專利名稱：硅片制品缺陷分析方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，涉及硅片檢測(cè)技術(shù)，特別涉及一種硅片 制品缺陷分析方法及裝置。
技術(shù)背景在半導(dǎo)體生產(chǎn)線上普遍使用的硅片缺陷分析方式如圖1所示，在工藝 過(guò)程結(jié)束硅片制品取出之后，抽取樣品，利用專門的缺陷分析設(shè)備，根據(jù) 預(yù)先制作完成的標(biāo)準(zhǔn)缺陷分析文件，將要樣品硅片制品逐枚進(jìn)行掃描，將 掃描出的圖形與標(biāo)準(zhǔn)缺陷分析文件的標(biāo)準(zhǔn)圖形進(jìn)行比較，辨別出硅片缺 陷。如果硅片制品不存在缺陷，未超規(guī)格，則進(jìn)行下一步工藝，如果硅片 制品存在缺陷，超規(guī)格，則進(jìn)行報(bào)警，對(duì)該批硅片制品全數(shù)進(jìn)行檢査并進(jìn) 行原因分析后再進(jìn)行下一步工藝。但是這種傳統(tǒng)的缺陷分析方法有如下缺點(diǎn):首先它對(duì)異常缺陷的反應(yīng) 不及時(shí)，在硅片制品制作工藝過(guò)程結(jié)束后一段時(shí)間，才開(kāi)始對(duì)硅片制品進(jìn) 行缺陷分析，如果是由于硅片制品制作設(shè)備異常引起的缺陷，不能及時(shí)反 應(yīng)出來(lái)；其次，這種缺陷分析方法中缺陷分析設(shè)備每次只能對(duì)一枚硅片進(jìn) 行分析，生產(chǎn)效率低，對(duì)于大批量的生產(chǎn)線硅片制品，只能進(jìn)行抽樣調(diào)查， 不能全面反映硅片制品出現(xiàn)的異常；由于要先做出標(biāo)準(zhǔn)圖形，對(duì)標(biāo)準(zhǔn)文件 制作的水平要求較高，且在缺陷分析設(shè)備硬件上需要保留大量的標(biāo)準(zhǔn)文 件，對(duì)硬件的存儲(chǔ)量要求較高
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是能夠?qū)Υ笈抗杵破愤M(jìn)行缺陷分析。 為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種硅片制品缺陷分析方法，采 用的技術(shù)方案包括以下步驟步驟一，將待進(jìn)行缺陷分析的一組相同硅片制品進(jìn)行位置調(diào)整； 步驟二，對(duì)所述一組硅片制品的相同位置圖形進(jìn)行掃描；步驟三，將掃描得到的所述一組硅片制品的相同位置的圖形進(jìn)行對(duì)比 分析，鑒別出圖形存在的異常；步驟四，根據(jù)某一硅片制品的圖形異常程度確定該硅片制品的缺陷存 在情況。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供的一種硅片制品缺陷分析裝置，包 括硅片位移裝置、 一組掃描鏡頭、步進(jìn)馬達(dá)、圖形比較識(shí)別系統(tǒng)；硅片位 移裝置用于放置待檢測(cè)的多枚相同硅片制品，并控制硅片制品的位置；所 述一組掃描鏡頭置于檢測(cè)的一組硅片制品之間，在步進(jìn)馬達(dá)的控制下對(duì)所 述多枚硅片制品進(jìn)行掃描，各掃描鏡頭同時(shí)掃描所述硅片制品的相同位 置，圖形比較識(shí)別系統(tǒng)對(duì)掃描得到相同位置圖形進(jìn)行對(duì)比分析，輸出缺陷 分析信號(hào)。本發(fā)明另外還提供了一種硅片制品缺陷分析方法，該方法先對(duì)具有重 復(fù)圖形單元的硅片制品的各單元掃描；比較掃描得到的各單元的圖形的差 異；根據(jù)各個(gè)單元圖形的差異分析硅片制品存在的缺陷。本發(fā)明通過(guò)對(duì)多枚硅片的相同位置圖形同時(shí)掃描，或?qū)蚊吨破返闹?復(fù)單元圖形進(jìn)行掃描，比較多組圖形的差異來(lái)實(shí)現(xiàn)缺陷分析，不需要制作 標(biāo)準(zhǔn)圖形文件，僅記錄每種制品的單元圖形尺寸，能充分節(jié)約硬件的存儲(chǔ) 空間。