專利名稱：：光驅(qū)系統(tǒng)、光驅(qū)系統(tǒng)所用光盤盒、驅(qū)動裝置及光驅(qū)系統(tǒng)的清潔方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種光學處理信息的光驅(qū)系統(tǒng)、收容保存被光學處理后的信息的記錄介質(zhì)的光盤盒(cartridge)、驅(qū)動光盤盒內(nèi)的記錄介質(zhì)的驅(qū)動裝置以及清潔光驅(qū)系統(tǒng)的方法。
背景技術(shù)：
：光學處理信息的技術(shù)對記錄介質(zhì)容量的增大做出很大的貢獻。作為光學處理技術(shù)，開發(fā)出了利用近場光將信息記錄到記錄介質(zhì)中的技術(shù)、或從記錄介質(zhì)再生信息的技術(shù)。如果將近場光利用于這些信息處理，則能夠以高密度記錄信息的記錄介質(zhì)的利用成為可倉泛。作為產(chǎn)生用于記錄和/或再生信息的近場光的光學系統(tǒng)，例示固體浸沒透鏡(SILSolidImmersionLens)(以下稱為SIL)。SIL用于物鏡部。為了利用近場光記錄和/或再生信息，開發(fā)了使SIL接近記錄介質(zhì)的技術(shù)。該接近技術(shù)使SIL接近記錄介質(zhì)，使得SIL與記錄介質(zhì)的距離為所利用的光的波長的1/2以下(例如，所利用的光的波長的大約1/10)。如果上述的光學系統(tǒng)在SIL與記錄介質(zhì)之間產(chǎn)生近場光，則高密度的記錄和/或再生(例如，I以上的數(shù)值孔徑(NA))成為可能。利用近場光記錄和/或再生信息的技術(shù)適用于光驅(qū)系統(tǒng)。光驅(qū)系統(tǒng)具備記錄介質(zhì)和物鏡部。物鏡部也可以包括聚光元件及其它光學元件。上述的SIL例如設(shè)置于聚光元件上。聚光元件上的SIL的端面(以下稱為SIL端面)與記錄介質(zhì)之間的間隙為了使近場光產(chǎn)生而需要被設(shè)定為足夠短的距離(近場(nearfield))。如果將短波長的激光用于信息的記錄和/或再生，則光驅(qū)系統(tǒng)需要被控制成SIL端面與記錄介質(zhì)之間的間隙大約為幾十nm。專利文獻I公開了用雙軸電磁致動器來控制SIL與記錄介質(zhì)表面之間的距離的光學控制技術(shù)。專利文獻I的公開技術(shù)將盤基板用作記錄介質(zhì)。為了按照專利文獻I的公開技術(shù)適當?shù)乜刂芐IL與盤基板表面之間的距離，需要盤基板表面具有高標準的平坦性，并且，需要充分降低因盤的旋轉(zhuǎn)而引起的共振之類的振動成分。光驅(qū)系統(tǒng)內(nèi)漂浮的灰塵妨礙信息的記錄和/或再生。如果光驅(qū)系統(tǒng)利用近場光，則灰塵成為特別重要的問題。例如，對于記錄介質(zhì)與SIL端面之間的間隙控制來說，不能忽視附著在SIL端面的灰塵。作為附著在SIL端面的灰塵，例示空氣中漂浮的灰塵或衣物的纖維。大部分灰塵在寬度或高度上大于記錄介質(zhì)與SIL端面之間的間隙的目標值。因此，附著在SIL端面的大的灰塵有時導致不能進行上述的間隙控制。在制造對記錄介質(zhì)光學處理信息的光學頭、組裝有光學頭的驅(qū)動裝置或光驅(qū)系統(tǒng)時，某種程度上能夠去除灰塵。然而，難以完全去除灰塵。即使在制造工序后使用上述的裝置時，也有時產(chǎn)生灰塵的附著。為了防止使用時的灰塵的附著，如硬盤驅(qū)動器那樣將用作記錄介質(zhì)的盤和對盤進行驅(qū)動的驅(qū)動裝置一體化，從而設(shè)計完全密封結(jié)構(gòu)，這是行之有效的。然而，對于光驅(qū)系統(tǒng)，要求記錄介質(zhì)(光盤)的可移動性。因此，將記錄介質(zhì)密封及固定在光驅(qū)系統(tǒng)內(nèi)并不理想。在大多數(shù)情況下，光驅(qū)系統(tǒng)包括收容記錄介質(zhì)的光盤盒。光盤盒在某種程度上減輕灰塵的影響。然而，灰塵有時從形成于光盤盒的開口部進入。因此，從收容有記錄介質(zhì)的收容空間完全去除灰塵是非常困難的。專利文獻2公開了一種去除記錄介質(zhì)上的灰塵的介質(zhì)清潔機構(gòu)。介質(zhì)清潔機構(gòu)利用清潔帶直接擦拭附著在記錄介質(zhì)表面的灰塵。記錄介質(zhì)上的灰塵的去除降低灰塵的影響。然而，附著在SIL端面的灰塵大大地妨礙上述的間隙控制(參照專利文獻I)。專利文獻2中除了介質(zhì)清潔機構(gòu)以外還公開了透鏡清潔機構(gòu)。透鏡清潔機構(gòu)使清潔帶接觸SIL，去除附著在SIL端面的灰塵。其結(jié)果，適當?shù)拈g隙控制成為可能。圖42是以往的光驅(qū)系統(tǒng)所使用的驅(qū)動裝置900的概要圖。參照圖42對驅(qū)動裝置900進行說明。驅(qū)動裝置900具備光學頭910、伺服控制系統(tǒng)920以及主軸馬達930。光學頭910和主軸馬達930在伺服控制系統(tǒng)920的控制下動作。主軸馬達930使用作記錄介質(zhì)的光盤950旋轉(zhuǎn)。光學頭910具備用作光源的激光二極管911(圖42中，“LD”的表記是指激光二極管)；兩個準直透鏡912、913;對從準直透鏡912射出的激光進行整形的畸變透鏡(AnamorphicLens)914;分束器915(圖42中，“BS”的表記是指分束器)；1/4波長板916(圖42中，“QWP”的表記是指1/4波長板)；用于校正色差的校正透鏡917;用于使激光擴展的擴展透鏡918;沃拉斯頓棱鏡(WollastonPrism)919;兩個聚光透鏡941、942;聚光元件943；兩個光檢測器(PhotoDetector)944、945(圖42中，“TO”的表記是指光檢測器)；自動功率控制器(AutoPowerController)946(圖42中，“APC”的表記是指自動功率控制器)；以及LD驅(qū)動器947。沃拉斯頓棱鏡919由兩個棱鏡構(gòu)成。射入沃拉斯頓棱鏡919的光作為相互正交的兩個直線偏振光被射出。用于再生記錄于光盤950的信號的RF再生信號、伺服控制所需的跟蹤誤差信號以及間隙誤差信號等的各種信號從光檢測器944輸出到伺服控制系統(tǒng)920。伺服控制系統(tǒng)920具備間隙伺服模塊921(聚焦伺服模塊)、跟蹤伺服模塊922、傾斜伺服模塊923以及主軸伺服模塊924。跟蹤伺服模塊922根據(jù)跟蹤誤差信號執(zhí)行聚光元件943的跟蹤控制。傾斜伺服模塊923控制聚光元件943的傾斜角。主軸伺服模塊924控制主軸馬達930的旋轉(zhuǎn)。此外，間隙伺服模塊921如后所述。自動功率控制器946根據(jù)從光檢測器945輸出的信號,將指定的信號輸出到LD驅(qū)動器947。LD驅(qū)動器947根據(jù)來自自動功率控制器946的信號，使激光二極管911射出的激光的功率恒定。參照圖42對驅(qū)動裝置900的上述的光學系統(tǒng)的動作進行說明。如圖42所示，將用作記錄介質(zhì)的光盤950設(shè)置在驅(qū)動裝置900中。之后，伺服控制系統(tǒng)920利用間隙伺服模塊921、跟蹤伺服模塊922、傾斜伺服模塊923以及主軸伺服模塊924進行各種伺服控制。激光二極管911向準直透鏡912射出激光。準直透鏡912使激光成為平行光。之后，畸變透鏡914對平行光進行整形。整形后的激光射入分束器915。分束器915將射入的激光分割為射入1/4波長板916的光和射入聚光透鏡942的光。射入聚光透鏡942的激光如上所述那樣被自動功率控制器946所利用。自動功率控制器946基于接收到的激光，將信號輸出到LD驅(qū)動器947，其結(jié)果，激光二極管911能夠射出具有恒定功率的激光。1/4波長板916使射入的激光從直線偏振光變?yōu)閳A偏振光。之后，校正透鏡917校正色差。激光在校正透鏡917之后通過擴展透鏡918和準直透鏡913并射入聚光元件943。聚光兀件943將射入的激光向光盤950聚光，以產(chǎn)生近場光。其結(jié)果,信號被記錄到光盤950。此外，由聚光元件943實現(xiàn)的近場光的生成如后所述。通過向光盤950的聚光動作而產(chǎn)生的近場光也可以用于讀取記錄于光盤950的信號。近場光射入光盤950。光盤950反射或衍射近場光,形成反射光或衍射光(以下稱為“返回光”)。聚光元件943接收返回光。返回光在聚光元件943之后通過準直透鏡913、擴展透鏡918、校正透鏡917以及1/4波長板916而射入分束器915。分束器915使返回光向沃拉斯頓棱鏡919全反射。之后,返回光通過沃拉斯頓棱鏡919和聚光透鏡941而射入光檢測器944。光檢測器944根據(jù)射入的返回光生成RF再生信號和伺服控制信號。伺服控制信號從光檢測器944輸出到伺服控制系統(tǒng)920。伺服控制系統(tǒng)920利用間隙伺服模塊921、跟蹤伺服模塊922、傾斜伺服模塊923以及主軸伺服模塊924進行各種伺服控制。圖43是配置在光盤950附近的聚光元件943的概要放大圖。參照圖42和圖43對聚光元件943進行說明。聚光元件943與光盤950對置。聚光元件943具備SIL961和非球面透鏡962。SIL961和非球面透鏡962產(chǎn)生近場光。聚光元件943還具備透鏡架963。透鏡架963收容SIL961和非球面透鏡962。SIL961具有與光盤950對置的SIL端面964。光盤950具有與SIL端面964對置的記錄面951。近場光從SIL端面964照射到記錄面951。驅(qū)動裝置900還具備安裝于透鏡架96的三軸致動器965。三軸致動器965被用作使聚光元件943接觸或離開記錄面951的離接機構(gòu)的一部分。在圖42及圖43中，三軸致動器965非常簡要化。三軸致動器965例如由三軸方向的線圈或磁軛等要素形成。伺服控制系統(tǒng)920對三軸致動器965的各個線圈施加指定的伺服電壓。其結(jié)果，在三軸致動器965的各個線圈中流過指定的電流，執(zhí)行包括跟蹤伺服和間隙伺服的聚焦伺服及傾斜伺服的控制。圖44是光盤950的周囲的驅(qū)動裝置900的放大概要圖。圖45是與圖44對應(yīng)的驅(qū)動裝置900的概要仰視圖。參照圖44和圖45對驅(qū)動裝置900進一步進行說明。驅(qū)動裝置900還具備清潔SIL961的透鏡清潔機構(gòu)970和接觸光盤950的記錄面951并清潔記錄面951的盤清潔機構(gòu)980。透鏡清潔機構(gòu)970接觸SIL端面964。透鏡清潔機構(gòu)970與安裝在主軸馬達930的光盤950的外周邊緣952相比，更遠離光盤950的旋轉(zhuǎn)軸RX0圖46⑷至圖46(C)是透鏡清潔機構(gòu)970的概要圖。參照圖44至圖46(C)對透鏡清潔機構(gòu)970進行說明。如圖46(A)至圖46(C)所示，透鏡清潔機構(gòu)970可以是利用清潔帶971清潔SIL961的清潔裝置。透鏡清潔機構(gòu)970具備兩個主軸972、973和規(guī)定清潔帶971的行進路徑的兩個托輥(idler)974、975。隨著主軸972、973的旋轉(zhuǎn)，清潔帶971在SIL961上行進。清潔帶971由以不給SIL961造成損傷的程度充分柔軟的樹脂形成。如圖44和圖45所示，聚光元件943向配置在光盤950之外的透鏡清潔機構(gòu)970移動。聚光元件943在透鏡清潔機構(gòu)970的下方上下移動。其結(jié)果，如圖46(A)至圖46(C)所示，SIL端面964接觸或離開清潔帶971。聚光元件943可以通過上述的三軸致動器965(例如，間隙伺服用線圈)上下移位?；蛘?，也可以通過伺服系統(tǒng)以外的其它驅(qū)動機構(gòu)(未圖示)，使聚光元件943上下移位。也可以取而代之，以不是聚光元件943而是透鏡清潔機構(gòu)970接近聚光元件943的方式設(shè)計透鏡清潔機構(gòu)970。如圖44和圖45所示，盤清潔機構(gòu)980具備與光盤950的記錄面951對置的清潔構(gòu)件981和支撐清潔構(gòu)件981的支撐體982。支撐體982通過馬達(未圖示)上下移動。清潔構(gòu)件981可以是長度與光盤950的半徑大致相等的帶體。清潔構(gòu)件981例如由纖維或網(wǎng)狀材料形成。理想的是，清潔構(gòu)件981由拭鏡紙等的材料形成。清潔構(gòu)件981不損傷記錄面951地接觸記錄面951來去除灰塵。圖47是在信號的記錄和/或再生之前的驅(qū)動裝置900的各種動作(例如清潔動作、初期傾斜調(diào)整動作、間隙伺服動作)的概要的流程圖。參照圖42、圖44、圖46(A)至圖47對驅(qū)動裝置900的動作進行說明。(步驟S905)驅(qū)動裝置900的動作從步驟S905開始。在步驟S905中，聚光元件943移動到透鏡清潔機構(gòu)970的下方(參照圖44)。如圖46(A)和圖46(B)所示，聚光元件943向上方移動。其結(jié)果，SIL961從SIL961離開清潔帶971的離開位置移位到SIL961接觸帶的接觸位置。如圖46(B)所示，在SIL961移位到接觸位置之后，清潔帶971行進，去除附著在SIL端面964的灰塵。在清潔結(jié)束后，聚光兀件943向下方移動。之后，聚光兀件943返回到與光盤950的記錄面951對置的位置，步驟S905結(jié)束。之后，開始步驟S906。(步驟S910)在步驟S910中，傾斜伺服模塊923調(diào)整聚光元件943的傾斜角。之后，執(zhí)行步驟S915。(步驟S915)在步驟S915中，間隙伺服模塊921開始間隙伺服。之后，執(zhí)行步驟S920。