專利名稱：浮動型磁頭浮動塊及浮動型磁頭裝置以及磁盤驅(qū)動裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及裝有對磁盤或磁性光盤等記錄信息信號的圓盤形記錄媒體進行信息信號記錄和(或)再生的磁頭等變換器的浮動型磁頭浮動塊及采用了該磁頭浮動塊的浮動型磁頭裝置以及采用了該磁頭裝置的磁盤驅(qū)動裝置。
背景技術(shù)：
以往，作為計算機等的信息處理裝置的內(nèi)部存儲設(shè)備或計算機的外部存儲設(shè)備，采用著在記錄媒體中使用具有剛性的磁盤即硬盤的磁盤驅(qū)動裝置。
這種磁盤驅(qū)動裝置，如圖1所示，備有在主軸電機帶動下以恒定角速度沿圖1中箭頭R1方向旋轉(zhuǎn)操作的磁盤1及在內(nèi)外周之間對該磁盤1的信號區(qū)域進行掃描的磁頭裝置2。該磁頭裝置2的結(jié)構(gòu)，如圖2所示，是將磁頭4整體安裝于在磁盤1的信號記錄區(qū)域上移動的磁頭浮動塊3上。磁頭裝置2支承在以支軸為中心在音圈電機的帶動下沿圖1中箭頭X1方向轉(zhuǎn)動操作的轉(zhuǎn)動臂5的前端側(cè)。即，隨著轉(zhuǎn)動臂5在音圈電機驅(qū)動下轉(zhuǎn)動操作，磁頭裝置2在旋轉(zhuǎn)操作著的磁盤1的內(nèi)外周之間沿圖1中箭頭X1方向移動操作，對磁盤1的記錄磁道進行規(guī)定的信息信號的記錄再生。
另外，磁頭浮動塊3通過可在相對于磁盤1的表面接近和抬離的方向位移的彈性支承構(gòu)件支承在轉(zhuǎn)動臂5的前端。
同時，如圖2所示，設(shè)有磁頭4的磁頭浮動塊3，在與磁盤1相對的底面兩側(cè)，形成在與磁盤1的表面之間構(gòu)成氣墊的一對側(cè)軌6a、6b，并在該側(cè)軌6a、6b之間形成凹部7。
該側(cè)軌6a、6b的形成方式是，當(dāng)磁頭裝置2與磁盤1相對時，使其大致與在磁盤1上形成的磁道的切線方向平行。在側(cè)軌6a、6b的與磁盤1旋轉(zhuǎn)方向相對的空氣流入端側(cè)，形成斜面部8a、8b。
此外，磁頭4設(shè)置在與磁頭浮動塊3的空氣流入側(cè)相對的空氣流出側(cè)的端部。
按如上所述方式構(gòu)成的磁頭浮動塊3，如圖1所示，當(dāng)接近旋轉(zhuǎn)操作著的磁盤1的表面時，在隨著磁盤1的旋轉(zhuǎn)而流入側(cè)軌6a、6b與磁盤1的表面之間的空氣流產(chǎn)生的浮力作用下，從磁盤1的表面浮起。隨著磁頭浮動塊3從磁盤1的表面浮起，如圖3所示，安裝在磁頭浮動塊3上的磁頭4也從磁盤1的表面浮起，與磁盤1的表面之間保持微小間隔的浮起量d，并在磁盤1上移動。這樣，由于磁頭浮動塊3及磁頭4是在從磁盤1的表面浮起的狀態(tài)下在磁盤1上移動，所以能防止磁盤1及磁頭4的磨損或損傷。
采用了浮動型磁頭的磁盤驅(qū)動裝置，其磁頭4從磁盤1的浮起量大致為0.1μ左右。
由于采用按如上方式構(gòu)成的浮動型磁頭浮動塊3，如圖3所示，即使是磁盤1的表面存在一些凹凸不平時，也能吸收此凹凸差，使磁頭浮動塊3及磁頭4從磁盤1的浮起量大致保持恒定。
然而，在上述浮動型磁頭浮動塊3中，在對磁盤1加有沖擊的情況下，或當(dāng)磁盤1表面的凹凸或起伏很大時，就耽心從磁盤1的浮起量d發(fā)生較大的變化。
另外，當(dāng)磁盤1以恒定角速度旋轉(zhuǎn)時，在內(nèi)外周上的線速度是變化的。即，隨著從內(nèi)周側(cè)到外周側(cè)，磁盤1的線速度逐漸加快。因此，磁頭浮動塊3從磁盤1的浮起量d，在磁盤1的內(nèi)周側(cè)及外周側(cè)有很大變化。即，磁頭浮動塊3從磁盤1的浮起量d，隨著線速度而變化，產(chǎn)生與線速度對應(yīng)的浮起量變化。
與此相反，當(dāng)轉(zhuǎn)動臂5以支軸8為中心在磁盤1的表面上沿圖4中箭頭X1的方向轉(zhuǎn)動時，安裝在轉(zhuǎn)動臂5前端的磁頭浮動塊3不是在磁盤1的半徑方向作直線移動，而是以轉(zhuǎn)動臂5的支軸8為中心沿圓弧軌跡移動。因此，磁頭浮動塊3，如圖5所示，其中心線P1從磁盤1的磁道T1的切線方向S1偏離而產(chǎn)生斜交角θs。該斜交角θs隨著離磁盤1中心的位置而變化。即，如斜交角θs變大，則與在磁盤1表面與磁頭浮動塊3之間的動壓浮力相對的變化效率降低，而使浮起量d變小。
根據(jù)上述各點，在線速度變大的磁盤1外周側(cè)增大的磁頭浮動塊3的浮起量，將因斜交角θs隨著磁頭浮動塊3向磁盤1外周側(cè)移動的變大而減小。在這種情況下，因磁盤1內(nèi)外周的線速度變化而引起的磁頭浮動塊3的浮起量d的變化，隨著線速度的變化而變化；但因斜交角θs變化而引起的浮起量d的變化，形成一種在磁盤1的內(nèi)外周上變大而在磁盤1半徑方向的中央部變小的二次非線性變化。因此，只要采用結(jié)構(gòu)如圖2所示的磁頭浮動塊3，則要想在磁盤1的整個半徑方向范圍上取得線速度和斜交角θs的平衡，將是很困難的。
因此，由于以恒定角速度旋轉(zhuǎn)的磁盤1內(nèi)外周間的線速度變化引起的磁頭浮動塊3的浮起量d的變化與斜交角θs隨磁頭浮動塊3移動的變化引起的浮起量d的變化的相互作用，使磁頭4與磁盤1之間的間隔不能保持恒定。其結(jié)果是，不能精確地控制由磁頭4施加于磁盤1的磁場強度，使信息信號的記錄再生特性惡化，有可能使信息信號的記錄和(或)再生不能精確地進行。
作為這種浮動型磁頭浮動塊，現(xiàn)有特公昭63-56635公報所述的形式。
發(fā)明的公開因此，本發(fā)明的目的是提供一種能抑制因旋轉(zhuǎn)操作的圓盤形記錄媒體的速度變化或相對于圓盤形記錄媒體在內(nèi)外周間的移動位置的變化而引起的相對于圓盤形記錄媒體的浮起量的變化、并能保證恒定浮起量的浮動型磁頭浮動塊及采用該磁頭浮動塊的浮動型磁頭裝置。
