專利名稱：基板處理裝置和基板處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對(duì)液晶顯示裝置用玻璃基板、PDP用玻璃基板、半導(dǎo)體晶片、 磁/光盤用玻璃/陶瓷基板等各種基板供給處理液而對(duì)基板進(jìn)行處理的基板處 理裝置和基板處理方法。
背景技術(shù)：
一直以來，在基板的制造工序中，向基板的表面供給處理液而對(duì)基板進(jìn) 行處理的基板處理裝置是眾所周知的。特別是，近些年來， 一直嘗試著向基 板表面供給包含微泡的處理液，以提高對(duì)基板的處理效果。如果使用包含微 泡處理液，則例如能夠高效地將附著在基板上的微粒除去。在這種現(xiàn)有基板處理裝置中，使用具有氣液混合泵、回旋加速器和分散 器的微泡發(fā)生裝置，或使用具有氣體溶解單元的微泡發(fā)生裝置，使微泡在處 理液中產(chǎn)生。專利文獻(xiàn)1 3披露了利用微泡的現(xiàn)有基板處理裝置。專利文獻(xiàn)l: JP特開2004—121962號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2: JP特開2005—93873號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3: JP特開2006—179764號(hào)公報(bào)然而由現(xiàn)有的微泡發(fā)生裝置所產(chǎn)生的微泡的尺寸具有以給定直徑為中 心大致正態(tài)分布狀的偏差，對(duì)其尺寸進(jìn)行控制很困難。因而不能向供給對(duì)象 的基板大量提供尺寸最佳的微泡。例如在基板的清洗工序中使用微泡時(shí)，無 法針對(duì)作為清除對(duì)象的微粒尺寸來大量提供尺寸最佳的微泡。從而利用現(xiàn)有 基板處理裝置，不一定能使微泡有效地對(duì)基板發(fā)揮作用。發(fā)明內(nèi)容鑒于上述情況，提出本發(fā)明，本發(fā)明的目的是提供一種使用包含微泡或 納米微泡的處理液的基板處理裝置和基板處理方法，能使微泡或納米微泡針 對(duì)基板有效地發(fā)揮作用。為了解決上述問題，本發(fā)明是一種基板處理裝置，利用包含微泡或納米微泡的處理液對(duì)基板進(jìn)行處理，其特征在于，包括氣泡產(chǎn)生單元，其在處 理液中產(chǎn)生微泡或納米微泡；尺寸調(diào)節(jié)單元，其對(duì)處理液中的微泡或納米微泡的尺寸進(jìn)行調(diào)節(jié)；處理液供給單元，其將包含微泡或納米微泡的處理液供 給到基板上。此外，在本發(fā)明的基板處理裝置中，上述處理液供給單元包括朝向基板噴出處理液的噴嘴、和用于將處理液向上述噴嘴壓送的配管，上述氣泡產(chǎn) 生單元具有將氣體注入上述配管內(nèi)的處理液中的氣體注入單元。此外，在本發(fā)明的基板處理裝置中，上述噴嘴將處理液以平面狀的飛沫 朝向基板噴出。此外，在本發(fā)明的基板處理裝置中，上述尺寸調(diào)節(jié)單元具有流量調(diào)節(jié)單 元，該流量調(diào)節(jié)單元對(duì)由上述氣體注入單元注入的氣體的流量進(jìn)行調(diào)節(jié)。此外，在本發(fā)明的基板處理裝置中，還具有氣泡數(shù)量調(diào)節(jié)單元，該氣泡 數(shù)量調(diào)節(jié)單元對(duì)供給到基板上的處理液中的微泡或納米微泡數(shù)量進(jìn)行調(diào)節(jié)。此外，在本發(fā)明的基板處理裝置中，上述氣泡數(shù)量調(diào)節(jié)單元具有壓力調(diào) 節(jié)單元，該壓力調(diào)節(jié)單元對(duì)在上述配管內(nèi)被壓送的處理液的壓力進(jìn)行調(diào)節(jié)。此外，在本發(fā)明的基板處理裝置中，上述處理液供給單元具有過濾器， 該過濾器安裝在上述配管上比上述氣體注入單元更靠上游側(cè)位置上。