(步驟S920)在步驟S920中，主軸馬達930使光盤950以低速旋轉(zhuǎn)。之后，執(zhí)行步驟S925。(步驟S925)在步驟S925中，間隙伺服模塊921對光盤950旋轉(zhuǎn)一周時間隙誤差超過指定的閾值的次數(shù)進行計數(shù)。如果計數(shù)得到的數(shù)值低于指定的值(N)，則執(zhí)行步驟S930。在其它情況下，執(zhí)行步驟S945。(步驟S930)在步驟S930中，主軸馬達930使光盤950以指定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。之后，執(zhí)行步驟S935。(步驟S935)在步驟S935中，間隙伺服模塊921判定間隙誤差的絕對值是否低于指定的閾值。如果間隙誤差的絕對值低于指定的閾值，則執(zhí)行步驟S940。在其它情況下，驅(qū)動裝置900停止動作。(步驟S940)在步驟S900中，驅(qū)動裝置900對光盤950記錄信號?；蛘?，驅(qū)動裝置900從光盤950再生信號。之后，驅(qū)動裝置900結(jié)束動作。(步驟S945)在步驟S945中，主軸馬達930停止光盤950的旋轉(zhuǎn)。之后，執(zhí)行步驟S950。(步驟S950)在步驟S950中，盤清潔機構(gòu)980清潔光盤950的記錄面951。之后，執(zhí)行步驟S955。(步驟S955)在步驟S955中，聚光元件943向上方移位。其結(jié)果，SIL961接觸光盤950的記錄面951。之后，執(zhí)行步驟S960。(步驟S960)在步驟S960中，伺服控制系統(tǒng)920判定被分束器915全反射的返回光量是否低于指定的閾值。如果被分束器915全反射的返回光量低于指定的閾值，則再次執(zhí)行步驟S915。在其它情況下，再次執(zhí)行步驟S905。在步驟S905中，清潔帶971直接接觸SIL端面964，去除附著在SIL端面964的灰塵?；覊m由清潔帶971擦拭，其結(jié)果附著在清潔帶971。附著在清潔帶971上的灰塵有時再次附著在SIL端面964。圖46(A)至圖46(C)所示的透鏡清潔機構(gòu)970卷繞清潔帶971。因此，接觸SIL端面964的清潔帶971的面處于未使用的狀態(tài)。然而，清潔帶971的卷繞工序的結(jié)果，能夠擦拭SIL端面964的次數(shù)大幅減少。除此之外，使用清潔帶971的擦拭機構(gòu)和帶的卷繞機構(gòu)使組合驅(qū)動裝置900的光驅(qū)系統(tǒng)大型化。專利文獻1:日本特開2004-30821號公報專利文獻2:日本特開2007-12126號公報
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供一種能夠適當?shù)厝コ覊m的技術(shù)。本發(fā)明的一方面所涉及的光驅(qū)系統(tǒng)包括光盤盒，具有規(guī)定收容能夠旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的收容空間的壁部，該記錄介質(zhì)具有利用用來光學處理信息的光而被掃描的受光面；驅(qū)動裝置，具有使所述記錄介質(zhì)在所述收容空間內(nèi)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部、將所述光照射到所述受光面的光學元件、使所述光學元件在該光學元件與所述受光面對置的內(nèi)位置與比該內(nèi)位置遠離所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的外位置之間移動的移動驅(qū)動部。在所述壁部，在所述外位置形成使所述收容空間內(nèi)的空氣通過隨著所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流排出的排氣口。該排氣口通過所述光學元件的移動軌跡被劃分為以第一面積開口的第一開口區(qū)域和以大于所述第一面積的第二面積開口的第二開口區(qū)域。所述第二開口區(qū)域在所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)方向上位于所述第一開口區(qū)域的上游。本發(fā)明的其它方面所涉及的光盤盒規(guī)定收容具有利用用于光學處理信息的光而被掃描的受光面的能夠旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的收容空間。光盤盒包括壁部，在該壁部形成偏離所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的排氣口，以使所述光盤盒內(nèi)的空氣通過隨著所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流排出。所述排氣口通過所述光的掃描軌跡被劃分為以第一面積開口的第一開口區(qū)域和以大于所述第一面積的第二面積開口的第二開口區(qū)域。所述第二開口區(qū)域在所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)方向上位于所述第一開口區(qū)域的上游。本發(fā)明的其它方面所涉及的驅(qū)動裝置包括使具有利用用于光學處理信息的光而被掃描的受光面的記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部；將光照射到受光面的光學元件；使所述光學元件在該光學元件與所述受光面對置的內(nèi)位置與比該內(nèi)位置遠離所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的外位置之間移動的移動驅(qū)動部；保持所述光學元件的保持部；以及一邊彈性地支撐該保持部，一邊在所述記錄介質(zhì)的聚焦方向和跟蹤方向上驅(qū)動所述保持部的致動器。該致動器使所述光學元件在所述外位置接近沿著所述受光面的平面。本發(fā)明的其它方面所涉及的清潔光驅(qū)系統(tǒng)的方法包括使所述記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的步驟；使所述光學元件從所述內(nèi)位置向所述外位置移動的步驟；以及使所述光學元件接近沿著所述受光面的平面，以使所述光學元件暴露于隨著所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流中的步驟。本發(fā)明的其它方面所涉及的清潔光驅(qū)系統(tǒng)方法包括使所述第一遮閉部移動到所述關(guān)閉位置的步驟；以及使所述記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的步驟。本發(fā)明能夠適當?shù)厝コ覊m。本發(fā)明的目的、特征及優(yōu)點通過以下的詳細說明和附圖將更為清楚。圖1是組合到光驅(qū)系統(tǒng)的例示的光學頭的概要圖。圖2是圖1所示的光學頭的全息元件的概要圖。圖3是圖1所示的光學頭的光檢測器的概要圖。圖4是圖1所示的光學頭的柱面透鏡的概要圖。圖5是圖3所示的光檢測器的4分割受光區(qū)域的概要圖。圖6是第一實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)的概要圖。圖7是表不相對于間隙的全反射返回光量的概要的圖表。圖8(A)是圖6所示的光驅(qū)系統(tǒng)的光盤盒的概要平面圖。圖8(B)是圖8(A)所示的光盤盒的概要仰視圖。圖9是圖8(A)所示的光盤盒的周圍的光驅(qū)系統(tǒng)的概要的放大剖視圖。圖10⑷是圖8⑷所示的光盤盒的概要平面圖。圖10⑶是圖8(B)所示的光盤盒的概要仰視圖。圖11是圖8(A)所示的光盤盒的周圍的光驅(qū)系統(tǒng)的概要的放大剖視圖。圖12是沿著圖10⑷所示的A-A線的光盤盒的概要剖視圖。圖13是表示針對在外位置從開口部吹出的空氣的流速的例示的運算結(jié)果的照片。圖14是第二實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)的概要圖。圖15是圖14所示的光驅(qū)系統(tǒng)的光盤盒的概要平面圖。圖16是沿著圖15所示的A-A線的光盤盒的概要剖視圖。圖17是對圖14所示的光驅(qū)系統(tǒng)的SIL端面的清潔方法的概要的流程圖。圖18是第三實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)的概要圖。圖19是圖18所示的光驅(qū)系統(tǒng)的光學頭的概要圖。圖20是圖18所示的光驅(qū)系統(tǒng)的光盤盒的概要平面圖。圖21是第四實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)的概要圖。圖22(A)是圖21所示的光驅(qū)系統(tǒng)的光盤盒的概要平面圖。圖22⑶是圖22(A)所示的光盤盒的概要仰視圖。圖23是圖22(A)所示的光盤盒的周圍的光驅(qū)系統(tǒng)的概要的放大剖視圖。圖24是第五實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)的概要圖。圖25(A)是圖24所示的光驅(qū)系統(tǒng)的光盤盒的概要平面圖。圖25⑶是圖25(A)所示的光盤盒的概要仰視圖。圖26是圖25(A)所示的`光盤盒的周圍的光驅(qū)系統(tǒng)的概要的放大剖視圖。圖27是第六實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)的概要圖。圖28(A)是圖27所示的光驅(qū)系統(tǒng)的光盤盒的概要平面圖。圖28⑶是圖28(A)所示的光盤盒的概要仰視圖。圖29是圖28(A)所示的光盤盒的周圍的光驅(qū)系統(tǒng)的概要的放大剖視圖。圖30是第七實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)的概要圖。圖31是第八實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)的概要圖。圖32是圖31所示的光驅(qū)系統(tǒng)的遮閉(shutter)機構(gòu)的概要仰視圖。圖33是圖32所示的遮閉機構(gòu)的概要仰視圖。圖34是第九實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)的概要剖視圖。圖35是圖34所示的光驅(qū)系統(tǒng)的遮閉機構(gòu)的概要仰視圖。圖36是圖35所示的遮閉機構(gòu)的概要仰視圖。圖37是第十實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)的概要剖視圖。圖38(A)是圖37所示的光驅(qū)系統(tǒng)的光盤盒的概要平面圖。圖38⑶是圖38(A)所示的光盤盒的概要仰視圖。圖39是第i^一實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)的概要圖。圖40是圖39所示的光驅(qū)系統(tǒng)的等離子體裝置的概要圖。圖41是圖39所示的光驅(qū)系統(tǒng)的光盤盒的概要圖。圖42是以往的光驅(qū)系統(tǒng)所使用的驅(qū)動裝置的概要圖。圖43是圖42所示的驅(qū)動裝置的聚光元件的概要放大圖。圖44是圖42所示的驅(qū)動裝置的放大概要圖。圖45是圖44所示的驅(qū)動裝置的概要仰視圖。圖46⑷是以往的透鏡清潔機構(gòu)的概要圖。圖46(B)是以往的透鏡清潔機構(gòu)的概要圖。圖46(C)是以往的透鏡清潔機構(gòu)的概要圖。圖47是圖42所示的驅(qū)動裝置的各種動作的概要流程圖。具體實施例方式以下，參照附圖對與例示的光驅(qū)系統(tǒng)相關(guān)的各種特征進行說明。此外，在以下說明的實施方式中，對相同的構(gòu)成要素賦予相同的符號。另外，為了說明的簡明化，根據(jù)需要省略重復的說明。附圖所示的結(jié)構(gòu)、配置或形狀及有關(guān)附圖的記載僅以使本實施方式的原理容易理解為目的。因此，本實施方式的原理并不僅限于此。(共同的特征)圖1是組合到光驅(qū)系統(tǒng)的例示的光學頭100的概要圖。參照圖1對光學頭100進行說明。此外，光學頭100可以通用于以下各種實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)。光學頭100包括半導體激光器110、中繼透鏡(relaylens)120、分束器130、準直透鏡140、物鏡單元150、致動器160、全息元件170、柱面透鏡(cylindricallens)180以及光檢測器190。半導體激光器110作為光源發(fā)揮功能，向中繼透鏡120射出激光。激光通過中繼透鏡120并射入分束器130。分束器130向準直透鏡140反射激光。之后，激光通過準直透鏡140而到達物鏡單元150。圖1局部示出能夠旋轉(zhuǎn)的光盤200。光盤200收容在光盤盒內(nèi)，圖1沒有示出光盤盒。光盤盒的各種特征后述。在本實施方式中，光盤200作為記錄介質(zhì)被例示。到達物鏡單元150的激光之后向光盤200射出。光盤200反射或衍射激光。在以下的說明中，反射或衍射的激光被稱為“返回光”。返回光通過物鏡單元150及準直透鏡140再次射入分束器130。分束器130允許返回光的通過，因此返回光通過全息元件170及柱面透鏡180，最終到達光檢測器190。物鏡單元150與光盤200對置。物鏡單元150具備SIL151和非球面透鏡152。