專利名稱：在磁媒體上熱寫伺服圖形的方法和設(shè)備的制作方法
背景技術(shù)：
本發(fā)明涉及數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置，具體而言，涉及在磁媒體上寫伺服圖形。
在磁盤驅(qū)動(dòng)器中，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在一個(gè)或多個(gè)由磁媒體覆蓋的盤上。磁媒體通常分成多個(gè)通常平行的數(shù)據(jù)道，這些數(shù)據(jù)道垂直于盤半徑彼此同心配置。
通過(guò)由致動(dòng)器臂定位在期望數(shù)據(jù)道的變換器或“頭”存儲(chǔ)和檢索數(shù)據(jù)。在閉環(huán)伺服系統(tǒng)控制下，根據(jù)存在專用伺服區(qū)中的位置信息或“伺服數(shù)據(jù)”，致動(dòng)器臂跨越數(shù)據(jù)道在半徑方向移動(dòng)頭。該伺服區(qū)可與盤表面上的數(shù)據(jù)扇區(qū)交錯(cuò)，也可位于專用于存儲(chǔ)伺服信息的分開的盤面上。當(dāng)頭經(jīng)伺服區(qū)時(shí)，產(chǎn)生回讀信號(hào)，識(shí)別頭相對(duì)于期望數(shù)據(jù)道中心線的位置。根據(jù)該位置，伺服系統(tǒng)移動(dòng)致動(dòng)器，調(diào)節(jié)頭位置從而移向期望位置。
在盤組裝在盤驅(qū)動(dòng)器殼體形成頭盤組件(HDA)后，伺服區(qū)圖形通常經(jīng)產(chǎn)品讀寫頭寫至盤面。稱為伺服道寫入器(Servo track Writer(STW))的設(shè)備沿X、Y、Z軸夾持HDA，并借助某些方法測(cè)量讀/寫頭的位置并把頭定位至適當(dāng)?shù)膹较蛭恢靡詫?duì)伺服道進(jìn)行寫。獲得位置反饋的典型方法包含使用激光干涉儀或光編碼器。
伺服道寫入器也提供時(shí)鐘信號(hào)，借助于該信號(hào)及時(shí)對(duì)準(zhǔn)相鄰伺服道。時(shí)鐘頭插入HDA并在一個(gè)盤面上掃掠。時(shí)鐘頭用于把時(shí)鐘信號(hào)寫至盤面。該時(shí)鐘信號(hào)接著用于運(yùn)行鎖相環(huán)(PLL)以獲得穩(wěn)定的基準(zhǔn)信號(hào)，借助于該基準(zhǔn)信號(hào)以有足夠徑向相干性的伺服圖形寫相鄰徑向道。
在HDA組裝后以HDA寫伺服道有許多優(yōu)點(diǎn)。但以HDA對(duì)伺服道進(jìn)行寫時(shí)，伺服道的精度(即盤面上道的實(shí)質(zhì)位置)不是最佳。在伺服寫時(shí)HDA的任何不可重復(fù)的偏移(NRRO)將寫至伺服圖形。在自伺服道寫入器系統(tǒng)中，通過(guò)以沒(méi)有外部基準(zhǔn)的HDA由前一道的位置引導(dǎo)各道位置而對(duì)伺服道進(jìn)行寫。在這些系統(tǒng)中，在以HDA寫各道時(shí)，伺服道的位置誤差易于從一個(gè)道向下一道徑向傳播。在寫伺服道時(shí)遇到的另一困難是隨著盤驅(qū)動(dòng)器密度持續(xù)增大而道與道的間隔減小，伺服圖形精度必須增大。
本發(fā)明致力于解決這些和其它問(wèn)題并提供相對(duì)于已有技術(shù)的各種優(yōu)點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)方面涉及一種在盤驅(qū)動(dòng)器中組裝磁盤媒體前，在該磁盤媒體上熱寫磁伺服圖形的方法，該方法包括下述步驟以相同磁化方向磁化所述媒體并然后把多個(gè)磁疇熱寫在所述媒體上。通過(guò)把磁疇暴露于一磁場(chǎng)的同時(shí)，用光束分別加熱各磁疇一次寫一個(gè)磁疇從而寫入所述多個(gè)磁疇。該磁場(chǎng)取向與上述相同磁化方向相反。光束在媒體上形成照射圖形，其形狀至少部分確定各磁疇的邊界。
本發(fā)明另一方面涉及一種沿磁盤媒體的道對(duì)信息圖形進(jìn)行熱編碼的方法，該方法包括下述步驟把所述磁盤媒體暴露于一磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度小于所述媒體在環(huán)境溫度的磁矯頑力且大于其在一升高溫度時(shí)磁矯頑力；通過(guò)把所述磁盤媒體暴露于所述磁場(chǎng)的同時(shí)，用光束分別把各磁疇加熱至所述升高溫度，把多個(gè)磁疇熱寫在所述媒體上，其中，所述光束的截面形狀至少部分確定各磁疇邊界；在熱寫所述多個(gè)磁疇的同時(shí)，至少?gòu)乃龆鄠€(gè)磁疇中的一個(gè)向下一個(gè)有選擇地改變所述光束的截面形狀。
本發(fā)明的再一方面涉及一種用于把形成伺服圖形的多個(gè)磁疇寫至剛性磁盤上的伺服道寫入器設(shè)備，該設(shè)備包括鄰近所述磁盤的磁場(chǎng)的源；在所述磁場(chǎng)存在的情況下一次一個(gè)磁疇地升高所述多個(gè)磁疇中每個(gè)磁疇溫度的結(jié)構(gòu)。
附圖概述

圖1是本發(fā)明所用的頭盤組件(HDA)的立體圖。
圖2是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例寫至盤面上的伺服扇區(qū)的零型伺服磁化圖形。
圖3說(shuō)明本發(fā)明一實(shí)施例的熱印過(guò)程。
圖4是重疊各磁疇形成的拉長(zhǎng)的磁疇的說(shuō)明圖。
圖5是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例在磁媒體上熱印伺服圖形的系統(tǒng)示意圖。
圖6是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例在磁媒體上熱印伺服圖形的系統(tǒng)示意圖。
圖7是根據(jù)本發(fā)明再一實(shí)施例在磁媒體上熱印伺服圖形的系統(tǒng)示意圖。
圖8是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例沿盤表面道寫入的單頻雙位脈沖串的說(shuō)明圖。
