專利名稱：基于薄記錄層的光學(xué)記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于例如光盤(CD)和數(shù)字記錄帶或卡，特別是所謂的WORM介質(zhì)(一次寫入多次讀取的光盤或記錄帶)以及可重寫入的CD和記錄帶的光學(xué)記錄介質(zhì)領(lǐng)域。這些類型的介質(zhì)可以允許消費(fèi)者寫入信息。
在傳統(tǒng)的只讀CD中，信息存儲(chǔ)在該盤上制作的浮雕壓紋的凹痕中。根據(jù)在規(guī)則的凹痕邊緣結(jié)構(gòu)的衍射進(jìn)行讀取。各衍射級(jí)之間的干涉取決于激光光斑的位置。這產(chǎn)生了用于讀取信息的反射調(diào)制。傳統(tǒng)的只讀CD只適合于大規(guī)模生產(chǎn)，因?yàn)樵撋a(chǎn)步驟(生產(chǎn)已寫盤)是相當(dāng)復(fù)雜的，因此只有在大量生產(chǎn)中才具有成本效率。所以需要可以小批量生產(chǎn)的或者是甚至可以由消費(fèi)者自己寫入的CD和數(shù)字記錄帶或卡。在EP0,353,391中描述的光學(xué)記錄介質(zhì)包括一個(gè)具有易變形表面的透光基片，以及疊加在該易變形表面上的光吸收層，和疊加在該光吸收層上的光反射層，所述易變形表面因?yàn)樵摴馕諏訉?duì)寫入激光束的吸收所產(chǎn)生的能量而變形，形成可光學(xué)讀取的凹痕。這種讀取也是根據(jù)衍射級(jí)之間的干涉。在使用讀取激光束輻射期間，光穿過(guò)光吸收層，并被反射層反射。因?yàn)榘己蹆?nèi)的折射率與凹痕外(凸起(land))的折射率不同，因此凹痕內(nèi)的光路長(zhǎng)度與該凸起的光路長(zhǎng)度不同。落入該凹痕內(nèi)的激光和落入該凸起上的光之間相干涉導(dǎo)致衍射。各衍射級(jí)之間的干涉取決于該讀取光斑的確切位置。用所獲得的反射調(diào)制讀取信息。但是，該光學(xué)記錄介質(zhì)的記錄層在600-720nm范圍之內(nèi)有強(qiáng)吸收。因此，根據(jù)EP0,353,391所制造的盤在650nm處具有低反射率(低于10％)，從而該盤不適合在需要在650nm處具有大于20％反射率的DVD播放器中讀取。
在PCT/EP9605373中公開了基于Fabry-Perot標(biāo)準(zhǔn)具原理的光學(xué)記錄介質(zhì)。該光學(xué)記錄介質(zhì)包括帶槽的基片，一個(gè)部分反射鏡，一個(gè)含有高分子材料的緩沖層，和一個(gè)反射鏡。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，在非常特殊的條件下，不需要高分子材料，并可使用非常薄的緩沖層，因此所得到的光學(xué)記錄介質(zhì)可以更容易的制造，也更加便宜。
本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)包括以下層a)一個(gè)聚碳酸酯基片，帶有在未寫入狀態(tài)下其深度dgu為170-270nm的溝槽(1)，其上疊加有b)一個(gè)記錄層，包括其材料選自Ag,Ta,V,Ni,Cr,Si，其合金和其氧化物的部分反射鏡(2)，在沒(méi)有溝槽的基片部分它在770-790nm的透射率在40％-85％之間，其上疊加有一個(gè)緩沖層(3)，該層含有在未寫入狀態(tài)下在770-790nm處其固體狀態(tài)下所測(cè)得的折射率nbu為1.45-3.0，消光系數(shù)kbu為0-0.2的有機(jī)材料，凸起處的厚度db為10-70nm，溝槽圖象(groove image)處的深度di是深度dgu的40％-90％，其上疊加有Au,Al,Ag或其合金的厚反射層(4)，共同形成Fabry-Perot標(biāo)準(zhǔn)具，其中該凸起部分在770-790nm的反射處于高反射狀態(tài)，其上疊加有c)保護(hù)涂層(5)。