被分束器130反射的激光通過非球面透鏡152到達SIL151。返回光通過SIL151到達非球面透鏡152。在本實施方式中，SIL151及非球面透鏡152作為光元件被例示。物鏡單元150還具備保持SIL151及非球面透鏡152的透鏡架153。SIL151及非球面透鏡152收容在透鏡架153。在本實施方式中，透鏡架153作為保持部被例示。SIL151具有與光盤200對置的SIL端面154。光盤200具有與SIL端面154對置的記錄面210。記錄面210接收從SIL端面154射出的光。來自記錄面210的反射光通過SIL151。信息在SIL端面154與記錄面210之間被光學處理。作為光學信息處理，例示對記錄面210的信號記錄或從記錄面210的信號再生。在本實施方式中，記錄面210作為受光面被例示。如上所述，半導體激光器110被用作光源。半導體激光器110向中繼透鏡120射出激光。中繼透鏡120在半導體激光器110與中繼透鏡120之間微調(diào)整焦距。透過中繼透鏡120的激光通過分束器130向準直透鏡140反射。準直透鏡140將激光變換為平行光束。之后，平行光束射入物鏡單元150。射入物鏡單元150的激光通過非球面透鏡152和SIL151向光盤200的記錄面210聚光，從而成為近場光。光學頭100可以利用近場光將信號記錄在光盤200的記錄面210中。取而代之，光學頭100也可以利用近場光讀取記錄在記錄面210中的信號。被記錄面210反射的近場光成為上述的返回光。返回光射入物鏡單元150。利用返回光再生記錄在記錄面210中的信號。致動器160在聚焦方向(光軸方向)和跟蹤方向(徑向)上驅(qū)動物鏡單元150。致動器160能夠使物鏡單元150在聚焦方向上移動來適當?shù)卣{(diào)整記錄面210與SIL端面154之間的距離。致動器160能夠使物鏡單元150在跟蹤方向上移動以利用由SIL151產(chǎn)生的近場光掃描記錄面210。其結(jié)果，能夠在整個記錄面210中記錄和/或再生信號。來自光盤200的記錄面210的返回光通過物鏡單元150及準直透鏡140，并射入分束器130。分束器130允許返回光的透過。透過分束器130的返回光射入全息元件170。全息元件170按照單光束法(APP法)生成跟蹤誤差信號。透過全息元件170的返回光到達柱面透鏡180。透過柱面透鏡180的返回光之后射入光檢測器190。圖2是全息元件170的概要圖。參照圖1及圖2對全息元件170進行說明。在圖2的全息元件170中描繪的實線概概略地表示全息元件170的分割圖案。在圖2的全息元件170中描繪的虛線概略地表示通過全息元件170的激光的形狀(截面)。全息元件170被分割為中央的主光束區(qū)域171、分別配置在主光束區(qū)域171左右的APP主區(qū)域172、173、位于APP主區(qū)域172的上方及下方的兩個APP副區(qū)域174以及位于APP主區(qū)域173的上方及下方的兩個APP副區(qū)域175。被光盤200的記錄面210衍射的±1級光和0級光的干涉光射入APP主區(qū)域172、173。APP副區(qū)域174、175中只射入0級光。圖3是光檢測器190的概要圖。參照圖1至圖3對全息元件170與光檢測器190的關(guān)系進行說明。光檢測器190具有與全息元件170對置的受光面191。受光面191包含4分割受光區(qū)域192、APP主受光部193、194以及APP副受光部195、196。通過了全息元件170的主光束區(qū)域171的激光射入4分割受光區(qū)域192。在以下的說明中，通過了主光束區(qū)域171的激光被稱為“主光束MB”。通過了APP主區(qū)域172、173的激光分別射入APP主受光部193、194。在以下的說明中，通過了APP主區(qū)域172、173的激光被稱為“APP主光束AMB”。通過7APP副區(qū)域174、175的激光射入APP副受光部195、196。通過了APP副區(qū)域174、175的激光在以下的設(shè)置中被稱為“APP副光束ASB”。4分割受光區(qū)域192包括第一區(qū)域101;位于第一區(qū)域101右側(cè)的第二區(qū)域102；位于第一區(qū)域101下方的第三區(qū)域103;以及位于第二區(qū)域102下方的第四區(qū)域104?；谌缦聝蓚€和信號之差生成聚焦錯誤信號，即，根據(jù)在第一區(qū)域101中檢測出的光生成的信號與根據(jù)在第四區(qū)域104中檢測出的光生成的信號的和信號；根據(jù)在第二區(qū)域102中檢測出的光生成的信號與根據(jù)在第三區(qū)域103中檢測出的光生成的信號的和信號?；谌缦滦盘柕目偤蜕蒖F信號根據(jù)在第一區(qū)域101中檢測出的光生成的信號；根據(jù)在第二區(qū)域102中檢測出的光生成的信號；根據(jù)在第三區(qū)域103中檢測出的光生成的信號；根據(jù)在第四區(qū)域104中檢測出的光生成的信號。基于根據(jù)在APP主受光部193、194中分別檢測出的光生成的信號之差生成所謂的推挽信號。通過使用了推挽信號和根據(jù)在APP副受光部195、196中分別檢測出的光生成的信號的規(guī)定的運算，生成所謂的按照APP法(高級推挽法(AdvancedPush-Pullmethod))的跟蹤誤差信號。在利用跟蹤誤差信號的跟蹤伺服控制下，物鏡單元150對光盤200的記錄面210的軌道進行跟蹤。圖4是柱面透鏡180的概要圖。參照圖3和圖4對柱面透鏡180進行說明。柱面透鏡180包括與準直透鏡140對置的凹透面181以及與凹透鏡面181相反側(cè)的圓柱面182。圓柱面182在與光軸垂直的面內(nèi)產(chǎn)生由前側(cè)焦線和后側(cè)焦線規(guī)定的像散差。柱面透鏡180在前側(cè)焦線和后側(cè)焦線之間形成焦點。圓柱面182相對于光檢測器190的4分割受光區(qū)域192傾斜大約45度。圖5是4分割受光區(qū)域192的概要圖。參照圖1、圖3至圖5對4分割受光區(qū)域192進行說明。定位光檢測器190，使4分割受光區(qū)域192與焦點位置一致。如果4分割受光區(qū)域192與焦點位置一致，則如圖5所示那樣4分割受光區(qū)域192上的主光束MB呈大致圓形。如果因光盤200的旋轉(zhuǎn)而使記錄面210在聚焦方向上振動，則記錄面210與物鏡單元150之間的相對距離發(fā)生變動。作為記錄面210與物鏡單元150之間的相對距離變動的結(jié)果，4分割受光區(qū)域192有時會與前側(cè)焦線或后側(cè)焦線一致。如果4分割受光區(qū)域192與前側(cè)焦線一致，則如圖5所示那樣主光束MB呈在第一區(qū)域101與第四區(qū)域104之間延伸的大致橢圓形。如果4分割受光區(qū)域192與后側(cè)焦線一致，則如圖5所示那樣主光束MB呈在第二區(qū)域102與第三區(qū)域103之間延伸的大致橢圓形。(第一實施方式)圖6是光驅(qū)系統(tǒng)300的概要圖。使用圖1、圖3和圖6對光驅(qū)系統(tǒng)300進行說明。光驅(qū)系統(tǒng)300包括具有規(guī)定收容光盤200的收容空間411的壁部410的光盤盒400；以及在收容空間411中驅(qū)動光盤200的驅(qū)動裝置500。驅(qū)動裝置500使光盤200在收容空間411內(nèi)旋轉(zhuǎn)。此外，驅(qū)動裝置500對在收容空間411內(nèi)旋轉(zhuǎn)的光盤200進行信號的記錄或信號的再生等的光學信息處理。光盤盒400具備卡盤(chuck)430和轉(zhuǎn)盤(turntable)420。光盤200被卡盤430和轉(zhuǎn)盤420夾持。驅(qū)動裝置500除了具備上述的光學頭100以外，還具備主軸馬達510。主軸馬達510連接于轉(zhuǎn)盤420，使轉(zhuǎn)盤420旋轉(zhuǎn)。其結(jié)果，光盤200在收容空間411內(nèi)旋轉(zhuǎn)。在本實施方式中，主軸馬達510作為旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部被例示。取而代之，也可以將使光盤200旋轉(zhuǎn)的其它裝置用作旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部。驅(qū)動裝置500還具備使光學頭100在跟蹤方向上移動的橫動(traverse)裝置520。光學頭100安裝于橫動裝置520。橫動裝置520使光學頭100在如下位置之間移動，即光學頭100在由主軸馬達510規(guī)定的旋轉(zhuǎn)軸RX的附近與光盤200的記錄面210對置的內(nèi)位置；光學頭100在比內(nèi)位置更遠離旋轉(zhuǎn)軸RX的位置與記錄面210對置的外位置。其結(jié)果，記錄面210上的光(從光學頭100射出的光)點在內(nèi)位置和外位置之間移動。在本實施方式中，橫動裝置520作為移動驅(qū)動部被例示。取而代之，也可以將能夠使光學頭100在內(nèi)位置與外位置之間移動的其它裝置用作移動驅(qū)動部。驅(qū)動裝置500還具備控制電路530、信號處理電路540以及輸入輸出電路(以下稱為“10電路550”)。如上所述,光學頭100根據(jù)來自光盤200的返回光生成各種信號。光學頭100將所生成的信號輸出到控制電路530?？刂齐娐?30根據(jù)來自光學頭100的信號，執(zhí)行聚焦控制、跟蹤控制、橫動控制或?qū)χ鬏S馬達510的旋轉(zhuǎn)控制等的各種控制。這些控制可以是在已公知的光學信息處理技術(shù)中使用的控制。光學頭100根據(jù)來自光盤200的返回光生成再生信號。再生信號通過控制電路530被輸出到信號處理電路540。信號處理電路540根據(jù)再生信號再生信息。包含由信號處理電路540再生的信息的信號被輸出到IO電路550。這些再生處理可以是在已公知的光學處理技術(shù)中使用的再生技術(shù)。IO電路550也可以從外部裝置(圖未示)接收包含記錄在光盤200中的信息的信號。輸入到IO電路550的信號通過信號處理電路540及控制電路530被輸出到光學頭100。光學頭100也可以根據(jù)輸入到IO電路550的信號，將信息寫入光盤200中。這些寫入技術(shù)也可以是在已公知的光學處理技術(shù)中使用的記錄技術(shù)。光盤盒400的壁部410包括形成有從外位置延伸到內(nèi)位置的開口部412的下壁413;與下壁413對置的上壁414；以及連接于下壁413的外周邊緣和上壁414的外周邊緣的周壁415。如果光盤200旋轉(zhuǎn)，則收容空間411內(nèi)產(chǎn)生氣流。收容空間411內(nèi)的空氣通過收容空間411內(nèi)的氣流在外位置的周圍從開口部412排出。因此，外位置的周圍的開口部412的區(qū)域作為排氣口而發(fā)揮作用。另外，通過開口部412的排氣技術(shù)后述。在本實施方式中，下壁413作為第一壁被例示。上壁414作為第二壁被例示。光盤盒400收容光盤200。在信號的記錄或信號的再生等的處理期間，物鏡單元150的一部分(例如，SIL151或透鏡架153)通過開口部412被插入收容空間411內(nèi)。光驅(qū)系統(tǒng)300利用近場光進行信號的記錄或信號的再生等的光學信息處理。因此，光驅(qū)系統(tǒng)300需要適當?shù)乜刂莆镧R單元150，使SIL端面154與記錄面210之間的距離成為產(chǎn)生近場的距離(nearfield)。一般來說，隨著激光的短波長化，SIL端面與記錄面之間的距離(GAP、間隙)需要設(shè)定為大約幾十nm。在本實施方式中，SIL端面154與記錄面210之間的距離(間隙)設(shè)定為20nm至30nm。光學頭100生成用于檢測SIL端面154與記錄面210之間的距離(間隙)的間隙檢測信號?？刂齐娐?30利用間隙檢測信號進行使SIL端面154與記錄面210之間的距離(間隙)保持恒定的間隙控制。如上所述，光檢測器190的4分割受光區(qū)域192接收SIL端面154反射的光。如果控制電路530控制光學頭100使得4分割受光區(qū)域192所接收到的光量的總和(全反射返回光量)恒定，則SIL端面154與記錄面210之間的距離大致保持恒定。圖7是表不相對于間隙的全反射返回光量的概要的圖。參照圖1、圖6和圖7對例示的間隙控制進行說明。此外，在圖7的圖的上方示出了4分割受光區(qū)域192上的光(來自SIL端面154的反射光)的光點形狀。—般來說，IOOnm以上的間隙稱為“遠場的狀態(tài)”。低于IOOnm的間隙稱為“近場的狀態(tài)”。利用這些術(shù)語對間隙控制進行說明。另外，這些術(shù)語的定義對本實施方式的原理不做任何限定。如果SIL端面154與記錄面210之間的關(guān)系為遠場的狀態(tài)，則與在SIL端面154光被全反射的區(qū)域(全反射區(qū)域)對應(yīng)的光束射入4分割受光區(qū)域192。因此，在4分割受光區(qū)域192上，得到環(huán)狀的光分布。如果SIL端面154接觸記錄面210，則SIL端面154的全反射區(qū)域的反射消失。其結(jié)果，來自SIL端面154的反射光量大幅下降，大約為OmV。此夕卜，SIL151和光盤200表面的覆蓋層(厚度約IUm)的折射率都被設(shè)定為大約2。在本實施方式中，控制電路530控制致動器160，使物鏡單元150在聚焦方向上移位，以便獲得大約150mV的全反射返回光量。其結(jié)果，獲得大約25nm的間隙。此外，間隙控制依賴于光檢測器190的受光面191的增益設(shè)定。