此外，本發(fā)明的另一方面是一種基板處理方法，利用包含微泡或納米微泡的處理液對(duì)基板進(jìn)行處理，其特征在于，包括下述工序氣泡產(chǎn)生工序， 在處理液中產(chǎn)生微泡或納米微泡；尺寸調(diào)節(jié)工序，對(duì)處理液中的微泡或納米微泡的尺寸進(jìn)行調(diào)節(jié)；處理液供給工序，將包含微泡或納米微泡的處理液供給到基板上。根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，基板處理裝置包括在處理液中產(chǎn)生微泡或納米微泡的氣泡產(chǎn)生單元；對(duì)處理液中的微泡或納米微泡的尺寸進(jìn)行調(diào)節(jié)的 尺寸調(diào)節(jié)單元；將包含微泡或納米微泡的處理液供給到基板上的處理液供給 單元。因而能使微泡或納米微泡對(duì)處理對(duì)象的基板有效地發(fā)揮作用。根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，處理液供給單元包括朝向基板噴出處理液 的噴嘴、和用于將處理液壓送到噴嘴內(nèi)的配管，氣泡產(chǎn)生單元具有將氣體注 入配管內(nèi)的處理液中的氣體注入單元。因而，注入到處理液中的氣體的一部 分溶解在處理液中，由從噴嘴噴出時(shí)的壓力低下而產(chǎn)生微泡或納米微泡。而 且，注入到處理液中的殘余氣體以氣泡狀態(tài)在配管內(nèi)流動(dòng)，在被壓送的處理 液中被剪斷而成為微泡或納米微泡。因而不使用大型的微泡產(chǎn)生裝置，以簡(jiǎn) 單的結(jié)構(gòu)能夠產(chǎn)生微泡或納米微泡。根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，噴嘴將處理液以平面狀的飛沫朝向基板噴 出。因而能夠無間隙地將清洗液供給到基板表面上，同時(shí)將給定的物理沖擊 施加在基板的上表面。根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，尺寸調(diào)節(jié)單元具有流量調(diào)節(jié)單元，該流量 調(diào)節(jié)單元對(duì)由氣體注入單元注入的氣體的流量進(jìn)行調(diào)節(jié)。因而通過對(duì)在配管 內(nèi)結(jié)合的微泡或納米微泡的數(shù)量進(jìn)行調(diào)節(jié)，能夠容易地對(duì)供給到基板上的微 泡或納米微泡的尺寸進(jìn)行控制。根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，基板處理裝置還包括氣泡數(shù)量調(diào)節(jié)單元， 該氣泡數(shù)量調(diào)節(jié)單元對(duì)供給到基板上的處理液中的微泡或納米微泡數(shù)量進(jìn) 行調(diào)節(jié)。因而能使微泡或納米微泡對(duì)處理對(duì)象的基板充分地發(fā)揮作用。根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，氣泡數(shù)量調(diào)節(jié)單元具有壓力調(diào)節(jié)單元，該 壓力調(diào)節(jié)單元對(duì)在配管內(nèi)被壓送的處理液的壓力進(jìn)行調(diào)節(jié)。因而能夠容易地 對(duì)供給到基板上的處理液中的微泡或納米微泡的數(shù)量進(jìn)行調(diào)節(jié)。根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，處理液供給單元具有過濾器，該過濾器安 裝在配管上比氣體注入單元更靠上游側(cè)位置上。因而能夠?qū)μ幚硪褐械漠愇?進(jìn)行過濾，供給清潔的處理液。而且，由于微泡或納米微泡在過濾器的下游 側(cè)產(chǎn)生，因而微泡或納米微泡不阻塞過濾器，能夠有效地將微泡或納米微泡 供給到基板上。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，基板處理方法包括在處理液中產(chǎn)生微泡或納米 微泡的氣泡產(chǎn)生工序；對(duì)處理液中的微泡或納米微泡的尺寸進(jìn)行調(diào)節(jié)的尺寸 調(diào)節(jié)工序；將包含微泡或納米微泡的處理液供給到基板的處理液供給工序。 因而，能使微泡或納米微泡對(duì)處理對(duì)象的基板有效地發(fā)揮作用。