圖9是脈沖串的說(shuō)明圖，其中在脈沖串中照明圖形間隔變化。
圖10是脈沖串的說(shuō)明圖，其中在脈沖串中照明圖形形狀變化。
圖11是具有多個(gè)熱寫入的橢圓磁疇的脈沖串說(shuō)明圖，橢圓主軸對(duì)準(zhǔn)道下行方向。
圖12是存在外磁場(chǎng)時(shí)照明各磁疇光束的局部立體圖。
圖13是具有第1、第2、第3組重疊熱寫磁疇的脈沖串示圖。
較佳實(shí)施例的詳細(xì)描述圖1是本發(fā)明所用磁盤驅(qū)動(dòng)器、頭盤組件(HDA)100的立體圖。在不同圖中用相同標(biāo)號(hào)表示相同或相似的部件。HDA100包含有基座102和頂罩(未圖示)的殼體。HDA100還包含由盤卡子108安裝在主軸電機(jī)(未圖示)上的盤組合106。盤組合106包含多個(gè)安裝成可繞軸109共同轉(zhuǎn)動(dòng)的盤。
各盤面有一安裝在HDA100上的相關(guān)滑塊110，它運(yùn)載讀/寫頭用于與盤面聯(lián)系。在示于圖1的例子中，滑塊110由懸臂112支持，后者又由致動(dòng)器116上的道存取臂114支持。示于圖1的致動(dòng)器是熟知的轉(zhuǎn)動(dòng)線圈致動(dòng)器型，它包含以118總體表示的音圈電極(VCM)。也可使用諸如線性致動(dòng)器等其它類型致動(dòng)器。
音圈電機(jī)118繞樞軸120旋轉(zhuǎn)帶有所附滑塊110的致動(dòng)器116，從而把滑塊110沿盤內(nèi)徑124和外徑126間的路徑122定位在期望的數(shù)據(jù)道。音圈電機(jī)118在內(nèi)電路128中的閉環(huán)伺服控制器的控制下，根據(jù)存儲(chǔ)在一個(gè)或多個(gè)盤面專用伺服區(qū)中的位置信息動(dòng)作。該伺服區(qū)可與各盤面上的數(shù)據(jù)扇區(qū)交錯(cuò)，也可位于專用于存儲(chǔ)伺服信息的單個(gè)盤面上。當(dāng)滑塊110經(jīng)過(guò)伺服區(qū)時(shí)，讀/寫頭產(chǎn)生回讀信號(hào)，識(shí)別頭相對(duì)于期望道中心線的位置。根據(jù)該位置，致動(dòng)器116移動(dòng)懸臂112以調(diào)節(jié)頭位置，使其移向期望位置。
伺服區(qū)圖形傳統(tǒng)上是在一個(gè)或多個(gè)盤組裝在HDA100中后由讀/寫頭寫入盤面。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，一個(gè)或多個(gè)盤在盤組裝在HDA100前至少部分用伺服圖形或其它盤信息格式化。通過(guò)把伺服圖形或其它盤信息的至少一部分熱印刷至盤表面，一次一個(gè)磁疇，對(duì)這些盤進(jìn)行格式化。該信息可以包括例如各存儲(chǔ)扇區(qū)位置、扇區(qū)號(hào)識(shí)別信息、扇區(qū)組起始、伺服圖形信息和特定盤面磁特性等。
圖2是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例寫至盤表面上的用于伺服扇區(qū)150的零型伺服磁化圖。箭頭152表示盤面的道下行或角范圍，箭頭154表示跨道或徑向范圍。圖2表示157個(gè)道中心，分別標(biāo)以1560～15616。
圖2的陰影區(qū)相應(yīng)于與非陰影區(qū)相比磁極性相反的區(qū)域。例如，在縱向記錄系統(tǒng)中，若在非陰影區(qū)的縱向磁化是圖中右至左，則陰影區(qū)的縱向磁化將是從左至右。在垂直記錄系統(tǒng)中，垂直于盤面(圖2中進(jìn)入或離開紙面)磁化相反磁極性區(qū)域。
伺服扇區(qū)150包含鎖相環(huán)(PLL)區(qū)160、填充區(qū)162、同步區(qū)164、填充區(qū)166、道ID格雷碼區(qū)168、填充區(qū)170和位置誤差(PES)區(qū)172(標(biāo)以“A Burst”)。PLL區(qū)160和同步區(qū)164包含徑向相干磁轉(zhuǎn)換。讀/寫頭(未圖示)經(jīng)過(guò)區(qū)160和164時(shí)，這些區(qū)中的磁化圖產(chǎn)生振蕩回讀信號(hào)，用于把盤驅(qū)動(dòng)器讀通道的相位和頻率鎖定于回讀信號(hào)的相位和頻率。道ID格雷碼區(qū)168包含頭位于的特定道的標(biāo)識(shí)信息。
PES區(qū)用于識(shí)別頭相對(duì)于道中心線的位置。在示于圖2的實(shí)施例中，PES區(qū)172包含零型磁化圖。該圖以相對(duì)于區(qū)160和164的預(yù)定相位寫入。讀/寫頭經(jīng)過(guò)PES區(qū)172時(shí)，解調(diào)并積分頭中產(chǎn)生的回讀信號(hào)，產(chǎn)生位置誤差值。在道中心，位置誤差值具有零幅值。若頭位于道中心一側(cè)，則位置誤差值為正，其幅值表示位移量。若頭移至道中心另一側(cè)，則位置誤差值為負(fù)，其幅值表示位移量。也可用其它類型的伺服圖形，例如分猝發(fā)脈沖伺服圖形。在例如1999年3月15日遞交的申請(qǐng)?zhí)枮?9/268584題為“用于零型伺服圖形的異步數(shù)字解調(diào)器和方法(ASYNCHRONOUS DIGITAL DEMODULATOR AND METHOD FOR ANULL-TYPE SERVO PATTERN)”的美國(guó)專利申請(qǐng)中，更詳細(xì)地討論伺服圖形的解調(diào)。
伺服圖形的最小單元是PES區(qū)172中的一個(gè)小方塊。當(dāng)頭經(jīng)過(guò)磁極性相反區(qū)域交界的區(qū)域時(shí)，在回讀信號(hào)中產(chǎn)生雙位。該雙位(或循環(huán))是伺服扇區(qū)150中的所有圖形的構(gòu)成塊，由確定磁疇組成。
傳統(tǒng)上，伺服圖形一次寫入一個(gè)“伺服道”?！八欧馈钡亩x取決于產(chǎn)品。如上所述，雙位通常通過(guò)讀/寫頭的寫傳感器寫至盤面。通過(guò)道與道相干地寫這些雙位，把相反極性磁疇寫入盤中。這些磁疇大致上是矩形的。在本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中，在盤組裝在驅(qū)動(dòng)器前伺服扇區(qū)150中的至少部分磁疇熱印刷至盤表面，一次一個(gè)磁疇。