因此，上述的各種數(shù)值對本實施方式的原理不做任何限定。對物鏡單元150的聚焦伺服可以基于已公知的技術(shù)。例如，可以控制非球面透鏡152與SIL151的相對位置關(guān)系。取而代之，也可以使準直透鏡140在光軸方向上移位。圖8(A)是光盤盒400的概要平面圖。圖8(B)是光盤盒400的概要仰視圖。圖9是光盤盒400周圍的光驅(qū)系統(tǒng)300的概要的放大剖視圖。使用圖1、圖6、圖8(A)至圖9對光驅(qū)系統(tǒng)300進行說明。如上所述，光盤盒400收容光盤200。因此，光盤200上難以附著灰塵。在本實施方式中，光盤盒400不僅使光盤200難以附著灰塵，也使SIL端面154難以附著灰塵。光盤200設(shè)置在轉(zhuǎn)盤420上。之后，卡盤430夾持轉(zhuǎn)盤420上的光盤200。例如，卡盤430及轉(zhuǎn)盤420例如可以利用磁鐵的磁力來磁性夾持光盤200。光盤200隨著連接于轉(zhuǎn)盤420的主軸馬達510的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)。圖8(A)和圖8(B)中的箭頭表示光盤200的旋轉(zhuǎn)。圖9中的箭頭表示主軸馬達510的旋轉(zhuǎn)。在本實施方式中，光盤200順時針方向旋轉(zhuǎn)。取而代之，光盤200也可以逆時針方向旋轉(zhuǎn)。如圖1所示，非球面透鏡152及SIL151被透鏡架153保持。透鏡架153通過彈性構(gòu)件(例如，懸浮)由致動器160支撐。此外，透鏡架153的支撐結(jié)構(gòu)可以基于已公知的支撐技術(shù)。由于透鏡架153被安裝在致動器160，因此透鏡架153能夠在跟蹤方向(徑向)及聚焦方向上移位。如圖6所示，光學頭100被安裝在橫動裝置520上。橫動裝置520使光學頭100在內(nèi)位置與外位置之間移動。此外，在光學頭100在內(nèi)位置與外位置之間移動的期間，透鏡架153的一部分及SIL151通過開口部412被插入收容空間411內(nèi)。在光學頭100位于內(nèi)位置時，SIL端面154與光盤200的記錄面210對置。在光學頭100位于外位置時，SIL端面154位于光盤200的外周邊緣211的正下方。圖10(A)是光盤盒400的概要平面圖。圖10(B)是光盤盒400的概要仰視圖。圖11是光盤盒400周圍的光驅(qū)系統(tǒng)300的概要的放大剖視圖。圖10(A)對應(yīng)于圖8(A)0圖10⑶對應(yīng)于圖8(B)。圖11對應(yīng)于圖9。參照圖10(A)至圖11對光盤盒400內(nèi)的空氣的流動進行說明。此外，與圖9不同，在圖11中為了清楚地表示空氣的流動，沒有示出透鏡架153或SIL151等的光學頭100的部件。圖10(A)概略地示出在光盤200的上表面與光盤盒400的上壁414之間產(chǎn)生的旋流WF(swirlingflow)。隨著光盤200旋轉(zhuǎn)，在光盤200的上表面與光盤盒400的上壁414之間產(chǎn)生在光盤200的旋轉(zhuǎn)方向上旋轉(zhuǎn)的旋流WF。如果光盤200的轉(zhuǎn)速提高，則旋流WF的速度也提高。旋流WF的速度隨著離開光盤200的旋轉(zhuǎn)軸RX而增大。由于旋轉(zhuǎn)軸RX周圍的旋流WF的速度低，且光盤200的外周邊緣211附近的旋流WF的速度高，因此在收容空間411內(nèi)產(chǎn)生從旋轉(zhuǎn)軸RX向光盤盒400的周壁415增加的壓力分布。以光盤200的外周邊緣211附近的壓力比旋轉(zhuǎn)軸RX周圍的壓力高的方式，在光盤200的上表面與光盤盒400的上壁414之間產(chǎn)生的旋流WF從旋轉(zhuǎn)軸RX趨向光盤盒400的周壁415。圖10(B)概略地示出光盤200的下表面(記錄面210)與光盤盒400的下壁413之間產(chǎn)生的旋流WF。隨著光盤200旋轉(zhuǎn)，在光盤200的下表面與光盤盒400的下壁413之間產(chǎn)生在光盤200的旋轉(zhuǎn)方向上旋轉(zhuǎn)的旋流WF。如果光盤200的轉(zhuǎn)速提高，則旋流WF的速度也提高。旋流WF的速度隨著離開光盤200的旋轉(zhuǎn)軸RX而增大。由于旋轉(zhuǎn)軸RX周圍的旋流WF的速度低，且光盤200的外周邊緣211附近的旋流WF的速度高，因此在收容空間411內(nèi)產(chǎn)生從旋轉(zhuǎn)軸RX向光盤盒400的周壁415增加的壓力分布。以光盤200的外周邊緣211附近的壓力比旋轉(zhuǎn)軸RX周圍的壓力高的方式，光盤200的下表面與光盤盒400的下壁413之間產(chǎn)生的旋流WF從旋轉(zhuǎn)軸RX趨向光盤盒400的周壁415。如圖11所示，在光盤盒400的下壁413上，除了開口部412以外，還形成有中心孔416。中心孔416設(shè)計成比轉(zhuǎn)盤420大，以便容許轉(zhuǎn)盤420的旋轉(zhuǎn)。因此，在轉(zhuǎn)盤420的周圍產(chǎn)生空隙。如上所述，由于旋轉(zhuǎn)軸RX的周圍的壓力低，因此光盤盒400外部的空氣通過轉(zhuǎn)盤420的周圍的空隙被吸入收容空間411內(nèi)。其結(jié)果，旋流WF增強。因此，趨向光盤盒400的周壁415的旋流WF的速度增加。由于旋轉(zhuǎn)軸RX的周圍的低的壓力，空氣也從存在于接近旋轉(zhuǎn)軸RX的內(nèi)位置的周圍的開口部412的區(qū)域流入收容空間411內(nèi)。如上所述，在光盤200的上表面與光盤盒400的上壁414之間產(chǎn)生的旋流WF以及在光盤200的下表面與光盤盒400的下壁413之間產(chǎn)生的旋流WF流向光盤盒400的周壁415。另外，在轉(zhuǎn)盤420周圍的空隙以及內(nèi)位置周圍的開口部412的區(qū)域空氣被吸入收容空間411內(nèi)。其結(jié)果，收容空間411內(nèi)的空氣通過外位置周圍的開口部412的區(qū)域被排出。此夕卜，從轉(zhuǎn)盤420周圍的空隙吸入的空氣量和在內(nèi)位置周圍的開口部412的區(qū)域吸入的空氣量的總和與通過外位置周圍的開口部412的區(qū)域被排出的空氣量大致一致。圖12是沿著圖10(A)所示的A-A線的光盤盒的概要剖視圖。參照圖10(A)和圖12對從開口部412吹出的空氣的流動進行說明。從開口部412向下的箭頭是從開口部412吹出的空氣的流速矢量。箭頭的長度表示從開口部412吹出的空氣的流速的大小。在A-A剖面中，空氣相對于SIL端面154傾斜撞擊。如果箭頭長，則附著在SIL端面154的灰塵被有效地去除。尤其是如果流速矢量的垂直成分大，則SIL端面154的灰塵以非接觸式被有效地去除。圖13表示對在外位置從開口部吹出的空氣的流速的例示的運算結(jié)果。使用圖11至圖13對從開口部412吹出的空氣的流動進一步進行說明。如果光盤200以6000rpm旋轉(zhuǎn)，則從開口部412吹出的空氣的流速在垂直方向上大約5m/sec。趨向開口部412的空氣直接吹至SIL端面154，因此附著在SIL端面154的灰塵以非接觸式被去除。因此，上述的間隙控制得以穩(wěn)定化。其結(jié)果，光驅(qū)系統(tǒng)300的可靠性提高。本實施方式的灰塵去除原理不要求接觸式的透鏡清潔機構(gòu)。因此，允許光驅(qū)系統(tǒng)300的小型設(shè)計。圖13所示的運算結(jié)果是例示性的。從開口部412吹出的空氣流速的運算結(jié)果(空氣的流速矢量的大小)不僅依賴于光盤200的轉(zhuǎn)速，還依賴于光盤200與光盤盒400的上壁414之間的空氣層的厚度、光盤200與光盤盒400的下壁413之間的空氣層的厚度、光盤200的直徑、光盤200的外周邊緣211與光盤盒400的周壁415之間的距離、開口部412的面積、開口部412的位置或轉(zhuǎn)盤420周圍的間隙大小。在圖13所示的運算結(jié)果中，光盤200與光盤盒400的上壁414之間的空氣層的厚度以及光盤200與光盤盒400的下壁413之間的空氣層的厚度被設(shè)計成大約1mm。轉(zhuǎn)盤420周圍的間隙的寬度也被設(shè)計成大約1mm。光盤200的直徑被設(shè)計成120mm。此時，光盤盒400的外形尺寸被設(shè)計成70mmX70mm。開口部412被設(shè)計成從距旋轉(zhuǎn)軸RX(光盤盒400的中心點)18mm的位置延伸到距旋轉(zhuǎn)軸RX65mm的位置(徑向)。開口部412的寬度(切向)被設(shè)計成IOmm(相對于光盤200的中心對稱)。在圖13所示的運算結(jié)果中，光盤200順時針方向旋轉(zhuǎn)。即使光盤200的旋轉(zhuǎn)方向為逆時針，也能夠得到同樣的運算結(jié)果。(第二實施方式)圖14是第二實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)300A的概要圖。參照圖6和圖14對光驅(qū)系統(tǒng)300A進行說明。另外，在圖14中，對與在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的要素相同的要素賦予相同的符號。省略有關(guān)賦予相同符號的要素的說明。光驅(qū)系統(tǒng)300A除了具備在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的驅(qū)動裝置500以外，還具備光盤盒400A。光盤盒400A除了具備在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的卡盤430及轉(zhuǎn)盤420以夕卜，還具備壁部410A。壁部410A除了具有在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的上壁414及周壁415以外，還具有局部封閉收容空間411的下壁413A。在下壁413A上除了形成在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的中心孔416之外，還形成開口部412A。圖15是光盤盒400A的概要平面圖。參照圖14和圖15對光盤盒400A進行說明。圖15示出開口部412A中的SIL151的移動軌跡T(S卩，來自SIL151的光在記錄面210上的掃描軌跡)。橫動裝置520使SILl51沿著開口部412A(S卩，沿著移動軌跡T)移動。在此期間，可以進行對光盤200的記錄面210的光學信息處理。開口部412A用虛線概括地劃分為外位置附近的區(qū)域OA和內(nèi)位置附近的區(qū)域IA0收容空間411中的空氣主要通過區(qū)域OA被排出。區(qū)域OA通過移動軌跡T被概括地劃分為上游區(qū)域UA和下游區(qū)域DA。在光盤200的旋轉(zhuǎn)方向上，上游區(qū)域UA位于下游區(qū)域DA的上游。以使上游區(qū)域UA大于下游區(qū)域DA的方式形成開口部412A。在本實施方式中，下游區(qū)域DA作為第一開口區(qū)域被例示。上游區(qū)域UA作為第二開口區(qū)域被例示。下游區(qū)域DA的開口面積作為第一面積被例示。上游區(qū)域UA的開口面積作為第二面積被例示。圖16是沿著圖15所示的A-A線的光盤盒400A的概要剖視圖。參照圖15和圖16對從開口部412A吹出的空氣進行說明。如上所述，上游區(qū)域UA比下游區(qū)域DA大。因此，與第一實施方式相比，吹至SIL端面154的空氣的流速變大。其結(jié)果，附著在SIL端面154的灰塵以非接觸式被有效地去除。圖17是對SIL端面154的清潔方法的概要的流程圖。參照圖1、圖14至圖17說明對SIL端面154的清潔方法。(步驟S110)對SIL端面154的清潔方法從步驟SllO開始。在步驟SllO中，光盤200在收容空間411內(nèi)旋轉(zhuǎn)。之后，執(zhí)行步驟S120。(步驟S120)在步驟S120中，控制電路530控制橫動裝置520，使SIL151從內(nèi)位置向外位置移動。之后，執(zhí)行步驟S130。(步驟S130)在步驟S130中，控制電路530控制致動器160，調(diào)整從記錄面210或記錄面210的延長面到SIL端面154的距離。例如，致動器160可以使SIL151在聚焦方向上移動，與步驟S120相比使SIL端面154更接近記錄面210。其結(jié)果，SIL端面154被從開口部412A吹出的空氣的氣流強烈地吹打。在本實施方式中，記錄面210及記錄面210的延長面作為沿著受光面的平面被例示。(第三實施方式)圖18是第三實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)300B的概要圖。參照圖6和圖18對光驅(qū)系統(tǒng)300B進行說明。此外，在圖18中，對與在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的要素相同的要素賦予相同的符號。省略有關(guān)賦予相同符號的要素的說明。光驅(qū)系統(tǒng)300B除了具備在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的驅(qū)動裝置400以外，還具備驅(qū)動裝置500B。驅(qū)動裝置500B除了具備在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的橫動裝置520、控制電路530、信號處理電路540以及IO電路550以外，還具備光學頭100B。圖19是光學頭100B的概要圖。