圖1是示意性顯示本發(fā)明基板處理裝置的整體結(jié)構(gòu)的視圖；圖2是顯示微泡清洗處理部的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的視圖；圖3是部分顯示由噴頭噴出處理液情形的立體視圖； 圖4是顯示三通管和噴射部的連接結(jié)構(gòu)的視圖；圖5是顯示被供給到基板上的微泡尺寸分布的視圖。
具體實(shí)施方式
下文將參考附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行介紹。 〈1.基板處理系統(tǒng)的整體結(jié)構(gòu)〉圖1是示意性顯示本發(fā)明基板處理裝置1的整體結(jié)構(gòu)的視圖?；逄幚?裝置1是對(duì)液晶顯示裝置用的方形玻璃基板(下文簡(jiǎn)稱為"基板")9的表 面進(jìn)行清洗，并將附著在基板9上的有機(jī)物或微粒等異物除去的裝置。如圖 1所示，基板處理裝置1主要包括UV處理部10、清洗刷處理部20、置換水 洗部30、微泡清洗處理部40、沖洗處理部50。而且，基板處理裝置1包括 用于傳送基板9的多個(gè)傳送輥60，通過使多個(gè)傳送輥60轉(zhuǎn)動(dòng)，而沿圖中箭 頭AR方向傳送基板9。UV處理部10是對(duì)基板9的上表面照射紫外線，使附著在基板9上表面 上的有機(jī)物分解的處理部。UV處理部10朝向傳送輥60上的基板9的上表 面照射具有例如180 240nm波長(zhǎng)的紫外線。附著在基板9上表面上的有機(jī) 物在紫外線的照射下分解，并處于容易從基板9的上表面脫離的狀態(tài)。清洗刷處理部20是用于使在UV處理部10中被分解的分解物從基板9 的上表面脫離的處理部。清洗刷處理部20將清洗液供給到基板9的上表面 同時(shí)使清洗刷與基板9的上表面滑動(dòng)接觸，使上述分解物從基板9的上表面 充分脫離。而且供給到基板9上的清洗液也可以是清洗能力高的藥液，或也 可以是純水。置換水洗部30是用于對(duì)殘存在基板9上的清洗液或分解物等進(jìn)行沖洗 的處理部。置換水洗部30具有與純水供給源相連的圖中未示的噴嘴，通過 從該噴嘴向基板9的上表面噴出純水，來對(duì)基板9上的清洗液或分解物等進(jìn) 行沖洗。從而基板9的表面從被清洗液覆蓋狀態(tài)轉(zhuǎn)換為由純水覆蓋狀態(tài)。微泡清洗處理部40是利用包含微泡的清洗液將附著在基板9上表面上 的微小的微粒(例如0.1微米 數(shù)微米程度的微粒)除去的處理部。微泡清 洗處理部40從給定的噴嘴將包含70微米以下的微小的氣泡即微泡的清洗液 噴出，對(duì)附著在基板9上的微小的微粒進(jìn)行沖洗并將其除去。將在下文詳細(xì) 介紹微泡清洗處理部40的結(jié)構(gòu)。沖洗處理部50是用于將殘存在基板9上比偶面的清洗液沖走的處理部。 沖洗處理部50具有與純水供給源相連的圖中未示的噴嘴，通過從該噴嘴向 基板9的上表面噴出純水，對(duì)基板9上的清洗液進(jìn)行沖洗。從而基板9的表 面處于由純水覆蓋狀態(tài)。在這種基板處理裝置1中對(duì)基板9進(jìn)行處理時(shí)，使傳送輥60運(yùn)轉(zhuǎn)對(duì)基 板9進(jìn)行傳送，在UV處理部IO、清洗刷處理部20、置換水洗部30、微泡 清洗處理部40和沖洗處理部50中依次對(duì)基板9實(shí)施上述各種處理。 〈2.微泡清洗處理部〉圖2是顯示上述微泡清洗處理部40的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的視圖。