利用該部分反射鏡形成一個(gè)Fabry-Perot標(biāo)準(zhǔn)具。通過(guò)一個(gè)或多個(gè)所述部分反射鏡、所述緩沖層、所述厚反射層、或所述基片的變形可以寫入信息。該變形作用改變或破壞了Fabry-Perot標(biāo)準(zhǔn)具，并且使反射率下降。因?yàn)槔米冃巫饔枚M(jìn)行寫入，可以在該緩沖層中使用非液晶高分子材料。利用能夠?qū)е聦⒃谙挛闹羞M(jìn)一步說(shuō)明的衍射的該部分反射鏡/基片界面所反射的振幅和/或相位在該溝槽內(nèi)外的差異而實(shí)現(xiàn)尋跡(將寫入激光限制在溝槽內(nèi))。
為了方便起見，使用CD一詞表示本發(fā)明的所有光學(xué)記錄介質(zhì)。
本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)優(yōu)選處于Fabry-Perot的高反射狀態(tài)，當(dāng)激光讀取光斑位于該溝槽之上時(shí)，在未寫入狀態(tài)的反射率高于50％，而當(dāng)該激光讀取光斑位于該凸起之上時(shí)，反射率大于60％，因?yàn)閭鹘y(tǒng)的CD播放器在寫入狀態(tài)下需要來(lái)自于溝槽的大約20％的背景反射用于尋跡，而CD標(biāo)準(zhǔn)需要60％的寫入反差。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，在部分反射鏡材料滿足上述的復(fù)折射率要求的情況下，可以根據(jù)該CD標(biāo)準(zhǔn)制造CD。但如果CD播放器變得可以需要更小的背景反射，就可以采用低于50％的反射率。對(duì)于高密度記錄介質(zhì)來(lái)講，優(yōu)選在未寫入狀態(tài)的反射率為20％以上。在寫入時(shí)，F(xiàn)abry-Perot會(huì)因?yàn)橐粋€(gè)或多個(gè)所述部分反射鏡、所述緩沖層、所述厚反射層、或所述基片的變形而失調(diào)或被破壞，導(dǎo)致未寫入狀態(tài)的反射率降低了至少40％。
在已知的只讀CD中，所記錄的信息被存儲(chǔ)在螺旋形軌跡中，在該軌跡，低反射率的區(qū)域(已寫入溝槽區(qū)域)和背景反射率高于65％的區(qū)域(未寫入溝槽區(qū)域)相交錯(cuò)。對(duì)于傳統(tǒng)的CD，凹痕的長(zhǎng)度在0.9-3.3μm之間以0.3μm為間隔發(fā)生變化。在最長(zhǎng)的凹痕中(產(chǎn)生11T信號(hào))，反射率必須降低至未寫入狀態(tài)的反射率的40％以下。傳統(tǒng)CD播放器中的讀取激光的波長(zhǎng)為780-830nm，一般為780±10nm。因此，為了與只讀CD兼容，當(dāng)使用CD播放器的傳統(tǒng)讀取激光時(shí)，本發(fā)明的CD的未寫入狀態(tài)的反射率應(yīng)當(dāng)為65％，而在最長(zhǎng)的凹痕中反射率應(yīng)當(dāng)?shù)陀谖磳懭霠顟B(tài)反射率的40％。
本發(fā)明提供記錄后可與標(biāo)準(zhǔn)CD兼容、并可由數(shù)字式通用盤播放器(DVDP)播放的可記錄的CD(CD-R)。
本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)包括帶槽的基片(1)。通過(guò)該基片對(duì)該介質(zhì)進(jìn)行讀取。因此，對(duì)于用來(lái)讀取和寫入的激光來(lái)講，該基片應(yīng)當(dāng)是透光的。在傳統(tǒng)的CD播放器中，使用波長(zhǎng)為780nm的激光。聚碳酸酯基片因?yàn)槠鋬r(jià)格便宜和易于加工而被優(yōu)選使用。另外，聚碳酸酯基片的性質(zhì)也符合CD標(biāo)準(zhǔn)。聚碳酸酯容易受到涂布緩沖層材料所使用的幾乎所有常規(guī)溶劑的化學(xué)侵蝕。本發(fā)明的CD對(duì)于這個(gè)問(wèn)題有兩種解決辦法第一，部分反射鏡會(huì)保護(hù)該基片免受化學(xué)侵蝕。第二，因?yàn)閷⒎且壕Р牧嫌糜诰彌_層，給溶劑的選擇可帶來(lái)極大的自由。所以，可以使用相對(duì)溫和的溶劑。因此，在本發(fā)明的CD中，可以使用聚碳酸酯作為基片。對(duì)于DVD-R，該基片對(duì)于波長(zhǎng)為610-700nm，或更低波長(zhǎng)的光必須是透明的。
