專利名稱：液晶顯示裝置的再生方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種玻璃基板的再生方法，其特征在于，從在玻璃基板的表面上順次形成從黑底膜、濾色器膜、保護(hù)膜、ITO膜、聚酰亞胺膜、金屬膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封劑膜中選取的至少一個(gè)以上的該玻璃基板選擇性地去除一個(gè)或多個(gè)膜。
背景技術(shù)：
液晶顯示裝置具有配置有透明電極、偏光板等的兩片以上的玻璃板，液晶物質(zhì)夾持在該玻璃板間。于是通過(guò)向該透明電極給予電荷，該液晶物質(zhì)的方向發(fā)生變化，透過(guò)光的偏光方向也發(fā)生改變，因此用偏光板可以控制光的透過(guò)/不透過(guò)。于是通過(guò)將這種控制運(yùn)用到細(xì)分的領(lǐng)域中，可以顯示文字或圖象。進(jìn)而，液晶顯示裝置具有用于對(duì)電荷進(jìn)行控制的薄膜晶體管(TFT)、用于對(duì)文字或圖象進(jìn)行著色的濾色器等。
圖12為表示液晶顯示裝置一例構(gòu)造的斷面圖。
在該例中，位于光入射一側(cè)的玻璃基板11和位于光射出一側(cè)的玻璃基板1相向配置。
在玻璃基板1的一面形成有柵格狀或帶狀的黑底膜(以下稱為BM膜)2，在該BM膜2的柵格或帶上形成具有紅(R)、綠(G)、藍(lán)(B)各種顏色的濾色膜(以下稱為CF膜)3。由透明樹(shù)脂構(gòu)成的保護(hù)膜(以下稱為OC膜)4形成于CF膜3上。BM膜2通常由金屬及/或金屬氧化物或合成樹(shù)脂構(gòu)成，CF膜3由例如丙烯酸共聚物系彩色樹(shù)脂構(gòu)成。作為透明電極的ITO膜(銦錫氧化物)5及作為使液晶分子群按一定方向配列的取向膜的聚酰亞胺膜(以下稱為PI膜)6順次形成于該OC膜4的表面上。偏光膜7形成于玻璃基板1的另一側(cè)。在以下本申請(qǐng)說(shuō)明書(shū)中，將如該玻璃基板1那樣，順次形成有BM膜2、CF膜3、OC膜4、ITO膜5及PI膜6的一個(gè)或多個(gè)的玻璃基板稱為濾色器側(cè)玻璃基板。
TFT(薄膜晶體管)元件12以規(guī)定間隔形成于玻璃基板11的一面上。ITO膜15及PI膜16順次形成于TFT元件12的表面上。作為該TFT元件12，多采用反交錯(cuò)a-SiTFT，反交錯(cuò)a-SiTFT有通道保護(hù)型和通道邊緣型兩種。
偏光膜17形成于玻璃基板11的另一面上。
在以下本申請(qǐng)說(shuō)明書(shū)中，將如該玻璃基板11那樣，順次形成有TFT元件12、ITO膜15及PI膜16的一個(gè)或多個(gè)的玻璃基板稱為T(mén)FT側(cè)玻璃基板。
液晶8被封入PI膜6和16間，為了調(diào)整及維持該P(yáng)I膜6和16間的間隔，在PI膜6和16間配置有調(diào)距板9。
在液晶顯示裝置中，通常從該玻璃基板11的、液晶8一側(cè)的對(duì)側(cè)照射背照光，在該狀態(tài)下，通過(guò)在ITO膜5和15間外加對(duì)應(yīng)于圖象的電壓，使液晶8的排列發(fā)生變化，控制光的透過(guò)/不透過(guò)，從而使畫(huà)像得以顯示。
上述濾色器側(cè)玻璃基板及TFT側(cè)玻璃基板，只有滿足規(guī)定品質(zhì)基準(zhǔn)的，才能用于液晶顯示裝置。該品質(zhì)基準(zhǔn)高，無(wú)法滿足品質(zhì)基準(zhǔn)，則不能用于液晶顯示裝置，大量產(chǎn)生被廢棄處理的基板。因此，從該被廢棄處理的基板，將玻璃基板上形成的各種膜等的全部或只是不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的一部分去除，使玻璃基板再生，將該再生的基板再次用于濾色器側(cè)玻璃基板及TFT側(cè)玻璃基板等的制造中。
此外，對(duì)于TFT側(cè)玻璃基板，為了制造裝置的維修等而使制造停止后，在再次開(kāi)始連續(xù)制造前，首先進(jìn)行使用成膜條件設(shè)定用玻璃基板(以下稱為虛設(shè)基板(dummy基板))的制造，對(duì)制造裝置的各設(shè)定條件進(jìn)行確認(rèn)。作為該虛設(shè)基板，所使用的是在玻璃基板的整個(gè)面上形成由金屬膜及合金膜(Ta、Mo、W、Ti、Cr、Al等及它們的合金)、氧化膜(SiOx、Ta2O5、Al2O3、ITO)、氮化膜(SiNx)等構(gòu)成的單層膜或多層膜、PI膜等，并沿線路涂覆密封劑的虛設(shè)基板。通常，該虛設(shè)基板不能成為制品，常常是以同樣的目的，在使用一回或多回后被廢棄。因此，從該廢棄的虛設(shè)基板去除所形成的各種膜等的全部或一部分，從而使玻璃基板再生。
