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非易失性存儲器電路的制作方法

文檔序號:6765647閱讀:465來源:國知局
非易失性存儲器電路的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供提高寫入效率的能夠在低電壓下寫入存儲器電路。利用與P溝道型非易失性存儲器元件的控制柵極連接的、由2個電阻器構(gòu)成的電阻分壓器和與所述2個電阻器并聯(lián)連接的2個開關(guān)晶體管,通過進(jìn)行控制柵極的電位的調(diào)整,使得在寫入時,浮動?xùn)艠O的電位為存儲器元件的閾值附近,從而P溝道型非易失性存儲器元件通過浮動?xùn)艠O的電位為存儲器元件的閾值附近,夾斷點(diǎn)-漏極間的電場變強(qiáng),容易產(chǎn)生熱載流子,寫入效率提高,能夠在低電壓下寫入。
【專利說明】非易失性存儲器電路
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及能夠進(jìn)行電寫入、讀出的非易失性存儲器電路。
【背景技術(shù)】
[0002]已知具有可利用存儲器來微調(diào)的泄放電阻電路的半導(dǎo)體集成電路。以往,泄放電阻的調(diào)整使用的方法是利用激光等機(jī)械地切斷與泄放電阻并聯(lián)形成的保險絲。因此,泄放電阻的微調(diào)只能在組裝至封裝之前進(jìn)行。另一方面,若將存儲器用于泄放電阻的微調(diào),則組裝后也能夠進(jìn)行電微調(diào),作為代表性的效果可以列舉下述2點(diǎn)。
[0003]1.由于能夠在封裝的狀態(tài)下進(jìn)行微調(diào)并出廠,因此能夠應(yīng)對用戶的交貨時間短的要求。
[0004]2.由于能夠進(jìn)行包含封裝組裝時產(chǎn)生的、封裝引起的移位的微調(diào),因此能夠高精度化。
[0005]通常,由于若泄放電阻的微調(diào)是一次微調(diào),則不需要改寫信息,因此,作為微調(diào)用的存儲器,使用紫外線擦除型非易失性EPROM (Erasable Programmable Read Only Memory:可擦除可編程只讀存儲器)作為0TP(0ne Time Programmable:一次性可編程)存儲器。另夕卜,由于泄放電阻的微調(diào)用的存儲器與存儲器IC不同,存儲器容量較小即可,因此若與存儲器IC相比,不要求存儲器單元的高集成化、高速動作。因此,作為微調(diào)用的存儲器所要求的代表性的課題,有用于控制存儲器的外圍電路的縮小化、低電壓動作化、活用已有的制造工序等。
[0006]以往,作為紫外線擦除型非易失性EPR0M,已知使用熱載流子進(jìn)行信息寫入的非易失性EPR0M。特別是當(dāng)前,就使用熱載流子進(jìn)行信息寫入的非易失性存儲器而言,N溝道型非易失性EPROM是主流。作為原因之一,可以列舉N溝道型非易失性EPROM與P溝道型EPROM相比,動作速度更快。
[0007]但是,由于泄放電阻的微調(diào)用的存儲器如上所述,容量較小,且在微調(diào)時一次寫入后不需要改寫信息,因此,即使與存儲器IC相比動作速度慢,也不會成為問題。另外,由于P溝道型EPROM在襯底一漏極間不施加產(chǎn)生雪崩擊穿那樣的高電位,通過以比較低的電壓產(chǎn)生DAHE(Drain Avalanche Hot Electron:漏極雪崩熱電子),注入至浮動?xùn)艠O,從而能夠使閾值電壓變化而進(jìn)行寫入,因此認(rèn)為對于泄放電阻的微調(diào)用的存儲器而言,P溝道型非易失性EPROM更適合。
[0008]使用圖3所示的剖視圖,說明以往的使用熱載流子進(jìn)行信息寫入的P溝道型非易失性EPROM的構(gòu)造。
