專利名稱:具有旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的磁帶錄放設(shè)備的制作方法
本發(fā)明一般涉及磁帶記錄和/或重放設(shè)備。具體地說，本發(fā)明涉及適用于磁帶的螺旋掃描記錄和/或重放設(shè)備。更確切地說，本發(fā)明涉及用于螺旋掃描的記錄和/或重放設(shè)備的旋轉(zhuǎn)磁頭裝置，它能消除由于可能積聚在磁帶表面的灰塵、砂粒等引起的磁帶磨損和/或損壞。
正如眾所周知的那樣，一個(gè)螺旋掃描磁帶記錄和/或重放設(shè)備，例如磁帶錄象機(jī)(VTR)，它使用旋轉(zhuǎn)磁頭裝置，該裝置設(shè)有支承磁頭的旋轉(zhuǎn)滾筒，磁帶繞在該旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的外園周。一般情況下，當(dāng)該設(shè)備設(shè)計(jì)成既記錄又重放時(shí)，一個(gè)抹音磁頭和一個(gè)記錄及重放磁頭安裝在旋轉(zhuǎn)滾筒的外園周上。繞在旋轉(zhuǎn)滾筒裝置周圍的磁帶在供帶盤和收帶盤之間傳送，而磁帶與抹音磁頭和記錄及重放磁頭保持接觸。
由于抹音磁頭和記錄及重放磁頭都是園形的磁頭，因此磁頭與磁帶表面容易造成一定的間隙。這樣，灰塵等東西就容易堆積在那些間隙中，在磁帶表面可能形成積垢。在那些間隙中堆積的灰塵、砂粒等會(huì)破壞磁頭與磁帶表面之間精密的間隔，因而降低該設(shè)備的記錄和重放特性。或者，在最壞的情況下，可能引起記錄信號的跌落。而且，堆積在間隙中的灰塵等物容易損傷和破壞磁帶表面。
由此，本發(fā)明的一個(gè)目的即是提供一種解決上述問題的磁帶記錄和/或重放設(shè)備。
本發(fā)明的另一個(gè)更加明確的目的是提供一種旋轉(zhuǎn)磁頭裝置，它適用于一種螺旋掃描的記錄和/或重放設(shè)備，該裝置消除了在其他情況下可能積垢在磁帶表面的灰塵、砂粒等的影響。
為了達(dá)到上述的另一個(gè)目的，根據(jù)本發(fā)明的一種旋轉(zhuǎn)磁頭裝置，它裝有一種相對于磁帶供帶方向相反的磁頭逆向構(gòu)件，用以去除磁帶表面的灰塵、砂粒等。
在優(yōu)選的結(jié)構(gòu)中，上述構(gòu)件設(shè)有一個(gè)與磁帶軸成傾斜的表面，以致能有效地從磁帶表面收集或擦去灰塵、砂粒等。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)樣例，磁頭滾筒裝置帶有一個(gè)旋轉(zhuǎn)磁頭，并卷繞著磁帶。它包括有一個(gè)面與磁頭旋轉(zhuǎn)方向相傾斜的導(dǎo)向裝置，和一個(gè)支承磁頭和導(dǎo)向裝置并繞磁頭滾筒軸旋轉(zhuǎn)的支撐構(gòu)件。支撐構(gòu)件在磁頭和導(dǎo)向裝置之間的部位，除了磁頭和導(dǎo)向裝置之外，沒東西和磁帶接觸。最好導(dǎo)向裝置就是一個(gè)抹音磁頭，在最佳實(shí)施例中，導(dǎo)向裝置是用坡莫合金制成的。
在另一個(gè)實(shí)施例中，該部位是切入支承構(gòu)件的槽或是在支撐構(gòu)件中的缺口。
本發(fā)明將從下面結(jié)合本發(fā)明最佳實(shí)施例的附圖詳細(xì)描述中得到更充分的理解。具體實(shí)施例的僅是為了更好地解釋和理解，它不能對本發(fā)明有所限制。
附圖中圖1是根據(jù)本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的第一實(shí)施例的正視圖;
