亚洲成年人黄色一级片,日本香港三级亚洲三级,黄色成人小视频,国产青草视频,国产一区二区久久精品,91在线免费公开视频,成年轻人网站色直接看

等離子處理裝置的制作方法

文檔序號:7220445閱讀:140來源:國知局
專利名稱:等離子處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種通過將襯底用作目標(biāo)而實現(xiàn)等離子處理的等離子處理裝置。
背景技術(shù)
等離子處理公知為表面處理方法,例如對其上安裝有電子器件的襯底進行清洗和蝕刻。在該等離子處理中,例如清洗的表面處理通過等離子的蝕刻作用來實現(xiàn),這通過將襯底安裝在減壓氣氛下的處理腔中并且造成在處理腔中發(fā)生等離子放電而產(chǎn)生。設(shè)置襯底引導(dǎo)機構(gòu)以在載入和載出期間引導(dǎo)襯底并且在等離子處理期間將襯底保持在適當(dāng)?shù)奈恢煤头轿?例如,參考日本專利出版物JP-A-10-140376和JP-A-10-223725)。
在JP-A-10-140376中,襯底的側(cè)端表面由沿襯底運輸方向設(shè)置的條形引導(dǎo)構(gòu)件引導(dǎo),并且引導(dǎo)構(gòu)件的安裝位置相應(yīng)于用作目標(biāo)的襯底的寬度尺寸而變化。另外,在JP-A-10-223725中,還用作在其上安裝襯底的安裝部的電極制造成能夠引導(dǎo)襯底側(cè)端部的形狀,并且每次用作目標(biāo)的襯底發(fā)生變化時,安裝部相應(yīng)于襯底而被更換。
近年,樹脂襯底越來越多地被用作安裝襯底。由于樹脂襯底較薄并且可彎曲,所以樹脂襯底具有這樣的特性,即,很可能在樹脂襯底和該樹脂襯底安裝在其上的電極之間形成間隙,以使得很可能發(fā)生例如不正常放電的故障。為此,在將這樣的樹脂襯底用作目標(biāo)的等離子處理裝置中,已使用這樣的布置,即襯底安裝在其上的電極的上表面覆蓋有難以產(chǎn)生放電的材料,例如用于防止不正常放電目的的陶瓷。
然而,在布置成電極上表面如此覆蓋有陶瓷的等離子處理裝置中,如果采用例如上述的襯底引導(dǎo)機構(gòu),那么會遇到如下的故障。即,如果在各種這樣的情況通過螺栓連接來安裝陶瓷引導(dǎo)體,由于陶瓷是非常脆而易斷裂的材料,所以引導(dǎo)構(gòu)件容易在螺栓連接部斷裂并且不能承受重復(fù)使用,以使得該布置難以得到實際的使用。
另外,如果采用在專利文獻2中所示的方法,那么必須為每種襯底制備陶瓷制成的安裝部,從而不可避免地造成運作成本上升。因此,在傳統(tǒng)的等離子處理裝置中,存在這樣的問題,即,在將例如樹脂襯底的薄類型襯底用作目標(biāo)的情況中,難以實現(xiàn)能夠有效地防止不正常放電的襯底引導(dǎo)機構(gòu)。

發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的是提供一種等離子處理裝置,其能夠通過將薄類型襯底用作目標(biāo)而防止出現(xiàn)不正常放電。
