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基板刻蝕監(jiān)測(cè)方法

文檔序號(hào):6855320閱讀:200來源:國(guó)知局
專利名稱:基板刻蝕監(jiān)測(cè)方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種對(duì)基板刻蝕進(jìn)行監(jiān)測(cè)的方法。
背景技術(shù)
TFT-LCD刻蝕時(shí)使用一個(gè)EPS對(duì)基板的刻蝕情況進(jìn)行監(jiān)測(cè),但是一個(gè)EPS只能監(jiān)測(cè)基板內(nèi)一個(gè)小范圍內(nèi)的刻蝕情況,隨著TFT-LCD制造工藝的進(jìn)步,基板面積越來越大,基板內(nèi)膜厚分布難于控制,一個(gè)小范圍內(nèi)的刻蝕情況無法準(zhǔn)確反應(yīng)整個(gè)基板內(nèi)的刻蝕情況?,F(xiàn)有技術(shù)只用一個(gè)EPS對(duì)基板內(nèi)一個(gè)小范圍內(nèi)的刻蝕情況進(jìn)行監(jiān)測(cè)??赡茉撔》秶鷥?nèi)EPS檢出時(shí),基板內(nèi)其它區(qū)域還有膜未被完全刻蝕從而造成刻蝕殘留。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種監(jiān)測(cè)方法,能夠較準(zhǔn)確的判斷基板的可視情況。
本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種基板刻蝕監(jiān)測(cè)方法,其在與被刻蝕基板的一個(gè)側(cè)邊對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置一個(gè)EPS傳感器,在與被刻蝕基板另一側(cè)邊對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置至少一個(gè)EPS傳感器。
其中,各該EPS傳感器設(shè)置在其所監(jiān)測(cè)的基板區(qū)域的擺動(dòng)中心。且,各該EPS傳感器設(shè)在被刻蝕基板的圖案的外側(cè)的位置上。
當(dāng)各個(gè)EPS傳感器獲得的信號(hào)值中的最小值大于或等于門限值時(shí),則認(rèn)為基板刻蝕完畢。
本發(fā)明的積極進(jìn)步效果在于利用多個(gè)EPS傳感器對(duì)基板的刻蝕情況進(jìn)行監(jiān)測(cè),能夠較準(zhǔn)確的反映基板當(dāng)前的狀態(tài),避免出現(xiàn)刻蝕不完全的情況。


圖1為本發(fā)明一實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖給出本發(fā)明較佳實(shí)施例,以詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)方案。
一種基板刻蝕監(jiān)測(cè)方法,其在與被刻蝕基板1的一個(gè)側(cè)邊對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置一個(gè)第一EPS傳感器2,在與被刻蝕基板1另一側(cè)邊對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置一個(gè)第二EPS傳感器3。也可以設(shè)置多個(gè)該第一EPS傳感器2以及該第二EPS傳感器3。第一EPS傳感器和第二EPS傳感器是相同的裝置。
其中,各該EPS傳感器設(shè)置在其所監(jiān)測(cè)的基板區(qū)域(如圖1中虛線所示)的擺動(dòng)中心。且,各該EPS傳感器設(shè)在被刻蝕基板的圖案(如圖1中點(diǎn)劃線所示)的外側(cè)的位置上,。
當(dāng)各個(gè)EPS傳感器獲得的信號(hào)值中的最小值大于或等于門限值時(shí),則認(rèn)為基板刻蝕完畢。
權(quán)利要求
1.一種基板刻蝕監(jiān)測(cè)方法,其在與被刻蝕基板的一個(gè)側(cè)邊對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置一個(gè)EPS傳感器,其特征在于,在與被刻蝕基板另一側(cè)邊對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置至少一個(gè)EPS傳感器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板刻蝕監(jiān)測(cè)方法,其特征在于,各該EPS傳感器設(shè)置在其所監(jiān)測(cè)的基板區(qū)域的擺動(dòng)中心。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板刻蝕監(jiān)測(cè)方法,其特征在于,各該EPS傳感器設(shè)在被刻蝕基板的圖案的外側(cè)的位置上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板刻蝕監(jiān)測(cè)方法,其特征在于,當(dāng)各個(gè)EPS傳感器獲得的信號(hào)值中的最小值大于或等于門限值時(shí),則認(rèn)為基板刻蝕完畢。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種基板刻蝕監(jiān)測(cè)方法,其在與被刻蝕基板的一個(gè)側(cè)邊對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置一個(gè)EPS傳感器,在與被刻蝕基板另一側(cè)邊對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置至少一個(gè)EPS傳感器。本發(fā)明利用多個(gè)EPS傳感器對(duì)基板的刻蝕情況進(jìn)行監(jiān)測(cè),能夠較準(zhǔn)確的反映基板當(dāng)前的狀態(tài),避免出現(xiàn)刻蝕不完全的情況。
文檔編號(hào)H01L21/465GK1996566SQ20051011226
公開日2007年7月11日 申請(qǐng)日期2005年12月28日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月28日
發(fā)明者田廣彥 申請(qǐng)人:上海廣電Nec液晶顯示器有限公司
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