圖2是圖1旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的第一實(shí)施例的上滾筒的底視圖;
圖3是在圖1旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的第一實(shí)施例中附有磁頭和清除器構(gòu)件的磁頭基座的放大正視圖;
圖4(A)和圖4(B)是在實(shí)際使用中磁頭和清除器構(gòu)件的裝配圖;
圖5是類似于圖3的放大正視圖，但是它顯示了根據(jù)本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的第二個(gè)實(shí)施例的主要部件;
圖6是根據(jù)本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的第三個(gè)實(shí)施例的底視圖;
圖7是圖6旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的第三個(gè)實(shí)施例的后視圖;
圖8是旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的第三個(gè)實(shí)施例改進(jìn)的上滾筒的底視圖;
圖9是圖8的旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的正視圖;
圖10是圖8和圖9的旋轉(zhuǎn)滾筒的平面投影圖;和圖11和圖12是圖8和圖9的實(shí)施例進(jìn)一步改進(jìn)的正視圖。
最佳實(shí)施例的描述現(xiàn)在，參照附圖，特別是圖1和圖2，一個(gè)旋轉(zhuǎn)磁頭裝置1，一般包括一個(gè)固定的下滾筒2和一個(gè)旋轉(zhuǎn)的上滾筒3。旋轉(zhuǎn)的上滾筒3有一個(gè)與固定的下滾筒2的上表面相緊密配合的下表面，在它的下周緣有凹槽3a和3b。磁頭4a和4b，例如一個(gè)抹音磁頭和一個(gè)錄/放磁頭，分別安裝在相應(yīng)的凹槽3a和3b中。
正如圖1所示，旋轉(zhuǎn)磁頭裝置1調(diào)整成使它的軸與磁帶傳送軸有一定的傾斜。旋轉(zhuǎn)滾筒3帶著磁頭繞旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的軸自由轉(zhuǎn)動(dòng)，因此，根據(jù)已知的螺旋掃描技術(shù)，磁頭的軌跡(箭頭A所示)橫過磁帶T傾斜于磁帶傳送軸(箭頭B所示)，以便確定一系列的橫過磁帶T的傾斜掃描軌跡。
如圖2和圖3所示，每個(gè)磁頭4a和4b固定地安裝在磁頭基座5a和5b上，再用緊固螺釘6a和6b把它們固定在上滾筒3的下表面。磁頭基座5a和5b有比較厚的中心部分5′，它的厚度大體上對應(yīng)于凹槽3a和3b的深度。磁頭基座5a和5b的中心部分5′支承磁頭4a和4b，并與相應(yīng)的凹槽3a和3b嚙合。根據(jù)圖3可知，在記錄和重放期間，對于旋轉(zhuǎn)滾筒3的旋轉(zhuǎn)方向，磁頭4a和4b偏向于磁頭基座5a和5b中心的后邊，在記錄和重放期間，相對于旋轉(zhuǎn)滾筒的轉(zhuǎn)動(dòng)，斜槽5c和5d具有傾斜向上朝向靠近磁頭4a和4b邊緣的底面。清除器構(gòu)件7a和7b安放在凹槽5c和5d中，并與磁頭4a和4b一起，固定地安裝在凹槽3a和3b內(nèi)的磁頭基座5a和5b上。清除器構(gòu)件構(gòu)成導(dǎo)向裝置使磁頭超過磁頭基座，清除器構(gòu)件7a和7b具有清除面，用于清除沉積在磁帶表面上的灰塵、砂粒等。