圖3說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的熱印刷過(guò)程200。在步驟202，用強(qiáng)外磁(H)場(chǎng)208以相同磁化方向磁化磁媒體204。例如，在縱向記錄系統(tǒng)中，都以縱向周圍“DC”磁化整個(gè)盤。外磁場(chǎng)208的磁場(chǎng)級(jí)大于磁媒體204環(huán)境溫度時(shí)的矯頑磁力。
在步驟210，外磁場(chǎng)208變?yōu)橥獯艌?chǎng)209，該磁場(chǎng)與步驟202的磁場(chǎng)208比較，其磁場(chǎng)強(qiáng)度減小且極性相反。外磁場(chǎng)209的磁場(chǎng)強(qiáng)度小于磁媒體在環(huán)境溫度下的矯頑磁力。入射光束212對(duì)準(zhǔn)媒體204上的選定區(qū)域214以對(duì)區(qū)域214中的媒體204進(jìn)行局部加熱。區(qū)域214中媒體204的溫度從環(huán)境溫度升至一提高的溫度。隨著溫度增加，媒體204的磁矯頑力(Hc)降低。當(dāng)矯頑力低于外部施加的磁場(chǎng)209時(shí)，加熱區(qū)域214的磁化方向216自己與所加磁場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)。
在步驟218，光束212從區(qū)域214移開而不改變外磁場(chǎng)209。在區(qū)域214返回室溫時(shí)，將保持由區(qū)域214邊界限定的熱寫磁疇220。該磁疇220的形狀由媒體204上的照明圖形的形狀確定。
然后光束212移至媒體204上另一區(qū)域以熱寫另一磁疇。步驟210和218可重復(fù)需要次數(shù)，通過(guò)移動(dòng)光束212的位置在媒體204的不同位置產(chǎn)生磁化相反的區(qū)域。例如，可對(duì)圖1所示PES區(qū)172的各陰影區(qū)重復(fù)執(zhí)行步驟210和218一次或多次。在一個(gè)實(shí)施例中，在外磁場(chǎng)209存在的情況下，對(duì)各磁疇至少一次施加光束脈沖一選擇的時(shí)間周期。通過(guò)在徑向和圓周方向移動(dòng)光束212和盤面的相對(duì)位置使各磁疇與媒體上的其它磁疇在空間上分開。信息可在盤面上以圓周方向、徑向或兩者方向進(jìn)行磁編碼。
磁疇暴露于照射圖形的時(shí)長(zhǎng)取決于使用光源的種類和要求的局部加熱量?？墒褂萌舾煞N光源。選擇的光源取決于各種因素，例如期望分辨率及要求避免盤覆蓋層特性意外變化。通常，較短波長(zhǎng)光源提供較好的分辨率。但是，因所選波長(zhǎng)較短，可能產(chǎn)生對(duì)盤覆蓋層的意外傷害。例如，雖然汞光源可提供期望的分辨率特性，但它會(huì)對(duì)可能加至盤面的防蝕碳層增加損傷危險(xiǎn)。在這種情況下，諸如綠色氬激光等低能光源可能更合適。在一個(gè)實(shí)施例中，光束是不相干的。各磁疇加熱達(dá)到的溫度取決于使用的光源類型、媒體照射持續(xù)時(shí)間和光源輸出功率。
通過(guò)掃描光束并在徑向、道下行方向154形成照明圖形，可形成圖2的PLL區(qū)160、同步區(qū)164和道ID格雷碼區(qū)168中的伸長(zhǎng)陰影區(qū)。若在徑向掃描期望媒體連續(xù)照射光束，則媒體將以沿?zé)釋懘女犻L(zhǎng)度方向的熱梯度冷卻。或者，在光束徑向跨越媒體表面掃描時(shí)，光源可脈動(dòng)式照射或加以調(diào)制。設(shè)置相鄰照射圖形的間隔使照射圖形至少部分與另一圖形重疊，從而產(chǎn)生細(xì)長(zhǎng)的重疊磁疇線條。例如，圖4表示通過(guò)重疊各磁疇272或在徑向掃描期間重疊相鄰照射圖形而形成的細(xì)長(zhǎng)磁疇270。
圖5表示根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例在磁媒體上熱印刷伺服圖形的系統(tǒng)示意圖。系統(tǒng)300包括光源302、光束成形光學(xué)系統(tǒng)304、光束偏轉(zhuǎn)器306、外磁場(chǎng)源308和控制電路311。光源302產(chǎn)生光能3 10，經(jīng)光束成形光學(xué)系統(tǒng)304到光束偏轉(zhuǎn)器306。光束成形光學(xué)系統(tǒng)304產(chǎn)生具有期望圖形形狀的光束312，它至少部分限定圍繞各熱寫磁疇的磁場(chǎng)轉(zhuǎn)換的形狀。
光束偏轉(zhuǎn)器306把光束312偏轉(zhuǎn)至光束范圍316中的期望位置。光束偏轉(zhuǎn)器306可配置成根據(jù)希望在跨域盤3 14表面的徑向、或在沿盤上期望數(shù)據(jù)道的角方向即圓周方向偏轉(zhuǎn)光束312。在一個(gè)實(shí)施例中，光束偏轉(zhuǎn)器306包括安裝在控制電路311控制的音圈電機(jī)上的偏轉(zhuǎn)鏡。在另一實(shí)施例中，光束偏轉(zhuǎn)器306包含靜電鏡系統(tǒng)。其它類型的光束偏轉(zhuǎn)器也可用于偏轉(zhuǎn)光束312。
控制電路311耦聯(lián)至光源302、光束成形光學(xué)系統(tǒng)304、光束偏轉(zhuǎn)器306和主軸電機(jī)332，用于對(duì)其動(dòng)作的各方面進(jìn)行控制?？刂齐娐房蓸?gòu)成為控制光源302的工作參數(shù)，例如照射時(shí)間和強(qiáng)度?？刂齐娐?11也可耦聯(lián)至光束成形光學(xué)系統(tǒng)304用于控制光束形狀。例如，控制電路311可根據(jù)需要改變一個(gè)寫操作到下一個(gè)寫操作的照射圖形形狀，以影響盤面磁極性鄰近轉(zhuǎn)換間的相對(duì)距離。這可用于實(shí)現(xiàn)期望的數(shù)據(jù)編碼方案或僅改變特定磁疇區(qū)的尺寸或形狀。
