專利名稱：光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤。
光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，尤其是緊湊盤(光盤)(CD或CD-ROM)包含在一側(cè)上形成透明材料的盤，具有定義數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的凹痕(或“凹點”)圖形，盤上該有刻痕的一側(cè)設(shè)置有薄的反射材料涂層。從盤的相對側(cè)通過光學(xué)方式“讀取”數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)。
為了提高存儲在盤上的數(shù)據(jù)的密度，凹痕必須更小和更緊密。目前主要的協(xié)會已同意盤的厚度應(yīng)當(dāng)從通常的1.2mm減小到約0.6mm該協(xié)議的目的在于生產(chǎn)非常高的數(shù)據(jù)密度的盤，它要求減小厚度以便能分辨和光學(xué)讀取凹痕。然而，厚度減小的光盤的強度和剛度需要通過在其刻痕一側(cè)上粘貼加強盤來補救。
我們已開發(fā)了把全息圖加到傳統(tǒng)CD和CD-ROM上的技術(shù)，該全息圖不僅作為裝飾，更重要的是防止仿造?，F(xiàn)在我們已發(fā)明了利用全息圖或其它光學(xué)可變圖來提供高密度光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤(例如DVD-數(shù)字萬用盤(digital versatile discs))的技術(shù)。
根據(jù)本發(fā)明，提供一種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，它包含第一組成盤，形成在一側(cè)上，具有定義數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的凹痕圖形，第一組成盤有刻痕的一側(cè)設(shè)置有反射涂層，還包含第二組成盤，粘接到第一組成盤上的所述有刻痕側(cè)上，所述第二組成盤上有表面凸紋圖形，定義全息或其它光學(xué)可變圖像。
第二組成盤的表面凸紋圖形可以直接形成在第二組成盤的面向第一組成盤的側(cè)面上。第二組成盤的該表面較好地設(shè)置一反射涂層。
表面凸紋圖形可以通過例如壓紋或諸如光聚合工藝等鑄塑方法形成在涂到第二組成盤一側(cè)的涂層表面上。涂覆面可以面向或遠(yuǎn)離第一組成盤在后一種情況下，涂層外還涂有一外層，保護(hù)層。在有些情況下，面向第一組成盤的第二組成盤的一側(cè)可以形成有定義數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的第二凹痕圖形。這兩個數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形都可以從盤的相對側(cè)讀取兩組成盤或其中之一組成盤的外層表面可以形成定義全息或其它光學(xué)可變圖形的表面凸紋，或涂覆壓紋形成的層，或者形成這種凸紋，然后涂覆半反射層。
第一和第二組成盤較好地通過注射成型方法制成，直接模壓出數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形。
現(xiàn)在僅通過例子，并參照附圖描述本發(fā)明的實施例，其中

圖1是根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤的示意性剖視圖，在尺寸上作了放大但并不成比例；圖2是根據(jù)本發(fā)明第二種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤的類似視圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明第三種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤的類似視圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明第四種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤的類似視圖；圖5是根據(jù)本發(fā)明第五種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤的類似視圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明第六種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤的類似視圖；參照圖1，示出了一種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，它包含第一組成盤10，通過由聚碳酸酯注射成型形成，在一側(cè)上具有凹痕或“凹點”圖形，定義數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)。該刻痕側(cè)還設(shè)置有反射涂層11。凹痕圖形可通過投射在組成盤10的相對側(cè)上(以箭頭A方向)，然后在反射涂層11上反射的返回光束光學(xué)地讀取。組成盤10的厚度減小了，達(dá)0.6mm的數(shù)量級凹痕是高密度的，但組成盤10厚度的減小使分辨凹痕和光學(xué)讀取變得容易。
圖1所示的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤還包含第二組成盤12(還是通過由聚碳酸酯注射成型形成)，它通過粘接劑或粘接材料層13粘接到第一組成盤10的刻痕側(cè)上。第二組成盤12的厚度為0.6mm的數(shù)量級，為第一組成盤10提供剛性組成盤12在粘接到第一組成盤10的一側(cè)面上形成有微表面凸紋圖形，盤12的該圖形面設(shè)置有反射涂層14，該反射涂層14上可以設(shè)置保護(hù)涂層(未圖示)。表面凸紋圖形定義了全息或其它光學(xué)可變圖像，可以從盤12的相對側(cè)(如箭頭B所指)看到。
圖2示出了一種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，它與圖1所示的盤的不同之處是微表面凸紋圖形是壓紋的，或者形成為漆涂層15，涂到第二組成盤12的平面上。然后，在組成盤12用面向組成盤10的其圖形涂層粘到第一組成盤10之前，把反射涂層14涂到表面凸紋圖形上。在粘接之前還可以把另一保護(hù)涂層(未圖示)涂到組成盤12上。
圖3示出了一個光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，它與圖2所示的盤的不同之處在于第二組成盤12粘接到第一組成盤10上，其圖形涂層遠(yuǎn)離組成盤10。圖形面設(shè)置有反射涂層14，并用保護(hù)層16覆蓋。
圖4所示的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤與圖3所示的盤的不同之處在于，第二組成盤12面向第一組成盤10的側(cè)面形成有定義數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的凹痕圖形，該側(cè)面上設(shè)置有反射涂層17。兩分離的數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形都從盤的同一側(cè)面讀取(箭頭A所指的)，而從相對側(cè)(箭頭B所指示)可看到全息或其它光學(xué)可變圖像。
應(yīng)當(dāng)理解，圖1的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤的結(jié)構(gòu)簡單，便于制造它具有特殊的優(yōu)點，即兩組成盤10,12都可注射成型，不需要壓紋或其它機器來形成表面凸紋圖形。
