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光盤存儲(chǔ)系統(tǒng)的浮動(dòng)塊的制作方法

文檔序號(hào):6746384閱讀:131來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:光盤存儲(chǔ)系統(tǒng)的浮動(dòng)塊的制作方法
背景技術(shù)
本發(fā)明總的涉及光盤涉及存儲(chǔ)系統(tǒng)。本發(fā)明尤其涉及光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)的光度頭萬(wàn)象平衡式組件(optical head gimbal assembly)中使用的浮動(dòng)塊(slider)。
光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)盤(disc)系統(tǒng)是一種用來(lái)存儲(chǔ)大量數(shù)據(jù)的很有前途的技術(shù)。數(shù)據(jù)是通過(guò)將激光束聚焦到盤的數(shù)據(jù)表面并檢測(cè)從數(shù)據(jù)表面反射或發(fā)射的光來(lái)訪問(wèn)的。
通常,在光學(xué)存儲(chǔ)系統(tǒng)中,數(shù)據(jù)呈物理的(physical)或磁性的標(biāo)記形式,這些標(biāo)記承載在盤的表面上,可以用反射的激光來(lái)檢測(cè)。本領(lǐng)域中,人們已經(jīng)知道有幾種不同的光盤技術(shù)。例如,目前將緊致磁盤(compact disc)用來(lái)存儲(chǔ)數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)如計(jì)算機(jī)程序或數(shù)字化的音樂(lè)。通常,緊致盤是在制造期間永久記錄的。另一種類型的光學(xué)系統(tǒng)是“一次寫入多次閱讀(WORM)”系統(tǒng),用戶可以在空白盤中永久性地寫入信息。人們要求提供一種可擦系統(tǒng),如相位改變和磁性—光學(xué)(M—O)系統(tǒng)。通過(guò)感測(cè)反射率的變化,相位改變系統(tǒng)對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行檢測(cè)。M—O系統(tǒng)通過(guò)測(cè)量由于存儲(chǔ)介質(zhì)而產(chǎn)生的入射光偏振的旋轉(zhuǎn)來(lái)讀取數(shù)據(jù)。
高密度光學(xué)記錄,尤其是近場(chǎng)記錄(即,M—O或相位改變系統(tǒng))通常要求一種用于在光學(xué)介質(zhì)的數(shù)據(jù)表面上承載傳感器件的光度頭萬(wàn)象平衡式組件(OHGA)。OHGA包括一個(gè)浮動(dòng)塊,當(dāng)盤在高速下旋轉(zhuǎn)時(shí),它貼近光盤的數(shù)據(jù)表面而“飛行”。驅(qū)動(dòng)器(actuator)用來(lái)在盤表面上徑向?qū)Ω?dòng)塊進(jìn)行定位。美國(guó)專利5,497,359中給出了一種光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)中使用的浮動(dòng)塊。
采用“近場(chǎng)”(或漸消失場(chǎng)(evanescent field))的光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)包括一個(gè)“固體浸沒(méi)透鏡(SIL)”。這樣一種近場(chǎng)技術(shù)見1992年6月30日授權(quán)給Corle等人的標(biāo)題為“采用固體浸沒(méi)透鏡的光學(xué)記錄系統(tǒng)(OpticalRecording System Employing a Solid Immersion Lens)”的美國(guó)專利5,125,750和1996年3月5日授權(quán)給Mamin等人、標(biāo)題為“具有輻射—透明氣墊浮動(dòng)塊的光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)(Optical Disc Data Storage System withRadiation-Transparent Air-Bearing Slider)”的美國(guó)專利5,497,359。典型的SIL結(jié)構(gòu)包括一個(gè)位于浮動(dòng)塊頂端上的半球形的透鏡罩和一個(gè)位于浮動(dòng)塊的氣墊側(cè)上的光學(xué)臺(tái)面結(jié)構(gòu)。光學(xué)臺(tái)面必須很靠近光盤的數(shù)據(jù)面,以便它們是近場(chǎng)光學(xué)耦合的。通常這是在小于幾個(gè)波長(zhǎng)的數(shù)量級(jí)上的。