控制電路311還可耦聯(lián)至主軸電機(jī)322，用于在伺服寫操作期望轉(zhuǎn)動(dòng)盤314。盤314可在照射光束312(無(wú)論連續(xù)照射或脈沖式照射)時(shí)以連續(xù)方式轉(zhuǎn)動(dòng)，或以各寫操作間步進(jìn)方式轉(zhuǎn)動(dòng)。在后一例子中，在寫各磁疇時(shí)盤314靜止。
外磁場(chǎng)源308可包括例如電磁鐵或永久磁鐵，以期望取向提供期望場(chǎng)強(qiáng)的磁場(chǎng)。磁場(chǎng)可局限于正在寫的區(qū)域或可在整個(gè)盤面或大致上整個(gè)盤面上延伸。在一個(gè)實(shí)施例中，磁場(chǎng)局限于正在寫的區(qū)域，且磁場(chǎng)源308在光束偏轉(zhuǎn)器306控制下如虛線324所示按照射圖形移動(dòng)。為了垂直記錄，磁場(chǎng)源308例如可包含具有與盤314的表面垂直的線圈軸的電磁線圈。光束312經(jīng)該線圈中心。為縱向記錄，磁場(chǎng)源308可包含一個(gè)或多個(gè)在北南極間有間隙的永久磁鐵，它們通過(guò)照射圖形在盤面上平行配置?；蛘?，可以與盤面平行取向的公共軸配置兩個(gè)隔開的平行電磁線圈。也可應(yīng)用其它移動(dòng)或靜止磁結(jié)構(gòu)和配置。
圖6是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的在盤面上熱印刷伺服圖形的系統(tǒng)示意圖。對(duì)圖6中與圖5中相同或類似部件，使用與圖5相同標(biāo)號(hào)。在圖6中，用電光掃描器340代替光束偏轉(zhuǎn)器306，用于把光束312掃描至盤310表面的正確位置。例如，電光掃描器340可包括Carnagie Mellon大學(xué)的Data Storage SystemCenter開發(fā)的電光掃描器。當(dāng)前，電光掃描器局限于一維偏轉(zhuǎn)1度的量級(jí)。電光掃描器的改進(jìn)可增強(qiáng)該偏轉(zhuǎn)。如上所述，控制電路311可轉(zhuǎn)動(dòng)盤314以便于使用一維電光掃描器。電光掃描器可提供對(duì)盤314表面的照射圖形進(jìn)行精確配置的優(yōu)點(diǎn)。
圖7是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的在磁媒體上熱印刷伺服圖形的系統(tǒng)的示意圖。與圖5和圖6中相同或相似部件使用與之相同的標(biāo)號(hào)。在圖7中，移動(dòng)臺(tái)350徑向跨越盤314的表面機(jī)械地移動(dòng)光源302和光束成形光學(xué)系統(tǒng)304，同時(shí)主軸電機(jī)322把盤314轉(zhuǎn)至任何選定的圓周位置?；蛘撸苿?dòng)臺(tái)350可用于移動(dòng)主軸電機(jī)322和盤314而光源302和光學(xué)系統(tǒng)304保持靜止。
圖8說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例沿盤面上的道401所寫的單頻雙位脈沖串400、箭頭402表示徑向或橫跨道方向，箭頭404表示圓周或道下行方向。箭頭406表示道寬度。在寫脈沖串400前，盤面處于圓周均勻磁場(chǎng)的條件下，從而道401在箭頭408所示方向有背景磁化(M)。
脈沖串400包含磁疇410、412和414，它們通過(guò)把照射圖形導(dǎo)向各位置并在具有與背景磁化方向458相反極性415的外磁場(chǎng)存在的情況下加熱該位置，而一次熱寫一個(gè)磁疇。照射圖形的形狀確定各磁疇410、412和414的形狀，尤其確定各磁疇邊界磁極性轉(zhuǎn)換的形狀和位置。在圖8中，用于形成磁疇410、412和414的光束是橢圓。
在該例子中，磁疇410、412和414相互間隔同樣距離或“雙位單元間隔”416。該距離是從一個(gè)磁疇中心至沿道下行方向404的下一緊接磁疇中心進(jìn)行測(cè)量的。各照射圖形間的間隔確定該距離。沿道下行方向404磁極性連續(xù)轉(zhuǎn)換之間的間隔是在轉(zhuǎn)換邊緣420～425間測(cè)量的，如箭頭430所示。各轉(zhuǎn)換產(chǎn)生回讀信號(hào)脈沖。
雙位單元間隔416等于產(chǎn)生單頻雙位脈沖串的轉(zhuǎn)換至轉(zhuǎn)換間隔430的兩倍。這類間隔可用于在伺服圖形中產(chǎn)生位置誤差信號(hào)(PES)猝發(fā)脈沖串區(qū)(例如圖2的172區(qū))及鎖相環(huán)(PLL)和同步區(qū)(例如圖2所示的區(qū)160和162)。這類間隔也可用于產(chǎn)生伺服圖形中的其它區(qū)域。
在對(duì)盤進(jìn)行格式化的同時(shí)可控制或改變照射圖形尺寸、形狀和圖形間隔，以在盤面上對(duì)例如圖2中道ID區(qū)168中的信息進(jìn)行編碼。其它盤信息也可在盤面上編碼。圖9說(shuō)明脈沖串500，其中，改變照射圖形間隔。脈沖串500包括多個(gè)磁疇501～503，通過(guò)存在外加磁場(chǎng)的條件下使用照射圖形加熱各磁疇而把它們熱寫至磁盤。箭頭504表示跨道方向，箭頭506表示道下行方向。陰影區(qū)域再次對(duì)應(yīng)于與非陰影區(qū)域磁性相反的區(qū)域。
在圖9中，可通過(guò)有選擇地改變道下行方向506的磁疇501～503間的間隔而改變磁極性轉(zhuǎn)換的間距。該間隔可通過(guò)控制各照射圖形的間隔加以控制。照射圖形間隔可用于在盤面上編碼信息。例如，在特定比特位置有磁疇可根據(jù)慣例表示邏輯“1”或“0”，而在某一特定比特位置無(wú)磁疇可表示邏輯“0”或“1”。讀/寫頭通過(guò)檢測(cè)在特定比特位置是否有兩個(gè)轉(zhuǎn)換(在道下行方向506特定磁疇的左和右轉(zhuǎn)換)來(lái)檢測(cè)是否存在磁疇。這兩者轉(zhuǎn)換的位置由照射圖形形狀唯一地確定。圖9中，虛線510表示在疇502和503之間的比特位置沒(méi)有磁疇。從而脈沖串500可表示編碼的二進(jìn)制值“1101”，如箭頭512所示。
圖10說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的脈沖串600，其中，照射圖形形狀在脈沖串內(nèi)變化。箭頭604表示跨道方向，箭頭606表示道下行方向。脈沖串600包括多個(gè)陰影的磁疇602～603，表示該磁疇的磁極性與圖10非陰影區(qū)極性相反，光束成形光學(xué)系統(tǒng)用于改變照射圖形的形狀，從而逐位改變各磁疇形狀。這使得可以照射圖形形狀改變轉(zhuǎn)換間隔。例如，轉(zhuǎn)換之間的間隔608顯著大于轉(zhuǎn)換間隔610。從而照射圖形形狀可用于在盤面上對(duì)信息進(jìn)行編碼。如果通過(guò)在預(yù)定圓周間隔是否存在單個(gè)轉(zhuǎn)換來(lái)表示邏輯“1”或“0”，則拉長(zhǎng)特定磁疇的形狀可在特定比特位置過(guò)去的時(shí)間延遲該磁疇轉(zhuǎn)換后緣。例如，在圖10中，如果每個(gè)轉(zhuǎn)換表示邏輯“1”，則脈沖串600如箭頭612所示表示編碼的二進(jìn)制“111001”。在圖10所示例子中，由于數(shù)據(jù)由單個(gè)轉(zhuǎn)換而非兩個(gè)轉(zhuǎn)換表示，通過(guò)改變照射圖形進(jìn)行編碼的信息其編碼速率顯著增大。增大的編碼速率增加了信息存儲(chǔ)在盤面上的密度和速率。也可控制照射圖形形狀以避免不希望的脈沖串頻率或位圖，已知它們可引起讀出差錯(cuò)，這類似于最大轉(zhuǎn)換行程(MTR)長(zhǎng)度有限型碼。
圖11說(shuō)明具有多個(gè)熱寫的橢圓磁疇651和653的脈沖串650的例子，這些磁疇長(zhǎng)軸655平行于道下行軸654，而不是平行于跨道軸656(如圖10所示)。磁疇652是圓。通過(guò)把照射圖形形狀從圓變?yōu)闄E圓從而相對(duì)于磁疇652拉長(zhǎng)磁疇651和653，可在盤面上對(duì)信息編碼。例如，根據(jù)沿道下行軸654有無(wú)磁轉(zhuǎn)換，脈沖串650表示編碼的二進(jìn)制“10111101”，如箭頭658所標(biāo)。
圖12是磁盤670的局部立體圖，它表示形成圖11的伸長(zhǎng)的磁疇651，653。在存在外磁場(chǎng)674的情況下把光束672導(dǎo)向盤670的表面。在圖12所示例子中，光束672具有主軸平行于道下行方向654的橢圓截面形狀676。從而光束672在盤670的表面形成橢圓照射圖形678，它限定磁疇651、653的邊界形狀。諸如圖5-7中所示的光盤成形光學(xué)系統(tǒng)可用于形成期望的照射圖形形狀?？稍诳刂齐娐?11(如圖5～7中所示)控制下，從至少一個(gè)磁疇向沿盤672表面的下一磁疇有選擇地改變?cè)撔螤顝亩诒P面上對(duì)信息進(jìn)行編碼。磁鐵680和682在鄰近磁盤670的表面經(jīng)磁疇651、653產(chǎn)生磁場(chǎng)674。
借助于光源和光束成形光學(xué)系統(tǒng)在伺服圖形中熱寫各磁疇比常規(guī)伺服寫更為通用，后者各磁疇形狀主要受限于光束成形光學(xué)系統(tǒng)而非產(chǎn)品頭的寫極幾何形狀。通過(guò)徑向重疊各橢圓磁疇或徑向掃描照射圖形可形成圖2所示PLL區(qū)160、同步區(qū)164和道ID區(qū)168中的較長(zhǎng)的徑向磁疇。
通過(guò)在兩個(gè)不同寫操作期間重疊至少兩個(gè)熱寫磁疇可減少各磁疇徑向邊緣產(chǎn)生的彎曲轉(zhuǎn)換的影響。例如，圖13表示具有第1、第2和第3熱寫磁疇710～712組702～704的脈沖串700，它們?cè)诟鲗懖僮髌陂g形成并在跨道方向706彼此徑向重疊。疇710～712的組合區(qū)域713大致是矩形。脈沖串700形成的伺服圖形更規(guī)則且更接近類似于目前矩形伺服圖形設(shè)計(jì)。
在另一實(shí)施例中，可應(yīng)用附加寫操作以在道下行方向708重疊附加磁疇(未圖示)。在再一個(gè)實(shí)施例中，可應(yīng)用傅里葉型光束成形光學(xué)系統(tǒng)以產(chǎn)生伺服圖形中使用的矩形形狀照射圖形。矩形照射圖形形狀的一個(gè)例子示于圖3的214。可用單個(gè)矩形照射圖形或多個(gè)重疊的矩形照射圖形產(chǎn)生圖13所示的各矩形磁疇。
在某些應(yīng)用中，用伺服圖形和其它格式信息一次一個(gè)磁疇對(duì)整個(gè)盤面格式化太費(fèi)時(shí)間。在這些應(yīng)用中，可應(yīng)用本發(fā)明的熱伺服道寫處理，在盤組裝在頭盤組件前在盤面上寫部分上述信息?？稍谶B續(xù)組裝操作或經(jīng)產(chǎn)品讀/寫頭進(jìn)行伺服道寫過(guò)程期間使用熱寫格式信息。例如，本發(fā)明的熱伺服道寫過(guò)程可用于在盤面上寫徑向尺，后者可由讀/寫頭使用以在連續(xù)伺服寫操作期間校驗(yàn)徑向位置。
總之，本發(fā)明一個(gè)方面涉及一種在盤驅(qū)動(dòng)器100中組裝磁盤媒體204、314、670前，在該磁盤媒體204、314、670上熱寫磁伺服圖形150、270、400的方法200，該方法包括下述步驟以相同磁化方向206、408磁化所述媒體204、314、670并然后在把多個(gè)磁疇220、250、252、272、410～414、501～503、602、604、651～653、710～712熱寫在所述媒體204、314、670上。通過(guò)把所述磁疇暴露于一磁場(chǎng)209、674的同時(shí)，用光束212、3 12、672分別加熱各磁疇而一次一個(gè)磁疇地寫入多個(gè)磁疇。磁場(chǎng)209、674取向216、415與上述相同磁化方向206、408相反。光束212、312、672在媒體204、314、670上形成照射圖形214、678，其形狀至少部分確定各磁疇的邊界。
本發(fā)明另一方面涉及一種沿磁盤媒體214、314、670的道401對(duì)信息圖形612進(jìn)行熱編碼的方法，該方法包括下述步驟把所述磁盤媒體214、314、670暴露于一磁場(chǎng)209、674，該磁場(chǎng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度小于所述媒體204、314、670在環(huán)境溫度的磁矯頑力且大于其在一升高溫度時(shí)磁矯頑力；通過(guò)把所述磁盤媒體204、314、670暴露于所述磁場(chǎng)209、674的同時(shí)用光束213、312、672分別把各磁疇加熱至所述升高溫度，把多個(gè)磁疇220、250、252、272、602、604、651～653熱寫在所述媒體204、314、670上，其中，所述光束213、314、672的截面形狀676至少部分確定各磁疇邊界；在熱寫所述多個(gè)磁疇的同時(shí)，至少?gòu)乃龆鄠€(gè)磁疇602、651、653中的一個(gè)向下一個(gè)604、652有選擇地改變所述光束213、314、672的截面形狀676。
本發(fā)明的再一方面涉及一種用于把形成伺服圖形150、270、400、500、600、650、700的多個(gè)磁疇220、250、252、272、410～414、501～503、602、604、651～653、710～712寫至剛性磁盤204、314、670上的伺服道寫入器設(shè)備300，該設(shè)備300包括鄰近所述磁盤204、314、670的磁場(chǎng)208、209、674的源300、680、682；在所述磁場(chǎng)209、674存在的情況下一次一個(gè)磁疇地升高所述多個(gè)磁疇中每個(gè)磁疇溫度的結(jié)構(gòu)302、304、306、311、322、340、350。
應(yīng)理解，雖然上文已說(shuō)明本發(fā)明各實(shí)施例的許多特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)并詳細(xì)說(shuō)明各實(shí)施例的結(jié)構(gòu)和功能，但這種揭示僅是說(shuō)明性的，不脫離本發(fā)明的原理，可作出各種變換，尤其部件的結(jié)構(gòu)和配置可包含所附權(quán)項(xiàng)表達(dá)的最寬含義的全部范圍。例如，根據(jù)本發(fā)明，各種類型伺服圖形或信息可熱寫至盤面。各種類型的光源、光束偏轉(zhuǎn)器或掃描器、磁場(chǎng)源可用于本發(fā)明。此外，可根據(jù)要求修改特定處理步驟及其順序，還可作出其它修改。
按照條約第19條的修改1.一種在盤驅(qū)動(dòng)器中組裝磁盤媒體前，在該磁盤媒體上熱寫磁伺服圖形的方法，其特征在于，該方法包括下述步驟(a)以相同磁化方向磁化所述媒體；(b)通過(guò)分別用光束加熱各磁疇，同時(shí)把磁疇暴露于其取向與所述相同磁化方向相反的第1磁場(chǎng)，一次一個(gè)磁疇地在所述媒體上熱寫多個(gè)磁疇；其中，所述光束在媒體上形成照射圖形，其形狀至少部分限定各磁疇邊界；對(duì)所述光束成形使照射圖形形狀和所述多個(gè)磁疇的邊界為非圓形。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(b)包括(b)(1)在通?？缭剿雒襟w表面的徑向掃描所述光束；(b)(2)在執(zhí)行步驟(b)(1)后相對(duì)于所述照射圖形旋轉(zhuǎn)所述媒體，然后重復(fù)掃描步驟(b)(1)。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，由光源產(chǎn)生所述光束，且所述掃描步驟(b)(1)包括脈沖式開閉所述光源以有選擇地把媒體暴露于光源，同時(shí)在徑向掃描所述光束以在所述媒體徑向產(chǎn)生至少兩個(gè)磁疇的步驟。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述掃描步驟(b)(1)還包括在徑向彼此間隔所述至少兩個(gè)磁疇的步驟。
5.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述掃描步驟(b)(1)包括下述步驟在所述磁盤媒體上的徑向重疊所述至少兩個(gè)磁疇，從而所述至少兩個(gè)磁疇的組合區(qū)域在徑向拉長(zhǎng)并大致成矩形。
6.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述掃描步驟(b)(1)包括下述步驟在以徑向掃描所述照射圖形從而以徑向拉長(zhǎng)的尺寸形成所述多個(gè)磁疇的至少一個(gè)時(shí)，把所述媒體連續(xù)暴露于照射圖形。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述熱寫步驟(b)包括下述步驟用光源產(chǎn)生光束，其中，所述光束具有從光源至媒體的光束路徑；改變所述光束路徑，以從所述媒體上的一個(gè)磁疇向下一個(gè)磁疇移動(dòng)所述照射圖形。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述熱寫步驟(b)包括下述步驟用光束偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)所述光束以從一個(gè)磁疇向下一個(gè)移動(dòng)所述照射圖形。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述媒體通常具有經(jīng)度方向的道下行的圓周道，所述步驟(b)包括(b)(1)在所述道中熱寫多個(gè)磁疇；(b)(2)從所述多個(gè)磁疇中的至少一個(gè)向下一個(gè)有選擇地改變所述照射圖形形狀。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述步驟(b)(2)包括(b)(2)(a)把所述照射圖形形狀有選擇地變成經(jīng)度的道下行方向比通常垂直于經(jīng)度方向的徑向范圍大。
11.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(b)包括(b)(1)用所述照射圖形形狀完全且唯一地確定各磁疇的邊界。
12.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述磁盤媒體包括道，所述步驟(b)包括(b)(1)在所述道中熱寫所述多個(gè)磁疇；(b)(2)通過(guò)從至少一個(gè)所述磁疇至下一個(gè)順序?qū)懼恋纼?nèi)的磁疇改變照射圖形形狀，把信息編碼至所述媒體。
13.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述磁盤媒體包括道，所述步驟(b)包括(b)(1)在步驟(b)期間，把所述多個(gè)磁疇熱寫至所述道中；(b)(2)在所述步驟(b)期間，通過(guò)改變沿所述媒體在多個(gè)磁疇的選定磁疇的間距，把信息編碼至所述媒體。
14.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(a)包括下述步驟把所述磁盤媒體暴露于第2磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度大于所述媒體在環(huán)境溫度的磁矯頑力；所述步驟(b)包括(b)(1)把所述各磁疇暴露于所述磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度小于所述媒體在環(huán)境溫度的磁矯頑力且大于在一升高溫度時(shí)的磁矯頑力；(b)(2)在把所述各磁疇暴露于所述第1磁場(chǎng)時(shí)，用所述光束把所述各磁疇加熱至所述升高溫度；(b)(3)在把所述各磁疇暴露于所述第1磁場(chǎng)時(shí)，把所述各磁疇從所述升高溫度冷卻至環(huán)境溫度。
15.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(b)包括
(b)(1)成形光束使所述照射圖形形狀和所述多個(gè)磁疇的邊界大致是矩形。
16.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(b)包括(b)(1)所述磁盤媒體上徑向至少重疊所述多個(gè)磁疇中的兩個(gè)，從而所述至少兩個(gè)磁疇的組合區(qū)域大致是矩形。
17.一種沿磁盤媒體的道對(duì)信息圖形進(jìn)行熱編碼的方法，其特征在于，該方法包括下述步驟(a)把所述磁盤媒體暴露于一磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度小于所述媒體在環(huán)境溫度的磁矯頑力且大于其在一升高溫度時(shí)磁矯頑力；(b)通過(guò)把所述磁盤媒體暴露于所述磁場(chǎng)的同時(shí)用光束分別把各磁疇加熱至所述升高溫度，把多個(gè)磁疇熱寫在所述媒體上，其中，所述光束的截面形狀至少部分確定各磁疇邊界；(c)在熱寫所述多個(gè)磁疇的同時(shí)，至少?gòu)乃龆鄠€(gè)磁疇中的一個(gè)向下一個(gè)有選擇地把所述光束的截面形狀變化至沿道在經(jīng)度方向與通常垂直于所述經(jīng)度方向的徑向有不同范圍。
18.如權(quán)利要求17所述的方法，其特征在于，所述步驟(c)包括(c)(1)在所述經(jīng)度的道下行方向有選擇地改變所述光束的寬度。
19.如權(quán)利要求17所述的方法，其特征在于，所述光束在所述磁盤媒體上形成照射圖形形狀，所述步驟(b)包括(b)(1)用所述照射圖形形狀完全確定每個(gè)所述磁疇的邊界。
20.一種用于把形成伺服圖形的多個(gè)磁疇寫至剛性磁盤上的伺服道寫入器設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備包括鄰近所述磁盤的磁場(chǎng)的源；在所述磁場(chǎng)存在的情況下一次一個(gè)磁疇地升高所述多個(gè)磁疇中每個(gè)磁疇溫度的裝置。
權(quán)利要求
1.一種在盤驅(qū)動(dòng)器中組裝磁盤媒體前，在該磁盤媒體上熱寫磁伺服圖形的方法，其特征在于，該方法包括下述步驟(a)以相同磁化方向磁化所述媒體；(b)通過(guò)分別用光束加熱各磁疇，同時(shí)把磁疇暴露于其取向與所述相同磁化方向相反的第1磁場(chǎng)，一次一個(gè)磁疇地在所述媒體上熱寫多個(gè)磁疇；其中，所述光束在媒體上形成照射圖形，其形狀至少部分限定各磁疇邊界。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(b)包括(b)(1)在通?？缭剿雒襟w表面的徑向掃描所述光束；(b)(2)在執(zhí)行步驟(b)(1)后相對(duì)于所述照射圖形旋轉(zhuǎn)所述媒體，然后重復(fù)掃描步驟(b)(1)。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，由光源產(chǎn)生所述光束，且所述掃描步驟(b)(1)包括脈沖式開閉所述光源以有選擇地把媒體暴露于光源，同時(shí)在徑向掃描所述光束以在所述媒體徑向產(chǎn)生至少兩個(gè)磁疇的步驟。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述掃描步驟(b)(1)還包括在徑向彼此間隔所述至少兩個(gè)磁疇的步驟。
5.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述掃描步驟(b)(1)包括下述步驟在所述磁盤媒體上的徑向重疊所述至少兩個(gè)磁疇，從而所述至少兩個(gè)磁疇的組合區(qū)域在徑向拉長(zhǎng)并大致成矩形。
6.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述掃描步驟(b)(1)包括下述步驟在以徑向掃描所述照射圖形從而以徑向拉長(zhǎng)的尺寸形成所述多個(gè)磁疇的至少一個(gè)時(shí)，把所述媒體連續(xù)暴露于照射圖形。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述熱寫步驟(b)包括下述步驟用光源產(chǎn)生光束，其中，所述光束具有從光源至媒體的光束路徑；改變所述光束路徑，以從所述媒體上的一個(gè)磁疇向下一個(gè)磁疇移動(dòng)所述照射圖形。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述熱寫步驟(b)包括下述步驟用光束偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)所述光束以從一個(gè)磁疇向下一個(gè)移動(dòng)所述照射圖形。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述媒體通常具有經(jīng)度方向的道下行的圓周道，所述步驟(b)包括(b)(1)在所述道中熱寫多個(gè)磁疇；(b)(2)從所述多個(gè)磁疇中的至少一個(gè)向下一個(gè)有選擇地改變所述照射圖形形狀。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述步驟(b)(2)包括(b)(2)(a)在經(jīng)度的道下行方向有選擇地改變所述光束寬度。