如上所述，本發(fā)明的CD使用帶槽的基片。所述溝槽是壓制在基片上的螺旋形軌跡。該軌跡在讀寫期間被用來(lái)控制激光光斑位置。由于該部分反射鏡具有高折射率，因此可以利用該部分反射鏡/基片界面所反射的振幅和/或相位在該溝槽內(nèi)外的差異而進(jìn)行尋跡。
該溝槽的寬度和深度決定了尋跡。通常使用的軌跡寬度為0.1-1.2μm。該軌跡的深度是一個(gè)重要的參數(shù)，必須根據(jù)緩沖層和部分反射鏡的厚度來(lái)選擇，在未寫入狀態(tài)下，在170-270nm之間。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，這樣的溝槽深度連同在凸起處為10-70nm，優(yōu)選為15-40nm的緩沖層厚度，以及連同選自Ag,Ta,Ni,Cr,Si，其合金和其氧化物的部分反射鏡，可在保持反射性質(zhì)的同時(shí)，形成最佳的尋跡反差。這樣的緩沖層厚度顯著比在先有技術(shù)中披露的厚度小。因此，優(yōu)選該溝槽圖象(該溝槽深度與該緩沖層厚度之和減去該緩沖層在未寫入狀態(tài)下在該溝槽處的最小厚度；見

圖1)是該溝槽深度dgu的40-90％。該緩沖層在寫入狀態(tài)下的折射率nbw和消光系數(shù)kbw優(yōu)選小于該緩沖層在未寫入狀態(tài)下的折射率nbu和消光系數(shù)kbu。當(dāng)nbu和kbu分別在1.8-2.2和0-0.05之間時(shí)，可以得到極好的結(jié)果。如果該溝槽寫入部分的深度dgw小于該溝槽未寫入狀態(tài)下的深度dgu，也是優(yōu)選的。
為了減少由于在空氣/基片界面的反射而導(dǎo)致的激光損耗，可以對(duì)該基片沒(méi)有覆蓋薄反射層的那一側(cè)提供抗反射結(jié)構(gòu)。
對(duì)于部分反射鏡(2)，可以采用Ag,Ta,V,Ni,Cr,Si，其合金和其氧化物，只要能將該層做得足夠薄，從而可以部分透過(guò)激光即可。相應(yīng)于在該基片沒(méi)有溝槽的部分在770-790nm透射率為40-90％時(shí)，其一般處于0.3-5.0nm的范圍之間。各種材料的復(fù)折射率已經(jīng)在固體光學(xué)常數(shù)手冊(cè)(Handbook of Optical Constant of Solids)，扁1和2,ed.Palik,Acc.Press(1985)中列出。薄金屬膜呈現(xiàn)出一種類似軋制(reduced)金屬的性質(zhì)，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以很容易的選擇一種合適的材料。優(yōu)選的，可以選擇例如銀和鉭，其合金和其氧化物的材料。
通常金屬折射率的虛部高。這意味著假設(shè)nk的乘積也是高的，當(dāng)它們用于透明環(huán)境中(例如聚碳酸酯)時(shí)是高反射的和吸收的。每μm的吸收α可以表示為-2πnk/λ(λ單位為μm)。因此，在用激光寫入時(shí)，該激光被Fabry-Perot系統(tǒng)反射(尋跡)，并被該金屬部分反射鏡吸收。所吸收的激光轉(zhuǎn)化為熱量，并且一個(gè)或多個(gè)所述部分反射鏡、所述緩沖層、所述厚反射層、或所述基片產(chǎn)生變形。