本發(fā)明的另一目的是提供一種能以良好的記錄和(或)再生特性進行信息信號的記錄和(或)再生的浮動型磁頭裝置及采用該磁頭裝置的磁盤驅(qū)動裝置。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提出的浮動型磁頭浮動塊備有空氣潤滑面，在與圓盤形記錄媒體相對的面上形成；斜面部，設(shè)在空氣潤滑面的空氣流入端側(cè)；凹入部，設(shè)在沿著從空氣潤滑面的上述空氣流入端側(cè)向上述空氣流出端側(cè)方向的中心線上，同時用于產(chǎn)生使空氣流入端側(cè)閉塞且使空氣流出端側(cè)敞開的負(fù)壓，并具有一定深度；槽部，沿著從凹入部向空氣潤滑面的空氣流入端側(cè)的端部延伸的中心線形成，并按比分割空氣潤滑面的凹入部窄的寬度、以與凹入部相同的深度形成。
具有這種結(jié)構(gòu)的磁頭浮動塊，借助于在空氣潤滑面與旋轉(zhuǎn)操作的圓盤形記錄媒體的表面之間產(chǎn)生的正壓及由凹入部產(chǎn)生的負(fù)壓，以穩(wěn)定的狀態(tài)并保持恒定的浮起量從圓盤記錄媒體的表面浮起。而當(dāng)磁頭浮動塊和與該磁頭浮動塊相對的圓盤形記錄媒體的相對速度變化時，因正壓和負(fù)壓彼此沿相同方向變化，所以正壓的變化被負(fù)壓的變化抵消，因而使磁頭浮動塊從圓盤形記錄媒體的浮起量的變化減小。
另外，將磁頭安裝在按如上方式形成的磁頭浮動塊上而構(gòu)成浮動型磁頭裝置。
這時，將磁頭安裝在磁頭浮動塊的空氣流出端側(cè)的端面上。
在磁頭浮動塊上安裝磁頭后構(gòu)成的浮動型磁頭裝置，在磁盤驅(qū)動裝置中使用。
這時，磁頭在磁頭浮動塊的空氣流出端側(cè)的端面上的位置，應(yīng)安裝在偏向圓盤形記錄媒體外周側(cè)的位置。通過將磁頭安裝在這樣的位置，可使該磁頭能掃描到圓盤形記錄媒體的外周側(cè)，所以能使圓盤形記錄媒體的記錄密度提高。
本發(fā)明的其他目的及由本發(fā)明獲得的效益，從以下參照附圖對實施例進行的說明將看得更加清楚。
附圖的簡單說明圖1是表示磁盤驅(qū)動裝置的磁盤與支承磁頭浮動塊的轉(zhuǎn)動臂的關(guān)系的斜視圖。
圖2是表示現(xiàn)有的浮動型磁頭浮動塊的斜視圖。
圖3是表示浮動型磁頭浮動塊從圓盤形記錄媒體上浮起的狀態(tài)的側(cè)視圖。
圖4是表示支承磁頭浮動塊的轉(zhuǎn)動臂轉(zhuǎn)動并在磁盤的信號記錄區(qū)域掃描的狀態(tài)的俯視圖。
圖5是表示當(dāng)掃描磁盤信號記錄區(qū)域時磁頭浮動塊的斜交角的俯視圖。
圖6是表示采用本發(fā)明的浮動型磁頭浮動塊的磁盤驅(qū)動裝置的斜視圖。
圖7是表示本發(fā)明的浮動型磁頭浮動塊的底面?zhèn)鹊男币晥D。
圖8是上述磁頭浮動塊的縱剖面圖。
圖9是表示相對于產(chǎn)生斜交角時的磁頭浮動塊的空氣流狀態(tài)的仰視圖。
圖10是表示本發(fā)明的磁頭浮動塊的另一實施例的仰視圖。
圖11是表示本發(fā)明的磁頭浮動塊的另一實施例的仰視圖。
圖12是表示本發(fā)明的磁頭浮動塊的另一實施例的底面?zhèn)鹊男币晥D。
圖13是上述磁頭浮動塊的仰視圖。
圖14是上述磁頭浮動塊的縱剖面圖。
圖15是表示將本發(fā)明的磁頭浮動塊安裝在磁盤驅(qū)動裝置內(nèi)后的狀態(tài)的俯視圖。
圖16是表示在將圖13的磁頭浮動塊安裝在磁盤驅(qū)動裝置內(nèi)并驅(qū)動時的縱向壓力變化的特性圖。
圖17是表示在將圖13的磁頭浮動塊安裝在磁盤驅(qū)動裝置內(nèi)并驅(qū)動時的空氣流入端側(cè)壓力變化的特性圖。
圖18是同樣地表示空氣流入端側(cè)壓力變化的特性圖。
圖19是表示分別將本發(fā)明的磁頭浮動塊和現(xiàn)有的磁頭浮動塊安裝在磁盤驅(qū)動裝置內(nèi)并驅(qū)動時的浮起量變化的特性圖。
圖20是上述現(xiàn)有的磁頭浮動塊的仰視圖。
圖21是上述磁頭浮動塊的側(cè)視圖。
圖22是表示在圖12所示的磁頭浮動塊中產(chǎn)生斜交角時的空氣流狀態(tài)的仰視圖。
圖23是表示本發(fā)明的磁頭浮動塊的另一實施例的仰視圖。
圖24是表示本發(fā)明的磁頭浮動塊的另一實施例的仰視圖。
圖25是表示本發(fā)明的磁頭浮動塊的另一實施例的仰視圖。
圖26是表示本發(fā)明的磁頭浮動塊的另一實施例的仰視圖。
實施發(fā)明用的最佳形態(tài)以下，參照


本發(fā)明的具體實施例。
首先，說明采用本發(fā)明的浮動型磁頭浮動塊的磁盤驅(qū)動裝置。該磁盤驅(qū)動裝置是采用具有剛性的磁盤即硬盤作為記錄媒體的磁盤驅(qū)動裝置，如圖6所示，具有用鋁合金等的金屬板形成的支承基板11，在該支承基板11上配置著由圖中未示出的主軸電機帶動而旋轉(zhuǎn)操作的多片硬盤即磁盤12。多片磁盤12同軸地層疊安裝在主軸電機的主軸上，與主軸一起以恒定的角速度沿圖6中箭頭R2的方向旋轉(zhuǎn)操作。此外，這里采用的磁盤12在兩面都設(shè)有信號記錄層。
另外，在支承基板11上還配置著將基端部橫軸支承在豎立在該支承基板11上的支軸13上并以該支軸13為中心轉(zhuǎn)動操作的轉(zhuǎn)動臂14。該轉(zhuǎn)動臂14具有向各磁盤12的表面伸出的多個臂部15，在各臂部部15的前端側(cè)聯(lián)結(jié)可在相對于磁盤12的表面接近和抬離的方向彈性位移的簧片16，在該簧片16的前端側(cè)安裝著如后文所述的裝有磁頭的浮動型磁頭浮動塊31。各磁頭浮動塊31在簧片16前端側(cè)的安裝方式是使其與各磁盤12的表面相對。