發(fā)明概述本發(fā)明提供了一種浮動(dòng)塊,這種浮動(dòng)塊具有一個(gè)臺(tái)面,該臺(tái)面被防止與光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)的接觸。在一種光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)中,光盤包括一個(gè)數(shù)據(jù)面。具有末端的驅(qū)動(dòng)器臂是有選擇地徑向位于靠近數(shù)據(jù)面的。包括有光源的傳感元件用來(lái)傳感信息。與驅(qū)動(dòng)器臂和傳感元件耦合的控制器用來(lái)對(duì)驅(qū)動(dòng)器臂定位,并通過(guò)傳感元件,在數(shù)據(jù)面上傳感信息。與驅(qū)動(dòng)器臂的末端耦合的浮動(dòng)塊承載傳感元件。浮動(dòng)塊包括一個(gè)頂面,以及一個(gè)適合于在盤旋轉(zhuǎn)時(shí)靠近數(shù)據(jù)面移動(dòng)的氣墊面。臺(tái)面位于氣墊面上。本發(fā)明的一個(gè)發(fā)明點(diǎn)是,氣墊面包括有一個(gè)凸起部分。光學(xué)臺(tái)面沿與數(shù)據(jù)面相隔的方向與凸起部分相距一定的間隔,而防止了數(shù)據(jù)面與光學(xué)臺(tái)面之間的接觸。本發(fā)明的另一個(gè)發(fā)明點(diǎn)是它包括使浮動(dòng)塊傾斜一個(gè)角度(pitching the slider),從而臺(tái)面不會(huì)碰到數(shù)據(jù)面。
附圖簡(jiǎn)述

圖1是按照本發(fā)明的光學(xué)存儲(chǔ)系統(tǒng)的簡(jiǎn)圖。
圖2是按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的圖1中浮動(dòng)塊的側(cè)視圖。
圖3A是按照另一個(gè)實(shí)施例的浮動(dòng)塊底面圖,而圖3B是其側(cè)視圖。
圖4是按照另一個(gè)實(shí)施例的具有凸起部分的浮動(dòng)塊的底面圖。
圖5是按照另一個(gè)實(shí)施例的浮動(dòng)塊的軌道和臺(tái)面之間具有凸起部分的浮動(dòng)塊的側(cè)視圖。
圖6A是按照另一個(gè)實(shí)施例的浮動(dòng)塊的側(cè)視圖,而圖6B是其底面圖,其中,浮動(dòng)塊的坡度用來(lái)使臺(tái)面與光盤的數(shù)據(jù)面分開。
較佳實(shí)施例的詳細(xì)描述本發(fā)明涉及光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)。本發(fā)明尤其涉及采用光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)的浮動(dòng)塊,這里的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)采用近場(chǎng)(或漸消失場(chǎng))的光學(xué)記錄技術(shù),具有承載傳感頭的浮動(dòng)塊,用來(lái)與數(shù)據(jù)面光學(xué)耦合,用以在上面讀和/或?qū)憯?shù)據(jù)。這樣的一種光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)采用浮動(dòng)塊,在靠近光學(xué)存儲(chǔ)介質(zhì)(如光盤)的數(shù)據(jù)面的地方承載光學(xué)傳感元件。1996年3月5日授權(quán)的、標(biāo)題為“具有輻射—透明氣墊浮動(dòng)塊的光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)(Optical Disc DataStorage System with Radiation-Transparent Air-Bearing Slider)”的美國(guó)專利5,497,359中描述了一種用于光學(xué)記錄的而設(shè)計(jì)的浮動(dòng)塊。
當(dāng)采用近場(chǎng)(或漸消失場(chǎng))對(duì)信息進(jìn)行光學(xué)記錄時(shí),光學(xué)傳感元件包括例如承載在飛行于磁盤上的浮動(dòng)塊上的固體浸沒(méi)透鏡(或SIL)。這樣的一種固體浸沒(méi)透鏡見標(biāo)題為“采用固體浸沒(méi)透鏡的光學(xué)記錄系統(tǒng)(OpticalRecording System Employing a Solid Immersion Lens)”的美國(guó)專利5,125,750。為了在盤上寫上一個(gè)數(shù)據(jù)位,激光通過(guò)固體浸沒(méi)透鏡在盤上將一個(gè)小點(diǎn)加熱到高于介質(zhì)的居里(Curie)溫度以上的一個(gè)溫度。浮動(dòng)塊的氣墊表面上攜帶的磁性線圈受激磁,并將激光關(guān)閉。當(dāng)磁性介質(zhì)的溫度低于居里點(diǎn)以下時(shí),加熱點(diǎn)就變成了所要求的磁取向。