參照圖1和圖19對光學頭100B進行說明。光學頭100B與第一實施方式同樣具備半導體激光器110、中繼透鏡120、分束器130、準直透鏡140、物鏡單元150、全息元件170、柱面透鏡180以及光檢測器190。光學頭100B還具備安裝在透鏡架153的彈性的支撐結(jié)構(gòu)165、以及通過支撐結(jié)構(gòu)165與透鏡架153連接的致動器160B。致動器160B通過支撐結(jié)構(gòu)165使由透鏡架153支撐的SIL151及非球面透鏡152在聚焦方向及跟蹤方向(徑向)上移動。圖20是光盤盒400A的概要平面圖。參照圖20對開口部412內(nèi)的SIL151的移動進行說明。圖20中示出開口部412的中心線CL。中心線CL從光盤200的旋轉(zhuǎn)軸RX在半徑方向上延伸。圖20中示出SIL151的移動軌跡T。支撐結(jié)構(gòu)165保持透鏡架153，使移動軌跡T在光盤200的旋轉(zhuǎn)方向上相對于中心線CL向下游偏離。在圖20中，開口部412被虛線概括地劃分為外位置附近的區(qū)域OA和內(nèi)位置附近的區(qū)域IA。收容空間411中的空氣主要通過區(qū)域OA被排出。與第二實施方式同樣，OA區(qū)域通過移動軌跡T被概括地劃分為上游區(qū)域UA和下游區(qū)域DA。上游區(qū)域UA位于下游區(qū)域DA的上游。由于移動軌跡T偏離中心線CL，因此上游區(qū)域UA大于下游區(qū)域DA。因此，附著在SIL端面154的灰塵被有效地去除。在本實施方式中，透鏡架153的保持位置偏離中心線CL。取而代之，也可以是光學頭自身在切向上移動。(第四實施方式)圖21是第四實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)300C的概要圖。參照圖6和圖21對光驅(qū)系統(tǒng)300C進行說明。此外，在圖21中，對與在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的要素相同的要素賦予相同的符號。省略有關(guān)賦予相同符號的要素的說明。光驅(qū)系統(tǒng)300C除了具備在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的驅(qū)動裝置500以外，還具備光盤盒400C。光盤盒400C除了具備在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的卡盤430及轉(zhuǎn)盤420以夕卜，還具備壁部410C。壁部410C除了具有在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的上壁414及周壁415以外，還具有局部封閉收容空間411的下壁413C。在下壁413C上除了形成在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的開口部412及中心孔416以外，還形成排氣口417。從內(nèi)位置在半徑方向上延伸的開口部412專門用于對記錄面210的掃描。因此，橫動裝置520使SIL151沿著開口部412移動。比開口部412更遠離旋轉(zhuǎn)軸RX而形成的排氣口417用于SIL端面154的清潔。在本實施方式中，排氣口417的形成位置作為外位置被例示。圖22(A)是光盤盒400C的概要平面圖。圖22(B)是光盤盒400C的概要仰視圖。圖23是光盤盒400C周圍的光驅(qū)系統(tǒng)300C的概要的放大剖視圖。參照圖1、圖21至圖23對光驅(qū)系統(tǒng)300C進行說明。圖22(A)中示出SIL151的移動軌跡T。開口部412形成相對于移動軌跡T線對稱，另一方面，排氣口417相對于移動軌跡T非對稱。排氣口417通過移動軌跡T被概括地劃分為上游區(qū)域UAC和下游區(qū)域DAC。在光盤200的旋轉(zhuǎn)方向上，上游區(qū)域UAC位于下游區(qū)域DAC的上游。以使上游區(qū)域UAC大于下游區(qū)域DAC的方式形成排氣口417。在本實施方式中，下游區(qū)域DAC作為第一開口區(qū)域被例示。上游區(qū)域UAC作為第二開口區(qū)域被例示。下游區(qū)域DAC的開口面積作為第一面積被例示。上游區(qū)域UAC的開口面積作為第二面積被例示。圖22(B)中示出處于開口部412的內(nèi)端的SIL151、處于開口部412外端的SIL151以及配置在排氣口417的SIL151。橫動裝置520能夠使SIL151從開口部412的內(nèi)端移動到排氣口417。橫動裝置520也可以使SIL151在開口部412的內(nèi)端與外端之間移動，光學掃描記錄面210。配置在開口部412的外端的SIL151位于光盤200的外周邊緣211的正下方?？刂齐娐?30可以控制致動器160，使SIL151向下方移動。其結(jié)果，SIL151從開口部412被拉出。之后，橫動裝置520能夠使SIL151向外方移動。當SIL151到達排氣口417時，控制電路530可以控制致動器160，將SIL151插入到排氣口417。由于排氣口417比開口部412的外端更遠離旋轉(zhuǎn)軸RX，因此，通過排氣口417從收容空間411排出的空氣量比從開口部412的外端區(qū)域排出的空氣量多。因此，與第一實施方式相比，從收容空間411排出的空氣更強烈地吹到SIL端面154。因此，光驅(qū)系統(tǒng)300C具有聞可罪性。在本實施方式中，排氣口417相對于移動軌跡T非對稱。取而代之，排氣口417也可以相對于移動軌跡T對稱。(第五實施方式)圖24是第五實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)300D的概要圖。參照圖6和圖24對光驅(qū)系統(tǒng)300D進行說明。此外，在圖24中，對與在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的要素相同的要素賦予相同的符號。省略有關(guān)賦予相同符號的要素的說明。光驅(qū)系統(tǒng)300D除了具備在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的驅(qū)動裝置500以外，還具備光盤盒400D。光盤盒400D除了具備在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的卡盤430及轉(zhuǎn)盤420以夕卜，還具備壁部410D。壁部410D除了具有在第一實施方式中關(guān)聯(lián)說明的下壁413及周壁415以外，還具由與下壁413對置的上壁414D。與第一實施方式不同的是，在上壁414D上形成流入口418。光盤200的旋轉(zhuǎn)軸RX通過流入口418。在本實施方式中，在上壁414D形成的流入口418為I個。取而代之，也可以在上壁形成多個流入口?；蛘?，可以形成以旋轉(zhuǎn)軸RX為中心的同心圓狀的開口部作為流入口。圖25(A)是光盤盒400D的概要平面圖。圖25(B)是光盤盒400D的概要仰視圖。圖26是光盤盒400D周圍的光驅(qū)系統(tǒng)300D的概要的放大剖視圖。參照圖24至圖26對光驅(qū)系統(tǒng)300D進行說明。如第一實施方式的關(guān)聯(lián)說明所述，光盤200的旋轉(zhuǎn)在旋轉(zhuǎn)軸RX的周圍產(chǎn)生負壓。如上所述，在上壁414D上形成圍繞旋轉(zhuǎn)軸RX的流入口418。因此，不僅從形成在下壁413的中心孔416、還從流入口418也向收容空間411內(nèi)流入空氣。由于流入收容空間411內(nèi)的空氣增加，因此從外位置周圍的開口部412的區(qū)域排出的空氣強烈撞擊配置在外位置的SIL151。由于高流速的空氣吹至SIL端面154，因此附著在SIL端面154的灰塵被有效地去除。因此，光驅(qū)系統(tǒng)300D的可靠性提高。在本實施方式中，上壁414D作為第二壁被例示。本實施方式的上壁414D的結(jié)構(gòu)也可以適用于第二實施方式至第四實施方式。其結(jié)果，實現(xiàn)了有效的非接觸式的灰塵去除。在本實施方式中，流入口418的中心與旋轉(zhuǎn)軸RX一致。取而代之地，只要可實現(xiàn)向收容空間內(nèi)的空氣的吸入，流入口也可以形成在比外位置更接近內(nèi)位置的任意位置。(第六實施方式)圖27是第六實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)300E的概要圖。參照圖24和圖27對光驅(qū)系統(tǒng)300E進行說明。另外，在圖27中，對與在第五實施方式中關(guān)聯(lián)說明的要素相同的要素賦予相同的符號。省略有關(guān)賦予相同符號的要素的說明。光驅(qū)系統(tǒng)300E除了具備在第五實施方式中關(guān)聯(lián)說明的驅(qū)動裝置500以外，還具備光盤盒400E。光盤盒400E除了具備在第五實施方式中關(guān)聯(lián)說明的卡盤430、轉(zhuǎn)盤420以及壁部410D以外，還具備過濾器440。過濾器440分別配置在光盤200的上下。過濾器440捕捉收集收容空間411內(nèi)漂浮的灰塵。過濾器440使用粘合劑被固定在上壁414D和下壁413上。或者，可以嵌入形成于上壁414D和下壁413的槽部(未圖示)。圖28(A)是光盤盒400E的概要平面圖。圖28(B)是光盤盒400E的概要仰視圖。圖29是光盤盒400E周圍的光驅(qū)系統(tǒng)300E的概要的放大剖視圖。參照圖27至圖29對光驅(qū)系統(tǒng)300E進行說明。圖28(A)中示出在開口部412的延伸方向上延伸的中心線CLl以及與中心線CLl垂直的中心線CL2。中心線CL1、CL2的交點相當于光盤200的旋轉(zhuǎn)軸RX。開口部412形成在中心線CL2的左側(cè)，而過濾器440配置在中心線CL2的右側(cè)。如第五實施方式的關(guān)聯(lián)說明所述，隨著光盤200的旋轉(zhuǎn)，通過中心孔416和流入口418，空氣流入收容空間411內(nèi)。空氣流入收容空間411內(nèi)的結(jié)果，有時會將灰塵也導入收容空間411內(nèi)。中心線CLl將收容空間411概括地劃分為第一收容空間SRl和第二收容空間SR2。第一收容空間SRl內(nèi)的旋流WF趨向開口部412，因此第一收容空間SRl內(nèi)漂浮的灰塵通過開口部412被排出。第二收容空間SR2內(nèi)的旋流WF趨向過濾器440，因此第二收容空間SR2內(nèi)漂浮的灰塵通過過濾器440被捕捉收集。收容空間411內(nèi)漂浮的灰塵的顆粒直徑典型的是50nm以上。因此，優(yōu)選的是過濾器440能夠捕捉收集直徑為50nm以上的顆粒。如果通過過濾器440的旋流WF所包含的灰塵的大約50%被捕捉收集，則不容易發(fā)生向SIL151的灰塵附著。此外，過濾器440的捕捉收集效率根據(jù)過濾器440的壓力損失可以被規(guī)定在5%至100%的范圍內(nèi)。過濾器440能夠使收容空間411內(nèi)漂浮的灰塵大幅降低，因此向SIL端面154與記錄面210之間的灰塵入侵不容易發(fā)生。因此，光驅(qū)系統(tǒng)300E具有高可靠性。過濾器440也可以組合到第二至第四實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)300A至300C。如果光驅(qū)系統(tǒng)300A至300C具備過濾器440，則光驅(qū)系統(tǒng)300A至300C具有高可靠性。(第七實施方式)圖30是第七實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)300F的概要圖。參照圖24、圖27和圖30對光驅(qū)系統(tǒng)300F進行說明。此外，在圖30中，對與在第五實施方式和第六實施方式中關(guān)聯(lián)說明的要素相同的要素賦予相同的符號。省略有關(guān)賦予相同符號的要素的說明。光驅(qū)系統(tǒng)300F除了具備在第五實施方式中關(guān)聯(lián)說明的驅(qū)動裝置500以外，還具備光盤盒400F。光盤盒400F除了具備在第五實施方式中關(guān)聯(lián)說明的卡盤430、轉(zhuǎn)盤420以及壁部410D以外，還具備過濾器445。過濾器445安裝在流入口418，從自流入口418流入收容空間411的空氣中去除灰塵。過濾器445可以具有與在第六實施方式中關(guān)聯(lián)說明的過濾器440相同的特性。(第八實施方式)圖31是第八實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)300G的概要剖視圖。參照圖21和圖31對光驅(qū)系統(tǒng)300G進行說明。此外，在圖31中，對與在第四實施方式中關(guān)聯(lián)說明的要素相同的要素賦予相同的符號。省略有關(guān)賦予相同符號的要素的說明。光驅(qū)系統(tǒng)300G與第四實施方式同樣,具備驅(qū)動裝置500和光盤盒400C。光驅(qū)系統(tǒng)300G還具備遮閉機構(gòu)600。遮閉機構(gòu)600包括局部覆蓋壁部410C的遮閉片610和驅(qū)動遮閉片610的遮閉驅(qū)動機構(gòu)620。圖32是遮閉機構(gòu)600的概要仰視圖。參照圖31和圖32對遮閉機構(gòu)600進行說明。遮閉片610包括與光盤盒400C的下壁413C鄰接的下遮閉板611。