[0009]在圖3中,沿著選擇性形成有元件分離區(qū)域9的P型半導(dǎo)體襯底7的一個主面形成有N型阱8。通過使高濃度的P型的雜質(zhì)擴(kuò)散,在所述N型阱8內(nèi)形成源極區(qū)域10和漏極區(qū)域11。在形成有所述源極區(qū)域10和所述漏極區(qū)域11的襯底上,隔著柵極氧化膜12形成有浮動?xùn)艠O13。在所述浮動?xùn)艠O13上,隔著第二絕緣膜14形成有控制柵極15,構(gòu)成以往的非易失性EPR0M。此處,由于電極布線以后(金屬布線、保護(hù)膜)的構(gòu)造與一般的半導(dǎo)體裝置相同,因此省略詳細(xì)的說明。
[0010]在以往的非易失性EPROM中,為了產(chǎn)生注入至浮動?xùn)艠O的熱電子,在寫入時需要對漏極和控制柵極施加高電壓。如上述微調(diào)用的存儲器所要求的課題中所述,若寫入時的電壓高,則需要外圍電路的高耐壓化,為了實(shí)現(xiàn)高耐壓,存在元件構(gòu)造變復(fù)雜、面積擴(kuò)大、工序數(shù)增多的問題。因此,希望動作電壓的低電壓化。但是,若使寫入電壓低電壓化,則由于動作電壓低,存在的課題是:熱載流子的產(chǎn)生效率下降,寫入時間、擦除時間變長。因此,希望改善低電壓動作下的寫入特性。
[0011]作為改善寫入特性的方案,公開了通過在浮動?xùn)艠O上表面設(shè)有凹凸,使浮動?xùn)艠O與控制柵極之間的電容增大,從而提高浮動?xùn)艠O的電位,改善寫入特性這樣的技術(shù)(例如參照專利文獻(xiàn)I)。
[0012]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn) 專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開平05-55605號公報;
專利文獻(xiàn)2:日本特開2001-257324號公報。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0013]本發(fā)明要解決的問題
但是,在用專利文獻(xiàn)I記載的方法改善寫入特性的情況下,對于N溝道型EPROM確實(shí)能夠改善寫入特性,是有效的;但對于P溝道型EPROM無效。
[0014]以往,P溝道型EPROM也與N溝道型EPROM同樣,在寫入時,對漏極和控制柵極施加高電壓(例如參考專利文獻(xiàn)2),但是由于P溝道型EPROM的寫入的最佳的浮動?xùn)艠O電壓在存儲器元件的閾值附近,因此在P溝道型EPROM中,即使在寫入時提高浮動?xùn)艠O電位,也無法謀求寫入特性的改善。
[0015]因此,本發(fā)明的目的在于提供提高寫入效率、在低電壓下能寫入數(shù)據(jù)的P溝道型EPROM電路。
[0016]用于解決問題的方案
在本發(fā)明中,為達(dá)到上述目的,使用如下方案。
[0017]利用與P溝道型EPROM的控制柵極連接的、由2個電阻器構(gòu)成的電阻分壓器和與所述2個電阻器并聯(lián)連接的2個開關(guān)晶體管,來進(jìn)行控制柵極的電位的調(diào)整,使得在寫入時,浮動?xùn)艠O的電位為存儲器元件的閾值附近。
[0018]利用上述方法,P溝道型非易失性存儲器元件通過由于浮動?xùn)艠O的電位為存儲器元件的閾值附近,因而夾斷點(diǎn)一漏極間的電場變強(qiáng),容易產(chǎn)生熱載流子,從而能夠提高寫入效率,在低電壓下寫入。
[0019]發(fā)明的效果
根據(jù)本發(fā)明,能夠提供非易失性存儲器電路,在該非易失性存儲器電路中,通過使用與P溝道型EPROM的控制柵極連接的、由2個電阻器構(gòu)成的電阻分壓器和與所述2個電阻器并聯(lián)連接的2個開關(guān)晶體管,來進(jìn)行控制柵極的電位的調(diào)整,使得在寫入時,浮動?xùn)艠O的電位為存儲器元件的閾值附近,從而能夠提高寫入效率,在低電壓下寫入數(shù)據(jù)?!緦@綀D】

【附圖說明】
[0020]圖1是示出本實(shí)施方式的非易失性存儲器電路的概要的概略圖;