以往為了從玻璃基板上去除各種膜等，需要使用剝離液。例如，當(dāng)從形成由Cr制的BM膜、CF膜及ITO膜這三個(gè)膜的濾色器側(cè)玻璃基板上，將這些膜的全部或一部分去除時(shí)，需將該濾色器側(cè)玻璃基板浸漬于裝有以下表1所示的剝離液的貯存槽中。
表1

但是，當(dāng)采用該方法去除各種膜時(shí)，產(chǎn)生例如下述的問(wèn)題。
(1)當(dāng)只有ITO膜不滿足品質(zhì)時(shí)，不能在不損傷CF膜的情況下只去除ITO膜。
(2)當(dāng)同時(shí)去除CF膜和ITO膜時(shí)，不能使BM膜及玻璃基板的浸蝕量減少，例如不能使一次處理中玻璃基板的浸蝕量達(dá)到5nm(50)以下。
除了上述3個(gè)膜外，對(duì)于形成有OC膜及PI膜的濾色器側(cè)玻璃基板，也要求將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的一部分膜或全部膜去除，從而使玻璃基板再生，但尚未找到在不損傷應(yīng)殘存的膜、玻璃基板的情況下能使玻璃基板再生的剝離液。
此外，在TFT側(cè)玻璃基板及虛設(shè)基板中，一般是通過(guò)將它們浸漬于裝有剝離液的貯存槽中，去除TFT元件、規(guī)定膜或密封劑，但當(dāng)使用已知的剝離液時(shí)，與濾色器側(cè)玻璃基板的情況相同，存在著對(duì)應(yīng)殘存的薄膜造成損傷、玻璃基板被浸蝕等問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述情況，本發(fā)明的目的在于，提供一種通過(guò)使用規(guī)定的剝離液，能夠只將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的一個(gè)或多個(gè)膜選擇性地去除，不產(chǎn)生損傷應(yīng)殘存膜及玻璃基板被浸蝕等問(wèn)題的液晶顯示用濾色器側(cè)玻璃基板、TFT側(cè)玻璃基板及虛設(shè)基板等玻璃基板的再生方法。
更具體說(shuō)，本發(fā)明涉及一種玻璃基板的再生方法，其目的在于提供下述(1)～(7)等。
(1)一種濾色器側(cè)玻璃基板及TFT側(cè)玻璃基板的再生方法，其中，在位于玻璃基板表側(cè)的PI膜的下面形成有ITO膜時(shí)，通過(guò)使用含有中性有機(jī)溶劑或中性有機(jī)溶劑及多元醇類及/或水的溶液，能夠在不損傷ITO膜以下膜的情況下，只將PI膜去除。
(2)一種濾色器側(cè)玻璃基板的再生方法，其中，在位于玻璃基板表側(cè)的ITO膜的下面形成有OC膜及/或CF膜時(shí)，通過(guò)使用含有鹵素系無(wú)機(jī)酸或有機(jī)酸、或它們與多元醇類的水溶液，能夠在不損傷OC膜以下膜的情況下，只將ITO膜去除。
(3)一種濾色器側(cè)玻璃基板的再生方法，其中，在位于玻璃基板表側(cè)的OC膜的下面形成有CF膜及BM膜時(shí)，通過(guò)使用含有無(wú)機(jī)酸的水溶液、有機(jī)或無(wú)機(jī)的堿性水溶液，能夠在不損傷BM膜及玻璃基板的情況下，將OC膜及CF膜去除。
(4)一種濾色器側(cè)玻璃基板的再生方法，其中，在玻璃基板上形成有金屬及/或金屬化合物制的BM膜時(shí)，通過(guò)使用含有無(wú)機(jī)酸、有機(jī)酸或硝酸鈰銨的水溶液，能夠在玻璃基板不被浸蝕的情況下將BM膜去除。
(5)一種TFT側(cè)玻璃基板的再生方法，其中，在形成有ITO膜和TFT元件時(shí)，通過(guò)使用含有無(wú)機(jī)酸、有機(jī)酸或硝酸鈰銨的水溶液，能夠?qū)⑿纬傻娜磕とコ?br> (6)一種在玻璃基板不被浸蝕的情況下，能夠?qū)⑷磕とコ奶撛O(shè)基板的再生方法，其特征在于在玻璃基板上形成有PI膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜及氮化膜的一個(gè)或多個(gè)時(shí)，將玻璃基板浸漬于含有中性有機(jī)溶劑、或中性有機(jī)溶劑及多元醇類及/或水的溶液中，將PI膜去除，將玻璃基板浸漬于含有鹵素系無(wú)機(jī)酸或有機(jī)酸、或它們與多元醇類的水溶液中，將ITO膜去除，將玻璃基板浸漬于含有無(wú)機(jī)酸、有機(jī)酸、或硝酸鈰銨的水溶液中，將PI膜及ITO膜以外的膜去除。
(7)一種虛設(shè)基板的再生方法，其中，在玻璃基板上形成有密封劑膜時(shí)，通過(guò)使用含有無(wú)機(jī)酸或有機(jī)酸的水溶液，能夠在玻璃基板不被浸蝕的情況下，只將密封劑去除。