如圖2所示， 微泡清洗處理部40包括設(shè)置在傳送輥60上方的噴頭(spraynozzle) 41、用 于將清洗液供給到噴頭41的清洗液供給部42。噴頭41具有沿與基板9的傳送方向垂直的水平方向延伸的柱狀外形。 在噴頭41的內(nèi)部形成了用于存儲(chǔ)清洗液的空洞，此外，在噴頭41的下部形 成了用于噴出清洗液的多個(gè)噴出孔41a。因而，從清洗液供給部42供給的清 洗液通過噴頭41內(nèi)的空洞從多個(gè)噴出孔41a噴出到基板9的上面。圖3是部分顯示由噴頭41噴出處理液情形的立體視圖。如圖3所示， 噴頭41的各個(gè)噴出孔41a沿與基板9的行進(jìn)方向(箭頭AR方向)正交方向 擴(kuò)散清洗液，將清洗液作為平面狀的飛沫噴出。因而，將清洗液無間隙地供 給到基板9的上表面。此外，通過供給清洗液，而將給定的物理沖擊施加到 基板9的上表面上。返回圖2，清洗液供給部42包括配管42a 42c、清洗液供給源42d 、 泵42e、過濾器42f、閥42g、三通管42h、氮?dú)夤┙o源42i、增壓閥42j、增 壓氣罐42k、閥421、流量計(jì)42m、噴射部42n。泵42e、閥42g、增壓閥42j、 以及閥421與由計(jì)算機(jī)構(gòu)成的控制部43電連接，根據(jù)來自控制部43的指令 動(dòng)作。此外，流量計(jì)42m和控制部43之間也進(jìn)行電連接，并向控制部傳送 流量計(jì)42m的計(jì)測(cè)結(jié)果。配管42a連接在清洗液供給源42d和三通管42h的第一孔口之間，并且 在配管42a的路徑中途設(shè)置有泵42e、過濾器42f和閥42g。因而，如果在開 放閥42g的同時(shí)使泵42e操作，則清洗液從清洗液供給源42d向配管42a內(nèi)
被供給，并路經(jīng)過濾器42f，被導(dǎo)入三通管42h的第一孔口。而且，清洗液 可以是氨水、SC1液、中性清洗劑、堿性清洗劑等清洗能力高的藥液，或也 可以是純水。在上述的泵42e中使用了高壓泵，因而，從清洗液供給源42d供給的清 洗液在高壓的作用下向下游側(cè)被壓送。而且，閥42g使用了開度調(diào)節(jié)閥。通 過調(diào)節(jié)閥42g的開度，調(diào)節(jié)清洗液的流量，從而在對(duì)清洗液的壓力進(jìn)行調(diào)節(jié) 的同時(shí)向下游側(cè)輸送清洗液。配管42b連接在氮?dú)夤┙o源42i和三通管42h的第二孔口之間，在配管 42b的路徑中途設(shè)置有增壓閥42j、增壓氣罐42k、閥421、以及流量計(jì)42m。 從氮?dú)夤┙o源42i供給的氮?dú)庥稍鰤洪y42j加壓，并被填充到增壓氣罐42k 內(nèi)。因而如果開放閥421，則填充到增壓氣罐42k內(nèi)的高壓氮?dú)馔窘?jīng)流量計(jì) 42m而被導(dǎo)入三通管42h的第二孔口 。配管42b通過噴射部42n與三通管42h的第二孔口相連，圖4是顯示三 通管42h和噴射部42n的連接結(jié)構(gòu)的視圖。如圖4所示，噴射部42n插入三 通管42h的內(nèi)部，在噴射部42n的前端附近形成有用于噴出氮?dú)獾男】?2o。 因而，從配管42b供給到噴射部42n的氮?dú)馔ㄟ^噴射部42n的小孔42o而在 三通管42h內(nèi)的清洗液中被噴出。噴射部42n例如由SUS等不銹鋼制成，小孔42o例如具有0.5毫米左右 的開口直徑。此外，以將小孔42o設(shè)置在三通管42h的管路中央附近的方式 來設(shè)置噴射部42n。因而，氮?dú)獾臍馀荼恢苯幼⑷肴ü?2h的管路的中央 附近，在管路內(nèi)均勻地被供給。閥421使用開度調(diào)節(jié)閥?？刂撇?3根據(jù)流量計(jì)42m的計(jì)測(cè)值，對(duì)閥421 的開度進(jìn)行調(diào)節(jié)， 一邊對(duì)氮?dú)鈮毫土髁窟M(jìn)行調(diào)節(jié)， 一邊將氮?dú)廨斔凸┙o到 噴射部42n。