專利名稱：液體處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種例如對(duì)半導(dǎo)體晶片等基板進(jìn)行既定的液體處理，例 如清洗處理的液體處理系統(tǒng).
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體器件的制造工藝與平板顯示器(FPD)的制造工藝中，大多 采用對(duì)作為被處理基板的半導(dǎo)體晶片或玻璃基板供給處理液來進(jìn)行液體 處理的工藝.作為這樣的工藝，例如可舉出對(duì)附著于基板的顆?；蛭?物等進(jìn)行除去的清洗處理、和光刻工序中的光致抗蝕劑液與顯影液的涂 敷處理等.
作為這樣的液體處理系統(tǒng)，使用具備單張式的多個(gè)處理單元、和向 這些處理單元進(jìn)行輸入輸出的輸送裝置的系統(tǒng).各處理單元將半導(dǎo)體晶 片等基板保持于旋轉(zhuǎn)卡盤，在使基板旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下向晶片的正面或正反 面供給處理液來進(jìn)行處理。為了抑制系統(tǒng)占地面積的增加并實(shí)現(xiàn)更高的 生產(chǎn)能力，多采用將上述處理單元層疊成多層的布局(例如特開2005 -93769號(hào)公報(bào)).
在這樣的液體處理系統(tǒng)中，針對(duì)每一處理液設(shè)置供給處理液(藥液) 的處理液供給單元，并針對(duì)每一處理液進(jìn)行循環(huán)供給'但是，在如上所 述層疊多個(gè)處理單元的情況下，當(dāng)循環(huán)供給處理液的配管迂回時(shí)，會(huì)產(chǎn) 生上下的起伏.因此，配管的設(shè)置變得復(fù)雜，且配管所占有的空間變大。 另外，從處理單元到集合排氣/集合排液的距離針對(duì)每一處理單元而不 同，因此產(chǎn)生難以進(jìn)行均勻處理的情況.

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種在具有多個(gè)處理單元的液體處理系統(tǒng) 中，能夠進(jìn)行進(jìn)一步的節(jié)省空間化的液體處理系統(tǒng).
本發(fā)明的另一目的在于，提供一種在具有多個(gè)處理單元的液體處理 系統(tǒng)中，能夠在處理單元之間進(jìn)行均勻的處理的液體處理系統(tǒng)。
本發(fā)明的第一技術(shù)方案提出一種液體處理系統(tǒng)，包括液體處理部，
水平設(shè)置有向基板供給處理液來進(jìn)行液體處理的多個(gè)液體處理單元；處 理液存留部，對(duì)向前述液體處理部的前述多個(gè)液體處理單元供給的處理 液進(jìn)行存留；和配管單元，具有從前述處理液存留部向前述多個(gè)液體處 理單元引導(dǎo)處理液的供給配管；前述處理液存留部、前述配管單元、以 及前述液體處理部從下方開始按該順序被設(shè)置在共用的框體內(nèi)，前述配 管單元的前述供給配管具有沿著前述多個(gè)液體處理單元的排列方向水平 延伸的水平配管部，處理液從前述水平配管部分別被導(dǎo)入前述液體處理 單元o
在上述第一技術(shù)方案中，前述液體處理單元可以通過分別設(shè)置有閥 的獨(dú)立的上升配管部與前述水平配管部分別連接.前述配管單元還可以
;配管部，該^液配管的水平配管部可以與前述供給配管的前述水平配 管部平行延伸.該情況下，為了對(duì)在前述排液配管中流動(dòng)的處理液的至 少一部分進(jìn)行再利用，可以還具備進(jìn)行回收的回收機(jī)構(gòu).前述配管單元
"^的^平配管部:該排氣配管的水平配管部可以:^述供給配管的前
述水平配管部平行延伸。
前述配管單元可具有水平設(shè)置的箱，前述水平配管部在該箱中延 伸.該情況下，還可具備對(duì)前述箱內(nèi)進(jìn)行排氣的排氣管.前述液體處理 部可以具有前述多個(gè)液體處理單元的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)被集中設(shè)置的驅(qū)動(dòng)區(qū)域. 該情況下，還可以具備對(duì)前述驅(qū)動(dòng)區(qū)域內(nèi)進(jìn)行排氣的排氣管.還可以具 備與前述液體處理部相鄰設(shè)置、構(gòu)成為能夠?qū)κ占{多張基板的基板收納 容器進(jìn)行載置的基板輸入輸出部，前述基板輸入輸出部向前述液體處理 部輸入前述基板收納容器內(nèi)的基板，并將前述液體處理部中處理后的基 板輸出到前述基板收納容器。
在上述第一技術(shù)方案中，前述液體處理系統(tǒng)可以構(gòu)成為，前述多個(gè) 液體處理單元具備相互平行設(shè)置的第一及第二列液體處理單元，前述水 平配管部具備沿著前述笫一及第二列液體處理單元各自的排列方向而延 伸的第一及第二水平配管部，前述第一及笫二水平配管部通過連接配管 部連接，前述處理液從前述處理液存留部按前述笫一水平配管部、前述 連接配管部、以及前述笫二水平配管部的順序流動(dòng)。
該情況下，前述笫一水平配管部、前述連接配管部以及前述笫二水
平配管部可相對(duì)前述處理液存留部形成使處理液循環(huán)的循環(huán)路徑.前述 第一及第二列液體處理單元被設(shè)置在輸送路徑的兩側(cè)，前述液體處理系 統(tǒng)還可以具備沿著前述輸送路徑移動(dòng)、將基板輸送給前述第 一及第二列 液體處理單元的輸送機(jī)構(gòu).前述連接配管部可以在前述輸送路徑的下側(cè) 通過.對(duì)前述輸送路徑進(jìn)行劃分的區(qū)域的底部可以位于比設(shè)置前述配管 單元的區(qū)域的底部靠向下側(cè)的位置.還具備向前述輸送路徑供給清潔空 氣的風(fēng)機(jī)過濾單元，前述液體處理單元分別具備從前述輸送路徑取入前 述清潔空氣的導(dǎo)入部.


