專利名稱:窄帶輸出雙包層光纖激光器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種窄帶輸出的雙包層光纖激光器。
背景技術(shù):
目前已經(jīng)有多種方法實(shí)現(xiàn)窄帶甚至單模光纖激光輸出,比如最常用的是在光纖本身寫入布拉格光柵反射器,但都局限在低功率的光纖激光器。而高功率光纖激光器主要采用雙包層光纖。由于摻雜等方面的原因,雙包層光纖不能像普通光纖一樣寫入布拉格光柵。因此高功率光纖激光器主要是寬帶輸出,這就限制了雙包層光纖激光器的應(yīng)用,尤其是在非線性光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于實(shí)現(xiàn)雙包層光纖激光的窄帶輸出。
本實(shí)用新型的目的通過以下措施來實(shí)現(xiàn)一種窄帶輸出雙包層光纖激光器,包括雙包層光纖,其特征在于該雙包層光纖的輸入端與一光纖布拉格光柵反射器相接,該光纖布拉格光柵反射器的另一端設(shè)有一耦合透鏡,該耦合透鏡之前是一泵浦源,該光纖布拉格光柵反射器與該雙包層光纖的輸出端面的輸出鏡形成激光諧振腔。
所述的光纖布拉格光柵反射器的光纖直徑與雙包層光纖的內(nèi)包層直徑相同,并與雙包層光纖焊接在一起,所述焊接部分和光纖布拉格光柵反射器的表面涂覆硅橡膠層所述的泵浦源為半導(dǎo)體激光二極管。
所述的光纖布拉格光柵反射器對激光波長的反射率大于99%。
根據(jù)實(shí)際使用的要求,雙包層光纖的輸出端可以僅僅是反射率為4%的刻面作為光纖輸出鏡,也可以采用與入射FBR在相同波長反射的FBR或者其它對激光波長反射的反射鏡。入射端光纖布拉格光柵反射器與光纖輸出鏡形成激光振蕩的諧振腔,實(shí)現(xiàn)大功率光纖激光的窄帶輸出。
本實(shí)用新型的窄帶輸出雙包層光纖激光器,結(jié)構(gòu)緊湊,便于集成,可應(yīng)用于多個領(lǐng)域。
圖1為本實(shí)用新型的窄帶輸出雙包層光纖激光器實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施方式
先請參閱涂1,圖1是本實(shí)用新型窄帶輸出雙包層光纖激光器的實(shí)施例的示意圖。其中泵浦源1是一臺波長為975nm的半導(dǎo)體激光二極管,通過透鏡2聚焦進(jìn)入一段作為激光反射鏡的光纖布拉格光柵反射器3。該光纖布拉格光柵反射器3的中心反射波長設(shè)計(jì)為1110nm。該光纖布拉格光柵反射器3與雙包層光纖6焊接在一起,焊接點(diǎn)4以及該光纖布拉格光柵反射器3外面涂覆一層硅橡膠層5。雙包層光纖6的輸出端僅僅采用切割面作為輸出鏡7,其反射率為4%,可獲得輸出激光帶寬<0.2nm,而用普通的雙色片作為輸入鏡7的輸出激光帶寬>1.8nm。如果在輸出端采用中心波長與入射端該光纖布拉格光柵反射器3相同的該光纖布拉格光柵反射器,則可以獲得更窄的激光輸出帶寬。
權(quán)利要求1.一種窄帶輸出雙包層光纖激光器,包括雙包層光纖(6),其特征在于該雙包層光纖(6)的輸入端與一光纖布拉格光柵反射器(3)相接,該光纖布拉格光柵反射器(3)的另一端設(shè)有一耦合透鏡(2),該耦合透鏡(2)之前是一泵浦源(1),該光纖布拉格光柵反射器(3)與該雙包層光纖(6)的輸出端面的輸出鏡(7)形成激光諧振腔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窄帶輸出雙包層光纖激光器,其特征在于所述的光纖布拉格光柵反射器(3)的光纖直徑與雙包層光纖(6)的內(nèi)包層直徑相同,并與雙包層光纖(6)焊接在一起,焊接部分和光纖布拉格光柵反射器(3)的表面涂覆硅橡膠層(5)
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窄帶輸出雙包層光纖激光器,其特征在于所述的泵浦源(1)為半導(dǎo)體激光二極管。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窄帶輸出雙包層光纖激光器,其特征在于所述的光纖布拉格光柵反射器(3)對激光波長的反射率大于99%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窄帶輸出雙包層光纖激光器,其特征在于所述的輸出鏡(7)是反射率4%的刻面,也可以采用其它對激光波長反射的反射鏡。
專利摘要一種窄帶輸出雙包層光纖激光器,包括雙包層光纖,其特點(diǎn)是該雙包層光纖的輸入端與一光纖布拉格光柵反射器相接,該光纖布拉格光柵反射器的另一端設(shè)有一耦合透鏡,該耦合透鏡之前是一泵浦源,該光纖布拉格光柵反射器與該雙包層光纖的輸出端面的輸出鏡形成激光諧振腔。本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)緊湊,便于集成,可應(yīng)用于多個領(lǐng)域的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號H01S3/00GK2655474SQ20032010908
公開日2004年11月10日 申請日期2003年10月21日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月21日
發(fā)明者葉震寰, 樓祺洪, 周軍, 董景星, 魏運(yùn)榮 申請人:中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所