下遮閉板611具有配置在光盤200的旋轉(zhuǎn)軸RX附近的內(nèi)板612和比內(nèi)板612更遠離旋轉(zhuǎn)軸RX的外板613。圖32所示的下遮閉板611位于打開位置，開口部412和排氣口417從下遮閉板611露出。因此，在下遮閉板611位于打開位置時，SIL151能夠在開口部412的外端與內(nèi)端之間移動。如果下遮閉板611位于打開位置，則內(nèi)板612與開口部412鄰接。另一方面，比內(nèi)板612細的外板613大幅偏離排氣口417。遮閉驅(qū)動機構(gòu)620具備馬達621;從馬達621向與開口412的延伸方向垂直的方向延伸的導螺桿622；以及連接于外板613和導螺桿622的彈簧構(gòu)件623。馬達621使導螺桿622旋轉(zhuǎn)。導螺桿622旋轉(zhuǎn)的結(jié)果，使得通過彈簧構(gòu)件623連接于導螺桿622的下遮閉板611在導螺桿622的延伸方向上移動。圖33是遮閉機構(gòu)600的概要仰視圖。參照圖32和圖33對遮閉機構(gòu)600進行說明。圖33所示的下遮閉板611通過馬達621的驅(qū)動從圖32所示的打開位置向關(guān)閉位置移動。在下遮閉板611位于關(guān)閉位置的期間，內(nèi)板612封閉開口部412。另一方面,排氣口417從下遮閉板611露出。因此，在下遮閉板611位于關(guān)閉位置的期間，SIL151可以被插入到排氣口417。在本實施方式中，下遮閉板611作為第一遮閉部被例示。由于下遮閉板611關(guān)閉開口部412，因此從排氣口417排出的空氣量增大。因此，附著在SIL151的灰塵被有效地去除。(第九實施方式)圖34是第九實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)300H的概要剖視圖。參照圖6、圖31和圖34對光驅(qū)系統(tǒng)300H進行說明。另外，在圖34中，對與在第一實施方式和第八實施方式中關(guān)聯(lián)說明的要素相同的要素賦予相同的符號。省略有關(guān)賦予相同符號的要素的說明。光驅(qū)系統(tǒng)300H與第一實施方式同樣，具備驅(qū)動裝置500和光盤盒400C。光驅(qū)系統(tǒng)300H還具備遮閉機構(gòu)600H。遮閉機構(gòu)600H與第八實施方式同樣具備遮閉驅(qū)動機構(gòu)620。遮閉機構(gòu)600H還具備由遮閉驅(qū)動機構(gòu)620驅(qū)動的遮閉片610H。圖35是遮閉機構(gòu)600H的概要仰視圖。參照圖34和圖35對遮閉機構(gòu)600H進行說明。遮閉片61011包括與光盤盒400(:的下壁413(:鄰接的下遮閉板61111。下遮閉板61111具有配置在光盤200的旋轉(zhuǎn)軸RX附近的內(nèi)板612H和比內(nèi)板612H更遠離旋轉(zhuǎn)軸RX的外板613H。圖35所示的下遮閉板611H位于打開位置，開口部412從下遮閉板611H露出。因此，在下遮閉板61IH位于打開位置的期間，SIL151能夠在開口部412的外端(S卩，外位置)與內(nèi)端(即，內(nèi)位置)之間移動。如果下遮閉板611H位于打開位置，則內(nèi)板612H與內(nèi)位置周圍的開口部412的區(qū)域鄰接。另一方面，比內(nèi)板612H細的外板613H大幅偏離開口部412。圖36是遮閉機構(gòu)600H的概要仰視圖。參照圖35和圖36對遮閉機構(gòu)600H進行說明。圖36所示的下遮閉板611H通過馬達621的驅(qū)動從圖35所示的打開位置向關(guān)閉位置移動。在下遮閉板61IH位于關(guān)閉位置時，開口部412的外端周圍的區(qū)域從下遮閉板61IH露出。因此，在使SIL151移動到開口部412的外端后，下遮閉板611H能夠不干涉SIL151而移動到關(guān)閉位置。在本實施方式中，下遮閉板611H作為第一遮閉部被例示。由于下遮閉板611H局部關(guān)閉開口部412，因此從排氣口412的外端區(qū)域排出的空氣量增大。因此，附著在SIL151的灰塵被有效地去除。本實施方式的遮閉機構(gòu)600H也可以用于第二實施方式和第三實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)300A、300B。如果遮閉機構(gòu)600H用于光驅(qū)系統(tǒng)300A、300B，則附著在SILl51的灰塵被有效地去除。(第十實施方式)圖37是第十實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)3001的概要剖視圖。參照圖27、圖34和圖37對光驅(qū)系統(tǒng)3001進行說明。此外，在圖37中，對與在第六實施方式、第八實施方式和第九實施方式中關(guān)聯(lián)說明的要素相同的要素賦予相同的符號。省略有關(guān)賦予相同符號的要素的說明。光驅(qū)系統(tǒng)3001與第六實施方式同樣,具備驅(qū)動裝置500和光盤盒400E。光驅(qū)系統(tǒng)3001還具備遮閉機構(gòu)6001。遮閉機構(gòu)6001與第八實施方式同樣具備遮閉驅(qū)動機構(gòu)620。遮閉機構(gòu)6001還具備由遮閉驅(qū)動機構(gòu)620驅(qū)動的遮閉片6101。遮閉片6101包括:與光盤盒400E的下壁413鄰接的下遮閉板6111;與上壁414D鄰接的上遮閉板619；以及連接于下遮閉板6111和上遮閉板619的中間板618。遮閉驅(qū)動機構(gòu)620的彈簧構(gòu)件623與中間板618連接。遮閉驅(qū)動機構(gòu)620與第八實施方式和第九實施方式同樣，使遮閉片6101在打開位置與關(guān)閉位置之間移動。上遮閉板619和下遮閉板6111通過中間板618連接，因此上遮閉板619和下遮閉板6111連動地在打開位置與關(guān)閉位置之間移動。在本實施方式中，下遮閉板6111作為第一遮閉部被例示。上遮閉板619作為第二遮閉部被例示。圖38(A)是光盤盒400E的概要平面圖。圖38⑶是光盤盒400E的概要仰視圖。參照圖37至圖38(B)對光盤盒400E上的上遮閉板619和下遮閉板6111的滑動動作進行說明。圖38(A)所示的上遮閉板619位于關(guān)閉位置。圖38⑶所示的下遮閉板6111也位于關(guān)閉位置。如果上遮閉板619位于關(guān)閉位置，則下遮閉板6111也位于關(guān)閉位置。如果上遮閉板619位于打開位置，則下遮閉板6111也位于打開位置。配置在關(guān)閉位置的上遮閉板619關(guān)閉形成于光盤盒400E的上壁414D的流入口418。配置在打開位置的上遮閉板619開放流入口418。配置在關(guān)閉位置的上遮閉板6111關(guān)閉形成于光盤盒400E的下壁413的開口部412。配置在打開位置的上遮閉板6111開放開口部412。在上遮閉板619和下遮閉板6111都位于關(guān)閉位置時，灰塵向收容空間411內(nèi)的入侵路徑大幅降低。在此期間，如果光盤200旋轉(zhuǎn)幾秒至幾十秒，則收容空間411內(nèi)的灰塵大部分通過過濾器440被捕捉收集。由于收容空間411內(nèi)漂浮的灰塵大幅減少，因此光驅(qū)系統(tǒng)3001具有高可靠性。光盤盒400E也可以具備配置在位于關(guān)閉位置的上遮閉板619與上壁414D之間的密封構(gòu)件(未圖示)。如果密封構(gòu)件(例如，硅橡膠)包圍流入口418的周圍，則在光盤200旋轉(zhuǎn)的期間灰塵從流入口418的流入被大幅降低。光盤盒400E也可以具備配置在位于關(guān)閉位置的下遮閉板6111與下壁413之間的密封構(gòu)件(圖未示)。如果密封構(gòu)件(例如，硅橡膠)包圍流入口412的周圍，則在光盤200旋轉(zhuǎn)的期間灰塵從開口部412的流入被大幅降低。在本實施方式中，上遮閉板619和下遮閉板6111—體形成。取而代之，上遮閉板和下遮閉板也可以是分離的構(gòu)件。上述的各種遮閉機構(gòu)也可以安裝在光盤盒上?；蛘?，遮閉機構(gòu)可以安裝于驅(qū)動裝置。(第H^一實施方式)上述的各種灰塵去除技術(shù)的原理關(guān)聯(lián)于從SIL發(fā)出的近場光而被加以說明。然而，上述的各種灰塵去除技術(shù)的原理也可以應(yīng)用于使用SIL以外的光學元件的光驅(qū)系統(tǒng)。圖39是利用等離子體共振(plasmonresonance)的例示的光驅(qū)系統(tǒng)300J的概要圖。光驅(qū)系統(tǒng)300J具備對光盤200J進行光學信息處理(信號的記錄或再生)的等離子體裝置700。等離子體裝置700具有與第一實施方式至第十實施方式的光學頭及橫動裝置對應(yīng)的功能。等離子體裝置700具備:對光盤200J進行信號的記錄和/或再生的等離子體頭710；以及保持等離子體頭710的滑塊720?；瑝K720通過由光盤200J的旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的氣流向離開光盤200J的方向移位。此外，用于使光盤200J旋轉(zhuǎn)的裝置與在第一實施方式至第十實施方式中關(guān)聯(lián)說明的驅(qū)動機構(gòu)相同。等離子體裝置700還具備通過柔軟的板彈簧結(jié)構(gòu)(一般稱為“萬向接頭”)保持滑塊720的懸浮體(suspension)730;保持懸浮體730的保持構(gòu)件740;以及使保持構(gòu)件740在光盤200J的面內(nèi)轉(zhuǎn)動的音圈馬達(voicecoilmotor)750。音圈馬達750例如可以具備旋轉(zhuǎn)軸、線圈、磁體或磁軛等的各種部件。光驅(qū)系統(tǒng)300J具備向等離子體頭710提供記錄信號或傳輸來自等離子體頭710的再生信號的FPC(未圖示)；放大來自等離子體頭710的信號的前置放大器(未圖示)；用于控制它們或使它們動作的電路板、機械部件或電子部件。等離子體裝置700也可以具有與利用等離子體共振來處理信息的已公知的裝置相同的結(jié)構(gòu)。因此，本實施方式的原理不僅限于圖示的詳細結(jié)構(gòu)。圖40是對光盤200J進行光學信息處理的等離子體裝置700的概要圖。參照圖39和圖40對等離子體裝置700進一步進行說明。等離子體裝置700還具備安裝于滑塊720的半導體激光器760和波導770。從半導體激光器760射出的激光通過波導770導入等離子體頭710。光盤200J包括形成與等離子體頭710對置的記錄面210的記錄膜219。在本實施方式中，記錄膜219包括相變材料。若半導體激光器760向等離子體頭710射出激光，則在等離子體頭710與記錄膜219之間產(chǎn)生等離子體共振。其結(jié)果，局部的溫度上升在記錄膜219中產(chǎn)生。記錄膜219上局部性的溫度上升的結(jié)果，使記錄膜219的晶體結(jié)構(gòu)在晶體與非結(jié)晶形之間發(fā)生變化。等離子體頭710與記錄膜219之間的共振的大小依賴于記錄膜219的晶體結(jié)構(gòu)(晶體或非結(jié)晶形)。利用記錄膜219的晶體結(jié)構(gòu)的變化，基于等離子體頭710與記錄膜219之間的共振的大小進行信息的記錄和/或再生。光驅(qū)系統(tǒng)300J也可以具備基于共振的大小檢測再生信號的檢測部(未圖示)。從等離子體頭710射出的激光的反射光或透射光隨著等離子體頭710與記錄膜219之間的等離子體共振的狀態(tài)而變化。檢測部可以根據(jù)反射光或透射光的變化再生信息。在本實施方式中，等離子體頭710作為光學元件被例示。圖41是組合到光驅(qū)系統(tǒng)300J的光盤盒400J的概要圖。參照圖39和圖41對光盤盒400J進行說明。等離子體頭710與第一實施方式至第十實施方式的SIL不同，描繪弧形的軌跡AT。在光盤盒400J上沿著弧形的軌跡AT形成弧形的開口部412J。當?shù)入x子體頭710配置在開口部412J的外端(離光盤200J的旋轉(zhuǎn)軸RX最遠的端部)附近時，如果光盤200J旋轉(zhuǎn)，則通過光盤盒400J內(nèi)產(chǎn)生的旋流有效地去除附著在等離子體頭710上的灰塵。如果以使相對于弧形的軌跡AT上游的開口面積大于下游的開口面積的方式形成開口部412J，則灰塵的去除更加有效。也可以在比開口部412J更遠離旋轉(zhuǎn)軸RX的位置形成排氣口。排氣口可以專門用于去除附著在等離子體頭710的灰塵。在第一實施方式至第十實施方式中關(guān)聯(lián)說明的各種特征(例如，過濾結(jié)構(gòu)和遮閉結(jié)構(gòu))適用于本實施方式的光驅(qū)系統(tǒng)300J。上述的一系列實施方式只不過是光驅(qū)系統(tǒng)的例子。因此，上述的說明并沒有限定上述實施方式的原理的適用范圍。應(yīng)容易理解在沒有脫離上述原理的本意及范圍的范圍內(nèi)本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠進行各種變形或組合。在上述的各種實施方式中關(guān)聯(lián)說明的例示的光驅(qū)系統(tǒng)主要具備以下特征。