專利名稱：晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種半導(dǎo)體集成電路晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制的技術(shù)領(lǐng)域，尤指一種可于工藝發(fā)生異常的初始便能實時的發(fā)現(xiàn)及排除，而藉以大幅降低不良率的產(chǎn)生的晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制。
背景技術(shù)：
一般半導(dǎo)體集成電路晶片(以下簡稱晶片)的制作，從氧化(Oxidation)、擴散(Diffusion)、微影(Photo)、蝕刻(Etch)、化學(xué)氣相沉積(CVD)至金屬線濺鍍(Metal Sputter)等等工藝需多次重復(fù)循環(huán)，因此在該多樣化及復(fù)雜性的晶片工藝中，如果不運用系統(tǒng)化及自動化的系統(tǒng)將前后相關(guān)的工藝整合在一起，便會對產(chǎn)品的質(zhì)量及制作成本產(chǎn)生非常大的影響，因為晶片能夠迅速地處理并于真空環(huán)境下傳送，以避免曝露于空氣中受污染，便能夠有效地降低產(chǎn)品的不良率產(chǎn)生及減少設(shè)備裝置的占地面積。而目前該種將晶片的多個工藝整合于一起的平臺，包括有Precision5000、Endura、Centura、以及Producer等多種，而上述的制成平臺主要都是于一中心運送室周圍設(shè)有多個處理各工藝的反應(yīng)室，且并于該中心運送室中具有一供晶片于各反應(yīng)室間傳送的移載裝置，其間的差別則僅在于反應(yīng)室的工藝種類、數(shù)量及相關(guān)配合設(shè)備的不同而已。
例如圖1所示為Centura工藝平臺(1)，其主要是于該中心運送室(10)的周圍設(shè)有四個反應(yīng)室(11)、一個冷卻室(12)、一個氣壓清潔室(13)及兩個負(fù)載室(14)，其中該中心運送室(10)中具有一供晶片于各反應(yīng)室(11)間傳送的移載裝置(15)，而該四個反應(yīng)室(11)則可分別為蝕刻、化學(xué)氣相沉積、高溫化學(xué)氣相沉積、及物理氣相沉積的工藝，該兩個負(fù)載室(14)并連接至一小型清潔室(16)，而該小型清潔室(16)的另一側(cè)則分別具有一晶片加載裝置(17)以提供欲處理的晶片，然后再將該晶片經(jīng)負(fù)載室(14)傳送至該中心運送室(10)。
不論是上述的何種工藝平臺，其中都是利用一移載裝置承載晶片，并將該晶片于各反應(yīng)室間傳送，而目前的移載裝置通常為一機械手臂，而該移載裝置仍存在著零件老化、磨損及制作組裝誤差的問題，一旦該移載裝置發(fā)生該零件老化、磨損及制作組裝誤差的問題，便會影響到晶片的制作，其可能在將晶片送入反應(yīng)室或由反應(yīng)室取出時，發(fā)生與其它構(gòu)件如反應(yīng)室的入口、框架等碰觸而造成晶片刮傷的情形，而且該零件老化、磨損及制作組裝誤差不可能突然大量發(fā)生，而會逐漸一點一滴地產(chǎn)生，所以非常不易發(fā)覺，其可能于晶片的所有工藝完成后才會在檢測工藝中被發(fā)現(xiàn)，而這期間該工藝平臺所完成的有問題的晶片數(shù)量可能已非常的多了，如此便會使得晶片工藝中的不良率大幅增加。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種可于晶片工藝中移載裝置發(fā)生異常的初始便能實時地發(fā)現(xiàn)及排除，而藉以大幅降低不良率產(chǎn)生的晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制。
而本發(fā)明所述晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，包括一振動感應(yīng)器，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝上，供偵測該移載裝置運作時所產(chǎn)生的振動；一聲音感應(yīng)器，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝置上，供偵測該移載裝置運作時所產(chǎn)生的聲音；一形變感應(yīng)器，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝置上，供偵測該移載裝置運作時所產(chǎn)生的形變；一判別模塊，接收來自該振動感應(yīng)器或聲音感應(yīng)器或形變感應(yīng)器所偵測的振動或聲音或曲率或位移量，并將其轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號，且與預(yù)先設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)信號范圍作比對分析；一警示裝置，于該判別模塊比對分析出該振動感應(yīng)器及聲音感應(yīng)器及形變感應(yīng)器所偵測的數(shù)字信號超過標(biāo)準(zhǔn)信號范圍或發(fā)生異常時，則會產(chǎn)生一警示的聲音及燈光以提醒工作人員。
如此，便可藉其而于該晶片工藝平臺的移載裝置的運動發(fā)生異常的初始，便能實時地將其發(fā)現(xiàn)及排除，以藉此大幅降低晶片工藝中不良率的產(chǎn)生。


圖1是Centura工藝平臺的平面示意圖。
圖2是本發(fā)明第一較佳實施例的系統(tǒng)方塊圖。
圖3是本發(fā)明第二較佳實施例的系統(tǒng)方塊圖。