圖2的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤的結(jié)構(gòu)也簡單，便于制造。雖然它需要在壓紋或其它機器上進(jìn)行投資，以形成表面凸紋，但制造整個盤的花費比圖1的盤要小，因為壓紋或另一個過程本身的花費就小于通過注射成型制造副盤。
圖3的光盤還提供了另一個優(yōu)點，即組成盤12的表面凸紋受到各涂層15、16(較好地為同一種材料，或者是具有相似化學(xué)和物理特性的材料)的保護(hù)因此，未經(jīng)授權(quán)的人不可能使表面凸紋圖形暴露，從這獲得模板，進(jìn)行偽造復(fù)制。
圖4的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤具有圖3的光盤的所有優(yōu)點，它還具有保存幾乎雙倍數(shù)據(jù)量的優(yōu)點。
圖5和圖6也示出了具有兩個分離數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，因此，它們能保存幾乎是圖1至3所示的光盤的兩部的數(shù)據(jù)量。然而，在使用圖5和6所示的光盤時，要從盤的相對側(cè)讀取兩個數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形，而不是都從同一面讀取。因此，圖5的盤與圖4的盤的不同之處在于在第二組成盤12的漆涂層15上設(shè)置有半反射、半透明涂層14’這可以使得從箭頭C所指示的方向讀取組成盤12的數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形，還可以從后一方向上看到全息或其它光學(xué)可變圖像(由形成涂層15的表面凸紋定義)。如果需要，組成盤10的厚度可以大于盤12，以補償組成盤12上的附加層15、16，在各數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形上提供等效的光學(xué)路徑。
在圖6中，把兩組成盤10、12也形成有定義數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形的凹痕，并設(shè)置反射涂層11、17兩組成盤10、12也用粘接材料層13粘接在一起；組成盤12的外表面設(shè)置定義全息或其它光學(xué)可變圖像的表面凸紋18，并可以不被覆蓋(如圖所示)或者被覆蓋。組成盤12通過注射成型形成，具有數(shù)字凹痕和表面凸紋盤12的數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)從盤的相應(yīng)側(cè)面(如箭頭D所指示的)讀取，而全息或其它光學(xué)可變圖像可從同一側(cè)面看到(并且不需要用反射或半反射材料來涂覆表面凸紋就可看到)。組成盤10在其外表面上還可以設(shè)置表面凸紋，定義可從盤的一側(cè)(如箭頭C所指示的)看到的全息或其它光學(xué)可變圖像。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，包含第一組成盤，形成在一側(cè)上，具有定義數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的凹痕圖形，所述第一組成盤有刻痕的一側(cè)面設(shè)置有反射涂層；以及第二組成盤，粘接到所述第一組成盤上的所述有刻痕側(cè)面上，所述第二組成盤上有表面凸紋圖形，定義全息或其它光學(xué)可變圖像。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述第二組成盤的所述表面凸紋圖形設(shè)置有反射涂層。
3.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述第二組成盤的所述表面凸紋圖形直接形成在第二組成盤的面向所述第一組成盤的側(cè)面上。
4.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述表面凸紋圖形形成在涂到所述第二組成盤的一側(cè)上的涂層表面上。
5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述表面凸紋圖形壓紋到涂到所述第二組成盤的一側(cè)面的所述涂層上。
6.如權(quán)利要求4或5所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述涂覆表面面向所述第一組成盤。
7.如權(quán)利要求4或5所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述涂覆表面遠(yuǎn)離所述第一組成盤。
8.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述涂層還被外層，保護(hù)層涂覆。
9.如上述任一權(quán)利要求所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述第二組成盤面向所述第一組成盤的一側(cè)面形成有定義數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的凹痕圖形。
10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述第一和所述第二組成盤的所述數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形可從所述盤的同一側(cè)面讀取。
11.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述第一組成盤的所述數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形設(shè)置有半反射涂層。
12.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述第一和所述第二組成盤的所述數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形可從所述盤的相對側(cè)讀取。
13.如前述任一權(quán)利要求所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，兩組成盤或其中之一的外表面形成有定義全息或其它光學(xué)可變圖像的表面凸紋。
14.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，組成盤之一的外表面包含一涂層，所述表面凸紋形成在其內(nèi)，然后，用半反射層涂覆。
15.如前述任一權(quán)利要求所述的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤，其特征在于，所述第一和第二組成盤通過注射成型形成，在其內(nèi)模壓出所述數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)圖形。
全文摘要
一種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲盤,包含第一組成盤(10),形成在一側(cè)上,具有定義數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的凹痕圖形,第一組成盤有刻痕的一側(cè)設(shè)置有反射涂層(11);以及第二組成盤(12),粘接到所述組成盤上的有刻痕側(cè)面上,第二組成盤上有表面凸紋圖形,定義全息或其它光學(xué)可變圖像。
文檔編號G11B7/26GK1214144SQ9719315
公開日1999年4月14日 申請日期1997年3月19日 優(yōu)先權(quán)日1996年3月19日
發(fā)明者奈杰爾·克里斯托弗·亞伯拉罕 申請人:應(yīng)用全息技術(shù)公共有限公司