第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及第三反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件中的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和第三 反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互離開的狀態(tài)、或第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和第三反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相 互接近的狀態(tài)，第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及第四反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中 的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和第四反轉(zhuǎn)保持構(gòu) 件相互離開的狀態(tài)、或第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和第四反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀 態(tài)。此時(shí)，利用第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使第一以及第三反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以相互接近的方 式移動(dòng)，由此，通過多個(gè)第一以及第二支承部保持基板。此外，利用第二驅(qū) 動(dòng)機(jī)構(gòu)使第二以及第四反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以相互接近的方式移動(dòng)，由此通過多個(gè) 第三以及第四支承部保持基板。由此，能夠?qū)Φ谝槐３謾C(jī)構(gòu)保持基板的保持位置和第二保持機(jī)構(gòu)保持基 板的保持位置之間的間隔進(jìn)行任意地調(diào)整。(13) 基板處理裝置還包括清洗基板背面的第一清洗處理部，搬運(yùn)裝置 可以在反轉(zhuǎn)裝置和第一清洗處理部之間搬運(yùn)基板。此時(shí)，通過反轉(zhuǎn)裝置而被反轉(zhuǎn)為背面朝上的基板，由搬運(yùn)裝置搬運(yùn)到第 一清洗處理部。在第一清洗處理部中，朝上的基板的背面被清洗。在第一清 洗處理部中被清洗后的基板由搬運(yùn)裝置搬運(yùn)到反轉(zhuǎn)裝置中，再由反轉(zhuǎn)裝置再 次反轉(zhuǎn)為表面朝上。(14) 基板處理裝置還包括清洗基板表面的第二清洗處理部，搬運(yùn)裝置在反轉(zhuǎn)裝置、第一清洗處理部以及第二清洗處理部之間搬運(yùn)基板。此時(shí)，表面朝上的基板由搬運(yùn)裝置搬運(yùn)到第二清洗處理部。在第二清洗 處理部中，朝上的基板的表面被清洗。
根據(jù)本發(fā)明，能夠迅速地將基板搬出搬入反轉(zhuǎn)裝置。因此，能夠提高基 板處理裝置的生產(chǎn)率。


圖1A、圖1B是示出第一實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的圖。圖2是示出第一實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的圖。圖3A、圖3B是示出主機(jī)械手的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的圖。圖4A、圖4B是示出反轉(zhuǎn)單元的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的圖。圖5A 圖5C是示出反轉(zhuǎn)單元的動(dòng)作的圖。圖6D 圖6F是示出反轉(zhuǎn)單元的動(dòng)作的圖。圖7G 圖71是示出反轉(zhuǎn)單元的動(dòng)作的圖。圖8A 圖8D是示出主機(jī)械手搬入搬出基板的動(dòng)作的圖。圖9是示出表面清洗單元的結(jié)構(gòu)的圖。圖IO是示出背面清洗單元的結(jié)構(gòu)的圖。圖11A、圖IIB是示出本發(fā)明第二實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的圖。 圖12A 圖12D是示出第二實(shí)施方式的反轉(zhuǎn)單元的動(dòng)作的圖。 圖13E 圖13G是示出第二實(shí)施方式的反轉(zhuǎn)單元的動(dòng)作的圖。 圖14A、圖14B是示出第三實(shí)施方式的反轉(zhuǎn)單元的結(jié)構(gòu)的圖。
具體實(shí)施方式
下面，參照

本發(fā)明的一實(shí)施方式的反轉(zhuǎn)裝置以及具備該反轉(zhuǎn)裝 置的基板處理裝置。在以下的說明中，所稱的基板是指半導(dǎo)體晶片、液晶顯示裝置用玻璃基 板、PDP (等離子顯示面板)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盤用玻璃 基板等。此外，在以下的說明中，將形成有電路圖案等各種圖案的基板的面稱為 表面，將其相反側(cè)的面稱為背面。此外，將基板的朝下的一面稱為向下面， 將基板的朝上的一面稱為向上面。 (1)第一實(shí)施方式下面，參照

第一實(shí)施方式的基板處理裝置。 (1-1)基板處理裝置的結(jié)構(gòu)圖1A是本發(fā)明的第一實(shí)施方式的基板處理裝置的俯視圖，圖IB是從箭 頭X方向觀察圖1A的基板處理裝置的示意性側(cè)視圖。此外，圖2是示意性 地示出圖1A的A-A線剖面的圖。如圖1A所示，基板處理裝置100具有分度器區(qū)10以及處理區(qū)11。分 度器區(qū)10以及處理區(qū)11相互并列地設(shè)置。在分度器區(qū)10中設(shè)置有多個(gè)運(yùn)載器裝載臺(tái)40、分度器機(jī)械手IR以及控 制部4。在各運(yùn)載器裝載臺(tái)40上裝載有多級(jí)收納多張基板W的運(yùn)載器C。 分度器機(jī)械手IR以能夠沿箭頭U (圖1A)的方向移動(dòng)、能夠圍繞鉛垂軸旋 轉(zhuǎn)且能夠沿上下方向升降的方式構(gòu)成。在分度器機(jī)械手IR上下設(shè)置有用于 交接基板W的手部IRH1、 IRH2。手部IRH1、 IRH2保持基板W的向下面的 周邊部以及外周端部。控制部4由包含CPU (中央運(yùn)算處理裝置)的計(jì)算機(jī) 等構(gòu)成，對(duì)基板處理裝置100內(nèi)的各部進(jìn)行控制。如圖1B所示，在處理區(qū)11設(shè)置有多個(gè)表面清洗單元SS (在本例中為4 個(gè))、多個(gè)背面清洗單元SSR (在本例中為4個(gè))以及主機(jī)械手MR。多個(gè) 表面清洗單元SS上下層疊配置在處理區(qū)11的一個(gè)側(cè)面?zhèn)龋鄠€(gè)背面清洗單 元SSR上下層疊配置在處理區(qū)11的另一個(gè)側(cè)面?zhèn)?。主機(jī)械手MR設(shè)置在多 個(gè)表面清洗單元SS和多個(gè)背面清洗單元SSR之間。主機(jī)械手MR以能夠繞 鉛垂軸旋轉(zhuǎn)且能夠沿上下方向升降的方式構(gòu)成。此外，在主機(jī)械手MR上下 設(shè)置有用于交接基板W的手部MRH1、 MRH2。手部MRH1、 MRH2保持基 板W的向下面的周邊部以及外周端部。關(guān)于主機(jī)械手MR的詳細(xì)結(jié)構(gòu)在后 面敘述。如圖2所示，在分度器區(qū)IO和處理區(qū)11之間上下設(shè)置有用于使基板W 反轉(zhuǎn)的反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2以及用于在分度器機(jī)械手IR和主機(jī)械手MR之 間進(jìn)行基板的交接的基板裝載部PASS1、 PASS2。反轉(zhuǎn)單元RT1設(shè)置在基板 裝載部PASS1、 PASS2的上方，反轉(zhuǎn)單元RT2設(shè)置在基板裝載部PASS1、 PASS2的下方。關(guān)于反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的詳細(xì)結(jié)構(gòu)在后面敘述。上側(cè)的基板裝載部PASS1在將基板W從處理區(qū)11向分度器區(qū)10搬運(yùn) 時(shí)使用，下側(cè)的基板裝載部PASS2在將基板W從分度器區(qū)10向處理區(qū)11 搬運(yùn)時(shí)使用。