固體浸沒(méi)透鏡包括一個(gè)半球形的圖案或者一個(gè)位于浮動(dòng)塊的頂面上的透鏡罩以及一個(gè)位于與浮動(dòng)塊氣墊表面上的相對(duì)的光學(xué)臺(tái)面。本發(fā)明的一個(gè)發(fā)明點(diǎn)是認(rèn)識(shí)到,光學(xué)臺(tái)面是光學(xué)記錄中的一個(gè)主要元件,其光學(xué)特性中的甚至一個(gè)細(xì)小的劣化都會(huì)顯著地影響系統(tǒng)的性能。在典型的現(xiàn)有技術(shù)的浮動(dòng)塊中,是不采取措施來(lái)防止臺(tái)面與數(shù)據(jù)面進(jìn)行不必要的接觸的。另外,在典型的現(xiàn)有技術(shù)的系統(tǒng)中,可能會(huì)在臺(tái)面上或附近出現(xiàn)微粒。這些狀況會(huì)改變臺(tái)面的光學(xué)特性。本發(fā)明還包括一個(gè)相對(duì)于從氣墊表面延伸的凸起部分的臺(tái)面凹陷。從而該凸起部分確保了臺(tái)面在光盤存儲(chǔ)系統(tǒng)的操作期間是永遠(yuǎn)與數(shù)據(jù)面隔開的。
圖1是按照本發(fā)明的采用浮動(dòng)塊20的一種光學(xué)記錄系統(tǒng)10的簡(jiǎn)圖。系統(tǒng)10包括具有承載光學(xué)編碼信息的數(shù)據(jù)面的光盤12。光盤12繞軸旋轉(zhuǎn),并且由底座18上安裝的主軸電機(jī)16驅(qū)動(dòng)。浮動(dòng)塊20位于相鄰的光盤12上,并且與驅(qū)動(dòng)器22耦合,驅(qū)動(dòng)器22包括電樞24和一個(gè)與底座18耦合的驅(qū)動(dòng)器電機(jī)26。浮動(dòng)塊20包括一個(gè)光學(xué)傳感器30。光學(xué)傳感元件包括光源/傳感器裝置32??刂破?4與裝置32、驅(qū)動(dòng)器26和數(shù)據(jù)總線36耦合,并用來(lái)控制系統(tǒng)10的運(yùn)行。
運(yùn)行時(shí),光盤12旋轉(zhuǎn),用驅(qū)動(dòng)器22將浮動(dòng)塊20置于徑向沿光盤12的數(shù)據(jù)面的位置上??刂破?4控制浮動(dòng)塊20的位置,從而可以用光源/傳感器裝置32從光盤12的數(shù)據(jù)面讀取信息,并且在數(shù)據(jù)總線36上接收和傳送信息。
圖2是按照本發(fā)明的浮動(dòng)塊20的簡(jiǎn)化的側(cè)視圖,給出了傳感器元件30。圖中,浮動(dòng)塊20靠近光盤12的數(shù)據(jù)面48,圖中將數(shù)據(jù)面48描繪成一系列的高低不平。在所示的實(shí)施例中,傳感器元件30包括一個(gè)SIL型(固體浸沒(méi)透鏡)透鏡(它是由透鏡罩50形成的,并具有浮動(dòng)塊20的塊體)和呈線圈形狀形成的導(dǎo)體52。按照本發(fā)明,導(dǎo)體52是繞光學(xué)臺(tái)面54的線圈。浮動(dòng)塊20包括氣墊面56和頂面(或相向面)58。臺(tái)面54承載在氣墊面56上。光盤12沿箭頭60所示的方向旋轉(zhuǎn),因而浮動(dòng)塊20有一個(gè)前沿62和一個(gè)后沿64。
按照本發(fā)明,圖2中所示的浮動(dòng)塊20包括一個(gè)位于氣墊56上的凸起部分70,它沿朝數(shù)據(jù)面48的方向延伸。凸起部分70用作氣墊接觸區(qū),并且在臺(tái)面54的末端向下延伸一個(gè)距離d。圖中所示的浮動(dòng)塊20的實(shí)施例是一個(gè)氣墊軌道72。氣墊面70給出了一個(gè)接觸島區(qū)域(contacting islandregion),其中,臺(tái)面沿離開數(shù)據(jù)面的方向,從氣墊面70的末端凹陷。這種結(jié)構(gòu)使得不會(huì)損壞臺(tái)面、磨損臺(tái)面或在敏感的光學(xué)表面上有碎屑堆積起來(lái)。
這里所給出的實(shí)施例可以用已知的技術(shù)來(lái)制造,如離子束刻蝕、加工、研磨、化學(xué)刻蝕或淀積處理。浮動(dòng)塊氣墊面56最好根據(jù)介質(zhì)的特征用來(lái)與數(shù)據(jù)面互作用(interaction)。通常,臺(tái)面結(jié)構(gòu)相對(duì)于末端面的凹陷可以通過(guò)包括如圖2中所示的物理凹陷的任何一種合適的技術(shù)或者采用氣墊的坡度(pitch)從氣墊面“向上”確定臺(tái)面的位置這種技術(shù)從而避免損傷和碎屑積累來(lái)實(shí)現(xiàn)。
圖3A是按照另一種實(shí)施例的浮動(dòng)塊100的底面圖,而圖3B是其側(cè)視圖。圖3A和3B中,提供了一種位于浮動(dòng)塊100的氣墊面56上的犧牲磨損墊層(sacrificial wear pad)102。為簡(jiǎn)化起見,類似的元件保留了它們來(lái)自圖1中的編號(hào)。這種設(shè)計(jì)可以很好地適用于很低接觸力的設(shè)計(jì),這時(shí),會(huì)在數(shù)據(jù)面48與犧牲磨損墊層102之間出現(xiàn)連續(xù)的接觸。最好犧牲磨損層102上的總磨損小于它們從耐磨墊層起凹陷的距離d。這種設(shè)計(jì)特別能很好地適用于許多便攜式的應(yīng)用場(chǎng)合。犧牲墊層102按照本發(fā)明提供凸起部分。