上述的實施方式的一個方面所涉及的光驅(qū)系統(tǒng)包括光盤盒，具有規(guī)定收容能夠旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的收容空間的壁部，該記錄介質(zhì)具有利用用于光學處理信息的光而被掃描的受光面；驅(qū)動裝置，具有使所述記錄介質(zhì)在所述收容空間內(nèi)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部、將所述光照射到所述受光面的光學元件、以及使所述光學元件在該光學元件與所述受光面對置的內(nèi)位置與比該內(nèi)位置遠離所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的外位置之間移動的移動驅(qū)動部。在所述壁部，在所述外位置形成使所述收容空間內(nèi)的空氣通過隨著所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流排出的排氣口。該排氣口通過所述光學元件的移動軌跡被劃分為以第一面積開口的第一開口區(qū)域和以大于所述第一面積的第二面積開口的第二開口區(qū)域。所述第二開口區(qū)域在所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)方向上位于所述第一開口區(qū)域的上游。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，光盤盒的壁部規(guī)定收容記錄介質(zhì)的收容空間。驅(qū)動裝置的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部使記錄介質(zhì)在收容空間內(nèi)旋轉(zhuǎn)。驅(qū)動裝置的光學元件將光照射到記錄介質(zhì)的受光面。驅(qū)動裝置的移動驅(qū)動部使光學元件在內(nèi)位置與比該內(nèi)位置遠離記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的外位置之間移動。其結(jié)果，來自光學兀件的光掃描受光面。在內(nèi)位置，由于光學兀件與受光面對置，因此光從光學元件被照射到受光面。其結(jié)果，信息被光學處理。起因于記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)的氣流在外位置產(chǎn)生正壓。在壁部，由于在外位置形成有排氣口，所以收容空間的空氣通過排氣口被排出。因此，灰塵不容易滯留在收容空間內(nèi)。排氣口通過光學元件的移動軌跡被劃分為以第一面積開口的第一開口區(qū)域和以大于第一面積的第二面積開口的第二開口區(qū)域。由于第二開口區(qū)域在記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)方向上位于第一開口區(qū)域的上游，因此，被移動驅(qū)動部移動到外位置的光學元件受到從排氣口吹出的空氣強烈沖擊。因此，在光學元件上付著的灰塵被非接觸式地去除。其結(jié)果，光驅(qū)系統(tǒng)具有聞可罪性。在上述結(jié)構(gòu)中，所述排氣口可以是從所述外位置延伸到所述內(nèi)位置的開口部。所述移動驅(qū)動部可以使所述光學元件沿著所述開口部移動，對所述信息進行光學處理。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，移動驅(qū)動部可以使光學元件沿著從外位置延伸到內(nèi)位置的開口部移動。在光學兀件移動的期間，來自光學兀件的光可以掃描受光面，對信息進行光學處理。由于起因于記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)的氣流在外位置產(chǎn)生正壓，因此收容空間的空氣從外位置的周圍的開口部被排出。因此，開口部在外位置的周圍起排氣口的作用。被移動驅(qū)動部移動到外位置的光學元件受到從開口部吹出的空氣強烈沖擊。因此，在光學元件付著的灰塵被非接觸式地去除。其結(jié)果，光驅(qū)系統(tǒng)具有高可靠性。在上述結(jié)構(gòu)中，在所述壁部可以形成從所述內(nèi)位置延伸的開口部。所述移動驅(qū)動部可以使所述光學元件沿著所述開口部移動，來掃描所述受光面。所述排氣口可以形成在比所述開口部遠離所述旋轉(zhuǎn)軸的位置。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，移動驅(qū)動部可以使光學元件沿著從內(nèi)位置延伸的開口部移動。在光學兀件移動的期間，來自光學兀件的光可以掃描受光面，對信息進行光學處理。由于排氣口形成在比開口部遠離旋轉(zhuǎn)軸的位置，因此被移動驅(qū)動部移動到外位置的光學元件受到從開口部吹出的空氣強烈沖擊。因此，在光學元件上付著的灰塵被非接觸式地去除。其結(jié)果，光驅(qū)系統(tǒng)具有高可靠性。在上述結(jié)構(gòu)中，所述壁部可以具有形成有所述排氣口的第一壁以及與該第一壁對置的第二壁。在該第二壁上可以形成使空氣流入所述收容空間內(nèi)的流入口。該流入口可以形成在與所述外位置相比更接近所述內(nèi)位置的位置。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，在與形成有排氣口的第一壁對置的第二壁，形成與外位置相比更接近內(nèi)位置的流入口。由于起因于記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)的氣流在內(nèi)位置產(chǎn)生負壓，所以空氣通過流入口流入收容空間內(nèi)。由于從流入口向排氣口的空氣的流量增加，因此被移動驅(qū)動部移動到外位置的光學元件受到從排氣口吹出的空氣強烈沖擊。因此，在光學元件上付著的灰塵被非接觸式地去除。其結(jié)果，光驅(qū)系統(tǒng)具有高可靠性。在上述結(jié)構(gòu)中，還可以包括具有在至少局部關(guān)閉所述開口部的關(guān)閉位置與打開所述開口部的打開位置之間移動的第一遮閉部的遮閉機構(gòu)。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，由于第一遮閉部在關(guān)閉位置與打開位置之間移動，因此開口部的面積可變。因而，沖擊到被移動驅(qū)動部移動到外位置的光學元件的空氣的流量可以利用第一遮閉部而被適當?shù)卣{(diào)整。在上述結(jié)構(gòu)中，所述第一遮閉部可以在所述關(guān)閉位置關(guān)閉所述排氣口。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，由于第一遮閉部在關(guān)閉位置關(guān)閉了排氣口，因此灰塵不容易通過排氣口吸入收容空間。在上述結(jié)構(gòu)中，所述光驅(qū)系統(tǒng)還可以包括具有第一遮閉部以及與該第一遮閉部連動地移動的第二遮閉部的遮閉機構(gòu)，該第一遮閉部在關(guān)閉所述開口部的關(guān)閉位置與打開所述開口部的打開位置之間移動。如果所述第一遮閉部位于所述關(guān)閉位置，則所述第二遮閉器可以關(guān)閉所述流入口。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，由于第一遮閉部在關(guān)閉位置關(guān)閉了排氣口，所以灰塵不容易通過排氣口吸入收容空間。如果第一遮閉部位于所述關(guān)閉位置，則第二遮閉器可以關(guān)閉所述流入口。因此，灰塵不容易通過流入口吸入收容空間。在上述結(jié)構(gòu)中，所述光盤盒可以具備捕捉收集所述收容空間內(nèi)的灰塵的過濾器。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，由于過濾器捕捉收集收容空間內(nèi)的灰塵，所以在收容空間內(nèi)漂浮的灰塵會減少。因此，光驅(qū)系統(tǒng)具有聞可罪性。在上述結(jié)構(gòu)中，所述光盤盒可以具備安裝在所述流入口的過濾器。該過濾器可以從流入所述收容空間的所述空氣中捕捉收集灰塵。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，由于安裝在流入口的過濾器可以從流入收容空間的空氣中捕捉收集灰塵，所以流入收容空間的灰塵會減少。因此，光驅(qū)系統(tǒng)具有高可靠性。在上述結(jié)構(gòu)中，所述光盤盒可以具備捕捉收集所述收容空間內(nèi)的灰塵的過濾器。在所述第一遮閉部位于所述關(guān)閉位置的期間，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部可以使所述記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，由于在第一遮閉部位于關(guān)閉位置的期間，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部使記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)，因此在收容空間內(nèi)產(chǎn)生氣流。因而，過濾器可以有效率地捕捉收集收容空間內(nèi)的灰塵。其結(jié)果，光驅(qū)系統(tǒng)具有高可靠性。在上述結(jié)構(gòu)中，所述光學元件可以利用所述光掃描所述受光面，進行向所述記錄介質(zhì)記錄信息和再生保存在所述記錄介質(zhì)中的信息的至少其中之一的光學信息處理。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，光學元件用光掃描受光面，進行向記錄介質(zhì)記錄信息和再生保存在記錄介質(zhì)中的信息的至少其中之一的光學信息處理。由于光驅(qū)系統(tǒng)具有高可靠性，因此可以適當?shù)剡M行光學信息處理。在上述結(jié)構(gòu)中，所述光學元件可以使所述光聚光于所述受光面，并產(chǎn)生近場光。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，由于光學元件使光聚光于受光面，并產(chǎn)生近場光，因此信息可以利用近場光加以處理。在上述結(jié)構(gòu)中，所述驅(qū)動裝置可以具有保持所述光學元件的保持部，和一邊彈性地支撐該保持部一邊在所述記錄介質(zhì)的聚焦方向和跟蹤方向上驅(qū)動所述保持部的致動器。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，致動器彈性地支撐保持光學元件的保持部。由于致動器在記錄介質(zhì)的聚焦方向和跟蹤方向上驅(qū)動保持部，因此受光面被適當?shù)貟呙?。在上述的各種實施方式中關(guān)聯(lián)說明的例示的光盤盒主要具備以下特征。上述的實施方式的一方面所涉及的光盤盒，規(guī)定收容具有利用用于光學處理信息的光而被掃描的受光面的能夠旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的收容空間。光盤盒包括壁部，在該壁部形成偏離所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的排氣口，以使所述光盤盒內(nèi)的空氣通過隨著所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流排出。所述排氣口通過所述光的掃描軌跡被劃分為以第一面積開口的第一開口區(qū)域和以大于所述第一面積的第二面積開口的第二開口區(qū)域。所述第二開口區(qū)域在所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)方向上位于所述第一開口區(qū)域的上游。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，光盤盒的壁部規(guī)定收容記錄介質(zhì)的收容空間。起因于記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)的氣流在外位置產(chǎn)生正壓。在壁部，由于在外位置形成了排氣口，所以收容空間的空氣通過排氣口被排出。因此，灰塵不容易滯留在收容空間內(nèi)。排氣口通過光的掃描軌跡被劃分為以第一面積開口的第一開口區(qū)域和以大于第一面積的第二面積開口的第二開口區(qū)域。由于第二開口區(qū)域在記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)方向上位于第一開口區(qū)域的上游，因此可以在外位置適當?shù)厝コ蓴_光的灰塵。在上述的各種實施方式中關(guān)聯(lián)說明的例示的驅(qū)動裝置主要具備以下特征。上述的實施方式的一方面所涉及的驅(qū)動裝置包括使具有利用用于光學處理信息的光而被掃描的受光面的記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部；將光照射到所述受光面的光學元件；使所述光學元件在該光學元件與所述受光面對置的內(nèi)位置與比該內(nèi)位置遠離所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的外位置之間移動的移動驅(qū)動部；保持所述光學元件的保持部；以及一邊彈性地支撐該保持部，一邊在所述記錄介質(zhì)的聚焦方向和跟蹤方向上驅(qū)動所述保持部的致動器。所述致動器使所述光學元件在所述外位置接近沿著所述受光面的平面。