圖2是示出本實(shí)施方式的非易失性存儲器電路內(nèi)的各電位的關(guān)系的表;
圖3是示出以往的P溝道型EPROM的構(gòu)造的剖視圖。
[0021]附圖標(biāo)記說明
I P溝道型非易失性存儲器元件;2第一電阻器;3第二電阻器;4電阻分壓器;5 P溝道型開關(guān)晶體管;6 N溝道型開關(guān)晶體管;V5 P溝道型開關(guān)晶體管的柵極輸入電位;V6 N溝道型開關(guān)晶體管的柵極輸入電位;7 P型半導(dǎo)體襯底;8 N型阱;9元件分離區(qū)域;10源極區(qū)域;11漏極區(qū)域;12柵極氧化膜;13浮動?xùn)艠O;14第二絕緣膜;15控制柵極。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面,詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施方式。
[0023]圖1是示出本發(fā)明的實(shí)施方式的非易失性存儲器電路。使用圖1說明本發(fā)明的非易失性存儲器電路。
[0024]在本實(shí)施方式中,如圖1所示,在具有浮動?xùn)艠O和與浮動?xùn)艠O電容耦合的控制柵極的P溝道型非易失性存儲器元件I的控制柵極連接有:由將電源電壓與接地電壓之間的電壓差進(jìn)行分壓的第一電阻器2和第二電阻器3構(gòu)成的電阻分壓器4的分壓輸出;與所述第一電阻器2并聯(lián)連接的P溝道型開關(guān)晶體管5 ;以及與所述第二電阻器3并聯(lián)連接的N溝道型開關(guān)晶體管6。
[0025]接下來,說明本實(shí)施方式的非易失性存儲器電路的動作。
[0026]設(shè)所述第一電阻器2的電阻值為R1,所述第二電阻器3的電阻值為R2。另外,設(shè)所述P溝道型開關(guān)晶體管5的柵極輸入電位為V5,所述N溝道型開關(guān)晶體管6的柵極輸入電位為V6,控制柵極的電位為Vcg。
[0027]各電位的關(guān)系如圖2所示。在寫入時,如果通過使所述P溝道型開關(guān)晶體管的柵極輸入電位V5 = High (高),使所述N溝道型開關(guān)晶體管的柵極輸入電位V6 = Low (低),從而使Vss為0V,則Vdd施加在所述電阻分壓器的兩端。
[0028]所以,所述控制柵極的電位Vcg由所述第一電阻器2的電阻值Rl與所述第二電阻器3的電阻值R2的電阻分壓比決定。此時的所述控制柵極的電位Vcg如式(I)所示。
[0029][數(shù)學(xué)式I]
【權(quán)利要求】
1.一種非易失性存儲器電路,其特征在于,具有: 具有浮動?xùn)艠O和與所述浮動?xùn)艠O電容耦合的控制柵極的非易失性存儲器元件; 與所述控制柵極連接的、由將電源電壓與接地電壓之間的電壓差進(jìn)行分壓的第一電阻器和第二電阻器構(gòu)成的電阻分壓器的分壓輸出; 與所述第一電阻器并聯(lián)連接的第一開關(guān);以及 與所述第二電阻器并聯(lián)連接的第二開關(guān), 控制所述第一開關(guān)和所述第二開關(guān),使得在寫入時,使所述控制柵極的電壓為所述分壓輸出的電壓;在讀出時和保持狀態(tài)下,使所述控制柵極的電壓為所述電源電壓。
2.如權(quán)利要求1所述的非易失性存儲器電路,其特征在于,選擇所述第一電阻器和所述第二電阻器的電阻值,使得在所述寫入時,提供給所述控制柵極的電壓為被紫外線擦除的狀態(tài)下的所述非易失性存儲器元件的閾值附近。
【文檔編號】G11C16/06GK103871471SQ201310663409
【公開日】2014年6月18日 申請日期:2013年12月10日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月10日
【發(fā)明者】川上亞矢子, 津村和宏 申請人:精工電子有限公司
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