在三通管42h內(nèi)，將氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)得比清洗液的壓力稍高。因 而，三通管42h內(nèi)的清洗液不進(jìn)入噴射部42n內(nèi)，從而將氮?dú)饬己玫貒姵龅?三通管42h內(nèi)。被噴出到清洗液中的氮?dú)獾囊徊糠直患訅喝芙庥谇逑匆褐校?其它的氮?dú)庖詺馀莸臓顟B(tài)被輸送到下游側(cè)。配管42c連接在三通管42h的第三孔口和噴頭41之間，因而被引導(dǎo)到 三通管42h內(nèi)的清洗液和氮?dú)馔ㄟ^配管42c被供給到噴頭41，并從噴頭41 的噴出孔41a被排出。溶解在清洗液中的氮?dú)庥蓮膰姵隹?1a中被噴出時(shí)的 壓力調(diào)節(jié)而變得過飽和，并在清洗液中產(chǎn)生微小的微泡。另一方面，沒有溶解在清洗液中的氮?dú)獾臍馀菰谂涔?2c內(nèi)流動(dòng)途中、 在被壓送的清洗液中細(xì)細(xì)地被剪斷，變成多個(gè)微泡。于是由剪斷所產(chǎn)生的氣 泡也從噴頭41的噴出孔41a與清洗液一起被排出。因而在供給到基板9上 表面的清洗液中包含在配管42c的流路中途因剪斷而產(chǎn)生的微泡、和從噴頭 41被噴出時(shí)因過飽和而產(chǎn)生的微泡。圖5是顯示被供給到基板9上清洗液中微泡尺寸分布的視圖。如圖5所 示，微泡尺寸具有以某個(gè)直徑為中心的大致正態(tài)分布狀的偏差。如果調(diào)節(jié)閥 42g的開度使清洗液的流量增大，則如圖5中的箭頭71所示那樣，微泡的供 給數(shù)量也增加。相反如果調(diào)節(jié)閥42g的開度使清洗液的流量減少，則如圖5 中的箭頭72所示那樣，微泡的供給數(shù)量也減少。即，微泡清洗處理部40通 過調(diào)節(jié)清洗液的流量，能夠調(diào)節(jié)微泡的供給數(shù)量。而且，如果調(diào)節(jié)閥421的開度使氮?dú)獾牧髁吭黾樱瑒t以氣泡狀態(tài)殘存在 清洗液中的氮?dú)庠黾?。因而，在配?2c的流路中途由剪斷而產(chǎn)生的微泡數(shù) 量增加，微泡彼此結(jié)合而生成的尺寸稍大的微泡的數(shù)量增加。因而如圖5中 的箭頭73所示那樣，微泡的尺寸偏向大徑側(cè)。相反如果調(diào)節(jié)閥421的開度使 氮?dú)獾牧髁繙p少，則以氣泡狀態(tài)殘存在清洗液中的氮?dú)鈹?shù)量減少。因而，在 配管42c的流路中途由剪斷而產(chǎn)生的微泡數(shù)量減少，微泡彼此結(jié)合而生成的 尺寸稍大的微泡數(shù)量減少。因而如圖5中的箭頭74所示那樣，微泡的尺寸 偏向小徑側(cè)。S卩，微泡清洗處理部40通過調(diào)節(jié)氮?dú)獾牧髁?，能夠調(diào)節(jié)微泡 的尺寸。從噴頭41噴出的清洗液與基板9碰撞并對(duì)基板9的上表面施加物理沖 擊。而且，供給到基板9上表面的清洗液中的微泡在基板9的上表面上緩緩 縮小，并且其中的一部分消失(所謂的壓潰)。當(dāng)微泡壓潰時(shí)，微泡內(nèi)部被 斷熱壓縮，微泡變?yōu)楦邷?例如數(shù)千度)、高壓(例如數(shù)千大氣壓)的微小 區(qū)域(所謂的"熱點(diǎn)")并消失。因而，從熱點(diǎn)散發(fā)的能量作用在基板9的 上表面，使附著在基板9上表面上的微粒從基板9脫離。因而由清洗液的碰撞所引起的物理沖擊和由微泡的壓潰所散發(fā)的能量 作用于基板9的上表面，由該作用，微粒從基板9的上表面脫離。特別是由 清洗液的碰撞所引起的物理沖擊主要作用在大尺寸的微粒上，由微泡的壓潰
