專利名稱：運送處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及邊通過滾輪等運送玻璃基板等基板邊進行各種處理的運送處理裝置。
背景技術(shù)：
以往，如專利文獻1所示，已知有如下的運送處理裝置，即，為了提高處理效率，沿基板的運送線路配置各種處理裝置，邊通過滾輪等運送玻璃基板等邊進行各種處理。
在這樣的沿基板運送線路配置了各種處理裝置的運送處理裝置中，有時例如也在UV照射裝置(干燥單元)的下游側(cè)配置清洗裝置(潤濕單元)，在將基板送入UV照射裝置并去除附著于表面的有機物后，用清洗裝置清洗玻璃基板的表面。
專利文獻1JP特開2004-281991號公報但是，如上所述，在具有UV照射裝置和清洗裝置鄰接的結(jié)構(gòu)的運送處理裝置中，例如當基板由于某種原因而停在了橫跨UV照射裝置和清洗裝置的位置上時，就會發(fā)生在清洗處理中產(chǎn)生的清洗液在基板表面上從清洗裝置側(cè)向UV照射裝置側(cè)流動的問題。
此時，UV照射裝置50的燈(未圖示)上會粘附顯影液，從而出現(xiàn)發(fā)生故障和性能下降的情況。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述課題，本發(fā)明在邊運送基板邊對該基板進行各種處理的運送處理裝置中，采用了如下結(jié)構(gòu)，即，安裝有向該基板表面供應(yīng)處理液的潤濕單元，設(shè)置有減壓腔室，使得與潤濕單元鄰接或包圍潤濕單元；減壓腔室上形成有基板的送入口和送出口，將送入口和送出口中的至少一個的上緣部在不與供應(yīng)到基板表面的處理液相接觸的范圍內(nèi)，設(shè)定得較低，此外，在減壓腔室的底部形成有從基板落下的處理液的回收口。
根據(jù)本發(fā)明的運送處理裝置，由于安裝有向該基板表面供應(yīng)處理液的潤濕單元，并與潤濕單元鄰接或包圍潤濕單元地設(shè)置有減壓腔室，減壓腔室形成有基板的送入口和送出口，送入口和送出口中的至少一個的上緣部在不與供應(yīng)到基板表面的處理液相接觸的范圍內(nèi)，設(shè)定得較低，此外，在減壓腔室的底部形成有從基板落下的處理液的回收口，所以，當基板通過送入口或送出口時，外部空氣進入減壓腔室內(nèi)，基板表面的多余處理液因此時的氣流而從基板表面落下。其結(jié)果，不會在基板表面附著多余處理液的狀態(tài)下被送入下一個處理裝置。
作為上述潤濕單元，例如有顯影液的供應(yīng)單元或清洗單元。此外，例如還有蝕刻單元、剝離單元。
根據(jù)本發(fā)明的運送處理裝置，在鄰接的裝置之間，可防止將處理液從一個裝置帶入另一個裝置，所以可避免因例如帶入處理液而導致的裝置的故障和性能下降。此外，還可去除基板上多余的處理液，提高例如處理液的再利用率。
因此，可實現(xiàn)可靠性高且不降低處理效率的運送處理裝置。


圖1是表示本發(fā)明的運送處理裝置的一個實施方式的概略結(jié)構(gòu)圖(局部)。
圖2是減壓腔室的局部縱截面圖。
圖3是表示本發(fā)明的運送處理裝置的其它實施方式的概略結(jié)構(gòu)圖(局部)。
圖4是表示本發(fā)明的運送處理裝置的又一其它實施方式的概略結(jié)構(gòu)圖(局部)。
圖中符號說明
1運送處理裝置；2運送用滾輪；10顯影裝置；12送入口；13送出口；14顯影液供應(yīng)噴嘴；20減壓腔室；21排氣管道；22送入口；23送出口；24顯影液的回收口；30漂洗裝置；31第一漂洗腔室；32第二漂洗腔室；33第三漂洗腔室；34第四漂洗腔室；35階式水箱；35a階式水箱的第一室；35b階式水箱的第二室；36階式水箱；37送出口；38回收口；40清洗裝置；41清洗液供應(yīng)噴嘴；42清洗刷子；50UV照射裝置；60減壓腔室；61送出口；62送入口；63排氣口；64回收口具體實施方式