并且，在轉(zhuǎn)動臂14的基端側(cè)安裝著構(gòu)成音圈電機18的音圈19。此外，在支承基板11上，與音圈19相對地設(shè)置著一對與音圈19一起構(gòu)成音圈電機18的磁鐵20、21。該磁鐵20、21的配置方式是夾在設(shè)在支承基板11上的一對軛鐵22、23之間。這時，如向音圈19供給驅(qū)動電流，則轉(zhuǎn)動臂14將以支軸13為中心沿圖6中箭頭X2所示的磁盤12的內(nèi)外周之間的方向轉(zhuǎn)動操作。
其次，具體地說明安裝在聯(lián)結(jié)于轉(zhuǎn)動臂14各臂部15前端側(cè)的片簧16的前端側(cè)、并與各磁盤12的表面相對的本發(fā)明的浮動型磁頭浮動塊。
本發(fā)明的浮動型磁頭浮動塊31，如圖7所示，整體按扁平的正方體形成。當(dāng)把該磁頭浮動塊31安裝在轉(zhuǎn)動臂14上時，在與磁盤12的形成信號記錄區(qū)域的表面相對的底面?zhèn)龋O(shè)有按平坦面形成的空氣潤滑面32。該空氣潤滑面32構(gòu)成與旋轉(zhuǎn)的磁盤12表面相接觸的空氣流的氣墊。此外，在磁頭浮動塊31的底面?zhèn)?，在將該磁頭浮動塊31安裝在轉(zhuǎn)動臂14上時，在與磁盤12旋轉(zhuǎn)方向相對的空氣流入端側(cè)的角部位置，形成斜面部33。該斜面部33的作用是，當(dāng)磁盤12開始旋轉(zhuǎn)時，使空氣平滑地流入空氣潤滑面32與磁盤12的表面之間。如圖8所示，斜面部33加工成使其相對于空氣潤滑面32成0.85°左右的傾斜角θ1。
在磁頭浮動塊31的形成了空氣潤滑面32的底面?zhèn)?，設(shè)有將平坦的空氣潤滑面32切去一部分后形成的凹入部34。該凹入部34位于磁頭浮動塊31寬度方向的中央部，從與形成有斜面部33的空氣流入端相對的相反一側(cè)的空氣流出端側(cè)延伸到磁頭浮動塊31的中央部附近，按長方形形成。凹入部34以蝕刻加工等加工方法形成，使其具有4μm左右的固定深度。
另外，從凹入部34內(nèi)方側(cè)的位于空氣流入端側(cè)的邊緣延伸到空氣流入端側(cè)的形成有斜面部33的位置，在磁頭浮動塊31寬度方向的中央部位置形成比凹入部34窄的槽部35。該槽部35加工成具有與凹入部34相同的深度，以蝕刻等加工方法與凹入部34同時形成。
這里，因凹入部34是從空氣流出端側(cè)延伸到磁頭浮動塊31的中央部附近形成的，所以如圖7所示形成使空氣流出端側(cè)敞開而使空氣流入端側(cè)閉塞的形狀。此外，如圖7和圖8所示，槽部35也形成使空氣流出端側(cè)敞開而使空氣流入端側(cè)由斜面部33閉塞的狀態(tài)。
由于凹入部34及槽部35位于磁頭浮動塊31寬度方向的中央部并且是從空氣流出端側(cè)延伸到空氣流入端側(cè)形成的，所以將空氣潤滑面32分割成左右2個區(qū)域，其一邊構(gòu)成第1導(dǎo)軌部32a，另一邊作為第2導(dǎo)軌部32b。
將磁頭36安裝在磁頭浮動塊31的空氣流出端側(cè)的端面上，構(gòu)成磁頭裝置。如圖7所示，該磁頭36安裝在偏向形成有第1導(dǎo)軌部32a的一個側(cè)邊的位置。即，當(dāng)把磁頭浮動塊31安裝成轉(zhuǎn)動臂14上時，磁頭36安裝在使其位于磁盤12的外周側(cè)。這樣，通過將磁頭36安裝成使其位于磁盤12的外周側(cè)，無須使磁頭浮動塊31伸到磁盤12的外周側(cè)就能將磁頭36移動到磁盤12的外周側(cè)，所以可在實現(xiàn)磁盤驅(qū)動裝置小型化的同時，實現(xiàn)磁盤12的信息信號的大容量化。
按如上方式形成的磁頭浮動塊31，如上所述安裝在磁盤驅(qū)動裝置的轉(zhuǎn)動臂14上，在配置成與磁盤12的表面接觸或接近的狀態(tài)下，如磁盤12開始旋轉(zhuǎn)，則空氣從空氣流入端側(cè)流入到磁頭浮動塊31的空氣潤滑面32與磁盤12的表面之間，在空氣潤滑面32與磁盤12的表面之間產(chǎn)生壓力大于大氣壓的空氣壓即正壓。
另外，在將空氣潤滑面32的一部分切去后形成的凹入部34的部分中，產(chǎn)生比空氣潤滑面32與磁盤12的表面之間的壓力小的壓力即負(fù)壓。即凹入部34由于形成使空氣流入端側(cè)敞開而使空氣流出端側(cè)閉塞的形狀，所以由流入空氣潤滑面32與磁盤12的表面之間的狹小空間內(nèi)的空氣流在該凹入部34內(nèi)形成負(fù)壓狀態(tài)。
因此，磁頭浮動塊31受到由在空氣潤滑面32與磁盤12的表面之間產(chǎn)生的正壓如在凹入部34與磁盤12的表面之間產(chǎn)生的負(fù)壓之差形成的浮力，而從磁盤12的表面浮起。這時，安裝在磁頭浮動塊31的空氣流出端側(cè)的磁頭36也從磁盤12的表面浮起。在這種情況下，磁頭浮動塊31和磁頭36，一面在音圈電機18的帶動下轉(zhuǎn)動操作，一面在從磁盤12的表面離開一定距離的狀態(tài)下在內(nèi)外周之間對磁盤12的表面進行掃描。這樣，磁頭浮動塊31和磁頭36與旋轉(zhuǎn)操作的磁盤12的表面不發(fā)生接觸而是保持一定的間隔移動操作，所以能夠防止因磁頭浮動塊31和磁頭36與磁盤12的表面接觸而造成的磨損或損傷。