在基板裝載部PASSl、 PASS2上設(shè)置有檢測(cè)基板W的有無(wú)的光學(xué)式的 傳感器(未圖示)。由此，能夠判斷在基板裝載部PASS1、 PASS2上是否裝 載有基板W。此外，在基板裝載部PASS1、 PASS2上設(shè)置有支承基板W的 向下面的多個(gè)支承銷51 。在分度器機(jī)械手IR和主機(jī)械手MR之間交接基板 W時(shí)，基板W暫時(shí)被裝載在基板裝載部PASS1、 PASS2的支承銷51上。 (1-2)基板處理裝置的動(dòng)作概要接著，參照?qǐng)D1A 圖2說明基板處理裝置100的動(dòng)作概要。另外，下面 說明的基板處理裝置100的各構(gòu)成要素的動(dòng)作都由圖1A的控制部4來控制。首先，分度器機(jī)械手IR使用下側(cè)的手部IRH2從裝載在運(yùn)載器裝載臺(tái) 40上的1個(gè)運(yùn)載器C中取出未處理的基板W。在此時(shí)刻，基板W的表面朝 向上方。分度器機(jī)械手IR的手部IRH2保持基板W的背面的周邊部以及外 周端部。分度器機(jī)械手IR沿箭頭U的方向移動(dòng)并圍繞鉛垂軸轉(zhuǎn)動(dòng)，而將未 處理的基板W裝載在基板裝載部PASS2上。裝載在基板裝載部PASS2上的基板W由主機(jī)械手MR接受，然后被搬 入表面清洗單元SS。在表面清洗單元SS中，對(duì)基板W的表面進(jìn)行清洗處理。 以下，將基板W的表面的清洗處理稱為表面清洗處理。另外，關(guān)于表面清 洗單元SS的表面清洗處理的詳細(xì)過程在后面敘述。表面清洗處理后的基板W由主機(jī)械手MR從表面清洗單元SS搬出，然 后被搬入反轉(zhuǎn)單元RT1。在反轉(zhuǎn)單元RT1中，表面朝上的基板W被反轉(zhuǎn)， 以使背面朝上。關(guān)于反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的詳細(xì)動(dòng)作在后面敘述。反轉(zhuǎn)后的 基板W由主機(jī)械手MR從反轉(zhuǎn)單元RT1被搬出，然后被搬入背面清洗單元 SSR。在背面清洗單元SSR中，對(duì)基板W的背面進(jìn)行清洗處理。以下，將 基板W的背面的清洗處理稱為背面清洗處理。另外，關(guān)于背面清洗單元SSR 的背面清洗處理的詳細(xì)過程在后面敘述。背面清洗處理后的基板W由主機(jī)械手MR從背面清洗單元SSR搬出， 然后被搬入反轉(zhuǎn)單元RT2。在反轉(zhuǎn)單元RT2中，背面朝上的基板W被反轉(zhuǎn)， 以使得表面朝上。反轉(zhuǎn)后的基板W由主機(jī)械手MR從反轉(zhuǎn)單元RT2被搬出， 然后被裝載在基板裝載部PASS1上。裝載在基板裝載部PASS1上的基板W 由分度器機(jī)械手IR接受，然后被收納在運(yùn)載器C內(nèi)。 (1-3)主機(jī)械手的結(jié)構(gòu)
在此，對(duì)主機(jī)械手MR的詳細(xì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。圖3A是主機(jī)械手MR的 側(cè)視圖，圖3B是主機(jī)械手MR的俯視圖。如圖3A以及圖3B所示，主機(jī)械手MR具有基座部21，并設(shè)置有相對(duì) 基座部21能升降并能轉(zhuǎn)動(dòng)的升降轉(zhuǎn)動(dòng)部22。在升降轉(zhuǎn)動(dòng)部22上經(jīng)由多關(guān)節(jié) 型臂AMI而連接著手部MRH1 ，經(jīng)由多關(guān)節(jié)型臂AM2而連接著手部MRH2。升降轉(zhuǎn)動(dòng)部22通過在基座部21內(nèi)設(shè)置的升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)25而在上下方 向升降，并且通過在基座部21內(nèi)設(shè)置的轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)26而圍繞鉛垂軸轉(zhuǎn)動(dòng)。 多關(guān)節(jié)型臂AM1、 AM2分別被未圖示的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)，而使手部 MRH1 、 MRH2分別保持為 一定姿勢(shì)并在水平方向上進(jìn)退。手部MRH1 、 MRH2 分別相對(duì)升降轉(zhuǎn)動(dòng)部22設(shè)置在一定高度上，手部MRH1相比MRH2位于更 上方。手部MRH1和手部MRH2的高度差M1 (圖3A)被維持為恒定。手部MRH1、 MRH2具有相互相同的形狀，分別形成為近似U字形狀。 手部MRH1具有沿其進(jìn)退方向延伸的兩個(gè)爪部Hll，手部MRH2具有沿其 進(jìn)退方向延伸的兩個(gè)爪部H12。此外，在手部MRH1、 MRH2上分別設(shè)有多 個(gè)支承銷23。在本實(shí)施方式中，沿在手部MRH1、 MRH2的上表面上裝載的 基板W的外周大致均等地分別安裝有4個(gè)支承銷23。通過該4個(gè)支承銷23 保持基板W的向下面的周邊部以及外周端部。在此，參照?qǐng)D1A、圖1B以及圖2對(duì)本實(shí)施方式的主機(jī)械手MR的動(dòng)作 順序進(jìn)行說明。首先，主機(jī)械手MR通過手部MRH2從基板裝載部PASS2接收未處理 的基板W。接著，主機(jī)械手MR通過手部MRH1從表面清洗單元SS中的任 一個(gè)搬出表面清洗處理后的基板W，將在手部MRH2上保持的基板W搬入 該表面清洗單元SS。然后，主機(jī)械手MR通過手部MRH2從反轉(zhuǎn)單元RT1 將背面朝上的基板W搬出，并將在手部MRH1上保持的表面朝上的基板W 搬入反轉(zhuǎn)單元RT1。接著，主機(jī)械手MR通過手部MRH1從背面清洗單元SSR中的任一個(gè) 搬出背面清洗處理后的基板W，將在手部MRH2上保持的基板W搬入該背 面清洗單元SSR。然后，主機(jī)械手MR通過手部MRH2從反轉(zhuǎn)單元RT2將 表面朝上的基板W搬出，并將在手部MRH1上保持的背面朝上的基板W搬 入反轉(zhuǎn)單元RT2。然后，主機(jī)械手MR將手部MRH2保持的基板W裝載在 基板裝載部PASS1上，接著通過手部MRH2從基板裝載部PASS2接收未處 理的基板W。主機(jī)械手MR連續(xù)地進(jìn)行這樣一系列動(dòng)作。 (1-4)反轉(zhuǎn)單元的詳細(xì)結(jié)構(gòu)接著，說明反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2相互 具有相同的結(jié)構(gòu)。圖4A為反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的側(cè)視圖。圖4B是反轉(zhuǎn)單 元RT1、 RT2的立體圖。如圖4A所示，反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2包含支承板31、固定板32、 一對(duì)直 線導(dǎo)軌33a、 33b、 一對(duì)支承構(gòu)件35a、 35b、 一對(duì)汽缸37a、 37b、第一可動(dòng) 板36a、第二可動(dòng)板36b以及旋轉(zhuǎn)式促動(dòng)器(rotary actuator) 38。支承板31以沿上下方向延伸的方式設(shè)置，并安裝有固定板32，該固定 板32從支承板31的一面的中央部沿水平方向延伸。在固定板32—面?zhèn)鹊?支承板31的區(qū)域，設(shè)置有沿垂直于固定板32的方向延伸的直線導(dǎo)軌33a。 此外，在固定板32的另一面?zhèn)鹊闹С邪?1的區(qū)域，設(shè)置有沿垂直于固定板 32的方向延伸的直線導(dǎo)軌33b。直線導(dǎo)軌33a、 33b相對(duì)固定板32相互對(duì)稱 地設(shè)置。在固定板32的一面?zhèn)?，以沿平行于固定?2的方向延伸的方式設(shè)置有 支承構(gòu)件35a。支承構(gòu)件35a經(jīng)由連接構(gòu)件34a以能夠滑動(dòng)的方式安裝在直 線導(dǎo)軌33a上。在支承構(gòu)件35a上連接有汽缸37a，支承構(gòu)件35a通過該汽 缸37a沿直線導(dǎo)軌33a升降。此時(shí)，支承構(gòu)件35a維持一定的姿勢(shì)并沿垂直 于固定板32的方向移動(dòng)。此外，在支承構(gòu)件35a上以與固定板32的一面相 對(duì)向的方式安裝有第一可動(dòng)板36a。在固定板32的另一面?zhèn)?，以沿平行于固定?2的方向延伸的方式設(shè)置 有支承構(gòu)件35b。支承構(gòu)件35b經(jīng)由連接構(gòu)件34b以能夠滑動(dòng)的方式安裝在 直線導(dǎo)軌33b上。在支承構(gòu)件35b上連接有汽缸37b，支承構(gòu)件35b通過該 汽缸37b沿直線導(dǎo)軌33b升降。此時(shí)，支承構(gòu)件35b維持一定的姿勢(shì)并沿垂 直于固定板32的方向移動(dòng)。此外，在支承構(gòu)件35b上以與固定板32的另一 面相對(duì)向的方式安裝有第二可動(dòng)板36b。在本實(shí)施方式中，第一可動(dòng)板36a以及第二可動(dòng)板36b在距離固定板32 最遠(yuǎn)的狀態(tài)下，第一可動(dòng)板36a與固定板32之間的距離M2以及第二可動(dòng)板 36b與固定板32之間的距離M3被設(shè)定為與圖3A所示的主機(jī)械手MR的手