根據(jù)本發(fā)明的等離子處理裝置是通過將襯底容納在處理腔中而對其表面進行等離子處理的等離子處理裝置,其包括基部,該基部形成所述處理腔的底部;電極部,該電極部經(jīng)由絕緣體安裝在所述基部上,并且其上表面暴露在所述處理腔中;襯底安裝部,該襯底安裝部構(gòu)成所述電極部的上部并且其上表面由陶瓷覆蓋;等離子產(chǎn)生裝置,其產(chǎn)生用于在所述處理腔中等離子處理的等離子;多個條形陶瓷制成的引導(dǎo)構(gòu)件,其沿襯底運輸方向設(shè)置在所述襯底安裝部的上表面上,并且適于引導(dǎo)安裝于所述襯底安裝部上的襯底的側(cè)端表面;以及引導(dǎo)構(gòu)件保持裝置,其用于以預(yù)定間距保持所述引導(dǎo)構(gòu)件的縱向兩個端部,其中所述引導(dǎo)構(gòu)件保持裝置包括一對固定構(gòu)件,該一對固定構(gòu)件沿與所述襯底運輸方向成直角的橫向方向沿所述襯底安裝部的外邊緣固定地設(shè)置在所述基部上;多個支撐構(gòu)件,其在所述襯底運輸方向上的位置由所述固定構(gòu)件定位,并且所述多個支撐構(gòu)件適于支撐所述引導(dǎo)構(gòu)件的兩個端部;以及安裝裝置,該安裝裝置用于將所述多個支撐構(gòu)件安裝在所述固定構(gòu)件上,以使得橫向上的間距可調(diào)整。
根據(jù)本發(fā)明,作為用來在其上表面覆蓋有陶瓷的襯底安裝部上引導(dǎo)襯底的側(cè)端表面的引導(dǎo)機構(gòu),在襯底安裝部上以多排方式設(shè)置的條形陶瓷制成的引導(dǎo)構(gòu)件的兩端部由支撐構(gòu)件支撐。所設(shè)置的布置使得,支撐構(gòu)件安裝于與襯底運輸方向成直角沿襯底安裝部固定地設(shè)置的固定構(gòu)件上,以使得間距可以調(diào)整。通過采用這樣的布置,可以通過將具有不同寬度尺寸的多產(chǎn)品薄類型襯底用作目標(biāo)而防止產(chǎn)生不正常放電。


圖1是根據(jù)本發(fā)明實施例的等離子體處理裝置的透視圖;
圖2是根據(jù)本發(fā)明實施例的等離子體處理裝置的剖視圖;圖3是根據(jù)本發(fā)明實施例的等離子體處理裝置的基部平面圖;圖4是根據(jù)本發(fā)明實施例的等離子體處理裝置的局部剖視圖;圖5A和5B是根據(jù)本發(fā)明實施例的等離子體處理裝置的襯底安裝部的局部剖視圖;圖6是說明根據(jù)本發(fā)明實施例的等離子處理裝置的固定構(gòu)件結(jié)構(gòu)的圖示;圖7是用于在根據(jù)本發(fā)明實施例的等離子處理裝置中支撐引導(dǎo)構(gòu)件的支撐構(gòu)件的透視圖;以及圖8A和8B是用于說明將引導(dǎo)構(gòu)件設(shè)置在根據(jù)本發(fā)明實施例的等離子處理裝置中的方法的圖示。
具體實施例方式
接下來,將參考附圖對本發(fā)明實施例進行說明。
首先,參考圖1、2和3對等離子處理裝置的結(jié)構(gòu)進行說明。在圖1中,蓋構(gòu)件2以能夠被升高/降低機構(gòu)(未示出)升高或降低的方式設(shè)置在基部1之上。蓋構(gòu)件2是箱形構(gòu)件,其下表面?zhèn)瘸ㄩ_,并且當(dāng)蓋構(gòu)件2下降,而且下端部2a抵靠在基部1頂部的基部表面1a上時,形成了用于等離子處理的處理腔6。即,基部1形成處理腔的底部,并且經(jīng)受處理的襯底容納在處理腔6中,以對該襯底的表面實現(xiàn)等離子處理。密封構(gòu)件3安裝在下端部2a抵靠的基部表面1a的一部分上,并且當(dāng)下端部2a的抵靠表面壓在密封構(gòu)件3上時,可以確保處理腔6內(nèi)部的真空密封性。
襯底載入部4和襯底載出部5分別設(shè)置在基部1的上游側(cè)和下游側(cè)。襯底載入部4用于將待處理的襯底從上游側(cè)運送到處理腔6中,而襯底載出部5用于將處理過的襯底從處理腔6運送到下游側(cè)。襯底載入部4和襯底載出部5的每一個具有兩排運輸傳送機構(gòu),該運輸傳送機構(gòu)各自包括一對運輸軌道4a和4b或運輸軌道5a和5b,從而可以平行地運輸兩個襯底。