同時，在如圖7和圖8所示的磁頭浮動塊31中，因凹入部34是從空氣流出端側(cè)延伸到磁頭浮動塊31的大致中央部形成的，所以使得從磁頭浮動塊31的大致中央部延伸到空氣流出側(cè)的區(qū)域構(gòu)成在磁頭浮動塊31的整個寬度上延伸的空氣潤滑面32。由于在空氣流出端側(cè)形成具有大面積的空氣潤滑面32，所以能增大因流入該空氣潤滑面32與磁盤12表面之間的空氣流產(chǎn)生的浮力。即，由于可以增大空氣潤滑面32與磁盤12表面的相對面積，因而能使在空氣潤滑面32與磁盤12表面之間產(chǎn)生的正壓增大，所以，即使是在磁盤12與磁頭浮動塊31的相對速度低的情況下，仍能獲得比較大的正壓。此外，即使在凹入部34中產(chǎn)生負(fù)壓，但因產(chǎn)生著大的正壓，所以仍能得到大的浮力，能夠?qū)⒋蓬^浮動塊31和磁頭36可靠地從磁盤12的表面浮起。
另外，當(dāng)磁頭浮動塊31的位置在以一定角速度旋轉(zhuǎn)操作的磁盤12的半徑方向上移動、因而使磁盤12相對于磁頭浮動塊31的線速度發(fā)生變化時，與該線速度的變化相對應(yīng)，在空氣潤滑面32與磁盤12表面之間產(chǎn)生的正壓及在凹入部34部分中產(chǎn)生的負(fù)壓也隨之變化。這時的正壓和負(fù)壓彼此按相同方向變化。即，當(dāng)磁頭浮動塊31向線速度低的磁盤12的內(nèi)周側(cè)移動時，正壓變低，但負(fù)壓也隨著正壓的變化而發(fā)生變低的變化，而當(dāng)磁頭浮動塊31向線速度大的磁盤12的外周側(cè)移動時，正壓變高，但負(fù)壓也隨著正壓的變化而變高。因此，在磁頭浮動塊31和磁頭36移動到以恒定角速度旋轉(zhuǎn)操作的磁盤12的內(nèi)外周間的任何位置時，都能抑制從磁盤12的表面上的浮起量的變化，無論移動到磁盤12的內(nèi)外周間的任何位置，都能保持大致恒定的浮起量。
另外，如上所述，在空氣流入端側(cè)形成具有大面積的空氣潤滑面32，可在其與磁盤12表面之間產(chǎn)生大的正壓。因此，可以改變磁頭浮動塊31相對于磁盤12的內(nèi)外周間的位置，并如圖9所示，從磁頭浮動塊31的空氣流入側(cè)延伸到空氣流出側(cè)的中心線P2與磁盤12的記錄磁道的切線S2所成的角度即斜交角θs發(fā)生變化、因而使流入的空氣流E1相對于磁頭浮動塊31的方向相對于磁頭浮動塊31的中心線P2與斜交角θs對應(yīng)地發(fā)生傾斜的情況下，仍能產(chǎn)生足夠大的正壓。因此，可以減小因斜交角θs的變化引起的磁頭浮動塊31從磁盤12上的浮起量的變化，無論移動到磁盤12的內(nèi)外周間的任何位置，都能保持恒定的浮起量。
另外，在磁頭浮動塊31的形成空氣潤滑面32的底面?zhèn)?，設(shè)有將該空氣潤滑面32在寬度方向上分成2半并形成第1及第2導(dǎo)軌部32a、32b的槽部35。通過設(shè)置該槽部35，可在從凹入部34延伸到槽部35的兩側(cè)形成的第1及第2側(cè)軌部32a、32b上由空氣流分別產(chǎn)生獨立的正壓，并由該正壓分別獨立產(chǎn)生浮力。因此，在分別與磁盤12的內(nèi)周側(cè)及外周側(cè)相對的第1及第2導(dǎo)軌部32a、32b部分上，可產(chǎn)生與磁盤12的內(nèi)周側(cè)及外周側(cè)的線速度相應(yīng)的正壓。
在這種情況下，由于磁頭浮動塊31相對于記錄磁道的斜交角θs發(fā)生變化，使空氣流E1如圖9所示相對于磁頭浮動塊31傾斜流入，并對該磁頭浮動塊31產(chǎn)生以空氣流E1的流入方向為中心的浮力，因而磁頭浮動塊31受到使其以中心線P2為中心轉(zhuǎn)動的力，在第1及第2導(dǎo)軌部32a、32b上產(chǎn)生大小不同的正壓。這時，接近磁盤12表面的第1或第2導(dǎo)軌部32a、32b上產(chǎn)生的正壓變大，因而產(chǎn)生大的浮力，而從磁盤12表面抬離的第1或第2導(dǎo)軌部32a、32b上產(chǎn)生的正壓比接近磁盤12的一側(cè)小，因而產(chǎn)生小的浮力。其結(jié)果是，即使在磁頭浮動塊31上施加了使其轉(zhuǎn)動的力，由于產(chǎn)生與第1及第2側(cè)軌部32a、32b側(cè)的浮力相對應(yīng)的正壓，所以能抑制磁頭浮動塊31的轉(zhuǎn)動，可使空氣潤滑面32的全部表面均勻地從磁盤12的表面浮起。因此，即使是將磁頭36安裝在偏移到第1導(dǎo)軌部32a側(cè)的位置，仍能將磁頭36從磁盤12上的浮起量變化抑制到很小，因而能對所要求的磁道精確地進行信息信號的記錄和(或)再生。
上述磁頭浮動塊31，從空氣流出端側(cè)延伸到縱向大致中央部，形成凹入部34，但凹入部34的縱向長度可根據(jù)空氣潤滑面32的正壓與凹入部34的負(fù)壓的平衡進行適當(dāng)調(diào)整。此外，槽部35的寬度也同樣可根據(jù)正壓與負(fù)壓的平衡適當(dāng)選定。
圖10所示的磁頭浮動塊131的凹入部134從大致中央部向空氣流入側(cè)延伸形成，與在上述的圖7和圖8所示磁頭浮動塊31上形成的凹入部34的長度L1相比，使其長度L2加長。此外，槽部135的寬度W2比圖7和圖8所示磁頭浮動塊31的槽部35寬度W1要寬。
圖10所示的磁頭浮動塊131，因其凹入部134形成得較大，空氣潤滑面13的面積變小，所以由流入第1及第2導(dǎo)軌部132a、132b與磁盤12的表面之間的空氣流產(chǎn)生的正壓減小，凹入部134產(chǎn)生的負(fù)壓也變小，因而浮力也變小，磁頭浮動塊31及磁頭36從磁盤12的表面上的浮起量也變小。
另外，圖11所示的磁頭浮動塊231，是使凹入部234的長度與圖7和圖8所示磁頭浮動塊31上形成的凹入部34的長度L1相同，使槽部235的寬度W2與圖10所示磁頭浮動塊131的槽部35寬度W2相同。
按圖11所示形狀形成的磁頭浮動塊231，由于設(shè)置較寬的槽部235，使構(gòu)成空氣潤滑面232的第1及第2導(dǎo)軌部232a、232b的面積減小，所以僅產(chǎn)生較小的浮力，磁頭浮動塊231及磁頭36從磁盤12的表面上的浮起量設(shè)定得較小。