清除器構(gòu)件7a和7b采用高耐磨材料，例如用坡莫合金制成，清除器構(gòu)件7a和7b的形狀和重量基本相同。清除器構(gòu)件7a和7b具有相同的形狀和重量，有助于使旋轉(zhuǎn)滾筒3保持平衡，以使其勻速轉(zhuǎn)動(dòng)。清除器構(gòu)件7a和7b是這樣安裝在磁頭基座5a和5b上的，即把清除面置于與磁頭4a和4b平面傾斜的平面中，而4a和4b平面基本上與旋轉(zhuǎn)方向和磁頭基座5a和5b的上表面平行。于是，清除器構(gòu)件7a和7b朝向相應(yīng)的磁頭4a和4b向上傾斜，以便提供比磁頭更寬的接觸面，如圖1所見，清除器構(gòu)件7a和7b相對于相應(yīng)磁頭基座5a和5b的上表面的最佳傾斜角在15°至20°的范圍內(nèi)，與磁頭4a和4b的接觸面相比較，這個(gè)在清除器構(gòu)件7a和7b與磁帶T之間加寬的接觸面積保證使在磁頭接觸面積上沉積的灰塵、砂粒等被清除掉。
旋轉(zhuǎn)滾筒按圖1中所標(biāo)的方向A旋轉(zhuǎn)，同時(shí)，磁帶T按圖4(A)和4(B)所示的方向B驅(qū)動(dòng)，以進(jìn)行記錄和重放。根據(jù)旋轉(zhuǎn)掃描技術(shù)，旋轉(zhuǎn)滾筒3的旋轉(zhuǎn)速度基本上比磁帶T的傳送速度高。在掃描期間，清除器構(gòu)件7a和7b在磁頭4a和4b前面與磁帶表面保持恒定接觸。因此在磁頭接觸磁帶之前，暴露在磁頭4a和4b的磁帶表面就被清除器構(gòu)件7a和7b清潔了。
因此，能滿意而成功地消除可能沉積在磁帶表面的灰塵、砂粒等的影響。
圖5表示上述的根據(jù)本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的第一實(shí)施例的改進(jìn)。在這個(gè)改進(jìn)中，清除器構(gòu)件7的傾斜方向與圖3所示的方向相比較，正好相反。具體地說，按照這個(gè)改進(jìn)，清除器構(gòu)件7傾斜向上朝向于遠(yuǎn)離磁頭基座5上的磁頭4的邊緣，這種改進(jìn)顯示出磁帶表面的清除效果與上述的第一實(shí)施例所取得的效果基本相同。
如在上述的圖1到圖3的第一實(shí)施例中，磁頭4a和4b固定地安裝在磁頭基座5a和5b上，用緊固螺釘6a和6b把它固定在上滾筒3的下表面上。磁頭基座5a和5b，各自具有較厚的中心部分5′，其凸出的厚度基本上對應(yīng)于凹槽3a和3b的深度。磁頭基座5a和5b的中心部分5′支承磁頭4a和4b，與對應(yīng)的凹槽3a和3b嚙合。在記錄和重放期間，相對于旋轉(zhuǎn)滾筒3的旋轉(zhuǎn)方向，磁頭4a和4b偏離磁頭基座5a和5b的中心，而靠向后緣，凹槽5c和5d也偏離磁頭基座5a和5b的中心，但是向著相應(yīng)于旋轉(zhuǎn)滾筒旋轉(zhuǎn)的前緣方向。凹槽5c和5d的傾斜面斜向上朝向遠(yuǎn)離磁頭4a或4b的方向。清除器構(gòu)件7a和7b安放在凹槽5c和5d中，并且與磁頭4a和4b一起固定地安裝在凹槽3a和3b的磁頭基座5a和5b上。清除器構(gòu)件7a和7b具有用來清除粘附在磁帶表面的灰塵、砂粒等物的清除面。
清除器構(gòu)件7a和7b安裝在磁頭基座5a和5b上，使清除面位于與磁頭4a和4b平面傾斜的平面中，磁頭4a和4b平面基本上與旋轉(zhuǎn)方向平行，并與磁頭基座5a和5b的上表面平行。清除器7a和7b斜向上朝向于遠(yuǎn)離相應(yīng)的磁頭4a和4b的邊緣，如上所述。清除器構(gòu)件7a和7b相對于相應(yīng)的磁頭基座5a和5b上表面的最佳傾斜角是在15°至20°范圍內(nèi)。與磁頭4a和4b相比，這就加寬了清除器構(gòu)件7a和7b與磁帶之間的接觸面積。