所散發(fā)的能量主要作用在小尺寸的微粒上，使不同微粒從基板9的上表面脫離。微泡具有吸附微粒的性質(zhì)。因而，從基板9脫離的微粒由未壓潰的微泡 吸附。由于各個(gè)氣泡的尺寸微小，因而微泡整體具有廣大的表面積(氣液界 面面積)。因而能夠有效地吸附在清洗液中浮游的微粒。而且由于微泡具有 帶電性，因而在靜電的作用下，也會(huì)吸引微粒，從而高效地吸附微粒。然后， 將吸附了微粒的微泡與清洗液一起排出到基板9的外部。如上所述，該微泡清洗處理部40通過將包含微泡的清洗液供給到基板9 的上表面，而使微粒從基板9的上表面脫離，脫離后的微粒與微泡一起向基 板9的外部排出。因而能夠高效地除去附著在基板9上的微粒。此外，由于 利用了微泡的清洗效果，因而能夠降低清洗液中的藥液濃度，從而能夠減輕 廢水處理和環(huán)境的負(fù)擔(dān)。此外，如上所述，該微泡清洗處理部40能夠調(diào)節(jié)清洗液所包含的微泡 的尺寸。因而，能夠?qū)?yīng)于作為除去對(duì)象的微粒的尺寸來大量地供給尺寸最 佳的微泡。例如，可以與多個(gè)工序相應(yīng)地，在大尺寸微粒多的工序中，將微 泡的尺寸設(shè)定得大，在應(yīng)該除去小尺寸微粒的工序中，將微泡的尺寸設(shè)定得 小。而且，本實(shí)施方式的微泡清洗處理部40通過使用噴射部42n將氮?dú)庾?入被壓送的清洗液中，在配管42c內(nèi)和噴出時(shí)產(chǎn)生微泡。因而，不使用目前 使用的大型的微泡產(chǎn)生裝置而用簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)就可以生成微泡。而且，與目前使用的將包含氣體和液體的流體供給到基板上的機(jī)構(gòu)即 "雙流體噴嘴"相比，本實(shí)施方式的微泡清洗處理部40能夠以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu) 供給清洗能力高的流體。也就是由于要將氣體和液體混合起來并將其噴出， 雙流體噴嘴的結(jié)構(gòu)復(fù)雜且造價(jià)高，而本實(shí)施方式的噴頭41卻可以做成僅從 噴出孔41a噴出清洗液的簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)。而且由于本實(shí)施方式的微泡清洗處理部 40只要使用現(xiàn)有的雙流體噴嘴的1/200程度的氣體(在上述實(shí)施方式中為氮 氣)，就能夠產(chǎn)生數(shù)量充足的微泡，因而能夠減少氣體的消耗量。此外，在上述的微泡清洗處理部中，將氮?dú)庾⑷氲竭^濾器42f下游側(cè)的 清洗液中，因而，在配管42c內(nèi)產(chǎn)生的微泡以不阻塞過濾器42f的方式抵達(dá) 噴頭41。因而，能夠?qū)⑴涔?2c內(nèi)產(chǎn)生的微泡高效地供給到基板9上。
〈3.變形例〉以上對(duì)本發(fā)明的一實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明并不局限于此。例如，上述的微泡清洗處理部40是將清洗液供給到基板9的上表面上的裝置， 但是也可以將清洗液供給到基板9的下表面?zhèn)?，或?qū)⑶逑匆汗┙o到基板9的 上下兩面。而且，在上述示例中，產(chǎn)生了氮?dú)鈿馀?，但是?gòu)成微泡的氣體也可以使 用氮?dú)庵獾臍怏w。但是只要使用氮?dú)饣驓鍤獾榷栊詺怏w，就能夠排除對(duì)基 板9產(chǎn)生諸如表面氧化等化學(xué)影響。而且，在上述示例中，作為引起壓潰現(xiàn)象程度的尺寸，對(duì)產(chǎn)生70微米 以下微泡的情況進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明中所產(chǎn)生的微泡并不局限于所謂的 微泡，也可以是更微小的納米微泡。由于納米微泡是產(chǎn)生時(shí)直徑不足1微米 的微泡，可以通過壓潰而獲得更高的能量，而且，能夠效率更高地吸附清洗 液中的微粒。而且，在上述示例中，對(duì)在除去了有機(jī)物后的微粒除去處理中使用微泡 的情形進(jìn)行了說明，但是也可以在清洗刷處理部20或置換水洗部30使用與 上述相同的清洗液供給部42,來供給包含微泡的清洗液。而且，也可以在實(shí) 施清洗之外處理的處理裝置上使用與上述的清洗液供給部42相同的處理液 供給部，來供給包含微泡的處理液。