其次，說明本發(fā)明的浮動型磁頭浮動塊的另外的實施例。
該磁頭浮動塊41，與上述各磁頭浮動塊相同，也是整體按扁平的正方體形成。當(dāng)把該磁頭浮動塊41也安裝在磁盤驅(qū)動裝置的轉(zhuǎn)動臂14上時，在與磁盤12的形成信號記錄區(qū)域的表面相對的底面?zhèn)龋O(shè)有按平坦面形成的空氣潤滑面42。該空氣潤滑面42構(gòu)成與旋轉(zhuǎn)的磁盤12表面相接觸的空氣流的氣墊。此外，在磁頭浮動塊41的底面?zhèn)龋趯⒃摯蓬^浮動塊41安裝在轉(zhuǎn)動臂14上時在位于與磁盤12旋轉(zhuǎn)方向相對的空氣流入端側(cè)的角部，形成斜面部43。該斜面部43的作用是，當(dāng)磁盤12開始旋轉(zhuǎn)時，使空氣平滑地流入空氣潤滑面42與磁盤12的表面之間。
在磁頭浮動塊41的形成了空氣潤滑面42的底面?zhèn)?，設(shè)有將平坦的空氣潤滑面42切去一部分后形成的凹入部44。該凹入部44位于磁頭浮動塊41寬度方向的中央部，從與形成有斜面部43的空氣流入端側(cè)相對的相反一側(cè)的空氣流出端側(cè)延伸到磁頭浮動塊41的中央部附近，按長方形形成。這里形成的凹入部44，如圖12和圖13所示，形成其寬度從空氣流入端側(cè)向空氣流出端側(cè)逐漸變窄的梯形形狀。此外，凹入部44以磁頭浮動塊41的縱向的中心為中心，形成左右對稱的形狀。
另外，從凹入部44里側(cè)的位于空氣流入端側(cè)的邊緣延伸到空氣流入端側(cè)的形成有斜面部43的位置，在磁頭浮動塊41寬度方向的中央部位置形成具有寬度比凹入部44窄的槽部45。該槽部45加工成具有與凹入部44相同的深度，以蝕刻等加工方法與凹入部44同時形成。
這里，因凹入部44是從空氣流出端側(cè)延伸到磁頭浮動塊41的中央部附近形成的，所以如圖12和圖13所示，形成使空氣流出端側(cè)敞開而使空氣流入端側(cè)閉塞的形狀。
此外，如圖12和圖13所示，槽部45也形成使空氣流出端側(cè)敞開而使空氣流入端側(cè)由斜面部43閉塞的狀態(tài)。
由于凹入部44及槽部45位于磁頭浮動塊41寬度方向的中央部并且是從空氣流出端側(cè)延伸到空氣流入端側(cè)形成的，所以將空氣潤滑面42分割成左右2個區(qū)域，其一邊構(gòu)成第1導(dǎo)軌部42a，另一邊作為第2導(dǎo)軌部42b。
本實施例的磁頭浮動塊41，如圖13和圖14所示，按長度L3為1.2mm、寬度W3為1.0mm、厚度D3為0.3mm的正方體形成。此外，斜面部43在磁頭浮動塊41的整個寬度上按0.12mmm的長度T3形成。該斜面部43，如圖14所示，與上述磁頭浮動塊31相同，加工成使其相對于空氣潤滑面42成0.85°左右的傾斜角θ3。
凹入部44形成尺寸如下的梯形形狀，即長度L4為0.6mm，狹窄的空氣流出端側(cè)的寬度W4為0.5mm，較寬的位于磁頭浮動塊41里側(cè)的空氣流入端側(cè)的寬度W5為0.7mm。此外，與凹入部44連通的槽部45，按0.1mm的寬度W6、形成具有從凹入部44的空氣流入端側(cè)到斜面部43的長度。
將磁頭46安裝在該磁頭浮動塊41的空氣流出端側(cè)的端面上，構(gòu)成磁頭裝置。圖12和圖13所示，該磁頭46安裝在偏向形成有第1導(dǎo)軌部42a的一個側(cè)邊的位置。即，當(dāng)把磁頭浮動塊41安裝在磁盤驅(qū)動裝置的轉(zhuǎn)動臂14上時，磁頭46安裝成使其位于磁盤12的外周側(cè)。
在將按如上方式形成的磁頭浮動塊41安裝在這樣的磁盤驅(qū)動裝置上時，例如，如圖15所示，從轉(zhuǎn)動臂14的轉(zhuǎn)動中心即支軸13到在主軸電機帶動下旋轉(zhuǎn)操作的磁盤12旋轉(zhuǎn)中心的軸間距離L5為30.0mm，轉(zhuǎn)動臂14的臂長L6、即從作為轉(zhuǎn)動臂14的轉(zhuǎn)動中心的支軸13到安裝在該轉(zhuǎn)動臂14前端側(cè)的磁頭浮動塊41的中心的距離為28.0mm，使安裝在磁頭浮動塊41上的磁頭46在磁盤12半徑方向上的掃描范圍即查找半徑為10.0mm至22.0mm時，利用計算機將其壓力變化和浮起量的變化進行的模擬結(jié)果如下所示。即，準(zhǔn)備好上述條件的磁盤驅(qū)動裝置，用計算機計算使磁盤12實際旋轉(zhuǎn)操作并使磁頭浮動塊41在磁盤12的內(nèi)外周間移動時的壓力變化及浮起量的變化。
作為其結(jié)果，由圖13中從磁頭浮動塊41的空氣流入端沿縱向延伸到空氣流出端的箭頭X3方向上的壓力變化，得到了圖16中以曲線A示出的壓力分布曲線。
另外，對于在磁頭浮動塊41的寬度方向即圖13中箭頭Y3方向上的壓力變化，由圖13中箭頭B-B線上的距離磁頭浮動塊41的空氣流入端0.3mm的位置、即橫斷槽部45的位置上的壓力變化，得到了圖17中以曲線B示出的壓力分布曲線。另外，對于在磁頭浮動塊41的寬度方向即圖13中箭頭Y3方向上的壓力變化，還由圖13中箭頭C-C線上的距離磁頭浮動塊41的空氣流出端0.3mm的位置、即橫斷凹入部44的位置上的壓力變化，得到了圖18中以曲線C示出的壓力分布曲線。
從該圖17和圖18的結(jié)果可以看出，因凹入部44的存在產(chǎn)生負(fù)壓，因槽部45的存在將正壓分成左右兩邊。
另外，因采用上述磁盤驅(qū)動裝置的模擬，磁頭浮動塊41從磁盤12表面的浮起量變化，得到了以圖19中曲線D示出的分布曲線。從該圖19所示的結(jié)果可以看出，磁頭浮動塊41從磁盤12表面的浮起量變化DFH，被抑制在0.0068302μm范圍內(nèi)。