非吸收性材料例如銀，或其合金，或者硅、氮化硅、硅-鍺、二氧化硅、SiO、SiO-鍺等一般其折射率具有一個(gè)高的部分(實(shí)部或虛部)。這意味著該材料是反射的，但幾乎不吸收。當(dāng)用激光在有這種部分反射鏡的CD上寫入時(shí)，該激光被Fabry-Perot系統(tǒng)反射，但是該激光的吸收主要發(fā)生在緩沖層。因此，當(dāng)在本發(fā)明的CD中采用非金屬部分反射鏡時(shí)，優(yōu)選使用高吸收性緩沖層。特別優(yōu)選的是硅-鍺合金，氮化硅，和硅，因?yàn)樗鼈兊恼凵渎实奶摬康?。可以采用該領(lǐng)域的各種傳統(tǒng)常規(guī)方法將該部分反射鏡施加在該基片上，例如真空沉積、電子束沉積和濺射。
該緩沖層中的染料能使寫入激光轉(zhuǎn)化為熱量，由此使一個(gè)或多個(gè)所述部分反射鏡、所述緩沖層、所述厚反射層、或所述基片產(chǎn)生變形。如果使用金屬部分反射鏡，該染料層的厚度可以減小，因?yàn)樵摬糠址瓷溏R也可以吸收該激光和通過(guò)Fabry-Perot標(biāo)準(zhǔn)具改善該光學(xué)信號(hào)的振幅。因此，本發(fā)明的盤更加不依賴于波長(zhǎng)。由此合適的染料必須在所使用的激光的波長(zhǎng)范圍內(nèi)吸收。對(duì)于根據(jù)CD標(biāo)準(zhǔn)的、用780nm的激光寫入的CD，使用在780-850nm的范圍內(nèi)吸收的近紅外吸收染料。實(shí)例例如蒽醌染料IR-750,ex Nippon Kayaku Co.Ltd，方形(squarilium)染料NK-2772,ex Nippon Kankohshikiso Kenkyusho Co.Ltd，雙-[3-(7-異丙基-1-甲基)-甘菊環(huán)-4-基-2-乙基-丙酸正丁酯]方形酸染料(EP0,310,080，實(shí)施例16)，在EP0,310,080中描述的染料，和鄰二羥環(huán)戊烯三酮(croconium)染料ST 172,ex Syntec,ST9/3,exSyntec,ST9/1,ex Syntec，酞菁染料銅(Ⅱ)-1,4,8,11,15,18,22,25-辛基丁氧基-29H,31H-酞菁，鋅-1,4,8,11,15,18,22,25-辛基丁氧基-29H,31H-酞菁，ex Aldrich。優(yōu)選的染料是花青染料，例如L-04,S-04，或其混合物，和選自Victoria藍(lán)、Luxol Fast藍(lán)，和孔雀石綠草酸鹽(Malachite Green Oxalate)或其混合物的染料。L-04,S-04和單氧淬滅劑IRG-022的混合物也是優(yōu)選的。
該緩沖層可以含有至多接近100％重量比的染料。但是，優(yōu)選用量至多為60％重量比。該緩沖層也可以含有穩(wěn)定劑和/或1O2-淬滅劑(例如Perkacit)以改善該層的穩(wěn)定性。為了涂布該緩沖層，將高分子材料和任選的染料和其它添加劑優(yōu)選溶解在合適的溶劑中并進(jìn)行旋涂。也可以采用其它涂布厚度精確的傳統(tǒng)涂布方法。
如上所述，該緩沖層的吸收系數(shù)連同該部分反射鏡的光學(xué)參數(shù)影響Fabry-Perot的反射和吸收。該吸收系數(shù)是由染料在該緩沖層中的濃度和其消光系數(shù)確定。這可以被用來(lái)確定本發(fā)明的符合CD標(biāo)準(zhǔn)的CD的參數(shù)。
厚反射層是金、鋁、銀或其合金的金屬層，通過(guò)例如化學(xué)真空沉積或?yàn)R射的方法疊加在緩沖層上。該厚層應(yīng)當(dāng)對(duì)激光不透明。對(duì)于傳統(tǒng)的CD其透光率優(yōu)選為0-5％。優(yōu)選銀或其合金。
保護(hù)層(5)可以是具有高抗沖性的任何樹脂。通常使用采用旋涂方法、隨后利用UV輻射固化的UV固化樹脂。其它適合作為保護(hù)涂層的材料是環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、硅酮硬質(zhì)涂層樹脂(silicone hard coatresins)和聚氨酯樹脂。該保護(hù)涂層的厚度并不重要，通常在3-30μm之間，優(yōu)選在5-15μm之間。