主要組件符號說明1Centura工藝平臺10中心運送室11反應(yīng)室12冷卻室13氣壓清潔室14負(fù)載室15移載裝置 16小型清潔室17晶片加載裝置 2移載裝置3振動感應(yīng)器 4聲音感應(yīng)器5形變感應(yīng)器 6判別模塊60轉(zhuǎn)換單元 61儲存單元62運算單元 7警示裝置70聲音警示器71燈光警示器8攝影機 9顯示器具體實施方式
請參看圖2所示，其是本發(fā)明所述晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制的第一較佳實施例，包括一振動感應(yīng)器3，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝置2上，供偵測該移載裝置2運作時所產(chǎn)生的振動；一聲音感應(yīng)器4，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝置2上，供偵測該移載裝置2運作時所產(chǎn)生的聲音；一形變感應(yīng)器5，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝置2上，供偵測該移載裝置2運作時所產(chǎn)生的曲率或位移量；一判別模塊6，包括一轉(zhuǎn)換單元60、一儲存單元61及一運算單元62，該轉(zhuǎn)換單元60可供接收來自該振動感應(yīng)器3或聲音感應(yīng)器4或形變感應(yīng)器5所偵測的振動或聲音或曲率或位移量，并將其轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號，該儲存單元61可預(yù)先儲存或設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)信號范圍(正常范圍的振動頻率或聲音頻率或曲率或位移量)，該運算單元62供針對該轉(zhuǎn)換單元60所接收轉(zhuǎn)換的數(shù)字信號及該儲存單元61預(yù)先儲存或設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)信號范圍作異常的比對分析，并且以曲率或位移量為較佳的判別計算方式；一警示裝置7，包含有一聲音警示器70及一燈光警示器71，使其可于該判別模塊6比對分析出該振動感應(yīng)器3或聲音感應(yīng)器4或形變感應(yīng)器5所偵測的數(shù)字信號超過標(biāo)準(zhǔn)信號范圍而發(fā)生異常的結(jié)果時，則會產(chǎn)生一警示的聲音及燈光以提醒工作人員。
請參閱圖3所示，其是本發(fā)明的第二較佳實施例，其結(jié)構(gòu)裝置大致與第一較佳實施例相同，主要的差別僅在于該第二較佳實施例更包括有至少一攝影機8及至少一顯示器9，該攝影機8可供拍攝所述移載裝置2的運作過程，而該顯示器9則可供顯示該攝影機8所拍攝的內(nèi)容，其中該攝影機8及顯示器9可于該工藝平臺激活時就隨之開始工作，或者也可于該判別模塊6發(fā)現(xiàn)異常時激活。
由于本發(fā)明可通過該振動感應(yīng)器3或聲音感應(yīng)器4或形變感應(yīng)器5隨時偵測該晶片工藝平臺的移載裝置2的運作過程，因此于該移載裝置2的運作發(fā)生異常的初始，就能實時地被發(fā)現(xiàn)及排除，所以可因此大幅降低晶片工藝中不良率的產(chǎn)生。
綜上所述，可知本發(fā)明具有產(chǎn)業(yè)上的實用性及進(jìn)步性，而且在同類產(chǎn)品中均未見有類似的產(chǎn)品或發(fā)表，因此具有新穎性，故已符合發(fā)明專利的申請要件，特依法提出申請。
權(quán)利要求
1.一種晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于包括一振動感應(yīng)器，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝置上，供偵測該移載裝置運作時所產(chǎn)生的振動；一判別模塊，接收來自該振動感應(yīng)器所偵測的振動，并將其轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號，且與預(yù)先設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)信號范圍作比對分析；一警示裝置，于該判別模塊比對分析出該振動感應(yīng)器所偵測的數(shù)字信號超過標(biāo)準(zhǔn)信號范圍而發(fā)生異常時，即產(chǎn)生一警示信號以提醒工作人員。
2.一種晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于包括一聲音感應(yīng)器，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝置上，供偵測該移載裝置運作時所產(chǎn)生的聲音；一判別模塊，接收來自該聲音感應(yīng)器所偵測的聲音，并將其轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號，且與預(yù)先設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)信號范圍作比對分析；一警示裝置，于該判別模塊比對分析出該聲音感應(yīng)器所偵測的數(shù)字信號超過標(biāo)準(zhǔn)信號范圍而發(fā)生異常時，即產(chǎn)生一警示信號以提醒工作人員。
3.一種晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于包括一形變感應(yīng)器，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝置上，供偵測該移載裝置運作時所產(chǎn)生之的變；一判別模塊，接收來自該形變感應(yīng)器所偵測的形變，并將其轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號，且與預(yù)先設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)信號范圍作比對分析；一警示裝置，于該判別模塊比對分析出該形變感應(yīng)器所偵測的數(shù)字信號超過標(biāo)準(zhǔn)信號范圍而發(fā)生異常時，即產(chǎn)生一警示信號以提醒工作人員。