圖19中示出的曲線E，是為與本發(fā)明的磁頭浮動塊41進行比較而示出的使用上述現(xiàn)有的磁頭浮動塊3時的浮起量變化分布曲線。如圖20和圖21所示，該現(xiàn)有的磁頭浮動塊3是按長度L5為1.2mm、寬度W7為1.0mm、厚度D4為0.3mm的正方體形成的。此外，斜面部8a、8b的長度T4按0.12mm形成。該斜面部8a、8b的傾斜角θ4按0.85度形成。各側(cè)軌6a、6b的寬度W8取0.166mm，當(dāng)與磁盤1接觸時所加的重量為1.5g。在這種情況下，磁頭浮動塊3從磁盤1表面的浮起量變化DFH為0.0120754μm。
從圖19所示的浮起量變化分布曲線可以看出，本發(fā)明的磁頭浮動塊41與現(xiàn)有的磁頭浮動塊3相比，能大幅度地抑制浮起量變化。
從如上所述的模擬結(jié)果可以明顯看出，本發(fā)明的磁頭浮動塊41，借助于在空氣潤滑面42與磁盤12的表面之間產(chǎn)生的正壓及在凹入部44產(chǎn)生的負(fù)壓，使磁頭浮動塊41及安裝在磁頭浮動塊41的空氣流出端側(cè)的磁頭46以一定的間隔從磁盤12的表面浮起，并在內(nèi)外周之間對磁盤12的表面進行掃描。這時，磁頭浮動塊41從磁盤12表面的浮起量，即使是在磁盤12的半徑方向發(fā)生位置變化時也仍能大致保持恒定。
另外，由于磁頭浮動塊41擴大了從空氣流入端側(cè)沿縱向延伸到空氣流出端側(cè)的空氣潤滑面42，所以，可以改變磁頭浮動塊41相對于磁盤12的內(nèi)外周間的位置，并如圖22所示，從磁頭浮動塊41的空氣流入側(cè)延伸到空氣流出側(cè)的中心線P3與磁盤12的記錄磁道的切線S2所成的角度即斜交角θs發(fā)生變化、因而使相對于磁頭浮動塊41流入的空氣流E2的方向相對磁頭浮動塊41的中心線P2與斜交角θs對應(yīng)地發(fā)生傾斜的情況下，仍能產(chǎn)生足夠大的正壓。因此，可以減小因斜交角θs的變化引起的磁頭浮動塊41從磁盤12上的浮起量的變化，無論移動到磁盤12的內(nèi)外周間的任何位置，都能保持恒定的浮起量。
另外，在磁頭浮動塊41的形成空氣潤滑面42的表面?zhèn)?，與上述的磁頭浮動塊同樣地設(shè)有將該空氣潤滑面在寬度方向上分成2半并形成第1及第2導(dǎo)軌部42a、42b的槽部45。通過設(shè)置該槽部45，可在從凹入部44延伸到槽部45的兩側(cè)形成的第1及第2導(dǎo)軌部42a、42b上由空氣流分別產(chǎn)生獨立的正壓，并由該正壓分別獨立產(chǎn)生浮力。因此，在分別與磁盤12的內(nèi)周側(cè)及外周側(cè)相對的第1及第2導(dǎo)軌部42a、42b部分上，可產(chǎn)生與磁盤12的內(nèi)周側(cè)及外周側(cè)的線速度相應(yīng)的正壓。
在這種情況下，由于磁頭浮動塊41相對于記錄磁道的斜交角θs發(fā)生變化，使空氣流E2如圖22所示相對于磁頭浮動塊41傾斜流入，并對該磁頭浮動塊41產(chǎn)生以空氣流E2的流入方向為中心的浮力，因而磁頭浮動塊41受到使其以中心線P3為中心轉(zhuǎn)動的力，與上述實施例相同，在第1及第2導(dǎo)軌部42a、42b上產(chǎn)生大小不同的正壓。這時，接近磁盤12表面的第1或第2導(dǎo)軌部42a、42b上產(chǎn)生的正壓變大，因而產(chǎn)生大的浮力，而從磁盤12表面抬離的第1或第2導(dǎo)軌部42a、42b上產(chǎn)生的正壓比接近磁盤12的一側(cè)小，因而產(chǎn)生小的浮力。其結(jié)果是，即使在磁頭浮動塊41上施加了使其轉(zhuǎn)動的力，由于產(chǎn)生與第1及第2導(dǎo)軌部42a、42b側(cè)的浮力相對應(yīng)的正壓，所以能抑制磁頭浮動塊41的轉(zhuǎn)動，可使空氣潤滑面42的全部表面均勻地從磁盤12的表面浮起。因此，即使是將磁頭46安裝在偏移到第1導(dǎo)軌部42a的位置，仍能將磁頭46從磁盤12上的浮起量的變化抑制到很小，因而能對所要求的記錄磁道精確地進行信息信號的記錄和(或)再生。
同時，本實施例的磁頭浮動塊41的凹入部44，形成其寬度從空氣流入端側(cè)向空氣流出端側(cè)逐漸變窄的梯形形狀，所以在凹入部44的兩側(cè)形成的第1及第2導(dǎo)軌部42a、42b分別向空氣流入端逐漸變寬。通過按這種方式形成第1及第2導(dǎo)軌部42a、42b，即使在斜交角θs變化的情況下，第1或第2導(dǎo)軌部42a、42b與凹入部43的邊界線實際上可與隨斜交角θs變化的空氣流E2的方向相匹配。因此，當(dāng)產(chǎn)生斜交角θs時，可由第1或第2導(dǎo)軌部42a、42b產(chǎn)生足夠大的浮力。所以，能更可靠地抑制因斜交角θs變化引起的磁頭浮動塊41從磁盤12的表面上的浮起量變化，因而能由磁頭46更精確地對磁盤12進行信息信號的記錄和(或)再生。
圖23示出本發(fā)明的浮動型磁頭浮動塊的另一實施例，該磁頭浮動塊51，與上述圖1和圖2所示相同，也是整體按扁平的正方體形成。當(dāng)把該磁頭浮動塊51也安裝在磁盤驅(qū)動裝置的轉(zhuǎn)動臂14上時，在與磁盤12的形成信號記錄區(qū)域的表面相對的底面?zhèn)?，形成按平坦面?gòu)成的空氣潤滑面52，在位于與磁盤12旋轉(zhuǎn)方向相對的空氣流入端側(cè)的角部，形成斜面部53。在形成了空氣潤滑面52的底面?zhèn)?，設(shè)有將該平坦的空氣潤滑面52切去一部分后形成的從空氣流入端側(cè)向空氣流出端側(cè)逐漸變窄的梯形形狀的凹入部54。在磁頭浮動塊51寬度方向的中央部位置，從位于凹入部54里側(cè)的空氣流入端側(cè)的邊緣向空氣流入端側(cè)的斜面部53形成寬度比凹入部54窄的槽部55。該槽部55在其空氣流入端側(cè)由空氣潤滑面42封閉。