圖1是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式所涉及的液體處理系統(tǒng)的概略構(gòu) 成的俯視圖，
圖2是沿著圖i的n - n線的正面?zhèn)鹊钠室晥D. 圖3是沿著圖i的m-in線的側(cè)面?zhèn)鹊钠室晥D。 圖4是表示圖i的液體處理系統(tǒng)中搭載的液體處理單元的概略構(gòu)成 的剖視圖.
圖5是表示使作為處理液的sci循環(huán)的環(huán)狀配管的設(shè)置狀態(tài)的概略圖。
圖6是用于說明圖1的液體處理系統(tǒng)的給/排氣系統(tǒng)的側(cè)面?zhèn)鹊钠室晥D.
具體實(shí)施例方式
下面，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。其中，在以下的說 明中，針對(duì)具有近似相同的功能及構(gòu)成的構(gòu)成要素賦予同 一附圖標(biāo)記， 僅在必要的情況下進(jìn)行重復(fù)說明。這里，舉例說明將本發(fā)明應(yīng)用于進(jìn)行 半導(dǎo)體晶片(下面簡單記做晶片)的正反面清洗的液體處理系統(tǒng)的情況。
圖1是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式所涉及的液體處理系統(tǒng)的概略構(gòu)
成的俯視圖.圖2是沿著圖i的n-n線的正面?zhèn)鹊钠室晥D，圖3是沿 著圖i的m-in線的側(cè)面?zhèn)鹊钠室晥D。
該液體處理系統(tǒng)ioo具備相互相鄰設(shè)置的輸入輸出站(基板輸入
輸出部)1和處理站(液體處理部)2.輸入輸出站1對(duì)容納多個(gè)晶片W 的晶片栽物臺(tái)C進(jìn)行栽置，執(zhí)行晶片W的輸入/輸出，處理站2構(gòu)成為對(duì) 晶片w實(shí)施清洗處理.
輸入輸出站1具有載物栽置部11、輸送晶片W的輸送部12和進(jìn)行晶 片W的交接的交接部13,栽物載置部11對(duì)以水平狀態(tài)容納多張晶片W 的晶片栽物臺(tái)C進(jìn)行栽置.輸送部12及交接部13被容納于框體14內(nèi)，
栽物載置部11能夠栽置4個(gè)晶片栽物臺(tái)C.被栽置的晶片栽物臺(tái)C 處于與框體14的垂直壁部緊密接觸的狀態(tài)，能夠不與大氣接觸地將其中 的晶片W輸入到輸送部12.
框體14具有垂直隔開輸送部12和交接部13的隔開部件14a.輸送 部12具有輸送機(jī)構(gòu)15、和設(shè)置在其上方的用于供給清潔空氣下降流的風(fēng) 機(jī)過濾單元(FFU) 16。輸送機(jī)構(gòu)15具有保持晶片W的晶片保持臂15a 和對(duì)其進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的機(jī)構(gòu).即，晶片保持臂15a能夠前后移動(dòng)，且能夠沿 著水平導(dǎo)向件17 (參照?qǐng)Dl)移動(dòng)，該水平導(dǎo)向件17在晶片栽物臺(tái)C的 排列方向即X方向延伸，晶片保持臂15a還能夠沿著在垂直方向設(shè)置的 垂直導(dǎo)向件18 (參照?qǐng)D2)移動(dòng)，且能夠在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn).通過該輸送 機(jī)構(gòu)15，能夠在晶片栽物臺(tái)C與交接部13之間榆送晶片W。
交接部13具有交接臺(tái)架(stage) 19、和設(shè)置于其上并具有多個(gè)能 夠栽置晶片W的栽置部的交接擱板20。其通過該交 19板20在與處理站 2之間進(jìn)行晶片W的交接。
處理站2具有呈長方體形狀的框體21.框體21內(nèi)，在其中央上部形 成有輸送室21a，該輸送室21a構(gòu)成在與晶片栽物臺(tái)C的排列方向即X 方向正交的Y方向延伸的輸送路徑.在輸送室21a的兩側(cè)設(shè)置有兩個(gè)單 元室21b、 21c.在單元室21b、 21c中分別沿著輸送室21a水平排列有 各6個(gè)共計(jì)12個(gè)液體處理單元22.