本發(fā)明的第一點(diǎn)在于提供了一種玻璃基板的再生方法，其特征在于從順次形成有BM膜、CF膜、OC膜、ITO膜及PI膜的一個(gè)或多個(gè)的玻璃基板的膜形成側(cè)的外層側(cè)，使用規(guī)定的剝離液，選擇性地將該膜的一個(gè)或多個(gè)去除。在這里，由于BM膜用于在各色的濾色器間遮光，因此通常形成柵格狀或帶狀，但并不限于此。CF膜由R、B、G各色的濾光器構(gòu)成，形成于玻璃基板上，顯示規(guī)定的顏色，為了確保各色濾色器間的遮光，優(yōu)選如圖12所示，搭架形成于BM膜上。OC膜被設(shè)計(jì)用來(lái)覆蓋該CF膜的表面，ITO膜被設(shè)計(jì)成透明電極，PI膜被設(shè)計(jì)成用于使液晶取向的取向膜。本發(fā)明第一點(diǎn)所涉及的玻璃基板，通常用作液晶顯示裝置用的濾色器側(cè)玻璃基板。作為本發(fā)明第一點(diǎn)所涉及的玻璃基板，可以只形成有從BM膜、CF膜、OC膜、ITO膜及PI膜中選取的一個(gè)膜，也可以依次形成有多個(gè)膜。此外，也可以依次形成有BM膜、CF膜、OC膜、ITO膜及PI膜的全部。
在本發(fā)明的第一點(diǎn)中，從如上所述形成的膜的外層側(cè)的膜，一個(gè)或多個(gè)膜被選擇性地去除。其結(jié)果是，能夠只將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的一個(gè)或多個(gè)膜去除，在殘留有滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的膜的狀態(tài)下，使玻璃基板再生，因此能夠有效地使其再次利用于液晶顯示裝置的玻璃基板的制造等。
本發(fā)明第二點(diǎn)涉及該玻璃基板的再生方法，其特征在于將形成有PI膜及ITO膜的玻璃基板(其中PI膜為外層側(cè))，浸漬于含有從碳數(shù)為4～10的環(huán)狀酯及碳數(shù)為3～10的羥基取代的脂肪醚中選取的至少一種的有機(jī)溶劑，或含有該有機(jī)溶劑及多元醇及/或水的溶劑中，選擇性地將該P(yáng)I膜去除。根據(jù)本發(fā)明第二點(diǎn)所涉及的再生方法，在不對(duì)ITO膜產(chǎn)生造成電阻值變化的損傷及污染的情況下，可以選擇性地只去除PI膜。作為本發(fā)明第二點(diǎn)所適用的玻璃基板，其實(shí)例舉出液晶顯示裝置用的濾色器側(cè)玻璃基板及TFT側(cè)玻璃基板，如果外層側(cè)為PI膜，可以具有PI膜、ITO膜以外的膜或元件等。
碳數(shù)為4～10的環(huán)狀酯及碳數(shù)為3～10的羥基取代的脂肪醚為中性有機(jī)溶劑，具體實(shí)例包括γ-丁內(nèi)酯、甲基溶纖劑等。作為浸漬玻璃基板的溶劑，優(yōu)選γ-丁內(nèi)酯、甲基溶纖劑及它們的混合溶劑，特別優(yōu)選含有50重量％以上γ-丁內(nèi)酯的溶劑。
本發(fā)明的第三點(diǎn)涉及一種玻璃基板的再生方法，其特征在于將形成有ITO膜及OC膜及/或CF膜的玻璃基板(其中ITO膜為外層側(cè))，浸漬于(1)含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸及氯磺酸中選取的一種以上的鹵素系無(wú)機(jī)酸的水溶液、(2)含有從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種以上的有機(jī)酸的水溶液、或(3)含有該鹵素系無(wú)機(jī)酸或該有機(jī)酸、及多元醇類的水溶液中，將該ITO膜選擇性去除。
根據(jù)本發(fā)明第三點(diǎn)所涉及的再生方法，能夠在不對(duì)CF膜造成透光率及色度變化等損害的情況下，選擇性地只將ITO膜去除。作為本發(fā)明第三點(diǎn)所適用的玻璃基板，其具體實(shí)例為液晶顯示裝置用濾色器側(cè)玻璃基板，如果外層側(cè)為ITO膜，其可以具有CF膜、ITO膜、OC膜以外的膜。
本發(fā)明的第四點(diǎn)涉及一種玻璃基板的再生方法，其特征在于將形成有OC膜、CF膜以及BM膜的玻璃基板(其中BM膜含有金屬及/或金屬氧化物，OC膜為外層側(cè))，浸漬于(1)含有從鹽酸、硝酸、硫酸及磷酸中選取的一種以上的無(wú)機(jī)酸水溶液、或(2)含有從N一甲基-2-吡咯烷酮、氫氧化四甲基銨、氫氧化鉀、氫氧化鈉及肼中選取的一種以上的堿性水溶液中，將該BM膜以外的膜，例如OC膜、CF膜去除。
根據(jù)本發(fā)明第四點(diǎn)所涉及的再生方法，在不損傷該BM膜及玻璃基板的情況下，能夠去除OC膜、CF膜等其他膜。作為本發(fā)明第四點(diǎn)所適用的玻璃基板，其實(shí)例舉出液晶顯示裝置用濾色器側(cè)玻璃基板。
本發(fā)明的第五點(diǎn)涉及一種玻璃基板的再生方法，其特征在于將只形成有BM膜的玻璃基板(其中BM膜含有金屬及/或金屬氧化物)，浸漬于(1)含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液、或(2)含有硝酸鈰銨液的水溶液中，將該BM膜去除。
根據(jù)本發(fā)明第五點(diǎn)所涉及的再生方法，能夠在玻璃基板不被浸蝕的情況下，只將BM膜去除。作為本發(fā)明第五點(diǎn)所適用的玻璃基板，其實(shí)例舉出液晶顯示裝置用濾色器側(cè)玻璃基板。