以下，根據(jù)附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。
圖1是表示運送處理裝置的一個實施方式的概略結(jié)構(gòu)圖(局部)，圖2是減壓腔室的局部縱截面圖。
在運送處理裝置1中，如圖1所示，與作為潤濕單元的顯影裝置10鄰接地配置有減壓腔室20。玻璃基板W通過運送用滾輪2……在這些顯影裝置10和減壓腔室20內(nèi)通過。
此外，在顯影裝置10和減壓腔室20的前級和后級還配置有未圖示的各種處理裝置。
在顯影裝置10中，在呈箱狀的殼上形成有基板的送入口12和送出口13，在殼內(nèi)配置有顯影劑供應(yīng)噴嘴14。此外，在減壓腔室20的頂部連接有用于使減壓腔室20內(nèi)變?yōu)樨搲旱呐艢夤艿?1，在前后的側(cè)面上形成有基板的送入口22和送出口23。
在本實施方式中，特別是，將減壓腔室20的送出口23的上下方向的尺寸在上緣部不與供應(yīng)到基板W表面的液體(顯影液)接觸的范圍內(nèi)設(shè)定得較低。此外，在減壓腔室20的底部設(shè)置有顯影液的回收口24。
由此，在基板W通過送出口23時，如圖2所示，由于基板W上表面與送出口23的上緣之間的間隙較小，且減壓腔室20內(nèi)為負壓，所以，外部空氣傳遞到基板W上表面且強勁地進入減壓腔室20內(nèi)，積攢在基板W表面的多余的顯影液因氣流而從基板W長邊流下。
此外，流下的顯影液通過在減壓腔室20上設(shè)置的回收口24進行回收，因此還可提高例如再利用率。
具體而言，基板W表面的清洗液在壓力分界線(送出口23附近)處成為停止狀態(tài)，只有基板W被運送。此時顯影液以分界線為基準，超過表面張力的多余的顯影液流落到基板W之外。
此外，雖然提到空氣強勁地進入減壓腔室20內(nèi)，但是，只要存在與鄰接單元的壓力差，則極小的壓力差也可以。
雖然送出口23的上緣部在不妨礙基板W通過的程度內(nèi)，被盡量窄地形成，但是根據(jù)基板W的尺寸和裝置結(jié)構(gòu)，還有排氣量等，其高度各有不同。由于顯影液的表面張力為3mm，因此優(yōu)選為3mm以上。
此外，對僅將送出口23一側(cè)的上緣部設(shè)定得較低的情況進行了說明，但是，從兼顧上述的基板W尺寸和裝置結(jié)構(gòu)、還有排氣量等的角度出發(fā)，也可將兩側(cè)(送入口22和送出口23)的上緣部均設(shè)定得較低，而不僅僅將一側(cè)的上緣部設(shè)定得較低。
此時，通過將一側(cè)(送出口23)的高度與另一側(cè)(送入口22)的高度設(shè)為不同，可得到與上述相同的作用。例如，在將送出口23的上緣部設(shè)定得更靠近基板W表面時，送入口22的上緣部雖然不到送出口23的上緣部的程度，但也接近基板W表面。
圖3是本發(fā)明的其它實施方式涉及的運送處理裝置的圖(局部)，在該實施方式中，將本發(fā)明應(yīng)用于漂洗(rinse)裝置。此外，在漂洗裝置30的前后配置有未圖示的各種裝置。
在漂洗裝置30中，從上游側(cè)向下游側(cè)沿運送線路配置有第一漂洗腔室31、第二漂洗腔室32、第三漂洗腔室33以及第四漂洗腔室34。向第四漂洗腔室34中供應(yīng)新液(漂洗液)，第四漂洗腔室34所使用的漂洗液被返回到階式水箱35的第一室35a內(nèi)，第一室35a的漂洗液被提供給第三漂洗腔室33。此外，漂洗液也從第三漂洗腔室33返回到第一室35a。
從階式水箱35的第一室35a溢出并進入第二室35b的漂洗液被送到第二漂洗腔室32，第二漂洗腔室32所用的漂洗液返回到另外的階式水箱36，將該階式水箱36內(nèi)的漂洗液(最臟的漂洗液)提供給第一漂洗腔室31。另外，一部分漂洗液從一個階式水箱35的第一室35a流向另一個階式水箱36。