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，驅(qū)動裝置的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部使記錄介質(zhì)在收容空間內(nèi)旋轉(zhuǎn)。驅(qū)動裝置的光學元件將光照射到記錄介質(zhì)的受光面。驅(qū)動裝置的移動驅(qū)動部使光學元件在內(nèi)位置與比該內(nèi)位置遠離記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的外位置之間移動。其結(jié)果，來自光學元件的光掃描受光面。在內(nèi)位置，由于光學元件與受光面對置，因此光從光學元件被照射到受光面。其結(jié)果，信息被光學處理。起因于記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)的氣流在外位置產(chǎn)生E壓。由于致動器使光學元件在外位置接近沿著受光面的平面，因此被移動驅(qū)動部移動到外位置的光學元件受到排氣口吹出的空氣強烈沖擊。因此，在光學元件上付著的灰塵被非接觸式地去除。其結(jié)果，光驅(qū)系統(tǒng)具有高可靠性。在上述的各種實施方式中關(guān)聯(lián)說明的例示的清潔光驅(qū)系統(tǒng)的方法，主要具備以下特征。上述的實施方式的一個方面所涉及的清潔光驅(qū)系統(tǒng)的方法包括使所述記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的步驟；使所述光學元件從所述內(nèi)位置向所述外位置移動的步驟；以及使所述光學元件接近沿著所述受光面的平面，以使所述光學元件被隨著所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流吹打的步驟。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，起因于記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)的氣流在外位置產(chǎn)生正壓。由于被移動到外位置的光學元件接近沿著受光面的平面，被氣流強烈沖擊。因此，在光學元件上付著的灰塵被非接觸式地去除。其結(jié)果，光驅(qū)系統(tǒng)具有高可靠性。上述的實施方式的其他方面所涉及的清潔光驅(qū)系統(tǒng)的方法包括使所述第一遮閉部移動到所述關(guān)閉位置的步驟；以及使所述記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的步驟。根據(jù)此結(jié)構(gòu)，由于第一遮閉部被移動到所述關(guān)閉位置，因此灰塵不容易被吸入收容空間內(nèi)。過濾器可以利用因記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流，有效率地捕捉收集收容空間內(nèi)的灰塵。產(chǎn)業(yè)上的可利用性上述的各種實施方式的原理能夠適當?shù)厝コ谑杖萦涗浗橘|(zhì)的收容空間內(nèi)漂浮的灰塵或附著在向記錄介質(zhì)射出光的光學元件上的灰塵。因此，上述實施方式的原理對于記錄介質(zhì)與透鏡的間隙必須狹窄的裝置(例如，SIL)特別有效。適當?shù)厝コ覊m的結(jié)果，灰塵難以夾在狹窄的間隙，因此利用上述實施方式的原理的裝置(例如計算機的外部存儲裝置、記錄影像數(shù)據(jù)的影像記錄裝置、再生影像數(shù)據(jù)的影像再生裝置)能夠處理大容量的數(shù)據(jù)。上述實施方式的原理還能夠利用于具有存儲和/或再生數(shù)據(jù)的功能的各種裝置(例如，汽車導航系統(tǒng)、隨身聽、數(shù)碼相機、數(shù)碼攝像機)。權(quán)利要求1.一種光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于包括:光盤盒，具有規(guī)定收容能夠旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的收容空間的壁部，該記錄介質(zhì)具有利用用于光學處理信息的光而被掃描的受光面；驅(qū)動裝置，具有使所述記錄介質(zhì)在所述收容空間內(nèi)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部、將所述光照射到所述受光面的光學元件、以及使所述光學元件在該光學元件與所述受光面對置的內(nèi)位置與比該內(nèi)位置遠離所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的外位置之間移動的移動驅(qū)動部，其中，在所述壁部，在所述外位置形成使所述收容空間內(nèi)的空氣通過隨著所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流排出的排氣口，所述排氣口，通過所述光學元件的移動軌跡被劃分為以第一面積開口的第一開口區(qū)域和以大于所述第一面積的第二面積開口的第二開口區(qū)域，所述第二開口區(qū)域，在所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)方向上位于所述第一開口區(qū)域的上游。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于:所述排氣口為從所述外位置延伸到所述內(nèi)位置的開口部，所述移動驅(qū)動部，使所述光學元件沿所述開口部移動，對所述信息進行光學處理。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于:在所述壁部，形成從所述內(nèi)位置延伸的開口部，所述移動驅(qū)動部，使所述光學元件沿著所述開口部移動以來掃描所述受光面，所述排氣口，形成在比所述開口部遠離所述旋轉(zhuǎn)軸的位置。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于:所述壁部，具有形成有所述排氣口的第一壁以及與該第一壁對置的第二壁，在所述第二壁，形成使空氣流入所述收容空間內(nèi)的流入口，所述流入口，形成在與所述外位置相比更接近所述內(nèi)位置的位置。5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于還包括:具有在至少局部關(guān)閉所述開口部的關(guān)閉位置與打開所述開口部的打開位置之間移動的第一遮閉部的遮閉機構(gòu)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于:所述第一遮閉部在所述關(guān)閉位置關(guān)閉所述排氣口。7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于還包括:具有第一遮閉部以及與該第一遮閉部連動地移動的第二遮閉部的遮閉機構(gòu)，所述第一遮閉部在關(guān)閉所述開口部的關(guān)閉位置與打開所述開口部的打開位置之間移動，如果所述第一遮閉部位于所述關(guān)閉位置，則所述第二遮閉部關(guān)閉所述流入口。8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于:所述光盤盒具備捕捉收集所述收容空間內(nèi)的灰塵的過濾器。9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于:所述光盤盒具備安裝在所述流入口的過濾器，所述過濾器從流入所述收容空間的所述空氣捕捉收集灰塵。10.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于:所述光盤盒具備捕捉收集所述收容空間內(nèi)的灰塵的過濾器，在所述第一遮閉部位于所述關(guān)閉位置的期間，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部使所述記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)。11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于:所述光學元件利用所述光掃描所述受光面，進行向所述記錄介質(zhì)記錄信息和再生保存在所述記錄介質(zhì)中的信息的至少其中之一的光學信息處理。12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于:所述光學元件使所述光聚光于所述受光面，并產(chǎn)生近場光。13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于:所述驅(qū)動裝置具有保持所述光學元件的保持部、和一邊彈性地支撐該保持部一邊在所述記錄介質(zhì)的聚焦方向和跟蹤方向上驅(qū)動所述保持部的致動器。14.一種光盤盒,規(guī)定收容具有利用用于光學處理信息的光而被掃描的受光面的能夠旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的收容空間，其特征在于包括:壁部，形成偏離所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的排氣口，使所述光盤盒內(nèi)的空氣通過隨著所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流排出，其中，所述排氣口，通過所述光的掃描軌跡被劃分為以第一面積開口的第一開口區(qū)域和以大于所述第一面積的第二面積開口的第二開口區(qū)域，所述第二開口區(qū)域，在所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)方向上位于所述第一開口區(qū)域的上游。15.一種驅(qū)動裝置，其特征在于包括:旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部，使具有利用用于光學處理信息的光而被掃描的受光面的記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)；光學元件，將光照射到所述受光面；移動驅(qū)動部，使所述光學元件在該光學元件與所述受光面對置的內(nèi)位置與比該內(nèi)位置遠離所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的外位置之間移動；保持部，保持所述光學元件；以及致動器，一邊彈性地支撐所述保持部，一邊在所述記錄介質(zhì)的聚焦方向和跟蹤方向上驅(qū)動所述保持部，其中，所述致動器，使所述光學元件在所述外位置接近沿著所述受光面的平面。16.一種清潔方法，用于清潔權(quán)利要求1至13中任一項所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于包括:使所述記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的步驟；使所述光學元件從所述內(nèi)位置向所述外位置移動的步驟；以及使所述光學元件接近沿著所述受光面的平面，以使所述光學元件被隨著所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流吹打的步驟。17.一種清潔方法，用于清潔權(quán)利要求10所述的光驅(qū)系統(tǒng)，其特征在于包括:使所述第一遮閉部移動到所述關(guān)閉位置的步驟；以及使所述記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)的步驟。全文摘要本申請公開了一種光驅(qū)系統(tǒng)，該光驅(qū)系統(tǒng)包括光盤盒，具有規(guī)定收容能夠旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)的收容空間的壁部，該記錄介質(zhì)具有利用用于光學處理信息的光而被掃描的受光面；驅(qū)動裝置，具備使記錄介質(zhì)在收容空間內(nèi)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部、將光照射到受光面的光學元件、使光學元件在光學元件與所述受光面對置的內(nèi)位置與比該內(nèi)位置遠離所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸的外位置之間移動的移動驅(qū)動部。在壁部上，在外位置形成使收容空間內(nèi)的空氣通過隨著記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流排出的排氣口。排氣口通過光學元件的移動軌跡被劃分為以第一面積開口的第一開口區(qū)域和以大于第一面積的第二面積開口的第二開口區(qū)域。第二開口區(qū)域在記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)方向上位于第一開口區(qū)域的上游。文檔編號G11B23/50GK103081013SQ20128000241公開日2013年5月1日申請日期2012年6月15日優(yōu)先權(quán)日2011年6月16日發(fā)明者中田秀輝,佐野晃正申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社