本發(fā)明第六點(diǎn)提供了一種玻璃基板的再生方法，其特征在于從順次形成有TFT元件、ITO膜及PI膜的一個(gè)或多個(gè)的玻璃基板的膜及元件形成側(cè)的外層側(cè)，用規(guī)定的剝離液，選擇性地將該膜或元件的一個(gè)或多個(gè)去除。在這里，TFT元件可以為通常用于液晶顯示裝置等的薄膜晶體管，ITO膜及PI膜分別與上述本發(fā)明第一點(diǎn)中的ITO膜及PI膜相同。
本發(fā)明第六點(diǎn)所涉及的玻璃基板，其通常用作液晶顯示裝置用TFT側(cè)玻璃基板。
在本發(fā)明的第六點(diǎn)中，從上述形成的膜的外層側(cè)，選擇性地去除一個(gè)或多個(gè)膜。其結(jié)果是，能夠只將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的一個(gè)或多個(gè)膜去除，在殘留有滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的膜或元件的狀態(tài)下，使玻璃基板再生，因此可以有效地再次利用于液晶顯示裝置用玻璃基板的制造等。
本發(fā)明第七點(diǎn)涉及一種玻璃基板的再生方法，其特征在于將形成有ITO膜及TFT元件的玻璃基板(其中ITO膜為外層側(cè))，或形成有ITO膜、TFT元件和從金屬膜、合金膜、氧化膜及氮化膜中選取的一種以上的玻璃基板(其中ITO膜為外層側(cè))，浸漬于(1)含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，或(2)含有硝酸鈰銨的水溶液中。
根據(jù)本發(fā)明第七點(diǎn)所涉及的再生方法，能夠在玻璃基板不被浸蝕的情況下，將上述的全部膜去除。作為本發(fā)明第七點(diǎn)所適用的玻璃基板，其實(shí)例舉出液晶顯示裝置用TFT側(cè)玻璃基板。
本發(fā)明的第八點(diǎn)提供了一種玻璃基板的再生方法，其特征在于從順次形成有PI膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封劑膜中的一個(gè)或多個(gè)的玻璃基板的膜形成側(cè)的外層側(cè)，用規(guī)定的剝離液，選擇性地將該膜的一個(gè)或多個(gè)去除。在這里，ITO膜及PI膜分別與上述本發(fā)明第一點(diǎn)中的ITO膜及PI膜相同。
本發(fā)明第八點(diǎn)所涉及的玻璃基板，其通常被用作液晶顯示裝置制造用的虛設(shè)基板。
在本發(fā)明第八點(diǎn)中，從上述形成的膜的外層側(cè)，將一個(gè)或多個(gè)膜選擇性地去除。其結(jié)果是，能夠只將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的一個(gè)或多個(gè)膜去除，在殘留有滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的膜的狀態(tài)下，能夠使虛設(shè)基板再生，因此可以有效地再次利用虛設(shè)基板。
本發(fā)明第九點(diǎn)涉及一種玻璃基板的再生方法，其為形成有PI膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜及氮化膜中的一個(gè)或多個(gè)的玻璃基板的再生方法，其特征在于包括(1)工序、(2)工序和(3)工序的至少一個(gè)工序(1)通過(guò)將該玻璃基板浸漬于含有從碳數(shù)為4～10的環(huán)狀酯及碳數(shù)為3～10的羥基取代的脂肪醚中選取的至少一種的有機(jī)溶劑、或含有該有機(jī)溶劑及多元醇及/或水的溶劑中，去除PI膜；(2)通過(guò)將該玻璃基板浸漬于含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸及氯磺酸中選取的一種以上的鹵素系無(wú)機(jī)酸的水溶液、含有選自草酸、乙酸和甲酸的一種以上的有機(jī)酸的水溶液或含有該鹵素系無(wú)機(jī)酸或該有機(jī)酸、及多元醇類的水溶液中，將ITO膜去除；及(3)將該玻璃基板浸漬于含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，或含有硝酸鈰銨液的水溶液中，將PI膜及ITO膜以外的膜去除。
本發(fā)明第九點(diǎn)所涉及的玻璃基板，其通常被用作液晶顯示裝置制造用的虛設(shè)基板。
在本發(fā)明第九點(diǎn)中，在玻璃基板不被浸蝕的情況下，可以將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的全部膜去除。
本發(fā)明第十點(diǎn)涉及一種玻璃基板的再生方法，其特征在于將只形成有密封劑的玻璃基板浸漬于含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液中，將該密封劑去除。