圖4是按照另一個(gè)實(shí)施例的浮動(dòng)塊120的底面圖。在圖4所示的實(shí)施例中,耐磨墊層(或凸起部分)112位于更靠近氣墊面56的前沿62的地方。墊層形成了一個(gè)三角支承部分,以利于穩(wěn)定。然而,也可以考慮采用其他的結(jié)構(gòu),這同樣是在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
圖5是按照另一個(gè)實(shí)施例的浮動(dòng)塊130的側(cè)視圖。在圖5中所示的實(shí)施例中,浮動(dòng)塊130包括耐磨墊層或凸起部分132,它們位于臺(tái)面54和軌道72之間,以提供所要求的凹陷d。圖5所示的實(shí)施例提供了一種混合的設(shè)計(jì),其中的軌道72的氣墊特征給出了要求的工作硬度,并且當(dāng)出現(xiàn)犧牲磨損墊層132上的接觸時(shí),使得對(duì)浮動(dòng)塊130的機(jī)械振動(dòng)靈敏度降低。
圖6A和6B分別是按照本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的浮動(dòng)塊140的側(cè)視圖和底面圖。在浮動(dòng)塊140所示的實(shí)施例中,浮動(dòng)塊的坡度(pitch)用來(lái)實(shí)現(xiàn)臺(tái)面54和數(shù)據(jù)面48之間的間隔d。該設(shè)計(jì)中,臺(tái)面54的位置靠近軌道72。后沿墊層142在氣墊面56和數(shù)據(jù)面48之間浮動(dòng)塊140的后沿64處給出最小的間隔s。本實(shí)施例中,軌道72和/或后沿墊層142給出按照本發(fā)明的凸起部分。這里給出的浮動(dòng)塊可以按照任何一種光學(xué)浮動(dòng)塊的合適的技術(shù)來(lái)制造。另外,盡管本發(fā)明是采用固體浸沒(méi)透鏡光學(xué)元件來(lái)描述的,但可以采用任何一種具有臺(tái)面或其他凸起的光學(xué)元件通過(guò)近場(chǎng)與數(shù)據(jù)面耦合的合適的光學(xué)元件。
盡管本發(fā)明是針對(duì)較佳實(shí)施例來(lái)描述的,但本領(lǐng)域中普通技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到,在不偏離本發(fā)明的精神和范圍的情況下,也可以在形式上和細(xì)節(jié)上作各種變更。本發(fā)明可以采用任何一種類型的浮動(dòng)塊設(shè)計(jì)。另外,可以考慮凸起部分的位置,以避免微粒的污染影響或在鄰近的臺(tái)面上積累起來(lái)。
權(quán)利要求
1.一種光盤存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,它包含光盤,它具有一個(gè)數(shù)據(jù)面;驅(qū)動(dòng)器臂,它具有一個(gè)可有選擇地徑向位于靠近所述數(shù)據(jù)面的末端;傳感元件,它包括一個(gè)光源;控制器,它與驅(qū)動(dòng)器臂和傳感元件耦合,用來(lái)對(duì)驅(qū)動(dòng)器臂定位,并用來(lái)通過(guò)傳感元件傳感數(shù)據(jù)面上的信息;以及浮動(dòng)塊,它與驅(qū)動(dòng)器臂的末端耦合,并承載所述傳感元件,所述浮動(dòng)塊具有一個(gè)頂面和一個(gè)光學(xué)臺(tái)面,它從一個(gè)氣墊面延伸,當(dāng)所述盤旋轉(zhuǎn)時(shí),適合于靠近所述數(shù)據(jù)面運(yùn)動(dòng),所述氣墊面還包括一個(gè)凸起部分,它的位置比所述光學(xué)臺(tái)面更靠近所述數(shù)據(jù)面,從而所述凸起部分防止了所述數(shù)據(jù)面和所述光學(xué)臺(tái)面之間的接觸。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述凸起部分包含一個(gè)氣墊元件,使得所述浮動(dòng)塊呈一個(gè)坡度,從而所述浮動(dòng)塊的前面部分與所述數(shù)據(jù)面之間的距離大于所述浮動(dòng)塊的后面部分與所述上面之間的距離,并且所述臺(tái)面與所述浮動(dòng)塊的后面部分隔開。
3.如權(quán)利要求2所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述氣墊元件包含一個(gè)軌道。
4.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述氣墊表面在靠近所述浮動(dòng)塊的前沿的地方包括一個(gè)軌道,而所述臺(tái)面的位置靠近所述浮動(dòng)塊的后沿,并且所述凸起部分的位置位于所述臺(tái)面和所述軌道之間。
5.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述凸起部分的位置靠近所述氣墊表面的前沿,所述氣墊表面在靠近所述浮動(dòng)塊的后沿的地方還包括一個(gè)后沿凸起部分,并且所述臺(tái)面位于其間。