4.一種晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于包括一振動感應(yīng)器，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝置上，供偵測該移載裝置運作時所產(chǎn)生的振動；一聲音感應(yīng)器，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝置上，供偵測該移載裝置運作時所產(chǎn)生的聲音；一形變感應(yīng)器，設(shè)于該晶片工藝平臺的移載裝置上，供偵測該移載裝置運作時所產(chǎn)生的形變；一判別模塊，接收來自該振動感應(yīng)器及聲音感應(yīng)器及形變感應(yīng)器所偵測的振動及聲音及形變，并將其轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號，且與預(yù)先設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)信號范圍作比對分析；一警示裝置，于該判別模塊比對分析出該振動感應(yīng)器及聲音感應(yīng)器及形變感應(yīng)器所偵測的數(shù)字信號超過標(biāo)準(zhǔn)信號范圍而發(fā)生異常時，則產(chǎn)生一警示信號以提醒工作人員。
5.如權(quán)利要求4所述的晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于，所述判別模塊以曲率作為判別計算方式。
6.如權(quán)利要求4所述的晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于，所述判別模塊以位移量作為判別計算方式。
7.如權(quán)利要求1或2或3或4所述的晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于，所述判別模塊包括一轉(zhuǎn)換單元，供接收來自該振動感應(yīng)器或聲音感應(yīng)器或形變感應(yīng)器所偵測的振動或聲音或形變，并將其轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號；一儲存單元，可預(yù)先儲存或設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)信號范圍；一運算單元，可供針對該轉(zhuǎn)換單元所接收轉(zhuǎn)換的數(shù)字信號及該儲存單元預(yù)先儲存或設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)信號范圍作異常的比對分析。
8.如權(quán)利要求1或2或3或4所述的晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于，所述警示裝置包括有一聲音警示器供發(fā)出警示聲響。
9.如權(quán)利要求1或2或3或4所述的晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于，所述警示裝置包括有一燈光警示器供發(fā)出警示燈光。
10.如權(quán)利要求1或2或3或4所述的晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于，更包括至少一攝影機及至少一顯示器，其中該攝影機供拍攝該移載裝置的運作過程，而該顯示器供顯示該攝顯機所拍攝的內(nèi)容。
11.如權(quán)利要求10所述的晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于，所述攝影機及顯示器于該工藝平臺激活時即隨之激活。
12.如權(quán)利要求10所述的晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，其特征在于，所述攝影機及顯示器于該判別模塊發(fā)現(xiàn)異常時激活。
全文摘要
本發(fā)明是有關(guān)于一種晶片工藝平臺的安全監(jiān)控機制，主要是設(shè)于該晶片工藝平臺上供運送晶片的移載裝置上，一振動或聲音或形變感應(yīng)器供偵測該移載裝置運作時所產(chǎn)生的振動或聲音或曲率或位移量，一判別模塊接收該振動或聲音或形變感應(yīng)器所偵測的振動或聲音或曲率或位移量，并將其轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號及與預(yù)先設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)信號范圍作比對分析，一警示裝置于該判別模塊比對分析判別出該振動或聲音或形變感應(yīng)器所偵測的數(shù)字信號超過標(biāo)準(zhǔn)信號范圍或發(fā)生異常時，則會產(chǎn)生一警示的聲、光；如此，便可于該晶片工藝平臺的移載裝置的運動發(fā)生異常的初始，便能實時地發(fā)現(xiàn)及排除，以藉此而具有能有效地大幅降低不良率產(chǎn)生的效益。
文檔編號H01L21/66GK1845297SQ20051006351
公開日2006年10月11日 申請日期2005年4月8日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月8日
發(fā)明者黃裕鴻 申請人:泉勝科技股份有限公司