在此,運輸軌道4b和5b中的每一個在Y方向上可以移動(在與襯底運輸方向成直角的橫向方向上)。所提供的布置使得,當(dāng)運輸傳送機構(gòu)的運輸寬度可以通過由運輸寬度縮窄機構(gòu)(未示出)來移動運輸軌道4b和5b而得以改變時,可以通過將具有不同寬度尺寸的多個產(chǎn)品襯底用作目標(biāo)來運輸襯底。
如圖2所示,基部1的兩個端部由腿1b支撐,并且在基部表面1a中敞開的開口1c設(shè)置在基部1中(也見圖3)。用于在處理腔6中產(chǎn)生等離子體放電的電極部7安裝在開口1c中。電極部7構(gòu)造成,用于保持襯底11的襯底安裝部安裝在導(dǎo)電部的上表面,在該導(dǎo)電部中,由例如鋁的導(dǎo)電金屬制成的三個導(dǎo)電構(gòu)件8a、8b和8c相互疊置在彼此頂部。電極部7通過將導(dǎo)電構(gòu)件8c經(jīng)由絕緣構(gòu)件8d緊固在基部1的下表面上而安裝在基部1上。在該狀態(tài)下,上表面?zhèn)鹊囊r底安裝部暴露在處理腔6中。
襯底安裝部構(gòu)造成,在其上安裝有待處理襯底11的兩個陶瓷制成的安裝板10并列設(shè)置在類似由陶瓷制成的絕緣構(gòu)件9上。當(dāng)絕緣構(gòu)件9固定和安裝在導(dǎo)電構(gòu)件8c的上表面上時,襯底安裝部安裝在導(dǎo)電部上。也就是說,所設(shè)置的布置使得襯底安裝部構(gòu)成電極部7的上部,并且由陶瓷覆蓋。
通過分別在X方向上切割襯底安裝表面而在兩個安裝板10的上表面上形成多個凹槽部10a,并且各襯底11以覆蓋凹槽部10a的方式安裝。凹槽部10a起到配合部的作用,以在襯底運輸機構(gòu)的運輸爪抵靠在襯底的端面上以運輸襯底時允許該運輸爪的下端部(未示出)能夠配合在所述凹槽中。還有,當(dāng)可移動引導(dǎo)件13設(shè)置并且安裝在安裝板10中時,凹槽部10a起到配合槽的作用,所述可移動引導(dǎo)件13將在以下說明,所述安裝板將在隨后說明。
待處理的襯底11為薄類型的樹脂襯底,并且由于其容易彎曲且經(jīng)受彎曲變形,所以襯底11的兩側(cè)端部在其側(cè)表面和其上表面處由各自設(shè)置在X方向上的固定引導(dǎo)件12和可移動引導(dǎo)件13支撐。固定引導(dǎo)構(gòu)件12為由陶瓷制成的細長條形構(gòu)件,并且通過固定在絕緣構(gòu)件9上而設(shè)置在沿安裝板10的一個側(cè)端表面的位置處。如圖4所示,沿橫向延伸的延伸部12a設(shè)置在固定引導(dǎo)件12的上部,并且當(dāng)襯底11的側(cè)端部前進到在延伸部12a的下表面和安裝板10的上表面10b之間形成的引導(dǎo)間隙12b中時,襯底11的側(cè)端部的上表面和側(cè)表面可以得到引導(dǎo)。
可移動引導(dǎo)件13是類似由陶瓷制成的細長的矩形條形構(gòu)件,并且在安裝板10上沿Y方向可移動(在與襯底運輸方向成直角的橫向方向上)。通過在橫向上移動可移動引導(dǎo)件13的位置,可以相應(yīng)于具有變化寬度尺寸的多產(chǎn)品襯底11來改變引導(dǎo)件寬度,即固定引導(dǎo)件12和可移動引導(dǎo)件13之間的間距。圖5A和5B示出了可移動引導(dǎo)件13的剖視圖。如圖5A所示,從底部13f突出來的突出部13d和通過對底部13f開槽形成的槽口部13e以沿縱向連續(xù)的方式設(shè)置在可移動引導(dǎo)件13的底部13f上。