在框體21內(nèi)的單元室21b、 21c之下，分別設(shè)置有容納了各液體處 理單元22的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)區(qū)域21d、 21e。在這些驅(qū)動(dòng)區(qū)域21d、 21e 之下，分別設(shè)置有容納了配管的配管箱21f、 21g.而且，在配管箱21f、 21g之下，分別設(shè)置有作為處理液存留部的藥液供給單元21h、 21i.另 一方面，在輸送室21a的下方設(shè)置有用于排氣的排氣空間21J.
在輸送室21a的上方設(shè)置有風(fēng)機(jī)過濾單元(FFU) 23,向輸送室21a 供給清潔空氣的下降流。在輸送室21a的內(nèi)部設(shè)置有輸送機(jī)構(gòu)24。輸送 機(jī)構(gòu)24具有保持晶片W的晶片保持臂24a和對(duì)其進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的機(jī)構(gòu)。即， 晶片保持臂24a能夠前后移動(dòng)，且能夠沿著^:置于輸送室21a的水平導(dǎo)
向件25 (參照?qǐng)D1)在Y方向移動(dòng)，晶片保持臂24a還能夠沿著在垂直 方向設(shè)置的垂直導(dǎo)向件26 (參照?qǐng)D3)移動(dòng)，且能夠在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn). 通過該輸送機(jī)構(gòu)24，進(jìn)行晶片W相對(duì)于各液體處理單元22的輸入輸出.
另外，交接臺(tái)架19被設(shè)置在比栽物栽置部11高的位置，液體處理 單元22被設(shè)置在比交接臺(tái)架19高的位置.
在配管箱21f、 21g中水平設(shè)置有處理液配管組70、排液配管組71 及排氣配管組72.處理液配管組70具有例如供給氨水和過氧化氫混合 而形成的氨和過氧化氫水溶液(SC1)的SC1配管70a、供給稀氟酸(DHF) 的DHF配管70b、和供給純水的純水配管70c,另外，排液配管組71例 如具有用于對(duì)酸進(jìn)行排液的酸排液配管71a、用于對(duì)堿進(jìn)行排液的堿排 液配管71b、回收酸的酸回收配管71c和回i(fc^械的堿回收配管71d.并且， 排氣配管組72例如具有用于對(duì)酸進(jìn)行排氣的酸排氣配管72a、用于對(duì)堿 進(jìn)行排氣的堿排氣配管72b.
在藥液供給單元21h、 21i的輸入輸出站1側(cè)的端部，如圖2所示設(shè) 置有第一垂直配管區(qū)域27a,在相反側(cè)的端部設(shè)置有第二垂直配管區(qū)域 27b。
如圖4放大所示，液體處理單元22具有底板41、和能夠旋轉(zhuǎn)地保持 晶片W的晶片保持部42。該晶片保持部42通過旋轉(zhuǎn)馬達(dá)43而旋轉(zhuǎn)。按 照圍繞被保持于晶片保持部42的晶片W、且與晶片保持部42—同旋轉(zhuǎn)的 方式設(shè)置有旋轉(zhuǎn)杯體44.液體處理單元22還具有向晶片W的正面供給處 理液的正面處理液供給噴嘴45、和向晶片W的背面供給處理液的背面處 理液供給噴嘴46。并且，在旋轉(zhuǎn)杯體44的周緣部設(shè)置有排氣/排液部47。 另外，按照覆蓋排氣/排液部47的周圍及晶片W的上方的方式設(shè)置有殼 體48。在殼體48的上部設(shè)置有將來自風(fēng)機(jī)過濾單元(FFU) 23的氣流導(dǎo) 入的氣流導(dǎo)入部49，向被保持于晶片保持部42的晶片W供給清潔空氣的 下降流。如圖3所示，在該氣流導(dǎo)入部49中形成有與輸送室21a連接的 開口 49a，可從該開口 49a導(dǎo)入氣流.
晶片保持部42具有水平設(shè)置的呈圃板狀的旋轉(zhuǎn)板51、和與其背面的 中心部連接且向下方垂直延伸的圓筒狀旋轉(zhuǎn)軸52,在旋轉(zhuǎn)板51的中心部 形成有與旋轉(zhuǎn)軸52內(nèi)的孔52a連通的圓形孔51a,
具備背面處理液供給噴嘴46的升降部件53被設(shè)置成能夠在孔52a 及孔51a內(nèi)升降.在旋轉(zhuǎn)板51上設(shè)置有對(duì)晶片W的外緣進(jìn)行保持的三個(gè)
(僅圖示l個(gè))保持部件54.