6.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,它還包括至少三個(gè)承載在與所述臺(tái)面隔開的氣墊表面上的凸起部分。
7.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述凸起部分提供一個(gè)氣墊面,并起所述浮動(dòng)塊的所述氣墊作用。
8.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述凸起部分基本上不起所述浮動(dòng)塊的氣墊作用。
9.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述凸起部分包括在所述浮動(dòng)塊的任一側(cè)面上隔開的第一和第二軌道,并且所述臺(tái)面位于其間。
10.如權(quán)利要求9所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述軌道使得所述浮動(dòng)塊成一個(gè)坡度,從而增加了所述臺(tái)面與所述數(shù)據(jù)面之間的間隔。
11.如權(quán)利要求9所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,它還包括一個(gè)位置沿所述浮動(dòng)塊的后沿方向的后沿墊層,使得在所述浮動(dòng)塊的后沿與所述數(shù)據(jù)面之間保持最小間隔s。
12.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,它包括一個(gè)繞所述臺(tái)面延伸的線圈。
13.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述光源包括一個(gè)聚焦機(jī)構(gòu),并且所述臺(tái)面包含一部分聚焦機(jī)構(gòu)。
14.如權(quán)利要求13所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述聚焦機(jī)構(gòu)包括固體浸沒(méi)透鏡。
15.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述臺(tái)面充分靠近所述數(shù)據(jù)面,使得能夠通過(guò)一個(gè)光學(xué)近場(chǎng)與所述數(shù)據(jù)面耦合。
16.如權(quán)利要求1所述的光盤設(shè)計(jì)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述凸起部分與所述數(shù)據(jù)面接觸,而使所述凸起部分磨損。
17.如權(quán)利要求16所述的光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述凸起部分的高度以及所述凸起部分的磨損速率使得在所述光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)的壽命內(nèi)對(duì)所述凸起部分的磨損不會(huì)引起所述臺(tái)面與所述數(shù)據(jù)面的接觸。
18.如權(quán)利要求1所述的光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述凸起部分的位置使得碎削偏離所述臺(tái)面。
19.如權(quán)利要求1所述的光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,所述凸起部分是通過(guò)掩膜與刻蝕處理過(guò)程而形成的。
20.如權(quán)利要求1所述的光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于,光通過(guò)光纖與所述臺(tái)面耦合。
全文摘要
一種光盤數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)(10),它包括一個(gè)具有數(shù)據(jù)面的光盤(12)。具有末端的驅(qū)動(dòng)器臂(24)可以有選擇地徑向位于靠近數(shù)據(jù)面的位置上。傳感元件(30)承載在一個(gè)浮動(dòng)塊(20)上,它與驅(qū)動(dòng)器臂(24)的末端耦合。浮動(dòng)塊(20)包括一個(gè)氣墊面(56),而傳感元件(30)包括一個(gè)靠近氣墊面(56)的光纖臺(tái)面。光纖臺(tái)面(54)與數(shù)據(jù)面隔開,從而防止了數(shù)據(jù)面與臺(tái)面結(jié)構(gòu)(54)之間的接觸。
文檔編號(hào)G11B17/08GK1269047SQ97182256
公開日2000年10月4日 申請(qǐng)日期1997年10月7日 優(yōu)先權(quán)日1997年6月20日
發(fā)明者Z·E·布塔格歐 申請(qǐng)人:西加特技術(shù)有限公司
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