突出部13d的突出尺寸a設(shè)定成小于在基部1中形成的凹槽部10a的深度尺寸D。結(jié)果是,如圖5B所示,當(dāng)可移動引導(dǎo)件13在突出部13d定位在凹槽10a中并且底部13f和安裝板10的上表面10b相互接觸的狀態(tài)下設(shè)置在安裝板10的上表面上時,突出部13d不會與凹槽部10a的底部干涉。
通過將可移動引導(dǎo)件13的底部開槽成凹口尺寸b大于襯底11的寬度尺寸來設(shè)置槽口部13e。如圖5B所示,當(dāng)襯底11的側(cè)端部在可移動引導(dǎo)件13設(shè)置在安裝板10上的狀態(tài)下前進到槽口部13e中時,對襯底11的側(cè)端部的上表面和側(cè)表面引導(dǎo)。也就是說,在突出部13d前進到凹槽部10a中,并且引導(dǎo)構(gòu)件13設(shè)置在襯底安裝表面上的狀態(tài)下,安裝于襯底安裝表面上的襯底11的側(cè)端部由槽口部13e引導(dǎo)。在該交接處,突出部13d的下端和凹槽部10a的底部之間的間隙(鄰接表面)定位在比安裝板10的上表面10b低的位置處,不存在發(fā)生被運輸?shù)囊r底11的側(cè)端部配合到鄰接表面之間的間隙中這樣的問題的可能性。
在上述的構(gòu)造中,多個固定的引導(dǎo)件12和可移動引導(dǎo)件13沿襯底運輸方向設(shè)置在襯底安裝部的上表面上,并且是條形陶瓷制成的引導(dǎo)構(gòu)件,以引導(dǎo)安裝于襯底安裝部上的襯底11的側(cè)端表面。應(yīng)當(dāng)注意的是,在如圖5A和5B所示的實例中,示出了這樣的實例,即可移動引導(dǎo)件13的底部的切割范圍達到了突出部13d的端面的位置,但是切割范圍可以小于該位置。
在等離子處理操作中,在襯底載入部4分別將各襯底11輸送到安裝板10上之后,蓋構(gòu)件2被降低以使其下端部2a與密封構(gòu)件3緊密接觸,處理腔6的內(nèi)部經(jīng)由排氣口1d(見圖2)被抽空裝置(未示出)抽空,并且等離子產(chǎn)生氣體隨后經(jīng)由氣體供給口1e(見圖2)供給到處理腔6中。隨后,當(dāng)高頻電源供給單元14將高頻電壓施加在電極部7和電連接于接地部E的蓋構(gòu)件2之間時,在處理腔6中產(chǎn)生等離子,并且通過該等離子的作用在襯底11的表面上實現(xiàn)例如蝕刻的等離子處理。抽空裝置、等離子氣體供給裝置以及高頻電源單元14構(gòu)成等離子產(chǎn)生裝置,該等離子產(chǎn)生裝置產(chǎn)生用于在處理腔6中進行等離子處理的等離子。
在該等離子處理中,由于其為薄類型樹脂襯底的并且可彎曲的襯底11用作目標(biāo),所以容易在襯底11和襯底安裝表面之間產(chǎn)生間隙,并且由于該間隙存在發(fā)生不正常放電的可能性。即使在具有該特性的襯底11用作目標(biāo)的情況中,在該實施例中,由于絕緣構(gòu)件9、安裝板10、固定引導(dǎo)件以及可移動引導(dǎo)件13都是陶瓷制成的構(gòu)件,所以在等離子處理期間不太可能發(fā)生不正常放電,并且可以防止由不正常放電引起的等離子處理質(zhì)量的缺陷。
如圖3所示,在X方向上形狀彼此對稱的第一固定構(gòu)件15A和第二固定構(gòu)件15B(這兩個構(gòu)件在他們不被區(qū)分的情況下通常會被稱作為固定構(gòu)件15A和15B),沿Y方向固定在基部表面1a上、在安裝板10的載出側(cè)和載入側(cè)位于包含在處理腔6中的位置處(密封件構(gòu)件3的內(nèi)側(cè))。第一固定構(gòu)件15A沿與襯底運輸方向成直角的方向固定地設(shè)置在襯底載入部4上的基部1上,而第二固定構(gòu)件15B類似地固定設(shè)置在襯底載出部5上的基部1上。