通過(guò)生產(chǎn)系統(tǒng)提供的單元圖形結(jié)構(gòu)的尺寸，步進(jìn)馬達(dá)控制光學(xué)攝像 系統(tǒng)的位移，以保證每次記錄的圖形的重復(fù)性和可比性，可以同時(shí)對(duì)一批 制品進(jìn)行掃描分析，在產(chǎn)品出現(xiàn)異常時(shí)及時(shí)通知生產(chǎn)控制系統(tǒng)，有效提高 異常的報(bào)警的效率。通過(guò)對(duì)相同制品的相同位置的圖形比較，每次缺陷的 檢查可以掃描到每一枚制品，比傳統(tǒng)的抽樣檢査的準(zhǔn)確性更高。


下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。圖1是現(xiàn)有的硅片制品缺陷分析流程圖；圖2是本發(fā)明一實(shí)施方式流程圖；圖3是硅片位移裝置進(jìn)行硅片對(duì)準(zhǔn)示意圖；圖4是硅片位移裝置使硅片水平位移擴(kuò)大硅片間距示意圖；圖5是硅片位移裝置使硅片垂直位移擴(kuò)大硅片間距示意圖；圖6是硅片制品缺陷分析裝置一實(shí)施例示意圖；圖7是硅片制品表面掃描路徑一實(shí)施例示意圖。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明的硅片制品缺陷分析方法一實(shí)施方式如圖2所示，在硅片制品 制作工藝過(guò)程中， 一批硅片制品的相同位置的圖形應(yīng)當(dāng)是相同的，將一組相同硅片制品(如3枚到25枚)放置于硅片位移裝置上，使該組相同硅片制品的相同位置相對(duì)應(yīng)，并調(diào)整各硅片制品間的距離，以使一組掃描鏡 頭置于該組硅片制品之間，同時(shí)對(duì)該組相同硅片制品的相同位置圖形進(jìn)行 掃描，然后利用專門的缺陷分析設(shè)備對(duì)該組相同硅片制品的相同位置掃描
得到的圖形進(jìn)行對(duì)比，發(fā)現(xiàn)圖形中存在的偏差和異常，即找出該組硅片制 品中某一硅片制品的一單元圖形同該組硅片制品中絕大部分相同位置單 元圖形的不同，并根據(jù)存在的偏差和異常情況進(jìn)行分析判斷，是否存在超 規(guī)格的硅片制品，如果存在，就給出實(shí)時(shí)反饋信號(hào)，通知生產(chǎn)控制系統(tǒng)， 對(duì)超規(guī)格硅片制品進(jìn)行相應(yīng)處理，如果不存在，就進(jìn)行下一步工藝處理。 該硅片制品缺陷分析的方法，可以用于硅片制品的批量生產(chǎn)工藝過(guò)程中，用于對(duì)6， 8， 12, 18等英寸的硅片制品進(jìn)行在線缺陷分析。實(shí)現(xiàn)上述方法的硅片制品缺陷分析裝置的一實(shí)施方式，包括一硅片位 移裝置、 一組掃描鏡頭、步進(jìn)馬達(dá)、圖形比較識(shí)別系統(tǒng)，硅片位移裝置用 于放置待檢測(cè)的一組硅片制品，并控制硅片制品的位置， 一組掃描鏡頭置 于檢測(cè)的一組硅片制品之間，在步進(jìn)馬達(dá)的控制下對(duì)所述一組硅片制品進(jìn) 行掃描，各掃描鏡頭同時(shí)掃描所述硅片制品的相同位置，圖形比較識(shí)別系 統(tǒng)對(duì)掃描得到圖形進(jìn)行對(duì)比分析，輸出缺陷分析信號(hào)。硅片位移裝置如圖 3所示，包括一硅片承載舟12、 一硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸13，該硅片承載舟12有 多個(gè)硅片承載槽用于放置硅片11，所述硅片承載槽之間的水平距離可調(diào)， 所述硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸13直徑小于硅片11對(duì)準(zhǔn)缺口寬度，沿軸向位于所述硅 片承載舟12下面中間，同硅片承載舟底部12的距離可變；將硅片ll豎 直放置于多個(gè)硅片承載槽中；豎直置于硅片承載槽中的硅片11下沿壓在 硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸13上，硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸13滾動(dòng)，硅片ll隨之轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)硅片 11的對(duì)準(zhǔn)缺口轉(zhuǎn)到硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸13時(shí)，硅片11在重力作用下鎖定于硅 片對(duì)準(zhǔn)滾軸13上停止轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)所有的硅片11都鎖定于硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸13 上停止轉(zhuǎn)動(dòng)后完成硅片11的對(duì)準(zhǔn)，硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸13下移脫離已完成對(duì)準(zhǔn) 的硅片。如圖4所示，可以調(diào)整硅片承載舟12的硅片承載槽間的水平距 離，將硅片ll之間距離移開(kāi)，使一組光學(xué)鏡頭組能在置于硅片承載槽上 的一組硅片制品間移動(dòng)并且保證鏡頭與硅片制品間無(wú)物理接觸；如圖5 所示，硅片位移裝置在上方還有一機(jī)械手14，硅片對(duì)準(zhǔn)后，上方機(jī)械手14下降，抓起間隔的硅片，奇數(shù)或偶數(shù)枚，將一半硅片提起，使硅片間距離為正常距離的兩倍，以使一組光學(xué)鏡頭組能在置于硅片承載槽上的一組硅片制品間移動(dòng)并且保證鏡頭與硅片制品間無(wú)物理接觸。如圖6所示， 一組光學(xué)鏡頭26通過(guò)鏡頭支架25固定于一鏡頭組合機(jī)械手24之上，各 鏡頭置于待檢測(cè)的硅片制品11之間，一步進(jìn)馬達(dá)控制組合機(jī)械手24的移 動(dòng)，從而可以帶動(dòng)該組光學(xué)鏡頭26同步移動(dòng)，對(duì)該組相同硅片制品的相 同位置同時(shí)進(jìn)行掃描。一實(shí)施方式中，在步進(jìn)馬達(dá)的控制下，硅片制品表面掃描的路徑如圖 7所示，在通過(guò)硅片位移裝置將待檢測(cè)的一組硅片制品進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)位移后， 將一組掃描鏡頭置于該組待檢測(cè)分析的硅片之間，該組硅片中的每一枚硅 片都有一掃描鏡頭相對(duì)應(yīng)，硅片制品待檢測(cè)分析的一面劃分為若干單元， 初始時(shí)各掃描鏡頭對(duì)準(zhǔn)該組硅片的最靠近左上的一個(gè)單元，開(kāi)始掃描后各 掃描鏡頭在步進(jìn)馬達(dá)的控制下，從左到右依次沿縱向和橫向迂回對(duì)各單元 完成掃描。控制掃描鏡頭移動(dòng)的步進(jìn)馬達(dá)可以和生產(chǎn)系統(tǒng)主機(jī)連線，根據(jù) 生產(chǎn)系統(tǒng)提供的硅片制品的品種和單元圖形的尺寸，來(lái)定義光學(xué)鏡頭的移 動(dòng)步幅。硅片制品缺陷分析裝置的一實(shí)施方式中，硅片位移裝置可以放置 1 25枚硅片制品，實(shí)現(xiàn)硅片的對(duì)準(zhǔn)和間距的調(diào)整，與硅片位移裝置相對(duì) 應(yīng)，可以將13個(gè)或25個(gè)光學(xué)鏡頭固定于一機(jī)械手上組成一微觀光學(xué)鏡頭
組，光學(xué)鏡頭的長(zhǎng)度為0. 5到1厘米，鏡頭之間的距離為1到1.5厘米，以避免鏡頭接觸到硅片的表面，例如硅片位移裝置設(shè)有25個(gè)硅片承載槽， 一組掃描鏡頭由25個(gè)光學(xué)鏡頭組成，用于對(duì)進(jìn)行水平位移調(diào)整的硅片進(jìn) 行掃描；又如硅片位移裝置設(shè)有25個(gè)硅片承載槽， 一組掃描鏡頭由13 個(gè)光學(xué)鏡頭組成，用于對(duì)進(jìn)行垂直位移調(diào)整的硅片進(jìn)行掃描。本發(fā)明的硅片制品缺陷分析裝置，可以獨(dú)立使用，也可以安裝在對(duì)硅 片制品進(jìn)行批量處理的工藝設(shè)備出口或入口位置，對(duì)進(jìn)行工藝處理過(guò)程中 的硅片制品進(jìn)行實(shí)時(shí)缺陷分析。所述圖形比較識(shí)別系統(tǒng)，可以和生產(chǎn)系統(tǒng) 連線，檢查到缺陷時(shí)可及時(shí)傳輸信號(hào)給生產(chǎn)控制系統(tǒng)主機(jī)，存在超規(guī)格缺 陷制品時(shí)向生產(chǎn)控制系統(tǒng)報(bào)警，并可統(tǒng)計(jì)出各種不同種類硅片制品在不同 工藝步驟中的缺陷特征，提高缺陷類型的分析效率。作為本發(fā)明的一實(shí)施例，在一對(duì)硅片制品進(jìn)行批量處理的工藝設(shè)備出 口位置，將剛剛經(jīng)過(guò)該工藝處理步驟的18枚相同的硅片制品置于一硅片 位移裝置上，調(diào)整該硅片位移裝置使該組硅片制品的相同位置對(duì)準(zhǔn)，然后 將該18枚硅片進(jìn)行水平位移，使相鄰兩枚硅片之間的距離可以容納掃描 鏡頭；25個(gè)光學(xué)鏡頭組成的一組光學(xué)鏡頭的18個(gè)光學(xué)鏡頭置于18枚硅 片制品之間，當(dāng)制品進(jìn)入工藝設(shè)備時(shí)，設(shè)備會(huì)通過(guò)條碼讀碼器讀出該制品 的批號(hào)，枚數(shù)位置，所處的工藝步驟等信息，并與生產(chǎn)系統(tǒng)主機(jī)進(jìn)行核對(duì)， 根據(jù)生產(chǎn)系統(tǒng)主機(jī)確認(rèn)的硅片制品所在的位置，18個(gè)置有硅片制品的位 置的掃描鏡頭被打開(kāi)，而另外7個(gè)未置有硅片制品的位置的掃描鏡頭關(guān) 閉，以避免干擾，每個(gè)打開(kāi)的光學(xué)鏡頭對(duì)準(zhǔn)一枚硅片制品待檢測(cè)分析面的 掃描起始位置單元，實(shí)現(xiàn)一 (掃描鏡頭)對(duì)一 (硅片制品)，將25個(gè)光學(xué) 鏡頭固定于一機(jī)械手上，步進(jìn)馬達(dá)同生產(chǎn)控制系統(tǒng)主機(jī)相連，從生產(chǎn)控制 系統(tǒng)提取硅片制品產(chǎn)品信息，.包括產(chǎn)品名稱，批號(hào)，單元結(jié)構(gòu)的尺寸，根 據(jù)產(chǎn)品的單位尺寸定義控制鏡頭運(yùn)動(dòng)馬達(dá)的步進(jìn)幅度，控制機(jī)械手帶動(dòng)18個(gè)掃描鏡頭對(duì)18枚硅片制品沿縱向和橫向迂回進(jìn)行掃描，對(duì)18枚硅 片制品同時(shí)進(jìn)行掃描，利用圖像記錄系統(tǒng)，同時(shí)記錄對(duì)該18枚硅片制品 的每次步進(jìn)掃描到的圖形，將批圖形傳至計(jì)算機(jī)圖形比較識(shí)別系統(tǒng)，進(jìn)行 圖形的對(duì)比分析，找出圖形中與絕大多數(shù)相同位置單元圖形不同的異常點(diǎn) 的位置和大小，當(dāng)整個(gè)硅片的掃描完成后，根據(jù)計(jì)算機(jī)記錄的硅片圖形出 現(xiàn)的異常，同一硅片上的異常的大小和數(shù)量，來(lái)判斷這18枚硅片制品中 缺陷的存在情況，并判斷是否有硅片存在超規(guī)格的缺陷，如果有硅片存在 超規(guī)格的缺陷，計(jì)算機(jī)將通知生產(chǎn)控制系統(tǒng)進(jìn)行報(bào)警。本實(shí)施例中，硅片 位移裝置也可以將18枚硅片中的奇數(shù)位置和偶數(shù)位置的各9枚硅片進(jìn)行 垂直方向的移動(dòng)，形成奇、偶兩組，兩組硅片分別進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)并使硅片間距 可以使掃描鏡頭在期間移動(dòng)，然后將9個(gè)光學(xué)鏡頭組成的一組光學(xué)鏡頭置 于9枚硅片制品之間分別對(duì)奇、偶兩組硅片進(jìn)行掃描?；谕懊娴膶?shí)施例相同的技術(shù)構(gòu)思，對(duì)具有重復(fù)單元圖形的單枚硅片 制品，可以通過(guò)比較對(duì)該單枚硅片制品的各單元進(jìn)行掃描得到的單元圖形， 根據(jù)應(yīng)當(dāng)具有相同圖形的各單元的圖形之間存在的差異，判斷具有重復(fù)單 元圖形的單枚硅片制品是否存在缺陷?？梢栽O(shè)計(jì)一種硅片制品缺陷分析裝 置，用于對(duì)具有重復(fù)圖形單元的硅片制品進(jìn)行缺陷分析，包括掃描鏡頭、 步進(jìn)馬達(dá)、圖形比較識(shí)別系統(tǒng)，步進(jìn)馬達(dá)控制掃描鏡頭對(duì)所述硅片制品各 個(gè)單元依次掃描，圖形比較識(shí)別系統(tǒng)接收掃描到的各單元圖形并進(jìn)行對(duì)比
分析，根據(jù)各個(gè)單元圖形的差異分析硅片制品存在的缺陷；步進(jìn)馬達(dá)可以 同生產(chǎn)系統(tǒng)主機(jī)相連，生產(chǎn)控制系統(tǒng)主機(jī)根據(jù)待進(jìn)行缺陷分析的硅片制品 的品種和單元圖形的尺寸輸出步幅信號(hào)到步進(jìn)馬達(dá)；圖形比較識(shí)別系統(tǒng)輸 出缺陷分析信號(hào)可以到生產(chǎn)控制系統(tǒng)主機(jī)，檢查到缺陷時(shí)可及時(shí)傳輸信號(hào) 給生產(chǎn)控制系統(tǒng)主機(jī)，存在超規(guī)格缺陷制品向生產(chǎn)控制系統(tǒng)報(bào)警，并可統(tǒng) 計(jì)出各種不同種類硅片制品在不同工藝步驟中的缺陷特征，提高缺陷類型 的分析效率。本發(fā)明通過(guò)對(duì)多枚硅片的相同位置圖形同時(shí)掃描，或?qū)蚊吨破返闹?復(fù)單元圖形進(jìn)行掃描，比較多組圖形的差異來(lái)實(shí)現(xiàn)缺陷分析，不需要制作 標(biāo)準(zhǔn)圖形文件，僅記錄每種制品的單元圖形尺寸，能充分節(jié)約硬件的存儲(chǔ) 空間。通過(guò)生產(chǎn)系統(tǒng)提供的單元圖形結(jié)構(gòu)的尺寸，步進(jìn)馬達(dá)控制光學(xué)攝像 系統(tǒng)的位移，以保證每次記錄的圖形的重復(fù)性和可比性，可以同時(shí)對(duì)一批 制品進(jìn)行掃描分析，在產(chǎn)品出現(xiàn)異常時(shí)及時(shí)通知生產(chǎn)控制系統(tǒng)，有效提高 異常的報(bào)警的效率。通過(guò)對(duì)相同制品的相同位置的圖形比較，每次缺陷的 檢查可以掃描到每一枚制品，比傳統(tǒng)的抽樣檢査的準(zhǔn)確性更高。將多次缺陷出現(xiàn)的硅片制品、工藝步驟、位置及時(shí)傳輸給生產(chǎn)系統(tǒng)， 可以幫助工程師進(jìn)行分類統(tǒng)計(jì)，快速査找缺陷出現(xiàn)的原因。對(duì)同一產(chǎn)品， 同一工程步驟的缺陷統(tǒng)計(jì)，可以找出工藝設(shè)備或制品集成的缺陷，預(yù)防和 減少同類異常的出現(xiàn)。
權(quán)利要求
1、一種硅片制品缺陷分析方法，用于對(duì)多枚相同硅片制品進(jìn)行缺陷分析，其特征在于，包括以下步驟步驟一，將待進(jìn)行缺陷分析的一組相同硅片制品進(jìn)行位置調(diào)整；步驟二，對(duì)所述一組硅片制品的相同位置圖形進(jìn)行掃描；步驟三，將掃描得到的所述一組硅片制品的相同位置的圖形進(jìn)行對(duì)比分析，鑒別出圖形存在的異常；步驟四，根據(jù)某一硅片制品的圖形異常程度確定該硅片制品的缺陷存在情況。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的硅片制品缺陷分析方法，其特征在于，進(jìn) 行缺陷分析的一組硅片制品的個(gè)數(shù)為3枚到25枚。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅片制品缺陷分析方法，其特征在于，通 過(guò)步進(jìn)馬達(dá)控制一組掃描鏡頭對(duì)經(jīng)過(guò)位置調(diào)整的一組硅片制品的相同位置 進(jìn)行掃描。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅片制品缺陷分析方法，其特征在于，在 硅片制品批量進(jìn)行工藝處理過(guò)程中對(duì)硅片制品進(jìn)行缺陷分析。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的硅片制品缺陷分析方法，其特征在于，利用 圖形比較識(shí)別系統(tǒng)統(tǒng)計(jì)各種不同硅片制品在不同工藝步驟的缺陷特征。
6、 一種硅片制品缺陷分析裝置，其特征在于，包括硅片位移裝置、 一組掃描鏡頭、步進(jìn)馬達(dá)、圖形比較識(shí)別系統(tǒng)；硅片位移裝置用于放置待 檢測(cè)的多枚相同硅片制品，并控制硅片制品的位置；所述一組掃描鏡頭置于檢測(cè)的一組硅片制品之間，在步進(jìn)馬達(dá)的控制下對(duì)所述多枚硅片制品進(jìn) 行掃描，各掃描鏡頭同時(shí)掃描所述硅片制品的相同位置，圖形比較識(shí)別系 統(tǒng)對(duì)掃描得到相同位置圖形進(jìn)行對(duì)比分析，輸出缺陷分析信號(hào)。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片制品缺陷分析裝置，其特征在于，硅片位移裝置，控制多枚硅片制品的對(duì)準(zhǔn)及其位置間距，使所述多枚硅片制 品的相同位置相對(duì)應(yīng)，一組掃描鏡頭能在硅片制品之間與硅片無(wú)物理接觸 移動(dòng)。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的硅片制品缺陷分析裝置，其特征在于，所 述硅片位移裝置，包括一硅片承載舟、 一硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸，該硅片承載舟有 多個(gè)硅片承載槽用于放置硅片，所述硅片承載槽之間的水平距離可調(diào)，所述硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸直徑小于硅片對(duì)準(zhǔn)缺口寬度，沿軸向位于所述硅片承載舟下面，同硅片承載舟底部的距離可變；進(jìn)行硅片對(duì)準(zhǔn)時(shí)硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸同所 有豎直置于硅片承載槽中的硅片下沿接觸將硅片托起一定高度并滾動(dòng)，硅 片隨之轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)硅片的對(duì)準(zhǔn)缺口轉(zhuǎn)到硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸時(shí)在重力作用下鎖定于 硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸上停止轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)所有的硅片都鎖定于硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸上停止轉(zhuǎn) 動(dòng)后完成硅片的對(duì)準(zhǔn)，硅片對(duì)準(zhǔn)滾軸移動(dòng)脫離硅片。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的硅片制品缺陷分析裝置，其特征在于，所述硅片位移裝置，還包括一機(jī)械手，該機(jī)械手能抓起相隔位置的硅片，使 多枚硅片制品的奇數(shù)位置或偶數(shù)位置的硅片制品進(jìn)行垂直方向的移動(dòng)。
10、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片制品缺陷分析裝置，其特征在于，所 述一組掃描鏡頭通過(guò)一個(gè)機(jī)械手來(lái)固定，步進(jìn)馬達(dá)控制機(jī)械手的移動(dòng)。
11、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的硅片制品缺陷分析裝置，其特征在于，所述硅片位移裝置設(shè)有25個(gè)硅片承載槽，一組掃描鏡頭由25個(gè)光學(xué)鏡頭組 成，光學(xué)鏡頭的長(zhǎng)度為0.5厘米，鏡頭之間的距離為l厘米。
12、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的硅片制品缺陷分析裝置，其特征在于，所 述硅片位移裝置設(shè)有25個(gè)硅片制品承載槽， 一組掃描鏡頭由13個(gè)光學(xué)鏡 頭組成，光學(xué)鏡頭的長(zhǎng)度為0.5厘米，鏡頭之間的距離為l厘米。
13、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片制品缺陷分析裝置，其特征在于，圖 形比較識(shí)別系統(tǒng)輸出缺陷分析信號(hào)到生產(chǎn)控制系統(tǒng)主機(jī)。
14、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片制品缺陷分析裝置，其特征在于，步 進(jìn)馬達(dá)同生產(chǎn)系統(tǒng)主機(jī)相連，生產(chǎn)控制系統(tǒng)主機(jī)根據(jù)待進(jìn)行缺陷分析的硅 片制品的品種和單元圖形的尺寸輸出步幅信號(hào)到步進(jìn)馬達(dá)。
15、 一種硅片制品缺陷分析方法，用于對(duì)具有重復(fù)圖形單元的硅片制 品進(jìn)行缺陷分析，其特征在于，對(duì)具有重復(fù)圖形單元的硅片制品的各單元 掃描；比較掃描得到的各單元圖形的差異；根據(jù)各個(gè)單元圖形的差異分析 硅片制品存在的缺陷。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種硅片制品缺陷分析方法，用于對(duì)多枚相同硅片制品進(jìn)行缺陷分析，首先將待進(jìn)行缺陷分析的一組相同硅片制品進(jìn)行位置調(diào)整，然后對(duì)所述一組硅片制品的相同位置圖形進(jìn)行掃描，將掃描得到的所述一組硅片制品的相同位置的圖形進(jìn)行對(duì)比分析，鑒別出圖形存在的異常，最后根據(jù)某一硅片制品的圖形異常程度確定該硅片制品的缺陷存在情況；本發(fā)明還公開(kāi)了一種硅片制品缺陷分析裝置，包括硅片位移裝置、一組掃描鏡頭、步進(jìn)馬達(dá)、圖形比較識(shí)別系統(tǒng)；本發(fā)明還公開(kāi)了另一種硅片制品缺陷分析方法，用于對(duì)具有重復(fù)圖形單元的硅片制品進(jìn)行缺陷分析。采用本發(fā)明能夠?qū)Υ笈抗杵破愤M(jìn)行缺陷分析。
文檔編號(hào)H01L21/66GK101398393SQ20071009410
公開(kāi)日2009年4月1日 申請(qǐng)日期2007年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月28日
發(fā)明者強(qiáng) 伍, 張擎雪 申請(qǐng)人:上海華虹Nec電子有限公司