而且，在上述示例中，對(duì)以液晶顯示裝置用的方形玻璃基板9為處理對(duì) 象的情況進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明也可以以PDP用玻璃基板、半導(dǎo)體晶片、 磁/光盤用玻璃/陶瓷基板等其它基板作為處理對(duì)象。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，利用包含微泡或納米微泡的處理液對(duì)基板進(jìn)行處理，其特征在于，包括氣泡產(chǎn)生單元，其在處理液中產(chǎn)生微泡或納米微泡；尺寸調(diào)節(jié)單元，其對(duì)處理液中的微泡或納米微泡的尺寸進(jìn)行調(diào)節(jié)；處理液供給單元，其將包含微泡或納米微泡的處理液供給到基板上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述處理液供給單元包括朝向基板噴出處理液的噴嘴、和用于將處理液向上述噴嘴壓送的配管，上述氣泡產(chǎn)生單元具有將氣體注入上述配管內(nèi)的處理液中的氣體注入單元。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，上述噴嘴將處 理液以平面狀的飛沫朝向基板噴出。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，上述尺寸調(diào)節(jié) 單元具有流量調(diào)節(jié)單元，該流量調(diào)節(jié)單元對(duì)由上述氣體注入單元注入的氣體 的流量進(jìn)行調(diào)節(jié)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括氣泡數(shù) 量調(diào)節(jié)單元，該氣泡數(shù)量調(diào)節(jié)單元對(duì)供給到基板上的處理液中的微泡或納米 微泡的數(shù)量進(jìn)行調(diào)節(jié)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，上述氣泡數(shù)量 調(diào)節(jié)單元具有壓力調(diào)節(jié)單元，該壓力調(diào)節(jié)單元對(duì)在上述配管內(nèi)被壓送的處理 液的壓力進(jìn)行調(diào)節(jié)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，上述處理液供 給單元具有過濾器，該過濾器安裝在上述配管上比上述氣體注入單元更靠上 游側(cè)的位置上。
8. —種基板處理方法，利用包含微泡或納米微泡的處理液對(duì)基板進(jìn)行 處理，其特征在于，包括下述工序氣泡產(chǎn)生工序，在處理液中產(chǎn)生微泡或納米微泡； 尺寸調(diào)節(jié)工序，對(duì)處理液中的微泡或納米微泡的尺寸進(jìn)行調(diào)節(jié)； 處理液供給工序，將包含微泡或納米微泡的處理液供給到基板上。
全文摘要
本發(fā)明提供一種使用包含微泡或納米微泡的處理液的基板處理裝置和基板處理方法，能使微泡或納米微泡對(duì)基板有效地發(fā)揮作用。微泡清洗處理部(40)通過對(duì)注入到被壓送的清洗液中的氮?dú)獾牧髁窟M(jìn)行調(diào)節(jié)，能夠調(diào)節(jié)清洗液中所包含的微泡的尺寸。因而，能夠?qū)?yīng)于成為除去對(duì)象的微粒的尺寸，大量地供應(yīng)尺寸最佳的微泡，能夠使微泡對(duì)基板有效地發(fā)揮作用。
文檔編號(hào)H01L21/00GK101154566SQ20071016161
公開日2008年4月2日 申請(qǐng)日期2007年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月27日
發(fā)明者山本悟史, 川根旬平, 鹽田明仁, 鈴木聰 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社