11.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(b)包括(b)(1)用所述照射圖形形狀完全且唯一地確定各磁疇的邊界。
12.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述磁盤媒體包括道，所述步驟(b)包括(b)(1)在所述道中熱寫所述多個(gè)磁疇；(b)(2)通過(guò)從至少一個(gè)所述磁疇至下一個(gè)順序?qū)懼恋纼?nèi)的磁疇改變照射圖形形狀，把信息編碼至所述媒體。
13.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述磁盤媒體包括道，所述步驟(b)包括(b)(1)在步驟(b)期間，把所述多個(gè)磁疇熱寫至所述道中；(b)(2)在所述步驟(b)期間，通過(guò)改變沿所述媒體在多個(gè)磁疇的選定磁疇的間距，把信息編碼至所述媒體。
14.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(a)包括下述步驟把所述磁盤媒體暴露于第2磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度大于所述媒體在環(huán)境溫度的磁矯頑力；所述步驟(b)包括(b)(1)把所述各磁疇暴露于所述磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度小于所述媒體在環(huán)境溫度的磁矯頑力且大于在一升高溫度時(shí)的磁矯頑力；(b)(2)在把所述各磁疇暴露于所述第1磁場(chǎng)時(shí)，用所述光束把所述各磁疇加熱至所述升高溫度；(b)(3)在把所述各磁疇暴露于所述第1磁場(chǎng)時(shí)，把所述各磁疇從所述升高溫度冷卻至環(huán)境溫度。
15.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(b)包括(b)(1)成形光束使所述照射圖形形狀和所述多個(gè)磁疇的邊界大致是矩形。
16.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(b)包括(b)(1)所述磁盤媒體上徑向至少重疊所述多個(gè)磁疇中的兩個(gè)，從而所述至少兩個(gè)磁疇的組合區(qū)域大致是矩形。
17.一種沿磁盤媒體的道對(duì)信息圖形進(jìn)行熱編碼的方法，其特征在于，該方法包括下述步驟(a)把所述磁盤媒體暴露于一磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度小于所述媒體在環(huán)境溫度的磁矯頑力且大于其在一升高溫度時(shí)磁矯頑力；(b)通過(guò)把所述磁盤媒體暴露于所述磁場(chǎng)的同時(shí)用光束分別把各磁疇加熱至所述升高溫度，把多個(gè)磁疇熱寫在所述媒體上，其中，所述光束的截面形狀至少部分確定各磁疇邊界；(c)在熱寫所述多個(gè)磁疇的同時(shí)，至少?gòu)乃龆鄠€(gè)磁疇中的一個(gè)向下一個(gè)有選擇地改變所述光束的截面形狀。
18.如權(quán)利要求17所述的方法，其特征在于，所述道具有經(jīng)度的道下行方向，所述步驟(c)包括(c)(1)在所述經(jīng)度的道下行方向有選擇地改變所述光束的寬度。
19.如權(quán)利要求17所述的方法，其特征在于，所述光束在所述磁盤媒體上形成照射圖形形狀，所述步驟(b)包括(b)(1)用所述照射圖形形狀完全確定每個(gè)所述磁疇的邊界。
20.一種用于把形成伺服圖形的多個(gè)磁疇寫至剛性磁盤上的伺服道寫入器設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備包括鄰近所述磁盤的磁場(chǎng)的源；在所述磁場(chǎng)存在的情況下一次一個(gè)磁疇地升高所述多個(gè)磁疇中每個(gè)磁疇溫度的裝置。
全文摘要
本發(fā)明揭示一種把磁盤媒體(204、314、670)組裝至盤驅(qū)動(dòng)器(100)前,把磁伺服圖形(150、270、400、500、600、650、700)熱寫至該媒體的方法(200)和設(shè)備(300)。其中,該媒體(204、314、670)首先以相同磁化方向(206、408)磁化,接著在把磁疇暴露于磁場(chǎng)(209、674)的同時(shí),用光束(212、312、672)分別加熱各磁疇,從而把多個(gè)磁疇(220、250、252、272、410～414、501～503、602、604、651～653、710～712)熱寫至該媒體。該磁場(chǎng)(209、674)取向(216、415)與所述相同磁化方向(206、408)相反,光束(212、312、672)在媒體(204、314、670)上形成照射圖形(214、678),其形狀至少部分限定各磁疇(220、250、252、272、410～414、501～503、602、604、651～653、710～712)的邊界。
文檔編號(hào)G11B5/55GK1384962SQ9981700
公開日2002年12月11日 申請(qǐng)日期1999年12月23日 優(yōu)先權(quán)日1999年3月26日
發(fā)明者A·H·薩克斯, 王理平, D·E·柯蒂斯 申請(qǐng)人:西加特技術(shù)有限責(zé)任公司