部MRH1和手部MRH2的高度差Ml大致相等。旋轉(zhuǎn)式促動(dòng)器38使支承板31圍繞水平軸HA旋轉(zhuǎn)。由此，與支承板31 連接的第一可動(dòng)板36a、第二可動(dòng)板36b以及固定板32圍繞水平軸HA旋轉(zhuǎn)。如圖4B所示，第一可動(dòng)板36a、固定板32以及第二可動(dòng)板36b相互具 有近似相同的形狀。第一可動(dòng)板36a具有沿支承構(gòu)件35a延伸的中央支承部361a;以及在 中央支承部361a的兩側(cè)且平行于中央支承部361a延伸的側(cè)邊部362a、363a。 側(cè)邊部362a、 363a相對(duì)中央支承部361a相互對(duì)稱地設(shè)置。中央支承部361a 以及側(cè)邊部362a、 363a在支承板31 (圖4A)側(cè)的一端部相互連接。由此， 第一可動(dòng)板36a形成為近似E字狀，在中央支承部361a與側(cè)邊部362a、 363a 之間形成條紋狀的切口區(qū)域。固定板32具有與第一可動(dòng)板36a的中央支承部36la以及側(cè)邊部362a、 363a相當(dāng)?shù)闹醒胫С胁?21以及側(cè)邊部322、 323，并且它們?cè)谥С邪?1側(cè) 的一端部相互連接在一起。由此，固定板32形成為近似E字狀，在中央支 承部321與側(cè)邊部322、 323之間形成條紋狀的切口區(qū)域。第二可動(dòng)板36b具有與第一可動(dòng)板36a的中央支承部361a以及側(cè)邊部 362a、 363a相當(dāng)?shù)闹醒胫С胁?61b以及側(cè)邊部362b、 363b，并且它們?cè)谥?承板31側(cè)的一端部相互連接在一起。由此，第二可動(dòng)板36b形成為近似E 字狀，在中央支承部361a與側(cè)邊部362b、 363b之間形成條紋狀的切口區(qū)域。此外，如圖4A所示，在與第一可動(dòng)板36a相對(duì)向的固定板32的一面上 設(shè)置有多個(gè)支承銷39a，在其另一面上設(shè)置有多個(gè)支承銷39b。此外，在與 固定板32相對(duì)向的第一可動(dòng)板36a的一面上設(shè)置有多個(gè)支承銷39c，與固定 板32相對(duì)向的第二可動(dòng)板36b的一面上設(shè)置有多個(gè)支承銷39d。在本實(shí)施方式中，支承銷39a、支承銷39b、支承銷39c、支承銷39d各 設(shè)置有6根。這些支承銷39a、 39b、 39c、 39d以沿著被搬入反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的基板W的外周的方式配置。此外，支承銷39a、 39b、 39c、 39d相互 具有相同的長(zhǎng)度。因此，在第一可動(dòng)板36a以及第二可動(dòng)板36b在距離固定 板32最遠(yuǎn)的狀態(tài)下，支承銷39a的前端與支承銷39d的前端之間的距離以 及支承銷3%與支承銷39c之間的距離被設(shè)定為與圖3所示的主機(jī)械手MR 的手部MRH1和手部MRH2的高度差Ml大致相等。
另外，第一可動(dòng)板36a與固定板32之間的距離M2以及第二可動(dòng)板36b 與固定板32之間的距離M3也可以進(jìn)行適當(dāng)變更。但是，在第一可動(dòng)板36a 以及第二可動(dòng)板36b距離固定板32最遠(yuǎn)的狀態(tài)下，支承銷39c與支承銷39d 之間的距離被設(shè)定為大于手部MRH1和手部MRH2的高度差Ml。 (1-5)反轉(zhuǎn)單元的動(dòng)作接著，說明反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的動(dòng)作。圖5A 圖71是用于說明反轉(zhuǎn) 單元RT1、RT2的動(dòng)作的圖。另外，如上所述，將基板W搬入反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2通過主機(jī)械手MR的手部MRH1來進(jìn)行，從反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2搬出基 板W通過主機(jī)械手MR的手部MRH2來進(jìn)行。如圖5A所示，在第一可動(dòng)板36a、固定板32以及第二可動(dòng)板36b被維 持在水平姿勢(shì)的狀態(tài)下，保持著基板W的主機(jī)械手MR的手部MRH1前進(jìn) 到第一可動(dòng)板36a和固定板32之間。接著，如圖5B所示，使手部MRH1 下降。此時(shí)，如圖5C所示，手部MRH1的爪部Hll通過固定板32的中央 支承部321與側(cè)邊部322、 323之間的切口區(qū)域而下降。由此，被手部MRH1 保持的基板W裝載在固定板32的支承銷39a上。另外，在反轉(zhuǎn)單元RT1中，表面朝上的基板W被裝載在支承銷39a上， 而在反轉(zhuǎn)單元RT2中，背面朝上的基板W被裝載在支承銷39a上。接著，如圖6D所示，支承構(gòu)件35a通過汽缸37a (圖4A)而下降。由 此，第一可動(dòng)板36a下降，第一可動(dòng)板36a與固定板32之間的分離距離變短。 第一可動(dòng)板36a下降給定距離之后，基板W的周邊部以及外周端部由固定板 32的支承銷39a和第一可動(dòng)板36a的支承銷39c保持。在該狀態(tài)下，如圖6E 所示，第一可動(dòng)板36a、固定板32以及第二可動(dòng)板36b通過旋轉(zhuǎn)式促動(dòng)器 38 —體地圍繞水平軸HA旋轉(zhuǎn)180度。由此，由支承銷39a和支承銷39c保 持的基板W被反轉(zhuǎn)。此時(shí)，在反轉(zhuǎn)單元RT1中，基板W的背面朝上，在反 轉(zhuǎn)單元RT2中基板W的表面朝上。接著，如圖6F所示，支承構(gòu)件35a通過汽缸37a而下降。由此，第一 可動(dòng)板36a下降，第一可動(dòng)板36a與固定板32之間的分離距離變長(zhǎng)。因此， 基板W成為被第一可動(dòng)板36a的支承銷39c支承的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，如圖7G所示，主機(jī)械手MR的手部MRH2向第一可動(dòng)板 36a的下方前進(jìn)。接著，如圖7H所示，使手部MRH2上升。此時(shí)，如圖71 所示，手部MRH2的爪部H12通過第一可動(dòng)板36a的中央支承部361a和側(cè) 邊部362a、 363a之間的切口區(qū)域而上升。由此，基板W被手部MRH2接收。 其后，手部MRH2從反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2退出，將基板搬出反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2。另夕卜，在圖5A 圖7I中示出了如下情況，即在第一可動(dòng)板36a位于固定 板32的上方的狀態(tài)搬入基板W，第二可動(dòng)板36b位于固定板32的上方的狀 態(tài)搬出基板W。但是，如后面所述，在第二可動(dòng)板36b位于固定板32的上 方的狀態(tài)下搬出基板W之后，在第二可動(dòng)板36b位于固定板32的上方的狀 態(tài)下搬入基板W,在第一可動(dòng)板36a位于固定板32的上方的狀態(tài)搬出基板 W。此時(shí)，第二支承構(gòu)件35b通過汽缸37b而下降，由此，基板被第二可動(dòng) 板36b的支承銷39d和固定板32的支承銷39b被保持。并且，在該狀態(tài)下， 通過旋轉(zhuǎn)式促動(dòng)器38使第一可動(dòng)板36a、固定板32以及第二可動(dòng)板36b反 轉(zhuǎn)，從而基板W被反轉(zhuǎn)。其后，在汽缸37b的作用下，使第二支承構(gòu)件35b 下降，由此，處于基板W被支承銷39d支承的狀態(tài)，從而通過手部MRH2 將基板W從支承銷39d上搬出。(1-6)利用主機(jī)械手搬入搬出基板接下來，說明在從反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2搬出基板W到將新的基板W搬 入反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2為止的期間的主機(jī)械手MR的動(dòng)作。圖8A 圖8D是用于說明由主機(jī)械手MR搬入搬出基板W的動(dòng)作的圖。 如上所述，主機(jī)械手MR通過手部MRH2從反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2搬出反轉(zhuǎn)后 的基板W，然后通過手部MRH1將反轉(zhuǎn)前的基板W搬入反轉(zhuǎn)單元RT1 、RT2。 因此，在即將把基板W搬入或者搬出反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2之前，如圖8A所 示，主機(jī)械手MR的手部MRH1處于保持反轉(zhuǎn)前的基板W的狀態(tài)，手部 MRH2處于不保持基板W的狀態(tài)。如圖8B所示，手部MRH2在前進(jìn)的同時(shí)進(jìn)行上升，由此由手部MRH2 接收支承銷39c上的基板W。此時(shí)，手部MRH1與手部MRH2之間的高度 差被維持為一定，因此伴隨手部MRH2的上升，手部MRH1也上升。接著，如圖8C所示，在保持手部MRH1、 MRH2的高度的狀態(tài)下，使 手部MRH2后退，同時(shí)使手部MRH1前進(jìn)。在此，在本實(shí)施方式中，第一
可動(dòng)板36a和固定板32之間的距離M2 (圖4A)以及第二可動(dòng)板36b和固 定板32之間的距離M3 (圖4A)被設(shè)定為與手部MRH1和手部MRH2的高 度差M1大致相等。因此，在手部MRH2處于位于第一可動(dòng)板36a和固定板 32之間這樣的高度時(shí)，手部MRH1處于位于第二可動(dòng)板36b與固定板32之 間這樣的高度。因此，手部MRH1通過前進(jìn)而在第二可動(dòng)板36b與固定板 32之間移動(dòng)。接著，如圖8D所示，使手部MRH1在下降的同時(shí)進(jìn)行后退。由此，基 板W被裝載在支承銷39b上。此時(shí)，伴隨著手部MRH1下降，手部MRH2 也下降。這樣，由主機(jī)械手MR進(jìn)行向反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2搬入基板及從反轉(zhuǎn)單 元RT1、 RT2搬出基板W的動(dòng)作。其后，反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2使新搬入的 基板W反轉(zhuǎn)。g卩，基板相對(duì)反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的搬入搬出，在第一可動(dòng) 板36a位于固定板32的上方的狀態(tài)和第二可動(dòng)板36b位于固定板32的上方 的狀態(tài)之間交互地進(jìn)行。(1-7)表面清洗單元以及背面清洗單元的詳細(xì)結(jié)構(gòu)接著，說明如圖1所示的表面清洗單元SS以及背面清洗單元SSR。圖9 是用于說明表面清洗單元SS的結(jié)構(gòu)的圖，圖10是用于說明背面清洗單元 SSR的結(jié)構(gòu)的圖。在圖9所示的表面清洗單元SS以及圖IO所示的背面清洗 單元SSR中，進(jìn)行利用清洗刷的基板W的清洗處理(下面稱為擦洗處理)。首先，利用圖9說明表面清洗單元SS的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。如圖9所示，表面 清洗單元SS具備旋轉(zhuǎn)卡盤61，該旋轉(zhuǎn)卡盤61將基板W保持為水平，并使 基板W圍繞通過基板W的中心的鉛垂軸旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)卡盤61被固定在通過卡 盤旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)62而旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)軸63的上端。如上所述，表面朝上的基板W被搬入表面清洗單元SS中。在進(jìn)行擦洗 處理以及沖洗處理時(shí)，通過旋轉(zhuǎn)卡盤61吸附保持基板W的背面。在旋轉(zhuǎn)卡盤61的外方設(shè)置有馬達(dá)64。在馬達(dá)64上連接有轉(zhuǎn)動(dòng)軸65。 在轉(zhuǎn)動(dòng)軸65上，臂66沿水平方向延伸，并在臂66的前端設(shè)置有近似圓筒 形狀的刷清洗件70。另外，旋轉(zhuǎn)卡盤61的上方設(shè)置有噴液噴嘴71，該噴液 噴嘴71用于向由旋轉(zhuǎn)卡盤61保持的基板W的表面供給清洗液或沖洗液(純 水)。在噴液噴嘴71上連接有供給管72，通過該供給管72而有選擇地向噴
液噴嘴71供給清洗液或沖洗液。在擦洗處理時(shí)，馬達(dá)64使轉(zhuǎn)動(dòng)軸65旋轉(zhuǎn)。由此，臂66在水平面內(nèi)轉(zhuǎn) 動(dòng)，刷清洗件70以轉(zhuǎn)動(dòng)軸65為中心在基板W的外方位置和基板W的中心 位置之間移動(dòng)。在馬達(dá)64上設(shè)置有未圖示的升降機(jī)構(gòu)。升降機(jī)構(gòu)通過使轉(zhuǎn) 動(dòng)軸65上升或下降，從而使刷清洗件70在基板W的外方位置和基板W的 中心上方位置下降或上升。在擦洗處理開始時(shí)，通過旋轉(zhuǎn)卡盤61旋轉(zhuǎn)表面朝上狀態(tài)的基板W。此 外，通過供給管72將清洗液或者沖洗液供給到噴液噴嘴71。由此，向旋轉(zhuǎn) 的基板W的表面供給清洗液或者沖洗液。在此狀態(tài)，通過轉(zhuǎn)動(dòng)軸65以及臂 66搖動(dòng)以及升降刷清洗件70。由此，對(duì)基板W的表面實(shí)施擦洗處理。另外， 由于在表面清洗單元SS中使用吸附式的旋轉(zhuǎn)卡盤61，所以也可以同時(shí)清洗 基板W的周邊部以及外周端部。接著，利用圖10，說明背面清洗單元SSR與圖9所示的表面清洗單元 SS的不同點(diǎn)。如圖10所示，背面清洗單元SSR具備保持基板W的外周端 部的機(jī)械卡盤式的旋轉(zhuǎn)卡盤81，來替代通過真空吸附來保持基板W的向下 面的旋轉(zhuǎn)卡盤61。在實(shí)施擦洗處理以及沖洗處理時(shí)，在基板W被旋轉(zhuǎn)卡盤 61上的旋轉(zhuǎn)式保持銷82保持其向下面的周邊部以及外周端部的狀態(tài)下，使 用基板W維持水平姿勢(shì)的同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。如上所示，背面朝上狀態(tài)的基板W被搬入背面清洗單元SSR。因此， 基板W在背面朝上的狀態(tài)下通過旋轉(zhuǎn)卡盤81來保持。并且，對(duì)基板W的背 面實(shí)施上述同樣的擦洗處理。(1-8)第一實(shí)施方式的效果在第一實(shí)施方式中，在使主機(jī)械手MR的手部MRH2后退，而從反轉(zhuǎn)單 元RT1、 RT2搬出反轉(zhuǎn)后的基板W時(shí)，不用使主機(jī)械手MR的手部MRH1 沿上下方向移動(dòng)，而在原高度使其前進(jìn)，由此將反轉(zhuǎn)前的基板W搬入反轉(zhuǎn) 單元RT1、 RT2。此時(shí)，由于沒有必要在從反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2搬出基板W之后到將基 板W搬入反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2期間調(diào)整手部MRH1、 MRH2的高度，因此 能夠迅速將基板W搬入或搬出反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2。由此，能夠提高在基板 處理裝置100中的生產(chǎn)率。
此外，在第一實(shí)施方式中，由于反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的第一可動(dòng)板36a、 第二可動(dòng)板36b以及圓定板32上形成有條紋狀的切口區(qū)域，所以主機(jī)械手 MR的手部MRH1、 MRH2通過該切口區(qū)域而可以沿上下方向移動(dòng)。此時(shí)，即使支承銷39a、 39b、 39c、 39d的長(zhǎng)度變短，通過使手部MRH1、 MRH2通過該切口區(qū)域下降，手部MRH1、 MRH2不接觸第一可動(dòng)板36a、 第二可動(dòng)板36b以及固定板32就可以將基板W裝載在支承銷39a、39b、39c、 39d上。此外，即使支承銷39a、 3%、 39c、 39d的長(zhǎng)度變短，通過使手部 MRH1、 MRH2通過該切口區(qū)域上升，手部MRH1、 MRH2不接觸第一可動(dòng) 板36a、第二可動(dòng)板36b以及固定板32就可以接受被裝載在支承銷39a、39b、 39c、 39d上的基板W。由此，可以使反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2小型化。此外，在第一實(shí)施方式中，由反轉(zhuǎn)單元RT1保持的基板W在位于水平 軸HA的上方的位置的狀態(tài)下成為表面朝上的狀態(tài)，在位于水平軸HA的下 方的位置的狀態(tài)下成為背面朝上的狀態(tài)。此外，由反轉(zhuǎn)單元RT2保持的基板 W在位于水平軸HA的上方的位置的狀態(tài)下成為背面朝上的狀態(tài)，在位于水 平軸HA的下方的位置的狀態(tài)下成為表面朝上的狀態(tài)。為此，通過掌握基板W是位于水平軸HA上方的位置還是位于水平軸 HA下方，而可以判斷該基板W的哪個(gè)面朝上。因此，即使基板處理裝置100 的動(dòng)作因例如停電等而停止，也可以瞬時(shí)判斷被保持在反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2 上的基板W的哪個(gè)面朝上。 (2)第二實(shí)施方式下面，說明本發(fā)明的第二實(shí)施方式的基板處理裝置與第一實(shí)施方式的基 板處理裝置的不同點(diǎn)。(2-1)基板處理裝置的結(jié)構(gòu)圖IIA是本發(fā)明的第二實(shí)施方式的基板處理裝置的俯視圖，圖IIB是示 意地表示圖IIA的B-B線剖面的圖。如圖11A以及圖IIB所示，第二實(shí)施 方式的基板處理裝置100a分別包含有反轉(zhuǎn)單元RTl、 RT2以及基板裝載部 PASS1、 PASS2各兩個(gè)。(2-2)主機(jī)械手的動(dòng)作接著，參照?qǐng)DIIA、圖IIB說明第二實(shí)施方式的主機(jī)械手MR的動(dòng)作概 要。主機(jī)械手MR利用手部MRH1、 MRH2分別從基板裝載部PASS1接受
未處理的基板W。接著，主機(jī)械手MR將在手部MRH1、 MRH2上保持的兩 張基板W按順序搬入到兩個(gè)表面清洗單元SS中。接著，主機(jī)械手MR通過 手部MRH1、 MRH2從兩個(gè)表面清洗單元SS中按順序搬出表面清洗處理后 的兩張基板W。然后，主機(jī)械手MR將在手部MRH1、 MRH2上保持的兩張基板W搬 入到一個(gè)反轉(zhuǎn)單元RT1中。接著，主機(jī)械手MR通過手部MRH1、 MRH2 從另一個(gè)反轉(zhuǎn)單元RT1上搬出背面朝上的兩張基板W。然后，主機(jī)械手MR 將在手部MRH1、 MRH2上保持的兩張基板W按順序搬入到兩個(gè)背面清洗 單元SSR中。接著，主機(jī)械手MR通過手部MRH1、 MRH2從兩個(gè)背面清洗 單元SSR中按順序搬出背面清洗處理后的兩張基板W。接著，主機(jī)械手MR將在手部MRH1、 MRH2上保持的兩張基板W搬 入到一個(gè)反轉(zhuǎn)單元RT2中。接著，主機(jī)械手MR通過手部MRH1、 MRH2 從另一個(gè)反轉(zhuǎn)單元RT2中搬出表面朝上的兩張基板W。然后，主機(jī)械手MR 將在手部MRH1、 MRH2上保持的兩張基板W分別裝載在兩個(gè)基板裝載部 PASS2上。主機(jī)械手MR連續(xù)地進(jìn)行這樣一系列的動(dòng)作。 (2-3)反轉(zhuǎn)單元的動(dòng)作接著，說明反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的動(dòng)作。圖12A 圖13G是用于說明反 轉(zhuǎn)單元RT1、RT2的動(dòng)作的圖。如圖12A所示，保持著基板W的手部MRH1、 MRH2同時(shí)前進(jìn)到第一可動(dòng)板36a和固定板32之間以及第二可動(dòng)板36b和 固定板32之間的。并且，如圖12B所示，手部MRH1、 MRH2在同時(shí)下降 并后退。由此，基板W被裝載在支承銷39a、 39d上。此時(shí)，在反轉(zhuǎn)單元RT1 中，表面朝上的基板W被裝載在支承銷39a、 39d上，在反轉(zhuǎn)單元RT2中， 背面朝上的基板W被裝載在支承銷39a、 39d上。接著，如圖12C所示，支承構(gòu)件35a在汽缸37a(圖4A)的作用下下降， 并且，支承構(gòu)件35b在汽缸37b (圖4A)的作用下上升。由此， 一個(gè)基板W 由第一可動(dòng)板36a的支承銷39c和固定板32的支承銷39a保持，另一個(gè)基板 W由第二可動(dòng)板36b的支承銷39d和固定板32的支承銷39b保持。在該狀態(tài)下，如圖12D所示，第一可動(dòng)板36a、固定板32以及第二 可動(dòng)板36b在旋轉(zhuǎn)式促動(dòng)器38的作用下一體地圍繞水平軸HA旋轉(zhuǎn)180度。 由此，由支承銷39a、 39c保持的基板W以及由支承銷39b、 39d保持的基板W被反轉(zhuǎn)。此時(shí)，在反轉(zhuǎn)單元RT1中基板W的背面朝上，在反轉(zhuǎn)單元RT2 中基板W的表面朝上。接著，如圖13E所示，支承構(gòu)件35a在汽缸37a的作用下下降，并且， 支承構(gòu)件35b在汽缸37b的作用下上升。由此，第一可動(dòng)板36a下降，并且 第二可動(dòng)板36b上升。因此， 一個(gè)基板W成為被第一可動(dòng)板36a的支承銷 39c支承的狀態(tài)，而另一個(gè)基板W成為由固定板32的支承銷3%支承的狀 態(tài)。在該狀態(tài)下，如圖13F所示，手部MRH1、 MRH2前進(jìn)并上升到被支承 銷39b支承的基板W的下方以及被支承銷39c支承的基板W的下方。由此， 被支承銷3%支承的基板W由手部MRH1接受，被支承銷39c支承的基板 W由手部MRH2接受。其后，如圖13G所示，手部MRH1、 MRH2同時(shí)后 退，由此將兩張基板W搬出反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2。 (2-4)第二實(shí)施方式的效果在第二實(shí)施方式中，利用主機(jī)械手MR的手部MRH1、 MRH2將兩張基 板W同時(shí)搬入到反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2，然后反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2使兩張基板 W同時(shí)反轉(zhuǎn)。其后，利用主機(jī)械手MR的手部MRH1、 MRH2將兩張基板W 同時(shí)搬出反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2。在該情況下，能夠迅速將基板W搬入或搬出反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2，并且 可以高效地反轉(zhuǎn)多張基板W。由此，能夠提高在基板處理裝置100a中的生 產(chǎn)率。(3)第三實(shí)施方式下面，說明本發(fā)明的第三實(shí)施方式的基板處理裝置與第一實(shí)施方式的基 板處理裝置的不同點(diǎn)。第三實(shí)施方式的基板處理裝置中，替代反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2而具備下述的反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a。圖14A是反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a的側(cè)視圖，圖14B是反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a的立體圖。利用圖14A以及圖14B說明反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a與反轉(zhuǎn) 單元RT1、 RT2的不同點(diǎn)。另外，反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a相互具有相同的結(jié) 構(gòu)。如圖14A以及圖14B所示，反轉(zhuǎn)單元RTla、RT2a包含第三可動(dòng)板41a、 第四可動(dòng)板41b、 一對(duì)直線導(dǎo)軌42a、 42b、以及一對(duì)汽缸43a、 43b來替代
固定板32。第三可動(dòng)板41a以與第一可動(dòng)板36a相對(duì)向的方式設(shè)置，并經(jīng)由連接構(gòu) 件44a以能夠滑動(dòng)的方式安裝在直線導(dǎo)軌42a上。第四可動(dòng)板41b以與第二 可動(dòng)板36b相對(duì)向的方式設(shè)置，并經(jīng)由連接構(gòu)件44b以能夠滑動(dòng)的方式安裝 在直線導(dǎo)軌42b上。第三可動(dòng)板41a以及第四可動(dòng)板41b分別具有與第一可 動(dòng)板36a以及第二可動(dòng)板36b相同的形狀。直線導(dǎo)軌42a、 42b分別沿垂直于第三可動(dòng)板41a以及第四可動(dòng)板41b 的方向延伸。第三可動(dòng)板41a在汽缸43a的作用下沿直線導(dǎo)軌42a升降，第 四可動(dòng)板41b在汽缸43b的作用下沿直線導(dǎo)軌42b升降。此外，在第三可動(dòng) 板41a的與第一可動(dòng)板36a相對(duì)向的一面上設(shè)置有多個(gè)支承銷39a，在第四 可動(dòng)板41b的與第二可動(dòng)板36b相對(duì)向的一面上設(shè)置有多個(gè)支承銷39b。另外，第一可動(dòng)板36a、第二可動(dòng)板36b、第三可動(dòng)板41a以及第四可動(dòng) 板41b各自之間的分離距離，在第三可動(dòng)板41a與第二可動(dòng)板36b離開最遠(yuǎn) 且第四可動(dòng)板41b與第一可動(dòng)板36a離開最遠(yuǎn)的狀態(tài)下，能夠在支承銷39c 的前端與支承銷39d的前端之間的距離大于手部MRH1和手部MRH2之間 的高度差Ml、并且支承銷39a的前端與支承銷39b的前端之間的距離小于 手部MRH1和手部MRH2之間的高度差Ml的范圍內(nèi)進(jìn)行任意地設(shè)定。在反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a中，保持被搬入第一可動(dòng)板36a和第三可動(dòng)板 41a之間的基板W時(shí)，通過汽缸37a、 43a而使第一可動(dòng)板36a與第三可動(dòng) 板4la以相互接近的方式進(jìn)行升降。由此，由支承銷39a、 39c來保持基板W。 此外，在解除支承銷39a、 39c對(duì)基板W的保持時(shí)，通過汽缸37a、 43a使第 一可動(dòng)板36a與第三可動(dòng)板41a以相互遠(yuǎn)離的方式進(jìn)行升降。此外，在保持被搬入第二可動(dòng)板36b和第四可動(dòng)板41b之間的基板W時(shí)， 通過汽缸37b、 43b使第二可動(dòng)板36b與第四可動(dòng)板41b以相互接近的方式 進(jìn)行升降。由此，由支承銷39b、 39d來保持基板W。此外，在解除支承銷 39b、 39d對(duì)基板W的保持時(shí)，通過汽缸37b、 43b使第二可動(dòng)板36b與第四 可動(dòng)板41b以相互遠(yuǎn)離的方式進(jìn)行升降。在第三實(shí)施方式中，也與第一實(shí)施方式同樣地，使主機(jī)械手MR的手部 MRH2后退而從反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a搬出反轉(zhuǎn)后的基板W時(shí)，不必使主機(jī) 械手MR的手部MRH1上下移動(dòng)，而在原來的高度使其前進(jìn)，由此能夠?qū)⒎?br> 轉(zhuǎn)前的基板W搬入反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a中。由此，由于沒有必要在從將基板W從反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a搬出后到將 基板W搬入反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a的期間內(nèi)調(diào)整手部MRH1、 MRH2的高 度，因此能夠迅速地進(jìn)行將基板W搬入或搬出反轉(zhuǎn)單元RTla、RT2a的操作。 由此，能夠提高基板處理裝置100中的生產(chǎn)率。此外，在第三實(shí)施方式中，由于可以分別獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)第一可動(dòng)板36a、 第二可動(dòng)板36b、第三可動(dòng)板41a以及第四可動(dòng)板41b，所以能夠任意地調(diào) 整由支承銷39a、 39c保持的基板W的保持位置與由支承銷39b、 39d保持的 基板W的保持位置之間的間隔。另外，在上述的第二實(shí)施方式中，可以采用反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a來替 代反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2。 (4)其他的實(shí)施方式在上述第一 第三實(shí)施方式中，在基板W的表面清洗處理后進(jìn)行基板W 的背面清洗處理，但是不僅限于此，也可以在基板W的背面清洗處理后進(jìn) 行基板W的表面清洗處理。此時(shí)，在對(duì)基板W實(shí)施背面清洗處理之前，該 基板W通過反轉(zhuǎn)單元RT1 (或者反轉(zhuǎn)單元RTla)以背面朝上的方式被反轉(zhuǎn)。 并且，在對(duì)基板W實(shí)施了背面清洗處理之后，該基板W通過反轉(zhuǎn)單元RT2 (或者反轉(zhuǎn)單元RT2a)以表面朝上的方式被反轉(zhuǎn)。然后，對(duì)基板W實(shí)施表 面清洗處理。此外，在上述第一 第三實(shí)施方式中，在表面清洗單元SS以及背面清洗 單元SSR中，使用清洗刷來清洗基板W的表面以及背面，但是不僅限于此， 還可以使用藥液來清洗基板W的表面以及背面。此外，在上述第一 第三實(shí)施方式中，通過反轉(zhuǎn)單元RT1 (或者反轉(zhuǎn)單 元RTla)來反轉(zhuǎn)背面清洗處理前的基板W，通過反轉(zhuǎn)單元RT2 (或者反轉(zhuǎn) 單元RT2a)來反轉(zhuǎn)背面清洗處理后的基板W。但不僅限于此，也可以通過 反轉(zhuǎn)單元RT2 (或者反轉(zhuǎn)單元RT2a)來反轉(zhuǎn)背面清洗處理前的基板W，通 過反轉(zhuǎn)單元RT1 (或者反轉(zhuǎn)單元RTla)來反轉(zhuǎn)背面清洗處理后的基板W。此外，在上述第一 以及第三實(shí)施方式中，通過主機(jī)械手MR的手部MRH1 將基板W搬入反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2 (或者反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a)，通過主 機(jī)械手MR的手部MRH2將基板W從反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2 (或者反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a)搬出，但也可以通過主機(jī)械手MR的手部MRH2將基板W搬 入反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2 (或者反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a)，通過主機(jī)械手MR 的手部MRH1將基板W從反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2 (或者反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a) 搬出。此時(shí)，在反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2 (反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a)中，反轉(zhuǎn)前的 基板W成為保持在水平軸HA下方的狀態(tài)，反轉(zhuǎn)后的基板W成為保持在水 平軸HA上方的狀態(tài)。此外，在上述第一以及第三實(shí)施方式中，主機(jī)械手MR從反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2 (或者反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a)搬出反轉(zhuǎn)后的基板W之后，將反轉(zhuǎn)前的 基板W搬入反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2 (或者反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a)，但是并不 僅限于此，也可以將反轉(zhuǎn)前的基板W搬入反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2 (或者反轉(zhuǎn)單 元RTla、 RT2a)之后，從反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2 (或者反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a) 搬出反轉(zhuǎn)后的基板W。此外，在上述第一 第三實(shí)施方式中，通過反轉(zhuǎn)單元RT1 (或者反轉(zhuǎn)單 元RTla)來反轉(zhuǎn)背面清洗處理前的基板W，通過反轉(zhuǎn)單元RT2 (或者反轉(zhuǎn) 單元RT2a)來反轉(zhuǎn)背面清洗處理后的基板W，但是也可以通過共用的反轉(zhuǎn) 單元來反轉(zhuǎn)背面清洗處理前的基板W以及背面清洗處理后的基板W。此外，在上述第一以及第二實(shí)施方式中，支承銷39a、 39b、 39c、 39d 相互具有相同的長(zhǎng)度，但是在第一可動(dòng)板36a以及第二可動(dòng)板36b離開固定 板32最遠(yuǎn)的狀態(tài)下，能夠在支承銷39c的前端與支承銷39d的前端之間的 距離大于手部MRH1和手部MRH2之間的高度差Ml、并且支承銷39a的前 端與支承銷39b的前端之間的距離小于手部MRH1和手部MRH2之間的高 度差M1的范圍內(nèi)，對(duì)各支承銷39a、 39b、 39c、 39d的長(zhǎng)度進(jìn)行任意地設(shè)定。同樣，在上述第三實(shí)施方式中，在第三可動(dòng)板41a和第二可動(dòng)板36b離 開最遠(yuǎn)、并且第四可動(dòng)板41b和第一可動(dòng)板36a離開最遠(yuǎn)的狀態(tài)下，能夠在 支承銷39c的前端與支承銷39d的前端之間的距離大于手部MRH1和手部 MRH2之間的高度差Ml、并且支承銷39a的前端與支承銷39b的前端之間 的距離小于手部MRH1和手部MRH2之間的高度差Ml的范圍內(nèi)，對(duì)各支 承銷39a、 39b、 39c、 39d的長(zhǎng)度進(jìn)行任意地設(shè)定。此外，在上述第一實(shí)施方式中，固定板32被固定在支承板31上，并且 第一可動(dòng)板36a以及第二可動(dòng)板36b以相對(duì)支承板31能夠自由移動(dòng)的方式 設(shè)置，但也可以是第一可動(dòng)板36a以及第二可動(dòng)板36b被固定在支承板31 上，固定板32以相對(duì)支承板31能夠自由移動(dòng)的方式設(shè)置。此外，在上述第一 第三實(shí)施方式中，作為分度器機(jī)械手IR以及主機(jī)械 手MR，使用通過關(guān)節(jié)運(yùn)動(dòng)來直線地進(jìn)行手部的進(jìn)退動(dòng)作的多關(guān)節(jié)型搬運(yùn)機(jī) 械手，但是不僅限于此，還可以采用相對(duì)基板W使手部直線滑動(dòng)而進(jìn)行進(jìn) 退動(dòng)作的直動(dòng)型搬運(yùn)機(jī)械手。此外，分度器機(jī)械手IR以及主機(jī)械手MR的動(dòng)作順序也可以根據(jù)反轉(zhuǎn) 單元RT1、 RT2、表面清洗單元SS以及背面清洗單元SSR的處理速度等進(jìn) 行適當(dāng)變更。此外，反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2 (或者反轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a)、表面清洗 單元SS、背面清洗單元SSR以及基板裝載部PASS1、 PASS2的個(gè)數(shù)也可以 根據(jù)它們的處理速度等進(jìn)行適當(dāng)變更。(5)本發(fā)明的各組成要素與實(shí)施方式的各要素的對(duì)應(yīng)下面，說明本發(fā)明的各組成要素與實(shí)施方式的各要素的對(duì)應(yīng)的例子，但 是本發(fā)明并不僅限于下述的例子。在上述的實(shí)施方式中，反轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2、 RTla、 RT2a是反轉(zhuǎn)裝置 的例子，固定板32、第一可動(dòng)板36a、支承銷39a、 39c、汽缸37a、 43a以 及第三可動(dòng)板41a是第一保持機(jī)構(gòu)的例子，固定板32、第二可動(dòng)板36b、支 承銷39b、 39d、汽缸37b、 43b以及第四可動(dòng)板41b是第二保持機(jī)構(gòu)的例子， 支承板31是支承構(gòu)件的例子，旋轉(zhuǎn)式促動(dòng)器38是旋轉(zhuǎn)裝置的例子，固定板 32、第三可動(dòng)板41a以及第四可動(dòng)板41b是共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的例子，第 一可動(dòng)板36a是第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的例子，第二可動(dòng)板36b是第二反轉(zhuǎn)保持 構(gòu)件的例子，支承銷39a是第一支承部的例子，支承銷39c是第二支承部的 例子，支承銷39b是第三支承部的例子，支承銷39d是第四支承部的例子， 汽缸37a、 43a是第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的例子，汽缸37b、 43b是第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的例 子。此外，主機(jī)械手MR是搬運(yùn)裝置的例子，手部MRH1是第一搬運(yùn)保持部 的例子，手部MRH2是第二搬運(yùn)保持部的例子，爪部Hll、 H12是保持部分 的例子，第三可動(dòng)板41a是第三反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的例子，第四可動(dòng)板41b是第
四反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的例子，背面清洗單元SSR是第一清洗處理部的例子，表面清洗單元ss是第二清洗處理部的例子。作為本發(fā)明的各構(gòu)成要素，也可以使用具有本發(fā)明所述的構(gòu)成或者功能 的其他各種要素。
權(quán)利要求
1.一種反轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，包括第一保持機(jī)構(gòu)，其將基板以垂直于第一軸的狀態(tài)進(jìn)行保持；第二保持機(jī)構(gòu)，其將基板以垂直于所述第一軸的狀態(tài)進(jìn)行保持；支承構(gòu)件，其用于支承所述第一以及第二保持機(jī)構(gòu)，并使所述第一以及第二保持機(jī)構(gòu)在所述第一軸的方向上重疊；旋轉(zhuǎn)裝置，其使所述支承構(gòu)件與所述第一以及第二保持機(jī)構(gòu)一起圍繞與所述第一軸近似垂直的第二軸一體地旋轉(zhuǎn)。
2. 如權(quán)利要求1所述的反轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，所述第一以及第二保持機(jī)構(gòu)包括具有與所述第一軸垂直的一面以及另 一面的共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件， 所述第一保持機(jī)構(gòu)包括多個(gè)第一支承部，其設(shè)置在所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的所述一面上， 用于支承基板的外周部；第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，其以與所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的所述一面相對(duì) 向的方式設(shè)置；多個(gè)第二支承部，其設(shè)置在所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與所述共用的反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的面上，用于支承基板的外周部；第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及所述共用的反轉(zhuǎn)保持 構(gòu)件中的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述 共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件在所述第一軸的方向上相互離開的狀態(tài)、或所述第一反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)， 所述第二保持機(jī)構(gòu)包括多個(gè)第三支承部，其設(shè)置在所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的所述另一面 上，用于支承基板的外周部；第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，其以與所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的所述另一面相 對(duì)向的方式設(shè)置；多個(gè)第四支承部，其設(shè)置在所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與所述共用的反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的面上，用于支承基板的外周部；第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述 共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件在所述第一軸的方向上相互離開的狀態(tài)、或所述第二反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)。
3. 如權(quán)利要求2所述的反轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，所述第一以及第二保持機(jī)構(gòu)分別保持由搬運(yùn)裝置的第一以及第二搬運(yùn) 保持部搬入的基板，所述第一保持機(jī)構(gòu)對(duì)基板的保持位置和所述第二保持機(jī)構(gòu)對(duì)基板的保 持位置之間的距離，近似等于所述搬運(yùn)裝置的所述第一搬運(yùn)保持部對(duì)基板的 保持位置和所述第二搬運(yùn)保持部對(duì)基板的保持位置之間的距離。
4. 如權(quán)利要求3所述的反轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及所述第二反轉(zhuǎn)保 持構(gòu)件具有所述搬運(yùn)裝置的所述第一以及第二保持部沿所述第一軸的方向 能夠通過的切口區(qū)域。
5. —種基板處理裝置，對(duì)具有表面和背面的基板進(jìn)行處理，其特征在于， 該基板處理裝置具有反轉(zhuǎn)裝置，其使基板的所述表面和所述背面反轉(zhuǎn)，該反轉(zhuǎn)裝置包括第 一保持機(jī)構(gòu)，其將基板以垂直于第一軸的狀態(tài)進(jìn)行保持；第二保持機(jī)構(gòu)，其 將基板以垂直于所述第一軸的狀態(tài)進(jìn)行保持；支承構(gòu)件，其支承所述第一以 及第二保持機(jī)構(gòu)，并使所述第一以及第二保持機(jī)構(gòu)在所述第一軸的方向上重 疊；旋轉(zhuǎn)裝置，其使所述支承構(gòu)件與所述第一以及第二保持機(jī)構(gòu)一起圍繞與 所述第一軸近似垂直的第二軸一體地旋轉(zhuǎn)；搬運(yùn)裝置，其具有第一以及第二搬運(yùn)保持部，對(duì)所述反轉(zhuǎn)裝置搬入或搬 出基板。
6. 如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述第一保持機(jī)構(gòu)對(duì)基板的保持位置和所述第二保持機(jī)構(gòu)對(duì)基板的保持位置之間的距離，近似等于所述搬運(yùn)裝置的所述第一搬運(yùn)保持部對(duì)基板的 保持位置和所述第二搬運(yùn)保持部對(duì)基板的保持位置之間的距離。
7. 如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述第一以及第二保持機(jī)構(gòu)包括具有與所述第一軸垂直的一面以及另一面的共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，所述第一保持機(jī)構(gòu)包括-多個(gè)第一支承部，其設(shè)置在所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的所述一面上， 用于支承基板的外周部；第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，其以與所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的所述一面相對(duì)向的方式設(shè)置；多個(gè)第二支承部，其設(shè)置在所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與所述共用的反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的面上，用于支承基板的外周部；第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及所述共用的反轉(zhuǎn)保持 構(gòu)件中的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述 共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件在所述第一軸的方向上相互離開的狀態(tài)、或所述第一反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)， 所述第二保持機(jī)構(gòu)包括多個(gè)第三支承部，其設(shè)置在所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的所述另一面 上，用于支承基板的外周部；第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，其以與所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的所述另一面相 對(duì)向的方式設(shè)置；多個(gè)第四支承部，其設(shè)置在所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與所述共用的反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的面上，用于支承基板的外周部；第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及所述共用的反轉(zhuǎn)保持 構(gòu)件中的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述 共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件在所述第一軸的方向上相互離開的狀態(tài)、或所述第二反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)。
8. 如權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件具有所述搬運(yùn)裝置的所述第一以及第二搬運(yùn)保持部沿所述第一軸的 方向能夠通過的切口區(qū)域。
9. 如權(quán)利要求8所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述搬運(yùn)裝置包括使所述第一 以及第二搬運(yùn)保持部進(jìn)退的進(jìn)退機(jī)構(gòu)， 所述第一 以及第二搬運(yùn)保持部各自具有沿進(jìn)退方向延伸的多個(gè)保持部分，所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及所述第二反轉(zhuǎn)保 持構(gòu)件的切口區(qū)域包括所述第一以及第二搬運(yùn)保持部的所述多個(gè)保持部分 能夠通過的多個(gè)切口部。
10. 如權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述多個(gè)第一支承部的前端和所述多個(gè)第四支承部的前端之間的距離以及所述多個(gè)第二支承部的前端和所述多個(gè)第三支承部的前端之間的距離，設(shè)定為與所述搬運(yùn)裝置的所述第一搬運(yùn)保持部對(duì)基板的保持位置和所述第二搬運(yùn)保持部對(duì)基板的保持位置之間的距離近似相等。
11. 如權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件固定在所述支承構(gòu)件上，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件與所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu) 件相對(duì)地移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述共用的反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互離開的狀態(tài)、或所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述共用的反轉(zhuǎn)保 持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)，所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件與所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu) 件相對(duì)地移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述共用的反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互離開的狀態(tài)、或所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述共用的反轉(zhuǎn)保 持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)。
12. 如權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述共用的反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件包括第三反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，其以與所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的方式設(shè)置；第四反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，其以與所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相對(duì)向的方式設(shè)置，所述多個(gè)第一支承部設(shè)置在所述第三反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與所述第一反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件相對(duì)向的面上，所述多個(gè)第三支承部設(shè)置在所述第四反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的與所述第二反轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件對(duì)向的面上，第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及所述第三反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中 的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述第三反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互離開的狀態(tài)、或所述第一反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述第三反轉(zhuǎn)保持 構(gòu)件相互接近的狀態(tài)，第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及所述第四反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中 的至少一個(gè)移動(dòng)，以便有選擇地轉(zhuǎn)移到所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述第四反 轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互離開的狀態(tài)、或所述第二反轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和所述第四反轉(zhuǎn)保持 構(gòu)件相互接近的狀態(tài)。
13. 如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于， 該基板處理裝置還包括清洗基板背面的第一清洗處理部， 所述搬運(yùn)裝置在所述反轉(zhuǎn)裝置和所述第一清洗處理部之間搬運(yùn)基板。
14. 如權(quán)利要求13所述的基板處理裝置，其特征在于， 該基板處理裝置還包括清洗基板表面的第二清洗處理部， 所述搬運(yùn)裝置在所述反轉(zhuǎn)裝置、所述第一清洗處理部以及所述第二清洗處理部之間搬運(yùn)基板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置。反轉(zhuǎn)裝置包括固定板、以與固定板的一面相對(duì)向的方式設(shè)置的第一可動(dòng)板、以與固定板的另一面相對(duì)向的方式設(shè)置的第二可動(dòng)板以及旋轉(zhuǎn)式促動(dòng)器。旋轉(zhuǎn)式促動(dòng)器使第一可動(dòng)板、第二可動(dòng)板以及固定板圍繞水平軸旋轉(zhuǎn)。第一可動(dòng)板與固定板之間的距離以及第二可動(dòng)板與固定板之間的距離設(shè)定得與搬入搬出基板的主機(jī)械手的兩個(gè)手部的高度差大致相等。
文檔編號(hào)H01L21/687GK101211812SQ20071030811
公開日2008年7月2日 申請(qǐng)日期2007年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月27日
發(fā)明者光吉一郎 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社