在本實施方式中，使第二漂洗腔室32內(nèi)為兼有減壓腔室的結(jié)構(gòu)，與上述實施方式的情況一樣，將第二漂洗腔室32的送出口37的上下方向的尺寸在不與供給到基板W表面的液體(漂洗液)相接觸的范圍內(nèi)，設(shè)定得較低。
由此，當玻璃基板W被從第二漂洗腔室32移送到第三漂洗腔室33時，一旦玻璃基板W通過送出口37，則在玻璃基板W的表面產(chǎn)生向內(nèi)部吸入的氣流，玻璃基板W表面的漂洗液被氣流沖落，并通過第二漂洗腔室32的底部的回收口38返回到階式水箱36。由此，最臟的漂洗液不會被帶入到第三漂洗腔室33內(nèi)，可提高漂洗液的再利用率。
圖4是表示本發(fā)明的又一其它實施方式涉及的運送處理裝置的圖(局部)，在本實施方式中，將本發(fā)明應(yīng)用于清洗裝置。
在本實施方式的運送處理裝置中，沿基板W的運送方向，在上游側(cè)配置有UV照射裝置50，在下游側(cè)配置有清洗裝置40。此外，在UV照射裝置50和清洗裝置40的前級和后級配置有未圖示的各種處理裝置。
在清洗裝置40內(nèi)配置有清洗液供應(yīng)噴嘴41和清洗刷子42，清洗裝置40整體被收納在減壓腔室60內(nèi)。在該減壓腔室60上形成有玻璃基板W的送入口62和送出口61，此外，排氣口63在側(cè)面開口，且回收口64被設(shè)置在底面。
另外，在本實施方式中，與上述實施方式的送出口23一樣，將送入口62的上下方向的尺寸在不與供給到基板W表面的液體(清洗液)相接觸的范圍內(nèi)，設(shè)定得較低。
即使如上所述，當例如基板由于某種原因而停在了橫跨UV照射裝置50和清洗裝置40的位置上時，也可因與上述實施方式相同的作用，而避免在清洗處理中產(chǎn)生的清洗液在基板表面上從清洗裝置40側(cè)流向UV照射裝置50側(cè)。
由此，不會產(chǎn)生UV照射裝置50的燈(未圖示)上粘附顯影液，而發(fā)生裝置故障和性能下降等的問題。
此外，本發(fā)明并不局限于上述實施方式，只要在不脫離本發(fā)明的宗旨范圍內(nèi)，可采用其它各種結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種運送處理裝置，邊運送基板邊對該基板進行各種處理，該運送處理裝置的特征在于，安裝有向該基板表面供應(yīng)處理液的潤濕單元，與上述潤濕單元鄰接或包圍上述潤濕單元地設(shè)置有減壓腔室；在上述減壓腔室上形成有上述基板的送入口和送出口，上述送入口和送出口中的至少一個的上緣部在不與供應(yīng)到上述基板表面的處理液相接觸的范圍內(nèi)，被設(shè)定得較低，此外，在上述減壓腔室的底部形成有從上述基板落下的處理液的回收口。
2.如權(quán)利要求1所述的運送處理裝置，其特征在于，上述潤濕單元是顯影液的供應(yīng)單元。
3.如權(quán)利要求1所述的運送處理裝置，其特征在于，上述潤濕單元是清洗單元。
全文摘要
本發(fā)明提供一種可防止來自潤濕單元的液體的運送處理裝置。將減壓腔室(20)的送出口(23)的上下方向的尺寸在上緣部不與供應(yīng)到基板(W)表面的液體(顯影液)相接觸的范圍內(nèi)，設(shè)定得較低。其結(jié)果是，當基板(W)通過送出口(23)時，由于基板(W)上表面與送出口(23)的上緣之間的間隙較小，且減壓腔室(20)內(nèi)為負壓，所以，外部空氣傳遞到基板(W)上表面且強勁地進入到減壓腔室(20)內(nèi)，積攢在基板(W)表面上的顯影液因氣流而從基板的長邊流下，流下的顯影液通過回收口(24)被回收。
文檔編號H01L21/00GK1959951SQ200610149850
公開日2007年5月9日 申請日期2006年10月27日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月31日
發(fā)明者島井太, 河田茂 申請人:東京應(yīng)化工業(yè)株式會社