本發(fā)明第十點(diǎn)所涉及的玻璃基板，其通常被用作液晶顯示裝置制造用的虛設(shè)基板。
在本發(fā)明第十點(diǎn)中，在玻璃基板不被浸蝕的情況下，可以只將密封劑去除。


圖1為表示本發(fā)明實(shí)施例1中的再生處理前的濾色器側(cè)玻璃基板的斷面圖。
圖2為表示本發(fā)明實(shí)施例1中的再生處理后的濾色器側(cè)玻璃基板的斷面圖。
圖3為表示本發(fā)明實(shí)施例2中的再生處理前的濾色器側(cè)玻璃基板的斷面圖。
圖4為表示本發(fā)明實(shí)施例2中的再生處理后的濾色器側(cè)玻璃基板的斷面圖。
圖5為表示本發(fā)明實(shí)施例3中的再生處理前的濾色器側(cè)玻璃基板的斷面圖。
圖6為表示本發(fā)明實(shí)施例3中的再生處理后的濾色器側(cè)玻璃基板的斷面圖。
圖7為表示BM膜的厚度與處理次數(shù)關(guān)系的圖。
圖8為表示BM膜的OD值與處理次數(shù)關(guān)系的圖。
圖9為表示本發(fā)明實(shí)施例4中的再生處理前的TFT側(cè)玻璃基板的斷面圖。
圖10為表示本發(fā)明實(shí)施例5中的虛設(shè)基板的斷面圖。
圖11為表示本發(fā)明實(shí)施例6中的虛設(shè)基板的斷面圖。
圖12為表示液晶顯示裝置一例構(gòu)造的斷面圖。
符號(hào)說(shuō)明1，11，21 玻璃基板2 BM膜3 CF膜4 OC膜5，15 ITO膜6，16 PI膜7 偏光膜8 液晶9 調(diào)距板10 光12 TFT元件18 金屬膜19 密封劑具體實(shí)施方式
以下根據(jù)實(shí)施例及附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行具體說(shuō)明。但實(shí)施例并不限定本發(fā)明的范圍。
圖1及圖2為表示液晶顯示裝置的濾色器側(cè)玻璃基板的一例的斷面圖。圖1為表示在進(jìn)行該實(shí)施例的再生處理前的濾色器側(cè)玻璃基板的斷面圖。圖1及圖2為以顯微鏡照片所確認(rèn)的為基準(zhǔn)圖示的模式圖。在這方面，在圖3～圖6及圖9～圖11中也相同。
如圖1所示，在處理前的玻璃基板1上，依次形成有BM膜2、CF膜3、OC膜4、ITO膜5及厚度2μ的PI膜6。
將該玻璃基板1浸漬于裝有由γ-丁內(nèi)酯(100％)構(gòu)成的剝離液的存儲(chǔ)槽中，在60℃下浸漬2小時(shí)，取出并水洗。其后，投入到枚葉(扇片)式洗滌機(jī)中，進(jìn)行純水洗滌和氣刀干燥。
圖2為表示進(jìn)行了以上處理后的濾色器側(cè)玻璃基板的斷面圖。在圖1中，有PI膜6，在圖2中不存在PI膜6，表示只有PI膜6被選擇性地去除。此外，確認(rèn)對(duì)ITO膜5沒(méi)有產(chǎn)生電阻值變化及污染等損傷。而且也確認(rèn)玻璃基板1沒(méi)有被浸蝕。
如圖3所示，在處理前的玻璃基板1上，依次形成有BM膜2、CF膜3、OC膜4及厚度1000的ITO膜5。
將該玻璃基板1浸漬于裝有剝離液的存儲(chǔ)槽中，該剝離液由氫碘酸、乙二醇及水以重量比30/30/40組成的混合溶劑構(gòu)成，在40℃下浸漬2小時(shí)，取出并水洗。其后，投入到扇片式洗滌機(jī)中，進(jìn)行純水洗滌和氣刀干燥。
圖4為表示進(jìn)行了以上處理后的濾色器側(cè)玻璃基板的斷面圖及表示其表面狀態(tài)的照片。在圖3中有ITO膜5，在圖4中不存在ITO膜5，表示只有ITO膜5被選擇性地去除。此外，確認(rèn)對(duì)CF膜3沒(méi)有造成透過(guò)率及色度變化等損傷。進(jìn)而，也確認(rèn)玻璃基板1沒(méi)有被浸蝕。
作為本實(shí)施例的剝離液，代替上述剝離液，還可以使用含有草酸、乙酸及甲酸的一種或多種與多元醇的水溶液。實(shí)施例3圖5及圖6為表示液晶顯示裝置的濾色器側(cè)玻璃基板的一例的斷面圖。圖5為表示進(jìn)行該實(shí)施例的再生處理前的濾色器側(cè)玻璃基板的斷面圖。
如圖5所示，在處理前的玻璃基板1上，依次形成有厚度為2000的Cr制BM膜2、厚度為1.5μ的CF膜3、以及厚度為1μ的OC膜4。
將該玻璃基板1浸漬于裝有由N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、氫氧化四甲基銨(TMAH)及水以重量比30/30/40的混合溶劑構(gòu)成的剝離液的存儲(chǔ)槽中，在60℃下浸漬2小時(shí)，取出并水洗。其后，投入到扇片式洗滌機(jī)中，進(jìn)行純水洗滌和氣刀干燥。
圖6為表示進(jìn)行了以上處理后的濾色器側(cè)玻璃基板的斷面圖。在圖5中確認(rèn)有BM膜2、CF膜3和OC膜4。在圖6中只有BM膜2，表示CF膜3及OC膜4被選擇性地去除。此外，玻璃基板1沒(méi)有被浸蝕也得到確認(rèn)。
圖7表示以三種厚度的BM膜2為基礎(chǔ)，分別反復(fù)多次進(jìn)行實(shí)施例3的再生處理(實(shí)施例3中采用剝離液的處理)時(shí)，BM膜2的厚度與處理次數(shù)之間的關(guān)系。厚度為采用觸針式表面粗度計(jì)所測(cè)定的BM膜2的規(guī)定位置的厚度，表示離玻璃基板1的厚度。
圖8表示反復(fù)進(jìn)行實(shí)施例3的再生處理時(shí)，BM膜2的OD值(光學(xué)濃度)與處理次數(shù)之間關(guān)系。OD值使用光透過(guò)濃度計(jì)進(jìn)行測(cè)定。
從圖7及圖8可以判定，即使處理次數(shù)增加，BM膜2的厚度及OD值也基本上保持一定。由于OD值保持一定，因此可以判定BM膜2沒(méi)有被浸蝕，由于BM膜2離玻璃基板1的厚度保持一定，因此可以判定玻璃基板1沒(méi)有被浸蝕。
作為本實(shí)施例的剝離液，代替上述剝離液，還可以使用含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸及氯磺酸中選取的一種或多種的水溶液，或含有從氫氧化鉀、氫氧化鈉及肼中選取的一種或多種的水溶液。
此外，當(dāng)BM膜2不為Cr制，而為樹(shù)脂制時(shí)，通過(guò)上述本實(shí)施例的處理，BM膜2、CF膜3及OC膜4都被去除。此時(shí)，可以將玻璃基板1作為純玻璃進(jìn)行再利用。
通過(guò)將該玻璃基板1浸漬于含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的一種或多種的水溶液，或含有硝酸鈰銨的水溶液中，玻璃基板1上形成的Cr制BM膜被去除。
如上所示，通過(guò)進(jìn)行實(shí)施例1～3的全部處理，可以將圖1所示的濾色器側(cè)玻璃基板的全部膜徹底地去除。而且，由于BM膜2及玻璃基板1幾乎沒(méi)有被浸蝕，因此可以有效地將該玻璃基板1進(jìn)行再利用。
如圖9所示，在處理前的玻璃基板11上依次形成有TFT元件12、厚度為1000的ITO膜15及厚度為2μ的PI膜16。
與實(shí)施例1相同，選擇性地去除PI膜16(此時(shí)沒(méi)有發(fā)現(xiàn)ITO膜損傷)，與實(shí)施例2相同，選擇性地去除ITO膜15后，通過(guò)在80℃的硫酸中浸漬2小時(shí)，然后在80℃的磷酸中浸漬2小時(shí)，TFT元件12剝離。通過(guò)該處理，TFT元件12、ITO膜15及PI膜16從玻璃基板11被完全去除。也確認(rèn)玻璃基板11沒(méi)有被浸蝕。
即，如從該實(shí)施例所看到的那樣，可以從TFT側(cè)玻璃基板將TFT元件12、ITO膜15及PI膜16全部去除，而且玻璃基板11幾乎沒(méi)有被浸蝕，因此可以有效地將該玻璃基板11進(jìn)行再利用。
將該虛設(shè)基板在80℃的硫酸中浸漬2小時(shí)，然后在80℃的磷酸中浸漬2小時(shí)，將金屬膜18完全去除。也確認(rèn)玻璃基板21沒(méi)有被浸蝕。
作為本實(shí)施例的剝離液，代替上述剝離液，還可以使用含有從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種或多種的水溶液，或硝酸鈰銨。實(shí)施例6圖11為虛設(shè)基板的一例，在玻璃基板21上面涂有圖案化的密封劑19。
將該虛設(shè)基板在80℃的硫酸中浸漬2小時(shí)，然后在80℃的磷酸中浸漬2小時(shí)，將密封劑19完全去除。玻璃基板21沒(méi)有被浸蝕也得以確認(rèn)。
作為本實(shí)施例的剝離液，代替上述剝離液，還可以使用含有從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種或多種的水溶液。
根據(jù)上述本發(fā)明第九點(diǎn)的說(shuō)明可以看到，在虛設(shè)基板中形成有PI膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜及氮化膜的一個(gè)或多個(gè)時(shí)，例如，通過(guò)將該玻璃基板浸漬于含有γ-丁內(nèi)酯及/或甲基溶纖劑的中性有機(jī)溶劑、或該有機(jī)溶劑與水的混合溶劑中，除去PI膜，將玻璃基板浸漬于含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸及氯磺酸中選取的一種以上的鹵素系無(wú)機(jī)酸的水溶液、或從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種以上的有機(jī)酸的水溶液中，除去ITO膜，將玻璃基板浸漬于含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液、或含有硝酸鈰銨液的水溶液中，除去PI膜及ITO膜以外的膜，可以從該玻璃基板將全部膜去除。
即，如從上述實(shí)施例等中可以看到的那樣，由于可以將虛設(shè)基板中的金屬膜18、合金膜、氧化膜、氮化膜、ITO膜、聚酰亞胺膜及密封劑19全部去除，并且玻璃基板21幾乎不被浸蝕，因此可以將該玻璃基板21有效地再利用。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明，可以將形成于液晶顯示裝置用的濾色器側(cè)玻璃基板、TFT側(cè)玻璃基板及虛設(shè)基板上的全部膜或元件去除。而且，由于可以在制造工序中選擇性地只將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的膜及形成的膜去除，同時(shí)殘留滿足品質(zhì)的膜，因此可以有效地使液晶顯示裝置用的濾色器側(cè)玻璃基板、TFT側(cè)玻璃基板及虛設(shè)基板再生。
即，通過(guò)使用本發(fā)明的再生方法，可以從制造中不良的濾色器側(cè)玻璃基板、TFT側(cè)玻璃基板及虛設(shè)基板中，只將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的膜或元件去除，從而使其能再利用。進(jìn)而，可以從成為廢品的上述玻璃基板中將全部膜去除，從而使其能夠再利用。
列舉更為具體的例子進(jìn)行說(shuō)明，根據(jù)本發(fā)明第一點(diǎn)、本發(fā)明第六點(diǎn)及本發(fā)明第八點(diǎn)，可以選擇性地只將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的一個(gè)或多個(gè)膜去除，在殘留有滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的膜等的狀態(tài)下，能夠有效地將玻璃基板進(jìn)行再利用。
根據(jù)本發(fā)明第二點(diǎn)，在對(duì)ITO膜不產(chǎn)生電阻值變化等損傷及污染的情況下，可以選擇性地只去除PI膜，而玻璃基板也不被浸蝕。
根據(jù)本發(fā)明第三點(diǎn)，在對(duì)濾色器側(cè)玻璃基板等中的CF膜不產(chǎn)生透過(guò)率及色度變化等損傷的情況下，可以選擇性地只去除ITO膜，而玻璃基板也幾乎不被浸蝕。
根據(jù)本發(fā)明第四點(diǎn)，可以在玻璃基板幾乎不被浸蝕的情況下，將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的BM膜以外的膜去除。
根據(jù)本發(fā)明第五點(diǎn)，可以在玻璃基板幾乎不被浸蝕的情況下，只將BM膜去除。
根據(jù)本發(fā)明第七點(diǎn)，在TFT側(cè)玻璃基板中，可以在玻璃基板幾乎不被浸蝕的情況下，從TFT側(cè)玻璃基板將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的全部膜去除。
根據(jù)本發(fā)明第九點(diǎn)，可以在玻璃基板幾乎不被浸蝕的情況下，從虛設(shè)基板將不滿足品質(zhì)基準(zhǔn)的全部膜去除。
根據(jù)本發(fā)明第十點(diǎn)，可以在玻璃基板幾乎不被浸蝕的情況下，只將密封材料去除。
權(quán)利要求
1.一種玻璃基板的再生方法，其特征在于，從順次形成有黑底膜、濾色器膜、保護(hù)膜、ITO膜及聚酰亞胺膜中的1個(gè)或多個(gè)的玻璃基板的、膜形成側(cè)的外層側(cè)，用規(guī)定的剝離液，將該膜的1個(gè)或多個(gè)選擇性地去除。
2.根據(jù)權(quán)利要求1記載的玻璃基板的再生方法，其特征在于，在玻璃基板上至少形成有聚酰亞胺膜及ITO膜，使聚酰亞胺膜成為外層側(cè)，規(guī)定的剝離液為含有從碳數(shù)4～10的環(huán)狀酯及碳數(shù)3～10的羥基取代的脂肪醚中選取的至少一種的有機(jī)溶劑，或含有該有機(jī)溶劑及多元醇及/或水的溶劑，將該玻璃基板浸漬于該剝離液中，選擇性地將該聚酰亞胺膜去除。
3.根據(jù)權(quán)利要求2記載的玻璃基板的再生方法，其特征在于，碳數(shù)4～10的環(huán)狀酯及碳數(shù)3～10的羥基取代的脂肪醚為從γ-丁內(nèi)酯及甲基溶纖劑中選取的1種以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1記載的玻璃基板的再生方法，其特征在于，在玻璃基板上至少形成有ITO膜及保護(hù)膜及/或?yàn)V色器膜，使得ITO膜成為外層側(cè)，規(guī)定的剝離液為(1)含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸及氯磺酸中選取的一種以上的鹵素系無(wú)機(jī)酸的水溶液，(2)含有從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種以上的有機(jī)酸的水溶液，或(3)含有該鹵素系無(wú)機(jī)酸或該有機(jī)酸及多元醇類的水溶液，將該玻璃基板浸漬于該剝離液中，選擇性地將該ITO膜去除。
5.根據(jù)權(quán)利要求1記載的玻璃基板的再生方法，其特征在于，在玻璃基板上至少形成有保護(hù)膜、濾色器膜和含有金屬及/或金屬氧化物的黑底膜，使得保護(hù)膜成為外層側(cè)，規(guī)定的剝離液為(1)含有從鹽酸、硝酸、硫酸及磷酸中選取的一種以上的無(wú)機(jī)酸水溶液，或(2)含有從N-甲基-2-吡咯烷酮、氫氧化四甲基銨、氫氧化鉀、氫氧化鈉及肼中選取的一種以上的堿性水溶液，將該玻璃基板浸漬于該剝離液中，將該黑底膜以外的膜去除。
6.根據(jù)權(quán)利要求1記載的玻璃基板的再生方法，其特征在于，在玻璃基板上只形成含有金屬及/或金屬氧化物的黑底膜，規(guī)定的剝離液為(1)含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，或(2)含有硝酸鈰銨液的水溶液，將該玻璃基板浸漬于該剝離液中，將該黑底膜去除。
7.一種玻璃基板的再生方法，其特征在于，從順次形成有TFT元件、ITO膜及聚酰亞胺膜的1個(gè)或多個(gè)的玻璃基板的、膜及元件形成側(cè)的外層側(cè)，用規(guī)定的剝離液，將該膜或元件的1個(gè)或多個(gè)選擇性地去除。
8.根據(jù)權(quán)利要求7記載的玻璃基板的再生方法，其特征在于。在玻璃基板上至少形成有ITO膜及TFT元件，使得ITO膜成為外層側(cè)，或在玻璃基板上形成有ITO膜、TFT元件和從金屬膜、合金膜、氧化膜及氮化膜中選取的一個(gè)以上，使得ITO膜成為外層側(cè)，規(guī)定的剝離液為(1)含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，或(2)含有硝酸鈰銨的水溶液，將該玻璃基板浸漬于該剝離液中。
9.一種玻璃基板的再生方法，其特征在于，從順次形成有聚酰亞胺膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封劑膜的一個(gè)或多個(gè)的玻璃基板的、膜形成側(cè)的外層側(cè)，用規(guī)定的剝離液，將該膜的一個(gè)或多個(gè)選擇性地去除。
10.根據(jù)權(quán)利要求9記載的玻璃基板的再生方法，其特征在于，包括(1)工序、(2)工序和(3)工序中的至少一個(gè)工序(1)通過(guò)將該玻璃基板浸漬于含有從碳數(shù)4～10的環(huán)狀酯及碳數(shù)3～10的羥基取代的脂肪醚中選取的至少一種的有機(jī)系溶劑，或含有該有機(jī)系溶劑及多元醇及/或水的溶劑中，從而將聚酰亞胺膜去除；(2)通過(guò)將玻璃基板浸漬于含有從鹽酸、氫溴酸、氫碘酸及氯磺酸中選取的一種以上的鹵素系無(wú)機(jī)酸的水溶液，含有從草酸、乙酸及甲酸中選取的一種以上的有機(jī)酸的水溶液，或含有該鹵素系無(wú)機(jī)酸或該有機(jī)酸及多元醇類的水溶液中，從而將ITO膜去除；及(3)通過(guò)將該玻璃基板浸漬于含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，或含有硝酸鈰銨液的水溶液中，從而將聚酰亞胺膜及ITO膜以外的膜去除。
11.根據(jù)權(quán)利要求10記載的玻璃基板的再生方法，其特征在于，碳數(shù)4～10的環(huán)狀酯及碳數(shù)3～10的羥基取代的脂肪醚為從γ-丁內(nèi)酯及甲基溶纖劑中選取的一種以上。
12.根據(jù)權(quán)利要求9記載的玻璃基板的再生方法，其特征在于，在玻璃基板上只形成有密封劑膜，規(guī)定的剝離液為含有從鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中選取的至少一種的水溶液，將該玻璃基板浸漬于該剝離液中，從而將該密封劑膜除去。
全文摘要
提供一種能發(fā)揮出色效果的液晶顯示用濾色器側(cè)玻璃基板、TFT側(cè)玻璃基板及虛設(shè)基板等玻璃基板的再生方法，包括從順次形成有黑底膜、濾色器膜、保護(hù)膜、ITO膜及聚酰亞胺膜中的一個(gè)或多個(gè)的玻璃基板，順次形成有TFT元件、ITO膜及聚酰亞胺膜中的一個(gè)或多個(gè)的玻璃基板，或順次形成有聚酰亞胺膜、ITO膜、金屬膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封劑膜中的一個(gè)或多個(gè)的玻璃基板的外層側(cè)，用規(guī)定的剝離液，選擇性地將這些膜的一個(gè)或多個(gè)去除。
文檔編號(hào)H01L21/02GK1432849SQ03101680
公開(kāi)日2003年7月30日 申請(qǐng)日期2003年1月14日 優(yōu)先權(quán)日2002年1月16日
發(fā)明者西山智弘, 出口干郎, 糸川勝博, 溝口幸一 申請(qǐng)人:西山不銹化學(xué)股份有限公司