旋轉(zhuǎn)軸52經(jīng)由具有兩個(gè)軸承55a的軸承部件55被可旋轉(zhuǎn)地支承于 底板41.帶輪56嵌入在旋轉(zhuǎn)軸52的下端部，傳送帶57巻繞于帶輪56. 傳送帶57還被巻繞于安裝在馬達(dá)43的軸上的帶輪58.而且，通過使馬 達(dá)43旋轉(zhuǎn)，經(jīng)由帶輪58、傳送帶57及帶輪56使旋轉(zhuǎn)軸52旋轉(zhuǎn)。
在升降部件53的上端部設(shè)置有具有晶片支承銷65的晶片支承臺(tái) 64.而且，在升降部件53的下端經(jīng)由連接部件66連接有壓力缸機(jī)構(gòu)67, 通過利用該壓力缸機(jī)構(gòu)67使升降部件53升降來使晶片W升降，從而進(jìn) 行晶片W的裝栽及卸栽.
正面處理液供給噴嘴45被噴嘴臂62保持.通過利用未圖示的驅(qū)動(dòng) 機(jī)構(gòu)使噴嘴臂62移動(dòng)，能夠在晶片W上方的處理液供給位置與退避位置 之間移動(dòng)正面處理液供給噴嘴45.從正面處理液供給噴嘴45向晶片W 的正面供給處理液.背面處理液供給噴嘴46被垂直設(shè)置在升降部件53 內(nèi)部的中心.從背面處理液供給噴嘴46向晶片W的背面供給處理液.經(jīng) 由垂直配管68向正面處理液供給噴嘴45及背面處理液供給噴嘴46供給 處理液,垂直配管68分別經(jīng)由閥80a ~ 80c與水平設(shè)置在上述配管箱21f 或21g內(nèi)的構(gòu)成上述處理液配管組70的三根配管70a ~ 70c連接，
旋轉(zhuǎn)杯體44與旋轉(zhuǎn)板51 —同旋轉(zhuǎn)，抑制從晶片W飛散的處理液返 回到晶片W，將處理液向下方引導(dǎo).旋轉(zhuǎn)杯體44與旋轉(zhuǎn)板51之間，在與 晶片W大致相同高度的位置夾設(shè)有呈板狀的導(dǎo)向部件87.導(dǎo)向部件87 被設(shè)置成其正反面與晶片W的正反面近似連續(xù)，具有防止從晶片W飛散 的處理液發(fā)生亂流化而抑制霧沫飛散的功能.
排氣/排液部47主要用于對(duì)從被旋轉(zhuǎn)板51和旋轉(zhuǎn)杯體44圍繞的空 間排出的氣體及液體進(jìn)行回收.排氣/排液部47包括接收從旋轉(zhuǎn)杯體 44排出的處理液并呈環(huán)狀的排液杯體91;和在排液杯體91的外側(cè)被設(shè) 置成圍繞排液杯體91并呈環(huán)狀的排氣杯體92。排液杯體91具有對(duì)從旋 轉(zhuǎn)杯體44導(dǎo)出的處理液進(jìn)行接收的主部91a、和對(duì)從保持部件54滴落 的處理液進(jìn)行接收的副部91b。在該主部91a與副部91b之間由用于防 止氣流紊亂的垂直壁93隔開.
排液管94與排液杯體91底部的最外側(cè)部分連接，排液切換部83與 排液管94連接，能夠根據(jù)處理液的種類進(jìn)行劃分。從^^液切換部83向 垂直下方延伸著用于排出酸排液的酸排出管84a 、用于排出堿的堿排出管
84b、用于回收酸的酸回收管84c和用于回j)^喊的堿回收管84d.這些管 分別與排液配管組71的酸排液配管71a、堿排液配管71b、酸回收配管 71c、堿回收配管71d連接.在酸排出管84a、堿排出管84b、酸回收管 84c、堿回收管84d上分別設(shè)置有閥85a、 85b、 "c、 "d,
排氣杯體92從與旋轉(zhuǎn)杯體44之間的呈環(huán)狀的間隙將氣體成分主要 取入到旋轉(zhuǎn)杯體44內(nèi)及其周圍進(jìn)行排氣.另外，對(duì)酸進(jìn)行氺一氣的酸排氣 管95a、對(duì)堿進(jìn)行排氣的堿排氣管95b與排氣杯體92的下部連接。這些 酸排氣管95a、堿排氣管95b分別與排氣配管組72的酸排氣配管72a、 堿排氣配管72b連接。在酸排氣管95a、堿排氣管95b上分別設(shè)置有閥 86a、 86b,
這樣，處理液經(jīng)由旋轉(zhuǎn)杯體44被導(dǎo)向排液杯體91,氣體成分被導(dǎo)向 排氣杯體92.由于來自排液杯體91的排液和來自排氣杯體92的排氣可 獨(dú)立進(jìn)行，所以，能夠在分離排液和排氣的狀態(tài)下進(jìn)行引導(dǎo).另外，即 使從排液杯體91漏出霧沫，由于排氣杯體92閨繞著其周圍，所以也會(huì) 被迅速排出，能夠可靠地防止霧沫向外部漏出.因此，可以減小晶片W 周邊部與排液杯體91及排氣杯體92的間隙，從而可使液體處理單元22 小型化。
藥液供給單元21h被設(shè)置在輸入輸出站1側(cè)，具有對(duì)例如混合了氨 水與過氧化氬的氨和過氧化氫水溶液(SC1 )進(jìn)行存留的第一藥液容器101 (參照?qǐng)D2).藥液供給單元21h還具有與第一藥液容器101相鄰的第 一回收容器102 (參照?qǐng)D2).