另外，本實施例的磁頭浮動塊51，在凹入部54內(nèi)的空氣流出端端部側(cè)的中央位置，突起設(shè)置高度與空氣潤滑面52相同的導(dǎo)流部56。在該導(dǎo)流部56的的空氣流出端側(cè)的端面上安裝著磁頭57。
導(dǎo)流部56形成空氣流出端側(cè)寬、而朝向空氣流入端側(cè)變尖細(xì)的形狀。通過設(shè)置按這種形狀形成的導(dǎo)流部56，使流入凹入部54內(nèi)的空氣流由該導(dǎo)流部56左右分流后從空氣流出端側(cè)流出。
采用該磁頭浮動塊51構(gòu)成的磁頭裝置，由于磁頭57安裝在磁頭浮動塊51的空氣流出端的中央，所以，即使在發(fā)生了磁頭浮動塊51以縱向的中心軸為中心轉(zhuǎn)動的側(cè)傾現(xiàn)象的情況下，仍能使磁頭57抬離磁盤12表面的位置不變，保持固定的間隔。此外，向磁頭57方向流入凹入部54內(nèi)的空氣流，可以被前端尖細(xì)的導(dǎo)流部56左右分流平滑地流動，所以，即使是將磁頭57安裝在面向凹入部54的中央的位置，也不會發(fā)生空氣流的滯留或流速減低的情況，而空氣流內(nèi)所夾帶的塵埃等也不會滯留在導(dǎo)流部56的空氣流入端側(cè)的端面上，空氣流能平滑地從空氣流出端流出。
在該圖23中示出的實施例中，在形成梯形的凹入部54內(nèi)設(shè)有前端尖細(xì)形狀的導(dǎo)流部56，但不限定于本例，可以根據(jù)空氣潤滑面52的正壓與凹入部54的負(fù)壓的平衡、此外也為了不減低導(dǎo)流部56對空氣流的影響，適當(dāng)調(diào)整凹入部54的形狀，另外，在圖23中示出的實施例中，凹入部54是按照使空氣流出端側(cè)的寬度變窄的形狀形成的，但如圖24所示，在空氣流出端側(cè)，也可在導(dǎo)流部56的兩側(cè)直到磁頭浮動塊51的側(cè)邊設(shè)置一對第1及第2輔助凹入部58、59。通過設(shè)置這種第1及第2輔助凹入部58、59，流入凹入部54內(nèi)并被導(dǎo)流部56左右分流后的空氣流，由第1及第2輔助凹入部58、59左右擴展開。因此，凹入部54內(nèi)的空氣流被導(dǎo)流部56壓縮，可避免負(fù)壓降低。
另外，如圖25所示，也可將磁頭浮動塊51的空氣流出端側(cè)的兩側(cè)的角部切去一部分，設(shè)置第1及第2輔助凹入部61、62。通過設(shè)置這種第1及第2輔助凹入部61、62，使由流入空氣潤滑面52與磁盤12的表面之間的空氣流產(chǎn)生的正壓變小，但因凹入部54的負(fù)壓不變，所以作為整體得到較小的浮力，可以使磁頭浮動塊51從磁盤12表面上的浮起量減小。此外，當(dāng)磁頭浮動塊51向磁盤12的內(nèi)外周側(cè)移動而產(chǎn)生斜交角θs時，因空氣潤滑面52相對于斜交角θs方向的空氣流具有相當(dāng)大的面積，所以不會使浮力減小。
另外，設(shè)在凹入部54內(nèi)的導(dǎo)流部65，如圖26所示，也可延長到與凹入部54連通的槽部55內(nèi)，形成將該槽部55分成左右兩半的形狀。
在這種情況下，由于導(dǎo)流部65的形成是使其連續(xù)到在空氣流入端側(cè)沒有端面的空氣潤滑面52，還由于流入凹入部54的空氣流被導(dǎo)流部65從空氣流入端側(cè)左右分流后流入，所以平滑地沿著導(dǎo)流部65的側(cè)面由在凹入部54的空氣流出端側(cè)形成的一對第1及第2輔助凹入部58、59而向左右擴展開。因此，因此，凹入部54內(nèi)的空氣流被導(dǎo)流部65壓縮，可避免負(fù)壓降低。
另外，在上述實施例中，對空氣潤滑面、凹入部、槽部、及導(dǎo)流部，分別示出其形狀，但只要相對于產(chǎn)生正壓的空氣潤滑面?zhèn)溆挟a(chǎn)生負(fù)壓的凹入部那樣配置，其長度、寬度配置、傾斜角度等可根據(jù)實際上所要安裝的磁盤驅(qū)動裝置適當(dāng)選擇。因此，本發(fā)明的空氣潤滑面、凹入部、槽部、及導(dǎo)流部，并不限定于在上述實施例中給出的形狀、配置等，可以將其組合使用。
此外，本發(fā)明的磁頭浮動塊，不使安裝在該磁頭浮動塊上的磁頭與磁盤記錄媒體接觸，能廣泛地應(yīng)用于對該圓盤形記錄媒體的信號記錄區(qū)域進行掃描的磁盤驅(qū)動裝置。
因此，不僅適用于采用磁盤、而且適用于采用磁性光盤等作為記錄媒體的磁盤驅(qū)動裝置。
產(chǎn)業(yè)上的應(yīng)用可能性本發(fā)明的磁頭浮動塊，利用在空氣潤滑面與旋轉(zhuǎn)操作的圓盤形記錄媒體的表面之間產(chǎn)生的正壓和由凹入部產(chǎn)生的負(fù)壓，以穩(wěn)定的狀態(tài)并保持一定的浮起量從圓盤記錄媒體的表面浮起。并且，在磁頭浮動塊及與該磁頭浮動塊相對的圓盤形記錄媒體的相對運動速度變化的情況下，由于正壓和負(fù)壓彼此沿相同方向變化，所以正壓的變化被負(fù)壓的變化抵消，使磁頭浮動塊從圓盤形記錄媒體的表面浮起量的變化減小。因此，磁頭浮動塊及安裝在該磁頭浮動塊上的磁頭相對于磁盤記錄媒體的距離能始終保持恒定，所以能進行精確的信息信號的記錄和(或)再生。
權(quán)利要求