圖6和圖7表示根據(jù)本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的第二個(gè)實(shí)施例。在第二個(gè)實(shí)施例中，上旋轉(zhuǎn)滾筒11是由在它下周緣中的凹槽11a、11b和11c構(gòu)成的。實(shí)際上，凹槽11a，11b和11c以90°間隔有規(guī)律地布置。磁頭12a和12b固定到磁頭基座14a和14b，用緊固螺釘15a和15b固定到旋轉(zhuǎn)滾筒11的下表面。磁頭基座14a和14b具有支承與相應(yīng)的凹槽11a和11b一致的凸出部分的頭。每一個(gè)支撐凸出部分的頭有一個(gè)平面，磁頭12a和12b固定地安裝到它上面。支承磁頭基座14a和14b凸出部分的頭，隨同磁頭12a和12b一起被安裝在旋轉(zhuǎn)滾筒11的凹槽11a和11b中。
清除器構(gòu)件13固定地安裝在磁頭基座14c上，而磁頭基座14c用緊固螺釘15c固定到旋轉(zhuǎn)滾筒11的下表面。在所示的實(shí)施例中，清除器構(gòu)件13可包含一個(gè)抹音磁頭。正如圖6所示，凹槽11c是在其中一個(gè)凹槽即安裝錄/放磁頭凹槽11b的前邊。因此，清除器構(gòu)件13擦刷在錄/放磁頭前的磁帶表面，同時(shí)抹除予先錄制的信息。裝著清除器構(gòu)件13的磁頭基座14c具有凸出的清除器構(gòu)件支承部分。清除器構(gòu)件支承部分與凹槽11c相配合。清除器構(gòu)件支承部分有一個(gè)斜的凹槽，按圖3和圖5列出的基本相同的方法，把清除器構(gòu)件13的橫邊安裝在它的上表面。清除器構(gòu)件13安裝在凹槽11a和11b之間的凹槽11c內(nèi)。在清除器構(gòu)件13完全相對的點(diǎn)上，把配重物16附接在上滾筒3的下表面。配重物16基本上具有清除器構(gòu)件13同樣的重量，以保持旋轉(zhuǎn)滾筒徑向?qū)ΨQ的轉(zhuǎn)動(dòng)慣量。
在記錄和重放時(shí)，旋轉(zhuǎn)滾筒11和磁頭12a、磁頭12b和清除器構(gòu)件13按圖6所示的順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)。磁帶按所標(biāo)明的方向“B”走帶。清除器構(gòu)件13與接近磁頭12b接觸的磁帶上一個(gè)或更多的磁跡相接觸，在磁頭12b與磁帶接觸之前，用來清除沉積在磁帶表面的灰塵、砂粒等，同時(shí)抹掉予錄的信息。
如圖7所示，磁頭12a和12b安裝成與旋轉(zhuǎn)滾筒11的下周緣基本平行。另一方面，清除器13與旋轉(zhuǎn)滾筒的下周緣裝成傾斜。如上述實(shí)施例所示，相對于磁頭12a和12b傾斜的清除器構(gòu)件13，增加了相對于磁頭12a和12b掃描面積的清除面積，這樣，保證了磁頭掃描面積的清潔。
圖8、圖9和圖10表示根據(jù)本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的上述第二個(gè)實(shí)施例的改進(jìn)。在這個(gè)實(shí)施例中，在旋轉(zhuǎn)滾筒的下周緣完全相對的點(diǎn)上將一對清除器構(gòu)件13a和13b裝在旋轉(zhuǎn)磁頭下周緣的凹槽11c和11d中。類似于上述的第二個(gè)實(shí)施例，清除器構(gòu)件13a和13b可以是用來抹除記錄在磁帶上信息的抹音磁頭。清除器構(gòu)件13a和13b裝在磁頭基座14c和14d上，用緊固螺釘15c和15d依次把它們固定到旋轉(zhuǎn)磁頭11的下表面。在旋轉(zhuǎn)滾筒11的園柱面上，在下周緣附近，槽16連接凹槽11a、11b、11c和11d，槽16位于磁頭的同一平面內(nèi)。