如圖2所示，送出管103與第一藥液容器101的側(cè)壁下部連接，用 于從其中送出藥液。用于令藥液返回的返回管104與笫一藥液容器101 的側(cè)壁上部連接。在送出管103上設(shè)置有泵103a，并且與從藥液供給單 元21h內(nèi)的第一垂直配管區(qū)域27a延伸的連接管105連接.該連接管105 與水平"S:置在配管箱21f內(nèi)的處理液配管組70的SC1配管70a的一端側(cè) 連接，而且，從第一垂直配管區(qū)域27a延伸的運(yùn)送配管(渡9配管)106 與返回管104連接'另一方面，運(yùn)送配管107與SC1配管70a的另一端 側(cè)連接'該運(yùn)送配管107在第二垂直配管區(qū)域27a內(nèi)向下方延伸.
基于上述圖2、圖3及作為處理站2的示意立體圖的圖5，對(duì)包括該 運(yùn)送配管106及107的藥液供給路徑進(jìn)行說明.運(yùn)送配管107在藥液供 給單元21h的第二垂直配管區(qū)域27b中向下方延伸.接著，配管107從
笫二垂直配管區(qū)域27b的下部水平通過排氣空間21j，延伸到藥液供給 單元21i的第二垂直配管區(qū)域27b.接著，配管107在藥液供給單元21i 的第二垂直配管區(qū)域27b中上升，與配管箱21g內(nèi)的SC1配管70a連接' 另一方面，運(yùn)送配管106在藥液供給單元21h的笫一垂直配管區(qū)域27a 中向下方延伸.接著，配管106從第一垂直配管區(qū)域27a的下部水平通 過排氣空間21j,向藥液供給單元21i的第一垂直配管區(qū)域27a延伸. 接著，配管106在藥液供給單元21i的第一垂直配管區(qū)域27a內(nèi)上升， 與配管箱21g內(nèi)的SC1配管70a連接.
即，第一藥液容器101的SC1經(jīng)過送出管103及連接管105到達(dá)配 管箱21f內(nèi)的SC1配管70a,接著，SC1在該配管箱21f內(nèi)的SC1配管 70a內(nèi)流過，并被供給到單元室21b內(nèi)的各液體處理單元22.另夕卜，SC1 通過運(yùn)送配管107到達(dá)配管箱21g內(nèi)的SC1配管70a,接著，SC1在該配 管箱21g內(nèi)的SC1配管70a中流過，并被供給到單元室21c內(nèi)的各液體 處理單元22。此外，SC1還經(jīng)由運(yùn)送配管106及返回管l(M返回到第一 藥液容器101.這樣，構(gòu)成了來自第一藥液容器101的SC1的循環(huán)路徑。
另一方面，如圖2所示，用于回收處理后的藥液的配管108與第一 回收容器102連接。該配管108在第二垂直配管區(qū)域27b中垂直延伸， 與排液配管組71的堿回收配管71d連接，由此，對(duì)從液體處理單元22 排出的堿排液進(jìn)行回收。
第一回收容器102與笫一藥液容器101通過連接配管109連接.在 連接配管109上設(shè)置有泵110，在對(duì)回收到笫一回收容器102的藥液進(jìn) 行凈化處理后，能夠令其返回到第一藥液容器101.
藥液供給配管111與笫一藥液容器101的上部連接，混合器112與 該藥液供給配管111連接.純水配管113、氨配管114及過氧化氫配管 115與混合器112連接.通過混合器112使得純水、氨和過氧化氫混合， 并將氨和過氧化氫水溶液供給到第一藥液容器101中.在純水配管113 上設(shè)置有流量控制器(LFC) 116a及閥116b,在氨配管114上設(shè)置有流 量控制器(LFC) 117a及閥117b。在過氧化氫配管115上i殳置有流量控 制器(LFC) 118a及閥118b.
藥液供給單元21 i被設(shè)置在輸入輸出站1側(cè)，具有對(duì)例如稀氟酸 (DHF)進(jìn)行存留的第二藥液容器121 (參照?qǐng)D3).藥液供給單元211 還具有與第二藥液容器121相鄰的第二回收容器(未圖示).該第二藥
液容器121的DHF也與來自笫一藥液容器101的SC1同樣，能夠通過配 管箱21f 、 21g內(nèi)的DHF配管70b和運(yùn)送配管等進(jìn)行循環(huán)供給.另外，DHF 向第二回收容器的回收通過酸回收配管71c及配管122 (參照?qǐng)D2)與 SC1向第一回收容器102的回收同樣地進(jìn)行.
此外，除了這些藥液清洗之外，還進(jìn)行基于純水的漂洗及干燥。此 時(shí)，純水從未圖示的純水供給源通過純水配管70c而被供給.而且，雖 然未進(jìn)行圖示，但N2氣等干燥氣體也能夠從噴嘴45、 46進(jìn)行供給。
設(shè)置在配管箱21f、 21g的排液配管組71中的酸排液配管71a、堿 排液配管71b分別與排水配管123 (圖2中僅圖示了一根)連接.該排 水配管123通過第一垂直配管區(qū)域27a向下方延伸.并且，這些來自酸 排液配管71a、堿排液配管71b的排液通過排水配管123作為排水被廢 棄到地下的工廠配管.
圖6是用于說明圖1的液體處理系統(tǒng)100的給/排氣系統(tǒng)的側(cè)面?zhèn)鹊?剖視圖。
前述FFU23將清潔空氣供給到輸送室21a內(nèi)，其一部分從輸送室21a 被導(dǎo)入到單元室21b、 21c及液體處理單元22的氣流導(dǎo)入部49,導(dǎo)入到 單元室21b、 21c中的清潔空氣進(jìn)而被導(dǎo)入到驅(qū)動(dòng)區(qū)域21d、 He.排氣 管73與驅(qū)動(dòng)區(qū)域21d、 21e連接.在單元室21b、 21c中產(chǎn)生的顆粒及主 要在驅(qū)動(dòng)區(qū)域21d、 21e中由驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)產(chǎn)生的顆粒等，能夠經(jīng)由該排氣管 73被強(qiáng)制排氣。
另外，從氣流導(dǎo)入部49導(dǎo)入的清潔空氣如上所述被供給到液體處理 單元22內(nèi)的晶片W。而且，該清潔空氣也如上所述，從液體處理單元22 的排氣杯體92向設(shè)置在配管箱21f 、 21g中的糸夂氣配管組72的酸排氣配 管72a、堿排氣配管72b，分別供給酸排氣、堿排氣.配管箱21f、 21g 連接著用于在其中進(jìn)行排氣的排氣管74.并且，用于對(duì)從輸送室21a流 動(dòng)而來的氣流進(jìn)行排氣的兩個(gè)排氣管75和76、對(duì)通過輸送機(jī)構(gòu)24的內(nèi) 部而來的氣流進(jìn)行排氣的輸送驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)排氣管77，與排氣空間21j的底 部連接。
如圖2所示，排氣配管組72、排氣管73、 74、 75、 76、輸送驅(qū)動(dòng)系 統(tǒng)排氣管77從框體21的側(cè)面向外部延伸而出，并且朝向下方延伸，與 地下的工廠配管連接。
在如此構(gòu)成的液體處理系統(tǒng)100中，首先反復(fù)進(jìn)行下述動(dòng)作通過
輸送機(jī)構(gòu)15從栽置于輸入輸出站1的載物栽置部11上的栽物臺(tái)C取出 一張晶片W,將其栽置于交接臺(tái)架19上的交接擱板20的載置部.栽置于
輸入到任意一個(gè)液體處理單元22中.
在液體處理單元22中，通過保持部件54對(duì)晶片W進(jìn)行夾持，利用 馬達(dá)43使晶片保持部42與旋轉(zhuǎn)杯體44及晶片W—同旋轉(zhuǎn).與此同時(shí)， 從正面處理液供給噴嘴45及背面處理液供給噴嘴46供給處理液，進(jìn)行 晶片W的正反面清洗.作為此時(shí)的處理液，使用清洗藥液，例如使用SC1、 DHF的任意一種或雙方，在以SC1進(jìn)行清洗時(shí)，按照從第一藥液容器101 經(jīng)由送出管103、連接管105、配管箱21f內(nèi)的SC1配管70a、運(yùn)送配管 107、配管箱21g內(nèi)的SC1配管70a、運(yùn)送配管106、返回管104而返回 到第一藥液容器101的方式使SC1循環(huán)，并且，從SCl配管70a向各液 體處理單元22供給SC1.另外，在以DHF進(jìn)行清洗時(shí)，從第二藥液容器 121開始通過配管箱21f、 21g內(nèi)的包括DHF配管70b的配管組使DHF同 樣地循環(huán)，并從DHF配管70b向各液體處理單元22供給DHF。然后，在 這樣的清洗處理之后，從純水配管70c向各處理單元22供給純水，進(jìn)行 純水漂洗，然后，根據(jù)需要進(jìn)行N2干燥，從而結(jié)束清洗處理.