本發(fā)明還涉及一種制造本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的方法。該方法包括以下步驟●在帶有溝槽的基片上施加部分反射鏡，●在所述部分反射鏡上施加緩沖層，●在所述緩沖層上施加厚保護(hù)層。
如上所述，該部分反射鏡和厚反射層可以通過(guò)例如真空沉積、電子束沉積或?yàn)R射而施加。該緩沖層也可以通過(guò)例如旋涂而施加。
該制造方法很容易成為連續(xù)工藝。通過(guò)在傳統(tǒng)的生產(chǎn)線中插入施加部分反射鏡的裝置和施加緩沖層的裝置，制造傳統(tǒng)的只讀CD的設(shè)備可以很容易的改為制造本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的設(shè)備。本發(fā)明還涉及一種連續(xù)制造本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的設(shè)備，包括●傳遞帶有溝槽的基片的裝置，●在所述基片上施加部分反射鏡的裝置，●在所述部分反射鏡上施加緩沖層的裝置，● 在所述緩沖層上施加厚保護(hù)層的裝置。
下面參考以下的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明。
實(shí)施例1按照如PCT/EP9605373所披露的標(biāo)準(zhǔn)工序的方法，制備包括如下聚碳酸酯基片、部分反射鏡、緩沖層、厚反射層和保護(hù)涂層的CD-R基片聚碳酸酯；溝槽深度190nm，溝槽寬度(FWHM)350nm，軌跡間距1.6μm.
部分反射鏡銀，無(wú)溝槽部分在780nm處透射率為80％。
緩沖層Luxol Fast藍(lán)MBSN/L-04/PerkacitNDBC的混合物(3.6％的固體；比例為47.6/45.6/6.77)。在780nm處nbu=1.94,kbu=0.007。層厚度為60nm(在凸起部分)，溝槽圖象為溝槽深度的60％。
厚反射層銀，厚度為100nm。
保護(hù)涂層交聯(lián)的含有環(huán)氧的聚丙烯酸酯，厚度為5-10μm。
對(duì)所形成的CD采用780nm的激光束利用測(cè)定設(shè)備進(jìn)行測(cè)定。在1.2m/秒，720KHz和8mw的記錄條件下使用0.7mw的讀取能量，所記錄的3T信號(hào)的信噪比(CNR)為55dB，在凸起處的反射率為77％，反射率(Rtop)為70％。該盤在商業(yè)性的光盤播放器中可反復(fù)播放。抖動(dòng)值大大低于35ns。該盤在650nm處利用紫外光譜儀(Shimadzu MPC-3100)所測(cè)的反射率為40％(圖2)。所記錄的音樂(lè)可以在Panasonic DVD-A3000播放器上播放。
實(shí)施例2制備一種如實(shí)施例1的CD，具有部分反射鏡鉭，無(wú)溝槽部分在780nm處透射率為80％。
緩沖層Luxol Fast藍(lán)MBSN/L-04/IRG 022的混合物(比例為33/60/7)，固體含量為3.2重量％，在凸起部分的涂敷厚度為60nm，溝槽圖象為溝槽深度的60％。對(duì)所形成的CD采用波長(zhǎng)為780nm的聚焦激光束利用測(cè)定設(shè)備進(jìn)行測(cè)定，分析在采用波長(zhǎng)同樣為780nm的寫入激光束的商業(yè)記錄器上以1.2m/s的2倍和4倍的速度記錄的區(qū)域。所測(cè)得的反射率(Rtop)為70％，在2倍的寫入速度下觀察到的最佳寫入能量為11mW。該CD盤可在商業(yè)性的光盤記錄器/播放器中記錄和再次播放。該盤在650nm處的反射率為37％，并且所記錄的盤可由DVDP播放。