1.一種浮動型磁頭浮動塊，它備有空氣潤滑面，在與圓盤形記錄媒體相對的面上形成；斜面部，設(shè)在上述空氣潤滑面的空氣流入端側(cè)；凹入部，設(shè)在沿著從上述空氣潤滑面的上述空氣流入端側(cè)向上述空氣流出端側(cè)方向的中心線上，同時用于產(chǎn)生使上述空氣流入端側(cè)閉塞且使空氣流出端側(cè)敞開的負(fù)壓，并具有一定深度；槽部，沿著從上述凹入部向上述空氣潤滑面的空氣流入端側(cè)的端部延伸的中心線形成，并按比分割上述空氣潤滑面的上述凹入部窄的寬度、以與該凹入部相同的深度形成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浮動型磁頭浮動塊，其特征在于上述凹入部，從上述空氣流出端沿縱向延伸到大致中央部形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浮動型磁頭浮動塊，其特征在于上述凹入部，形成其寬度向空氣流出端側(cè)的端部逐漸變窄、并相對于上述中心線左右對稱的梯形形狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浮動型磁頭浮動塊，其特征在于上述凹入部，由設(shè)在空氣流出端側(cè)的端部區(qū)域的從空氣流出端側(cè)朝向空氣流入端側(cè)形成尖細(xì)形狀的導(dǎo)流部分成左右兩個流路。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的浮動型磁頭浮動塊，其特征在于在上述凹入部的空氣流出端側(cè)形成與上述凹入部連通、從上述導(dǎo)流部延伸到與上述空氣流出端側(cè)正交的兩個側(cè)邊的輔助凹入部。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的浮動型磁頭浮動塊，其特征在于在空氣流出端側(cè)的兩個角部形成輔助凹入部。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的浮動型磁頭浮動塊，其特征在于上述導(dǎo)流部連續(xù)設(shè)置延長到與上述凹入部連通的上述槽部內(nèi)并將上述槽部沿上述中心線左右分隔的部分。
8.一種浮動型磁頭裝置，它備有磁頭浮動塊及安裝在上述磁頭浮動塊的空氣流出端側(cè)端面上的磁頭，上述磁頭浮動塊備有空氣潤滑面，在與圓盤形記錄媒體相對的面上形成；斜面部，設(shè)在上述空氣潤滑面的空氣流入端側(cè)；凹入部，設(shè)在沿著從上述空氣潤滑面的上述空氣流入端側(cè)向上述空氣流出端側(cè)方向的中心線上，同時用于產(chǎn)生使上述空氣流入端側(cè)閉塞且使空氣流出端側(cè)敞開的負(fù)壓，并具有一定深度；槽部，沿著從上述凹入部向上述空氣潤滑面的空氣流入端側(cè)的端部延伸的中心線形成，并按比分割上述空氣潤滑面的上述凹入部窄的寬度、以與該凹入部相同的深度形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的浮動型磁頭裝置，其特征在于上述磁頭安裝在偏向上述磁頭浮動塊的一個側(cè)邊的位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的浮動型磁頭裝置，其特征在于上述磁頭安裝在與將在磁頭浮動塊內(nèi)所設(shè)有的凹入部左右分隔的導(dǎo)流部被設(shè)置的位置相對應(yīng)的上述磁頭浮動塊空氣流出側(cè)的端面上。
11.一種磁盤驅(qū)動裝置，它備有在旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置帶動下旋轉(zhuǎn)操作的圓盤形記錄媒體；安裝了磁頭的浮動型磁頭浮動塊；及使上述磁頭浮動塊在上述圓盤形記錄媒體的內(nèi)外周之間移動操作的移動操作裝置；上述磁頭浮動塊備有空氣潤滑面，在與圓盤形記錄媒體相對的面上形成；斜面部，設(shè)在上述空氣潤滑面的空氣流入端側(cè)；凹入部，設(shè)在沿著從上述空氣潤滑面的上述空氣流入端側(cè)向上述空氣流出端側(cè)方向的中心線上，同時用于產(chǎn)生使上述空氣流入端側(cè)閉塞且使空氣流出端側(cè)敞開的負(fù)壓，并具有一定深度；槽部，沿著從上述凹入部向上述空氣潤滑面的空氣流入端側(cè)的端部延伸的中心線形成，并按比分割上述空氣潤滑面的上述凹入部窄的寬度、以與該凹入部相同的深度形成；上述磁頭安裝在上述磁頭浮動塊的空氣流出端側(cè)的端面上。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的磁盤驅(qū)動裝置，其特征在于上述磁頭在上述磁頭浮動塊的空氣流出端側(cè)的端面?zhèn)鹊奈恢?，安裝在偏向上述圓盤形記錄媒體外周側(cè)的位置。
全文摘要
提供一種當(dāng)在采用圓盤形記錄媒體的磁盤驅(qū)動裝置中使用的圓盤形記錄媒體旋轉(zhuǎn)操作時從圓盤形記錄媒體浮起的浮動型磁頭浮動塊，該磁頭浮動塊備有空氣潤滑面，在與圓盤形記錄媒體相對的面上形成；斜面部，設(shè)在空氣潤滑面的空氣流入端側(cè)；凹入部，設(shè)在沿著從空氣潤滑面的上述空氣流入端側(cè)向上述空氣流出端側(cè)方向的中心線上，同時用于產(chǎn)生使空氣流入端側(cè)閉塞且使空氣流出端側(cè)敞開的負(fù)壓，并具有一定深度；槽部，沿著從凹入部向空氣潤滑面的空氣流入端側(cè)的端部延伸的中心線形成，并按比分割空氣潤滑面的凹入部窄的寬度、以與凹入部相同的深度形成。該磁頭浮動塊利用在空氣潤滑面與旋轉(zhuǎn)操作的圓盤形記錄媒體的表面之間產(chǎn)生的正壓和由凹入部產(chǎn)生的負(fù)壓，以穩(wěn)定的狀態(tài)并保持一定的浮起量從圓盤記錄媒體的表面浮起。
文檔編號G11B21/21GK1152368SQ96190417
公開日1997年6月18日 申請日期1996年3月7日 優(yōu)先權(quán)日1995年3月7日
發(fā)明者四谷道夫, 河副一重, 岡田勘三 申請人:索尼公司