在這樣的清洗處理時(shí)，使用完畢的處理液從排液杯體91到達(dá)排液配 管組71，使得酸及堿被部分回收，其他被廢棄.另外，伴隨處理而產(chǎn)生 的氣體成分從排氣杯體92到達(dá)排氣配管組72，從而被^^氣.
在如此進(jìn)行過液體處理之后，通過輸送機(jī)構(gòu)24從液體處理單元22 輸出晶片W，將其栽置到交接臺(tái)架19的交接擱板20。這些晶片W通過輸 送機(jī)構(gòu)15從交接擱板20返回到栽物臺(tái)C,
如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式，在框體21內(nèi)水平設(shè)置多個(gè)液體處理單 元22構(gòu)成單元室21b、 21c，在其下方設(shè)置配管箱21f 、 21g,進(jìn)而在配 管箱21f 、 21g的下方設(shè)置藥液供給單元21h、 21i。另外，在配管箱21f 、 21g內(nèi)水平i殳置處理液配管組70,從處理液配管組70的各處理液配管向 各液體處理單元22導(dǎo)出處理液。由此，可盡可能抑制配管的起伏實(shí)現(xiàn)緊 湊化，從而不僅可實(shí)現(xiàn)節(jié)省空間化，還能夠在液體處理單元22之間進(jìn)行 均勻的處理。并且，用于對(duì)從各液體處理單元22排出的處理液進(jìn)行排液 的排液配管組71、及將來自各液體處理單元22的排氣向系統(tǒng)外導(dǎo)出的排 氣配管組72，也水平設(shè)置在配管箱21f、 21g內(nèi).由此，可進(jìn)一步縮小
配管空間.
在被輸送室21a隔開的單元室21b、21c下方分別設(shè)置的配管箱2lf 、 21g中，水平設(shè)置有處理液配管組70.通過分別連接運(yùn)送配管等，使處 理液配管組70的SC1配管70a、 DHF配管70b等成為環(huán)狀配管. 一邊在 該環(huán)狀配管內(nèi)循環(huán)一邊從該配管向各液體處理單元22供給SCl、 DHF等 處理液.由此，可避免配管的設(shè)置變得復(fù)雜，使得配管構(gòu)成極其簡單， 可顯著縮小配管空間.
并且，由于配管被集中于配管箱21f、 21g，且被緊湊化，所以，可 以采用設(shè)置排氣管來集中排氣的簡單方法。由此，可對(duì)配管部分進(jìn)行集 中排氣，實(shí)現(xiàn)高效的顆粒解決方法.
另外，由于從風(fēng)機(jī)過濾單元(FFU)23向輸送室21a內(nèi)供給清潔空氣
的下降流進(jìn)行排氣，所以，可將輸送室21a保持清潔.而且，會(huì)將該清 潔空氣導(dǎo)向單元室21b、 21c從驅(qū)動(dòng)區(qū)域21d、 21e進(jìn)行排氣.并且，還 會(huì)將該清潔空氣導(dǎo)向液體處理單元，形成下降流.由此，液體處理單元 22的內(nèi)部及其周圍可以作為清潔的氣氛，排除了顆粒的影響.
而且，通過縮小配管空間，還可以在系統(tǒng)內(nèi)設(shè)置對(duì)排液進(jìn)行回收的 回收容器.由此，盡管設(shè)為能夠排液回收的構(gòu)成，但可成為極度緊湊的
系
另外，本發(fā)明不限定于上述實(shí)施方式，還能夠進(jìn)行各種變形.例 如，作為處理液表示了利用SC1、 DHF的例子，但本發(fā)明不限定于此. 而且，液體處理單元的構(gòu)成也不限定于上述實(shí)施方式，例如也可以只 是進(jìn)行正面清洗或背面清洗的結(jié)構(gòu).并且，對(duì)于液體處理而言也不限 定于清洗處理，可以是抗蝕劑液涂敷處理或其之后的顯影處理等、其 他的液體處理.此外，在上述實(shí)施方式中舉例說明了采用半導(dǎo)體晶片 作為被處理基板的情況，但也能夠適用于以液晶顯示裝置(LCD)用的 玻璃基板為代表的平板顯示器(FPD)用的基板等、其他的基板。
權(quán)利要求
1、一種液體處理系統(tǒng)，其特征在于，包括液體處理部(21b)，水平設(shè)置有向基板(W)供給處理液來進(jìn)行液體處理的多個(gè)液體處理單元(22)；處理液存留部(21h)，對(duì)向前述液體處理部的前述多個(gè)液體處理單元供給的處理液進(jìn)行存留；和配管單元(21f)，具有從前述處理液存留部向前述多個(gè)液體處理單元引導(dǎo)處理液的供給配管；前述處理液存留部、前述配管單元、以及前述液體處理部從下方開始按該順序被設(shè)置在共用的框體(21)內(nèi)，前述配管單元的前述供給配管具有沿著前述多個(gè)液體處理單元的排列方向水平延伸的水平配管部(70a)，處理液從前述水平配管部分別被導(dǎo)入前述液體處理單元。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 前述液體處理單元(22)通過分別設(shè)置有閥(80a)的獨(dú)立的上升配管部與前述水平配管部(70a)分別連接，
3、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 前述配管單元(21f )還具有對(duì)分別從前述液體處理單元(22 )排出的處理液進(jìn)行排液的排液配管的水平配管部(71a)，該排液配管的水平 配管部與前述供給配管的前述水平配管部(70a)平行延伸.
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 為了對(duì)在前述排液配管中流動(dòng)的處理液的至少一部分進(jìn)行再利用，還具備進(jìn)行回收的回收機(jī)構(gòu)(102),
5、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 前述配管單元(21f )還具有將從前述液體處理單元(22 )分別排出的排氣向系統(tǒng)外導(dǎo)出的排氣配管的水平配管部(72a)，該排氣配管的水 平配管部與前述供給配管(70)的前述水平配管部(70a)平行延伸.
6、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 前述配管單元(21f )具有水平設(shè)置的箱，前述水平配管部(70a)在該箱中延伸。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 還具備對(duì)前述箱內(nèi)進(jìn)行排氣的排氣管(74).
8、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 前述液體處理部(21b)具有前述多個(gè)液體處理單元(22)的驅(qū)動(dòng)系 統(tǒng)被集中設(shè)置的驅(qū)動(dòng)區(qū)域(21d).
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 還具備對(duì)前述驅(qū)動(dòng)區(qū)域內(nèi)進(jìn)行排氣的排氣管(73).
10、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 還具備與前述液體處理部(21b)相鄰設(shè)置、構(gòu)成為能夠?qū)κ占{多張基板(W)的基板收納容器(C)進(jìn)行栽置的基板輸入輸出部(1),前述 基板輸入輸出部向前述液體處理部輸入前述基板收納容器內(nèi)的基板，并 將前述液體處理部中處理后的基板輸出到前述基板收納容器.
11、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 前述多個(gè)液體處理單元(22)具備相互平行設(shè)置的笫一及第二列液體處理單元(21b、 21c)，前述水平配管部(70a)具備沿著前述第一及笫二列液體處理單元各 自的排列方向而延伸的笫一及第二水平配管部(70a)，前述第一及笫二水平配管部通過連接配管部(107)連接，前述處理 液從前述處理液存留部(2lh)按前述第一水平配管部、前述連接配管部、 以及前述第二水平配管部的順序流動(dòng).
12、 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 前述第一水平配管部(70a)、前述連接配管部(107)以及前述笫二水平配管部(70a)相對(duì)前述處理液存留部(21h)形成使處理液循環(huán) 的循環(huán)路徑.
13、 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 前述笫一及笫二列液體處理單元(21b、 21c)被設(shè)置在輸送路徑(21a)的兩側(cè)，前述液體處理系統(tǒng)還具備沿著前述輸送路徑移動(dòng)、將基 板(W)輸送給前述笫一及第二列液體處理單元的輸送機(jī)構(gòu)(24).
14、 根據(jù)權(quán)利要求13所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 前述連接配管部(107)在前述輸送路徑(21a)的下側(cè)通過，
15、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 對(duì)前述輸送路徑(21a )進(jìn)行劃分的區(qū)域的底部位于比設(shè)置前述配管單元(21f )的區(qū)域的底部靠向下側(cè)。
16、 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的液體處理系統(tǒng)，其特征在于， 還具備向前述輸送路徑(21a)供給清潔空氣的風(fēng)機(jī)過濾單元 (23)，前述液體處理單元(22)分別具備從前述輸送路徑取入前述 清潔空氣的導(dǎo)入部(49)。
全文摘要
一種液體處理系統(tǒng)，包括液體處理部(21b)，水平設(shè)置有向基板(W)供給處理液來進(jìn)行液體處理的多個(gè)液體處理單元(22)；處理液存留部(21h)，對(duì)向液體處理部的多個(gè)液體處理單元供給的處理液進(jìn)行存留；配管單元(21f)，具有從處理液存留部向多個(gè)液體處理單元引導(dǎo)處理液的供給配管；和容納液體處理部、處理液存留部及配管單元的共用的框體(21)。處理液存留部、配管單元、及液體處理部從下方開始按該順序被設(shè)置，配管單元的供給配管具有沿著多個(gè)液體處理單元的排列方向水平延伸的水平配管部(70a)，處理液從水平配管部分別被導(dǎo)入液體處理單元。
文檔編號(hào)H01L21/306GK101114579SQ20071013810
公開日2008年1月30日 申請(qǐng)日期2007年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月26日
發(fā)明者伊藤規(guī)宏, 戶島孝之, 松本和久, 金子聰, 飽本正己 申請(qǐng)人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社