在記錄和重放期間，清除器構(gòu)件13a、13b接觸在磁頭12a和12b前面的磁帶表面，以便清除落在磁帶表面上的灰塵、砂粒等。當(dāng)清除器構(gòu)件13a和13b通過磁帶表面的給定點(diǎn)時(shí)，則該點(diǎn)與旋轉(zhuǎn)滾筒周緣中的槽16對起來。槽16至少防止了旋轉(zhuǎn)滾筒邊緣和磁帶的掃描面之間的接觸。因此，在清除器構(gòu)件13a和13b清除完磁帶表面后，它可以防止灰塵和砂粒等沉積到磁帶表面上。
圖11表示圖8、圖9和圖10旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的另一種實(shí)施例，在這種實(shí)施例中，磁頭12a和12b和清除器構(gòu)件13a和13b分別安裝在旋轉(zhuǎn)滾筒11的下周緣相應(yīng)的凹槽11a、11b、11c和11d內(nèi)，旋轉(zhuǎn)滾筒11的下表面由一條間隙與固定滾筒2的上表面分開。旋轉(zhuǎn)滾筒11的下表面由一條間隙與固定滾筒2的上表面之間的間隙大到足以蓋住磁頭12a和12b的掃描面。因此另一種實(shí)施例的間隙基本上與上述實(shí)施例的槽16的用途相同。所以，旋轉(zhuǎn)滾筒11和固定滾筒2的邊緣從不與磁帶表面接觸，而且在清除器構(gòu)件13a和13b清除落在磁帶表面的灰塵、砂粒等之后，仍使磁帶表面保持清潔。
圖12表明圖11旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的另一個(gè)進(jìn)一步的實(shí)施例。這另一個(gè)實(shí)施例的特點(diǎn)是在旋轉(zhuǎn)滾筒11的下表面和固定滾筒2的上表面之間的間隙比上述圖11實(shí)施例的寬。磁頭12a和12b與清除器構(gòu)件13a和13b配置在旋轉(zhuǎn)滾筒11的下表面和固定滾筒2的上表面之間的間隙內(nèi)，以致用清除器構(gòu)件13a和13b清除落在磁帶表面的灰塵、砂粒等以后，除了磁頭12a和12b以外沒有別的東西可以接觸磁帶表面。
因此，根據(jù)本發(fā)明，使沉積在磁帶表面上的灰塵。砂粒等能通過清除器構(gòu)件或?qū)蜓b置很好地清除掉，以便保持錄/放裝置的重放電平且有效地避免了磁帶和/或磁頭由于灰塵、砂粒等造成的損壞。
為了促使對本發(fā)明更好的理解，本發(fā)明用最佳的實(shí)施例予以披露。應(yīng)該理解本發(fā)明能用各種不同途徑進(jìn)行實(shí)施，則不背離本發(fā)明的基本原理。因此，本發(fā)明應(yīng)理解為包括所有可能的實(shí)施例和所示出的實(shí)施例的改進(jìn)，這些改進(jìn)能實(shí)施而不背離在附加的權(quán)利要求
中提出的發(fā)明原理。
權(quán)利要求
1.一種磁頭滾筒裝置具有一個(gè)纏繞磁帶的旋轉(zhuǎn)磁頭，包括a)導(dǎo)向裝置具有一個(gè)和磁頭的旋轉(zhuǎn)方向傾斜的面，和b)一個(gè)支承所說的磁頭和導(dǎo)向裝置并圍繞所說的磁頭滾筒裝置的軸旋轉(zhuǎn)的支撐裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1的磁頭滾筒裝置，其中所說的支撐裝置包括一個(gè)支撐構(gòu)件，除了磁頭和導(dǎo)向裝置以外，支撐構(gòu)件在磁頭和導(dǎo)向裝置之間有一個(gè)防止任意接觸磁帶的部位。
3.根據(jù)權(quán)利要求
1的磁頭滾筒裝置，其中所說的導(dǎo)向裝置是一個(gè)抹音磁頭。