實(shí)施例3制備一種如實(shí)施例2的CD，具有緩沖層Luxol Fast藍(lán)MBSN/L-04/IRG 022的混合物(比例為48/45/7)，其固體含量為3.2重量％，在凸起部分的涂敷厚度為60nm，溝槽圖象為溝槽深度的60％。
按照如實(shí)施例2的方法對(duì)所得到的CD進(jìn)行測(cè)定，測(cè)得反射率(Rtop)為65％。其它參數(shù)，包括但并不限于凸起-和凹痕-抖動(dòng)值，在2倍的寫入速度下很滿足Orange Book Ⅱ(版本2.9)的要求。該盤可在商業(yè)性的光盤記錄器/播放器中記錄和再次播放。該盤在650nm處的反射率為42％，并且所記錄的盤可由DVDP播放。
實(shí)施例4
制備一種如實(shí)施例3的CD，具有基片聚碳酸酯；溝槽深度230nm，溝槽寬度(FWHM)450nm，軌跡間距1.6μm。
部分反射鏡如同實(shí)施例3中的銀，在上述基片上形成60％的透射率。
按照如實(shí)施例3的方法對(duì)所得到的CD進(jìn)行測(cè)定，測(cè)得反射率(Rtop)為65％，以及2倍的寫入速度最佳能量為11mW，串話低于20％(OrangeBook要求低于50％)。其它相關(guān)參數(shù)也滿足Orange Book的要求。該盤可在商業(yè)性的光盤記錄器/播放器中記錄和再次播放。該盤在650nm處的反射率為40％，并且所記錄的盤可由DVDP播放。
實(shí)施例5制備一種如實(shí)施例3的CD，具有基片如同實(shí)施例4所述，其軌跡間距1.5μm。
按照如實(shí)施例4的方法對(duì)所得到的CD進(jìn)行測(cè)定，所測(cè)的結(jié)果大致與之相同，只是抖動(dòng)值略有改進(jìn)(2-5ns)。
實(shí)施例6制備一種如實(shí)施例5的CD，具有緩沖層一種洗滌過(guò)的純化Victoria藍(lán)B/L-04/IRG 022的混合物(比例為30/60/10)的固體含量為3.2％的溶液，如實(shí)施例2所述，并按照實(shí)施例2的方法進(jìn)行涂敷。
按照如實(shí)施例5的方法對(duì)所得到的CD進(jìn)行測(cè)定，測(cè)定結(jié)果顯示，使用商業(yè)化的CD記錄器，在2倍和4倍的寫入速度下得到已記錄區(qū)域的凸起-和凹痕-抖動(dòng)值都低于35ns。所得到的凹痕-和凸起-長(zhǎng)度偏差都處于Orange BookⅡ的特定范圍之內(nèi)，對(duì)于3T-11T的凹痕-和凸起-標(biāo)記長(zhǎng)度差異(分別是60ns-90ns)顯示出比Orange Book差異允許值(分別是150ns和130ns)更為平坦的特性。該盤可在商業(yè)性的光盤記錄器/播放器中記錄和再次播放。
實(shí)施例7制備一種如實(shí)施例6的CD，具有基片如同實(shí)施例6所述，但是溝槽深度為260nm。
緩沖層如實(shí)施例6所述，但是改進(jìn)旋涂順序。
按照上述實(shí)施例的方法對(duì)所得到的CD進(jìn)行測(cè)定。
比較實(shí)施例1(EP0,353,391的實(shí)施例1)將0.65gNK3219的10ml雙丙酮醇的涂布溶液旋涂在預(yù)先帶有溝槽的聚碳酸酯基片上。該預(yù)先溝槽的幾何尺寸如下深度80nm，半寬度600nm，軌跡間距1600nm。該盤可由CD-R記錄器(Yamaha 400TX)記錄，并在CD播放器(Philips CDP MKⅡ)上播放，但是不能在DVDP上回放。該盤在650nm處利用UV光譜儀所測(cè)得的反射率低于12％(圖2)。
權(quán)利要求
1．一種光學(xué)記錄介質(zhì)，包括如下各層a)一個(gè)聚碳酸酯基片，帶有在未寫入狀態(tài)下其深度dgu為170-270nm的溝槽(1)，其上疊加有b)一個(gè)記錄層，包括其材料選自Ag,Ta,V,Ni,Cr,Si，其合金和其氧化物的部分反射鏡(2)，在沒(méi)有溝槽的基片處它在770-790nm的透射率在40％-90％之間，其上疊加有一個(gè)緩沖層(3)，含有在未寫入狀態(tài)下在770-790nm處其固體狀態(tài)下所測(cè)得的折射率nbu為1.45-3.0，消光系數(shù)kbu為0-0.3的有機(jī)材料，其凸起處的厚度db為10-70nm，該層溝槽圖象的深度di是深度dgu的40％-90％，其上疊加有Au,Al,Ag或其合金的厚反射層(4)，它們共同形成Fabry-Perot標(biāo)準(zhǔn)具，其中該凸起部分在770-790nm的反射處于高反射狀態(tài)，其上疊加有c)保護(hù)涂層(5)。
2．如權(quán)利要求1的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中在寫入狀態(tài)下的折射率nbw和消光系數(shù)kbw分別小于nbu和kbu。
3．如權(quán)利要求1或2的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中該溝槽寫入部分的深度dgw小于該溝槽未寫入狀態(tài)下的深度dgu。
4．如權(quán)利要求1-3中任何一項(xiàng)的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中dgu為180-240nm。
5．如權(quán)利要求1-4中任何一項(xiàng)的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中在650nm處的反射率高于30％，而在780nm處的反射率高于60％。
6．如權(quán)利要求1-5中任何一項(xiàng)的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中該部分反射鏡選自Ag,Ta，其氧化物和其合金。
7．如權(quán)利要求1-6中任何一項(xiàng)的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中該有機(jī)材料的折射率nbu為1.8-2.2。
8．如權(quán)利要求1-7中任何一項(xiàng)的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中Kbu為0-0.05。
9．如權(quán)利要求1-8中任何一項(xiàng)的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中厚度db為15-40nm。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種光學(xué)記錄介質(zhì),具有一個(gè)帶有溝槽的聚碳酸酯基片,一個(gè)包括選自Ag、Ta、Ni、Cr、Si,或其合金或其氧化物材料制成的部分反射鏡的記錄層,一個(gè)有機(jī)材料制成的緩沖層,一個(gè)Au、Al、Ag或其合金制成的厚反射層和一個(gè)保護(hù)涂層。利用該部分反射鏡、該緩沖層和該厚反射層,形成一個(gè)Fabry－Perot標(biāo)準(zhǔn)具。通過(guò)一個(gè)或多個(gè)所述部分反射鏡、所述緩沖層、所述厚反射層、或所述基片產(chǎn)生的變形而寫入信息。該變形改變或破壞了Fabry－Perot,反射率降低。由于利用該變形而寫入信息,可以在該緩沖層中使用非液晶高分子材料。尋跡伺服利用了該部分反射鏡/基片界面所反射的振幅和/或相位在該溝槽內(nèi)外的差異。
文檔編號(hào)G11B7/253GK1324481SQ99802905
公開日2001年11月28日 申請(qǐng)日期1999年2月3日 優(yōu)先權(quán)日1998年2月13日
發(fā)明者金成勛, J·W·G·梅伊, G·C·杜貝爾達(dá)姆, F·G·H·范威吉克 申請(qǐng)人:阿克佐諾貝爾公司, 三星電子株式會(huì)社