固定構(gòu)件15A和15B由容易機加工的金屬制成。金屬引導(dǎo)構(gòu)件16通過螺釘17固定在固定構(gòu)件15A和15B上分別相應(yīng)于運輸軌道4a和4b(見圖6)的位置處。結(jié)果是,設(shè)置在安裝板10的一個側(cè)表面上的固定引導(dǎo)件12的兩個端部和運輸軌道4a和5b通過引導(dǎo)構(gòu)件16連接(中繼)。也就是說,如圖6所示,允許襯底11的側(cè)端表面進入其中的引導(dǎo)槽16a設(shè)置在引導(dǎo)構(gòu)件16的側(cè)表面上。當(dāng)通過襯底載入部4輸入的襯底11的側(cè)端表面前進進入到引導(dǎo)槽16a中時,襯底11的側(cè)表面被引導(dǎo),并且進一步由固定引導(dǎo)件12引導(dǎo),如上所述,并且到達安裝板10上的安裝位置。
另外,設(shè)置在安裝板10的上表面上的可移動引導(dǎo)件13的兩個端部在固定構(gòu)件15A和15B上與運輸軌道4b和5b相應(yīng)的位置處延伸。如圖6所示,可移動引導(dǎo)件13通過由螺釘19緊固的金屬支撐構(gòu)件18保持在各個固定構(gòu)件15A和15B的上表面上。固定構(gòu)件15A和15B通過設(shè)置在其兩端部上的螺釘15a固定在基部表面1a的上表面上。
各個固定構(gòu)件15A和15B具有多個螺紋孔15b,該多個螺紋孔用于緊固沿Y方向等間距設(shè)置的螺釘19。所設(shè)置的布置使得,通過改變經(jīng)受螺釘19緊固的螺紋孔15b,可以改變支撐構(gòu)件18在Y方向上的位置,即可移動引導(dǎo)件13在Y方向上的位置。各個固定構(gòu)件15A和15B設(shè)置有用于將支撐構(gòu)件18沿Y方向定位的安裝定位表面15c,并且當(dāng)設(shè)置在支撐構(gòu)件18上的定位表面18a(見圖7)沿安裝定位表面15c對準(zhǔn)(抵靠)時,支撐構(gòu)件18沿X方向定位。也就是說,固定構(gòu)件15A和15B具有將支撐構(gòu)件18在Y方向上定位的定位功能。應(yīng)當(dāng)注意的是,可以將另外的結(jié)構(gòu)用作實現(xiàn)該功定位能的結(jié)構(gòu),所述的另外結(jié)構(gòu)例如是利用槽的槽口/突出部配合的結(jié)構(gòu)。
圖7示出了支撐構(gòu)件18配合到固定構(gòu)件15A(15B)中的狀態(tài),以及定位表面18a沿安裝定位表面15c對準(zhǔn)、螺釘19插入到安裝細長孔18b中并且與螺紋孔15b螺紋嚙合的狀態(tài)。支撐構(gòu)件18在Y方向的位置可以通過在以等間距設(shè)置的螺紋孔之中以及安裝細長孔18b的細長孔公差范圍內(nèi)選定最佳的位置來調(diào)整。支撐構(gòu)件18設(shè)置有安裝臺階部18c和定位銷20,用于支撐可移動引導(dǎo)件13。
當(dāng)安裝可移動引導(dǎo)件13時,可移動引導(dǎo)件13的兩個端部相對于安裝到固定構(gòu)件15A和15B上的支撐構(gòu)件18定位,如圖8A所示。也就是說,設(shè)置在可移動引導(dǎo)件13上的槽口部13a調(diào)整到螺釘19的位置,并且設(shè)置在支撐構(gòu)件18上的定位銷20分別定位到可移動引導(dǎo)件13的定位孔13b和定位細長孔13c中。然后,如圖8B所示,可移動引導(dǎo)件13從上方降低到支撐構(gòu)件18上,并且在突出部13沿安裝臺階部18c對準(zhǔn)的同時,定位銷20分別地安裝在定位孔13b和定位細長孔13c中。
結(jié)果是,可移動引導(dǎo)件13由支撐構(gòu)件18從下方支撐,并且通過其自身重量而不需要通過螺栓連接設(shè)置在支撐構(gòu)件18上。在該設(shè)置狀態(tài)下,由于定位銷20安裝在定位孔13b和定位細長孔13c中,并且由于突出部13d沿安裝臺階部18c對準(zhǔn),所以可移動引導(dǎo)件13的位置可以得以適當(dāng)?shù)乇3?,而不會在X方向上和Y方向上發(fā)生位置偏移。
在上述的構(gòu)造中,固定構(gòu)件15A和15B以及支撐構(gòu)件18構(gòu)成用于將可移動引導(dǎo)件13的縱向兩個端部以預(yù)定的間距保持的引導(dǎo)構(gòu)件保持裝置。也就是說,該引導(dǎo)構(gòu)件保持裝置由固定構(gòu)件15A和15B以及支撐構(gòu)件18構(gòu)成,所述固定構(gòu)件15A和15B沿與襯底運輸方向成直角的橫向方向(Y方向)沿襯底安裝部的外邊緣固定地設(shè)置在基部構(gòu)件1上,所述支撐構(gòu)件18用來支撐引導(dǎo)構(gòu)件13的兩個端部。此外,螺釘19和以等間距設(shè)置在固定構(gòu)件15A和15B上的螺紋孔15b用作將多個支撐構(gòu)件18安裝到固定構(gòu)件15A和15B上的安裝裝置,以使得橫向間距可以調(diào)整。
如上所述,在該實施例所示的等離子處理裝置中,作為用來在其上表面覆蓋有陶瓷的襯底安裝部上引導(dǎo)襯底11的側(cè)端表面的引導(dǎo)機構(gòu),在襯底安裝部上以多排方式設(shè)置的條形陶瓷制成的可移動引導(dǎo)件13兩端部由支撐構(gòu)件18支撐。此外,所設(shè)置的布置使得,支撐構(gòu)件18安裝于與襯底運輸方向成直角沿襯底安裝部固定地設(shè)置的固定構(gòu)件15A和15B上,以使得間距可以調(diào)整。
結(jié)果是,甚至在將薄類型的并且可彎曲的樹脂襯底用作待處理目標(biāo)的情況中,由于襯底安裝在陶瓷制成的構(gòu)件上,所以可以抑制不正常放電的產(chǎn)生,并且可以使等離子處理的質(zhì)量穩(wěn)定化。此外,相應(yīng)于襯底尺寸橫向可移動的陶瓷制成的可移動引導(dǎo)件13經(jīng)由支撐構(gòu)件18由固定構(gòu)件15A和15B保持,因此,將由脆性和容易破裂的材料制成的可移動引導(dǎo)件安裝和拆卸,同時不需要螺栓連接和與襯底尺寸一致,可以成為可能。結(jié)果是,可以實現(xiàn)這樣的襯底引導(dǎo)機構(gòu),該襯底引導(dǎo)機構(gòu)能夠通過將薄類型襯底用作目標(biāo)來有效地防止不正常放電,不會由于為每種產(chǎn)品類型的襯底更換陶瓷制成的襯底安裝部引起成本的增加。
該申請基于并且要求在2005年2月15提交的日本專利申請No.2005-037153優(yōu)先權(quán)的權(quán)益,其內(nèi)容在整體上通過引用并入到本文中。
工業(yè)實用性根據(jù)本發(fā)明的等離子處理裝置顯現(xiàn)出這樣的優(yōu)點,即其能夠通過采用具有不同寬度尺寸的多產(chǎn)品薄類型襯底來防止產(chǎn)生不正常放電,并且根據(jù)本發(fā)明的等離子處理裝置通過將例如樹脂襯底的薄類型襯底用作目標(biāo)而可應(yīng)用到用于實現(xiàn)表面蝕刻處理等的等離子處理裝置上。
權(quán)利要求
1.一種用于在處理腔中對襯底表面進行等離子處理的等離子處理裝置,其包括基部,其形成所述處理腔的底部;箱形構(gòu)件,其下表面?zhèn)瘸ㄩ_,并且下端部抵靠在所述基部頂部上的基部表面上,以形成所述處理腔;電極部,其經(jīng)由絕緣體安裝在所述基部上,并且其上表面暴露在所述處理腔中;襯底安裝部,該襯底安裝部構(gòu)成所述電極部的上部并且其上表面由陶瓷覆蓋;等離子產(chǎn)生裝置,其產(chǎn)生用于在所述處理腔中等離子處理的等離子;多個條形陶瓷引導(dǎo)構(gòu)件,其沿襯底運輸方向設(shè)置在所述襯底安裝部的上表面上,并且適于引導(dǎo)安裝于所述襯底安裝部上的襯底的側(cè)端表面;以及引導(dǎo)構(gòu)件保持裝置,其用于保持所述引導(dǎo)構(gòu)件的縱向兩個端部,其中所述引導(dǎo)構(gòu)件保持裝置包括一對固定構(gòu)件,該一對固定構(gòu)件沿與所述襯底運輸方向成直角的橫向方向沿所述襯底安裝部的外邊緣固定地設(shè)置在所述基部上,多個支撐構(gòu)件,其在所述襯底運輸方向上的位置由所述固定構(gòu)件定位,并且所述多個支撐構(gòu)件適于支撐所述引導(dǎo)構(gòu)件的兩個端部,以及安裝裝置,該安裝裝置用于將所述多個支撐構(gòu)件安裝在所述固定構(gòu)件上,以使得橫向上的間距可調(diào)整。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子處理裝置,其中,通過切割所述襯底安裝表面,多個凹槽部沿所述襯底運輸方向形成在所述襯底安裝部的上表面上,并且突出尺寸小于所述凹槽部深度尺寸的突出部和通過對以矩形條形狀形成的所述引導(dǎo)構(gòu)件的底部開槽、槽口尺寸大于所述襯底的寬度尺寸而形成的槽口部沿縱向連續(xù)地形成在各個所述矩形條形引導(dǎo)構(gòu)件的底部,在通過將所述突出部前進到所述凹槽部中而使所述引導(dǎo)構(gòu)件設(shè)置在所述襯底安裝表面上的狀態(tài)下,安裝于所述襯底安裝表面上的所述襯底的側(cè)端部由所述槽口部引導(dǎo)。
全文摘要
在通過將襯底(11)容納在處理腔(6)中而實現(xiàn)等離子處理的等離子處理裝置中,由陶瓷制成的固定引導(dǎo)件(12)和可移動引導(dǎo)件(13)沿Y方向(沿襯底運輸方向)排列,以引導(dǎo)保持在陶瓷制成的安裝板(10)上的襯底的兩個側(cè)端部,并且可移動引導(dǎo)件(13)的兩個端部由支撐構(gòu)件支撐。在該構(gòu)造中,這些支撐構(gòu)件安裝到沿Y方向布置的固定構(gòu)件(15A和15B)上,安裝板(10)設(shè)置在所述固定構(gòu)件(15A和15B)之間,從而Y方向上的間距可調(diào)整。因此,陶瓷制成的引導(dǎo)構(gòu)件(13)可以安裝和拆卸,而不需要直接對其進行螺栓連接,并且可以通過將具有不同寬度尺寸的多產(chǎn)品薄類型襯底用作目標(biāo)來防止產(chǎn)生不正常放電。
文檔編號H01L21/677GK1943012SQ20068000011
公開日2007年4月4日 申請日期2006年2月10日 優(yōu)先權(quán)日2005年2月15日
發(fā)明者是永哲雄, 永留隆二 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社
網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
  • 還沒有人留言評論。精彩留言會獲得點贊!
1