4.根據(jù)權(quán)利要求
1的磁頭滾筒裝置，其中所說的導(dǎo)向裝置是用坡莫合金制成的。
5.根據(jù)權(quán)利要求
2的磁頭滾筒裝置，其中所說的部位是切入支撐構(gòu)件的槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求
2的磁頭滾筒裝置，其中所說的部位是支撐構(gòu)件中的間隙。
7.一個(gè)旋轉(zhuǎn)磁頭裝置包括一個(gè)相對于磁帶的旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)滾筒，它包括一個(gè)在滾筒旋轉(zhuǎn)時(shí)，把信息記錄在磁帶上而由所說的滾筒支撐的磁頭;和在滾筒和磁帶相對運(yùn)動(dòng)時(shí)，用滾筒支撐并與磁頭相對固定的裝置。它用作清除磁帶表面上的灰塵、砂粒等，清除裝置包括一個(gè)清除面，它置于相對磁帶傳送方向以一個(gè)預(yù)定的角度而固定的平面內(nèi)。
8.如在權(quán)利要求
7中所述的組件，其中所說的清除面背離相應(yīng)的磁頭向上傾斜。
9.如權(quán)利要求
7中所說的組件，其中所說的清除面向著相應(yīng)的磁頭向上傾斜。
10.如權(quán)利要求
7所述的裝置，其中所說的預(yù)定角度約為15°至20°的范圍。
11.如權(quán)利要求
7中所述的裝置，其中至少有一對磁頭用旋轉(zhuǎn)滾筒支撐，清除裝置包括一個(gè)位于磁頭中間的清除器構(gòu)件，進(jìn)而包括一個(gè)位于與清除器構(gòu)件相對的滾筒上的配重物。
12.如在權(quán)利要求
7中所述的裝置，其中至少有一對磁頭用旋轉(zhuǎn)滾筒支撐，清除裝置包括一對相對固定的清除器構(gòu)件，另一方面又相對于一對磁頭固定。
13.如權(quán)利要求
12中所述的裝置，其中所說的清除器構(gòu)件是抹音磁頭。
14.如權(quán)利要求
7中所述的裝置，其中所說的清除裝置是用坡莫合金制成的。
15.如權(quán)利要求
7中所述的裝置，其中所說的滾筒包括一個(gè)槽，槽面中連接著安裝磁頭的凹槽。
16.如在權(quán)利要求
7中所述的裝置，其中所說的滾筒包括旋轉(zhuǎn)的上滾筒和固定的下滾筒的相對表面之間的間隙，而間隙大到足以蓋住所說的磁頭的掃描面積。
17.用于記錄和/或重放裝置的旋轉(zhuǎn)磁頭裝置包括旋轉(zhuǎn)磁頭裝置包括一個(gè)固定的下滾筒和一個(gè)旋轉(zhuǎn)的上滾筒，上滾筒的下表面與下滾筒的上表面相緊密配合，在它的下周緣中有安裝磁頭的凹槽。在凹槽中支承的磁頭，隨旋轉(zhuǎn)的上滾筒繞旋轉(zhuǎn)磁頭裝置的軸旋轉(zhuǎn)，使橫過磁帶的磁頭軌跡與磁帶傳送軸傾斜。旋轉(zhuǎn)滾筒進(jìn)一步限定安裝清除器構(gòu)件的斜槽。位于斜槽中的清除器構(gòu)件構(gòu)成磁頭和超前磁頭的導(dǎo)向裝置，清除器構(gòu)件的清潔面適用于清除沉積在磁帶表面上的灰塵、砂粒等。
專利摘要
一種旋轉(zhuǎn)磁頭裝置裝有一個(gè)清除器構(gòu)件，在相對于磁帶傳送方向上在磁頭的上游，用來從磁帶表面清除灰塵、砂粒等。前面提到的構(gòu)件裝有一個(gè)與磁帶軸傾斜的表面，以便有效地擦去灰塵、砂粒等。
文檔編號G11B25/00GK86103484SQ86103484
公開日1987年3月18日 申請日期1986年4月30日
發(fā)明者久保田幸雄, 坪田哲朗 申請人:索尼公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan