專利名稱：記錄介質(zhì)和再生設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及記錄介質(zhì)和用于該記錄介質(zhì)的再生設(shè)備,該記錄介質(zhì)包括記錄層，其中，通過在用聚焦光照射的部分中刪除或改變平行于記錄介質(zhì)的表面形成的干涉條紋來記錄信息，或者使用在用聚焦光照射期間反射的光來再生信息。
背景技術(shù)：
在諸如⑶(光盤)、DVD (數(shù)字多功能盤)、以及BD (藍(lán)光光盤 )的光盤系統(tǒng)中，像顯微鏡的物鏡一樣，以非接觸方式讀取在光盤的一面上發(fā)生的反射系數(shù)的細(xì)微變化。光盤上的光點(diǎn)的大小通過λ/NA獲得(λ :照射光的波長(zhǎng)，NA表示數(shù)值孔徑)，并且分辨率與該值成比例。例如，直徑為12厘米的藍(lán)光光盤具有大約25千兆字節(jié)的容量。另外，多個(gè)記錄層的重疊增加了一個(gè)光盤的容量。另一方面，已經(jīng)提出了記錄駐波的方法。在光聚焦于諸如其折射率取決于照射光的強(qiáng)度的光盤的記錄介質(zhì)內(nèi)部之后，光通過設(shè)置在記錄介質(zhì)的背面的反射設(shè)備從反方向再次聚焦在同一焦點(diǎn)上。這形成了具有小亮點(diǎn)的全息圖來記錄信息。在再生期間，通過從光盤表面類似地讀取照射光的反射光來識(shí)別信息。另外，通過在光學(xué)記錄介質(zhì)的多個(gè)層中記錄信息，激活多層記錄。然而，在該方法中，光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)當(dāng)設(shè)置在諸如光盤的記錄介質(zhì)的每個(gè)上面和下面， 因此整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)或驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)變得龐大而且復(fù)雜。在 "Three-dimensional optical disk data storage via the localized alteration of a format hologram" ,by R. R. Mcleod, A. J. Daiber, T. Honda, Μ. E. McDonald, T. L. Robertson, T. Slagle, S. L. Sochava, and L. Hesselink, AppI. Opt., Vol.47(2008)pp2696-2707中提出了在光盤的整個(gè)表面記錄(預(yù)先格式化)干涉條紋以及刪除或改變一部分干涉條紋以記錄標(biāo)記的方法。在 "Fabrication of multilayered photochromic memory media using pressure-sensitive adhesives" , by Y. Kawata,et. al. ,Appl. Opt. ,Vol. 46(2006)pp842 中提出了在不產(chǎn)生干涉條紋的情況下通過改變記錄層的材料的折射率來記錄標(biāo)記的方法。

發(fā)明內(nèi)容
在“Three-dimensional optical disk data storage via the localized alteration of a format hologram，，和“Fabrication of multilayered photochromic memory media using pressure-sensitive adhesives” 中提出的標(biāo)記記錄方法是有用的， 這在于光盤的兩面的光路沒有都布置在記錄-再生拾取器(pickup)上。然而，該方法不確保獲取更好的再生信號(hào)。期望在通過刪除或改變記錄介質(zhì)中形成的干涉條紋來記錄標(biāo)記的方法中，以足夠高的調(diào)制深度獲得優(yōu)選再生信號(hào)。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，提供了一種記錄介質(zhì)，包括感光層、非感光層、以及記錄層形成區(qū)，感光層和非感光層在記錄層形成區(qū)中層壓。感光層包括記錄層，在記錄層中，通過在用聚焦光照射的部分中刪除或改變平行于記錄介質(zhì)表面形成的干涉條紋來記錄信息， 或者，使用在用聚焦光照射期間反射的光來再生信息。記錄層的厚度d在SPf以上且30Pf以下，其中，PF表示上述干涉條紋的節(jié)距。更優(yōu)選地，厚度d在8Pf以上且22Pf以下。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，提高了一種再生設(shè)備，包括光學(xué)拾取器，用光照射記錄介質(zhì)的記錄層并接收反射光；以及信號(hào)處理單元，基于由光學(xué)拾取器接收的反射光的信息， 再生記錄層中記錄的信息。在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的記錄介質(zhì)中，感光層和非感光層交替層壓，以形成干涉條紋，其中，例如，一個(gè)感光層被用作一個(gè)記錄層。這使得能夠產(chǎn)生包括許多記錄層的多層記錄介質(zhì)?？蛇x地，一個(gè)感光層可以包括多個(gè)記錄層(干涉條紋形成部分)。該結(jié)構(gòu)便于產(chǎn)生包括其中形成了干涉條紋的多個(gè)記錄層的記錄介質(zhì)。另外，當(dāng)記錄層的厚度落入上述范圍內(nèi)時(shí)，能夠從記錄層獲得優(yōu)選的再生信號(hào)。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，在通過刪除或改變記錄標(biāo)記的方法中，可以在再生期間獲得具有適當(dāng)信號(hào)水平和調(diào)制深度的再生信號(hào)。


圖IA和IB示出了根據(jù)實(shí)施方式的全息光盤。圖2A和圖2B示出了根據(jù)實(shí)施方式的通過平面波的預(yù)格式化。圖3不出了介質(zhì)的厚度和衍射效率之間的關(guān)系。圖4A至圖4D示出了根據(jù)實(shí)施方式的全息光盤中的記錄。圖5示出了根據(jù)實(shí)施方式的記錄標(biāo)記和記錄層的厚度。圖6示出了根據(jù)實(shí)施方式的用于全息光盤的預(yù)格式化設(shè)備。圖7是示出根據(jù)實(shí)施方式的再生設(shè)備的框圖。圖8是示出根據(jù)實(shí)施方式的再生設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)的框圖。圖9A和圖9B示出了根據(jù)實(shí)施方式的Il和12級(jí)的測(cè)量結(jié)果。圖10示出了測(cè)量期間根據(jù)實(shí)施方式的再生系統(tǒng)。圖IlA和圖IlB示出了根據(jù)另一實(shí)施方式的再生信號(hào)幅度的測(cè)量結(jié)果。圖12示出了根據(jù)另一實(shí)施方式的Il和12級(jí)的測(cè)量結(jié)果。圖13A至圖13C示出了根據(jù)又另一實(shí)施方式的全息光盤。圖14示出了根據(jù)又另一實(shí)施方式的用于全息光盤的預(yù)格式化設(shè)備。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在，將以以下順序描述本發(fā)明實(shí)施方式.〈I.根據(jù)實(shí)施方式的全息光盤>〈2.記錄再生設(shè)備〉<3.記錄層的厚度〉<4.根據(jù)另一實(shí)施方式的全息光盤>
<5.根據(jù)又另一實(shí)施方式的全息光盤>〈I.根據(jù)實(shí)施方式的全息光盤>圖IA和IB示出了全息光盤I及其結(jié)構(gòu)，全息光盤I是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的記錄介質(zhì)。如圖IA所示，全息光盤I是具有預(yù)定厚度的圓形光盤介質(zhì)，諸如⑶、DVD、或BD。圖IB示出了全息光盤I的厚度方向的截面結(jié)構(gòu)。全息光盤I具有其上形成有層壓結(jié)構(gòu)的光盤襯底6。即，具有交替層壓的中間層 4和記錄層3的記錄層形成區(qū)10設(shè)置在光盤襯底6上。覆蓋層2形成在記錄層形成區(qū)10 上。覆蓋層2是在記錄或再生期間激光入射到其上的表面。在記錄層形成區(qū)10中，如圖所示，中間層4和記錄層3交替層壓。記錄層3是例如其中已經(jīng)通過后面描述的預(yù)格式化形成了干涉條紋的感光樹脂的感光層。中間層4是透明樹脂材料等的非感光層。即，在制造全息光盤I期間，在光盤襯底6上交替層壓感光層和非光敏層，并在頂上形成覆蓋層2。然后，通過預(yù)格式化在感光層中形成干涉條紋，并且感光層成為記錄層3。在實(shí)施方式中，干涉條紋形成在整個(gè)厚度的每個(gè)感光層中，使得一個(gè)感光層成為一個(gè)記錄層3。如圖所示，交替層壓感光層和非感光層(中間層4)，然后在感光層中形成干涉條紋，以形成許多記錄層3 (層LO至Ln)。例如，可以形成包括20個(gè)記錄層3的20-層光盤或者包括30個(gè)記錄層3的30-層光盤。在該實(shí)例中，在光盤襯底6中設(shè)置具有螺旋槽或凹凸坑行的凹凸圖樣的基準(zhǔn)面5。 基準(zhǔn)面5用作照射各個(gè)記錄層3(層LO至Ln)的激光的聚焦伺服控制的基準(zhǔn)，或者用于在記錄或再生期間追蹤伺服控制的基準(zhǔn)。由于基準(zhǔn)面5的凹凸圖樣包括基于地址信息擺動(dòng)的擺動(dòng)槽或基于地址信息的坑行，因此其能夠用于在記錄或再生期間讀取光盤上的地址?？梢栽谥T如覆蓋層2和記錄層形成區(qū)10之間的位置的另一位置，形成具有預(yù)定凹凸圖樣的基準(zhǔn)面5。例如，覆蓋層2具有大約50 μ m的厚度。中間層4(非感光層)具有大約5 μ m至15 μ m的厚度。假設(shè)記錄層3 (感光層)的厚度為d。厚度d將隨后描述。當(dāng)干涉條紋的節(jié)距為Pf 時(shí)，d優(yōu)選地落入從8Pf至30Pf的范圍，并且更優(yōu)選地，從8Pf到22Pf的范圍。如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式的全息光盤I具有記錄層形成區(qū)10，在記錄層形成區(qū) 10中感光層和非感光層交替層壓。感光層具有記錄層3，其中，通過在用聚焦光照射的部分中刪除或改變平行于記錄介質(zhì)表面形成的干涉條紋來記錄信息，或者，使用在用聚焦光照射期間反射的光來再生信息。特別地，在本實(shí)施方式中，干涉條紋形成在感光層的整個(gè)厚度中，使得一個(gè)感光層成為一個(gè)記錄層3，記錄層3的厚度d (也是感光層的厚度)在上述范圍內(nèi)設(shè)置。如上所述，在全息光盤I中，通過根據(jù)預(yù)格式化在感光層中形成干涉條紋來形成記錄層3。當(dāng)信息記錄在全息光盤I上時(shí)，用聚焦光照射一面來刪除或改變干涉條紋，以進(jìn)行標(biāo)記記錄。以下將描述預(yù)格式化。將參照?qǐng)D6描述預(yù)格式化設(shè)備30的結(jié)構(gòu)的實(shí)例。激光源31輸出具有波長(zhǎng)λ f的預(yù)格式化光。例如，假設(shè)波長(zhǎng)λ f等于波長(zhǎng)λΓ，波長(zhǎng)λ r是全息光盤I的再生光的波長(zhǎng)。例如，假設(shè)Xf= Ar = 405nm。通過包括鏡頭32和33的擴(kuò)展器來擴(kuò)展預(yù)格式化光的直徑?？臻g濾波器34放置在擴(kuò)展器中包括的鏡頭32和33的焦面位置。通過鏡頭35和36進(jìn)一步擴(kuò)展預(yù)格式化光的直徑。然后，用從鏡頭36獲得的平面波的平行光均勻地照射全息光盤I的一面。平面波的預(yù)格式化光穿過全息光盤I并被鏡子37反射。由此，全息光盤I的另一面(對(duì)面)同時(shí)被平面波照射。因此，預(yù)格式化設(shè)備30包括第一照射光學(xué)系統(tǒng)(從激光源31到鏡頭36)，其從一面用具有波長(zhǎng)λ f的平面波的預(yù)格式化光垂直照射全息光盤I的各個(gè)記錄層3 ;以及第二照射光學(xué)系統(tǒng)(從激光源31到鏡子37)，其用具有波長(zhǎng)λ f的平面波的預(yù)格式化光照射全息光盤I的各個(gè)記錄層3的另一面。預(yù)格式化設(shè)備30的該結(jié)構(gòu)僅僅是一個(gè)實(shí)例，并允許另一結(jié)構(gòu)。例如，可以使用獨(dú)立于第一照射光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)路徑的光學(xué)路徑來形成第二照射光學(xué)系統(tǒng)。圖2A和2B中指示了通過該類型的預(yù)格式化設(shè)備10的預(yù)格式化。圖2A示意性示出了使用例如上述預(yù)格式化設(shè)備30用具有波長(zhǎng)λ f的平面波的預(yù)格式化光均勻照射全息光盤I的一側(cè)和另一側(cè)。用具有波長(zhǎng)λ f的平面波照射全息光盤I的雙面，均勻地形成如圖2B所示的間距為Pf = λ f/2N的平面干涉條紋作為全息光盤I的各個(gè)記錄層3。這里，N表示記錄層的材料的折射率。這意味著形成折射率的分布在厚度方向改變的光柵作為全息光盤I的各個(gè)記錄層3 (圖IB中的層LO至Ln)。這些光柵具有基折射率N以及折射率變化量Λ N。由于中間層4是非感光層，因此不形成干涉條紋。因此，當(dāng)平面光入射到全息光盤 I的上面和下面時(shí)，在所有感光層中形成干涉層。即，如果執(zhí)行一次預(yù)格式化光的照射，則形成許多記錄層3。在記錄期間，用聚焦光照射其中已經(jīng)以這種方法形成干涉條紋的全息光盤I的記錄層3的一面，以形成標(biāo)記。圖4Α示出了當(dāng)用光在全息光盤的深度方向(厚度方向)照射具有節(jié)距PF的干涉條紋的記錄層3時(shí)執(zhí)行的標(biāo)記記錄。當(dāng)記錄光被聚焦在全息光盤I的特定記錄層3上并對(duì)其進(jìn)行照射時(shí)，在該部分中刪除或改變(擴(kuò)展或收縮)干涉條紋，并如圖所示形成標(biāo)記。圖4Α示出了干涉條紋在激光聚焦的部分中擴(kuò)展，并且在記錄之后干涉條紋的間距Pm變得大于原始間距Pf的實(shí)例。圖4B、4C、和4D示出了假定將在記錄期間形成的標(biāo)記的實(shí)例。圖4B示出了以下擴(kuò)展類型，其中，形成有以比記錄層3的干涉條紋的初始間距Pf 大的記錄之后的間距Pm的標(biāo)記。圖4C示出了收縮類型，其中，形成有比記錄層3的干涉條紋的原始間距Pf小的記錄之后的間距Pm的標(biāo)記。圖4D示出了消失類型，其中，形成有記錄層3的干涉條紋消失的標(biāo)記。這些記錄標(biāo)記的類型是假定的。通過記錄激光的功率設(shè)置和記錄層3的材料可以確定使用擴(kuò)展、收縮、以及消失類型中的哪個(gè)。圖5示出了當(dāng)記錄層3的厚度改變時(shí)形成記錄標(biāo)記的實(shí)例。圖5示出了當(dāng)記錄層 3的厚度為5PF、10PF、20PF、或30Pf時(shí)對(duì)于擴(kuò)展類型形成的記錄標(biāo)記。如上所述，通過用記錄激光照射可在記錄層3內(nèi)形成標(biāo)記，使得信息可以記錄為一行標(biāo)記。在再生期間，再生光聚焦在形成了一行標(biāo)記的記錄層3上并對(duì)記錄層3進(jìn)行照射。 由于標(biāo)記部分(干涉條紋變形或消失的部分)和原始干涉條紋保持不變的部分之間的折射率的差異，當(dāng)檢測(cè)到再生光的反射光時(shí)，獲得與該行標(biāo)記對(duì)應(yīng)的再生信號(hào)。根據(jù)本實(shí)施方式的全息光盤I具有以下優(yōu)點(diǎn)。在全息光盤I中，感光層和非感光層交替層壓，并且使用一個(gè)感光層作為一個(gè)記錄層來形成干涉條紋。這便于創(chuàng)建包括許多記錄層3的多層記錄介質(zhì)。特別地，當(dāng)通過預(yù)格式化形成干涉條紋時(shí)，如圖2A所示的用預(yù)格式化光照射僅在各個(gè)感光層中形成干擾條紋， 從而形成包括多個(gè)記錄層的多層記錄介質(zhì)。由于該層壓結(jié)構(gòu)，可以在層壓處理中容易地控制記錄層3的厚度。記錄層3的厚度對(duì)于獲得良好的再生信號(hào)是重要的。這里將假設(shè)在沒有干涉條紋的記錄層中形成具有變化的折射率的標(biāo)記的方法。例如，假設(shè)圖IB中示出的層結(jié)構(gòu)在其記錄層中不包含干涉條紋，記錄層的折射率在記錄之前為NI,在記錄之后為Ν1+ΔΝ。例如，假設(shè)NI為I. 6，ΛΝ*0. 01，且相當(dāng)于覆蓋層或中間層的該部分的折射率NO 為 I. 55。在該情況下，記錄之前的反射系數(shù)為O. 025%，記錄之后的反射系數(shù)為O. 036%, 并且標(biāo)記記錄部分中的反射系數(shù)的變化為O. 011%，這非常小。這表示作為再生信號(hào)的不足 S/N比，并使得難以有良好再生。另一方面，在該實(shí)例的全息光盤I中，通過使用全息記錄介質(zhì)材料作為各個(gè)記錄層3來形成光柵。通過形成光柵能夠增大反射系數(shù)。通過以下表達(dá)式獲得衍射效率η。η = tanh2(Π· ΔΝ·(1/λ)圖3示出了在豎軸上繪制衍射效率并在橫軸上繪制介質(zhì)的厚度d的圖表。S卩，如果適當(dāng)?shù)卦O(shè)置了記錄層3的厚度，則獲得了足夠的反射系數(shù)，并獲得了具有良好的S/N比的再生信號(hào)。在該實(shí)施方式中，為了獲得良好的再生信號(hào)，確定記錄層3 (感光層)的厚度d滿足8PF< d彡30Pf，優(yōu)選地8Pf< d彡22PF，其中，PF表示干涉條紋的節(jié)距。隨后將描述厚度d的范圍的原因。<2.記錄再生設(shè)備〉圖7和8示出了根據(jù)實(shí)施方式的用于在該實(shí)例的全息光盤I上執(zhí)行記錄或再生的記錄再生設(shè)備的結(jié)構(gòu)。
圖7示出了根據(jù)該實(shí)施方式的記錄再生設(shè)備60的整體結(jié)構(gòu)。假定記錄再生設(shè)備 60用于家庭用戶，以在具有其中形成了干涉條紋的記錄層3的全息光盤I上記錄信息或從中再生信息。如圖7所示,記錄再生設(shè)備60包括控制單元61、驅(qū)動(dòng)控制單元62、信號(hào)處理單元 63、主軸電動(dòng)機(jī)64、線電動(dòng)機(jī)65、以及光學(xué)拾取器66。控制單元61完全控制整個(gè)記錄再生設(shè)備60?？刂茊卧?1具有未示出的CPU(center processing unit,中央處理單元)作為主單元，從未示出的R0M(read only memory,只讀存儲(chǔ)器)讀取諸如操作系統(tǒng)程序和信息記錄程序的程序，并將這些程序加載到未示出的RAM(random access memory,隨機(jī)存取存儲(chǔ)器) 中，以執(zhí)行諸如信息處理的各種處理。該驅(qū)動(dòng)控制單元62處理將被提供的信號(hào)，或者生成將被供應(yīng)到執(zhí)行器的供應(yīng)信號(hào)，這將在隨后描述。驅(qū)動(dòng)控制單元62還執(zhí)行各種驅(qū)動(dòng)控制處理。信號(hào)處理單元63執(zhí)行諸如編碼、解碼、調(diào)制、以及解調(diào)的信號(hào)處理。線電動(dòng)機(jī)64在驅(qū)動(dòng)控制單元62的控制下旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)全息光盤I。光學(xué)拾取器66基于從驅(qū)動(dòng)控制單兀62提供的記錄信號(hào)執(zhí)行激光輸出，以在全息光盤I上執(zhí)行記錄。在再生期間，光學(xué)拾取器66檢測(cè)由全息光盤I反射的激光的信息。線電動(dòng)機(jī)65在移動(dòng)軸65上可滑動(dòng)地移動(dòng)光學(xué)拾取器66。S卩，光學(xué)拾取器66在全息光盤I的徑向可移動(dòng)。光學(xué)拾取器66可以在驅(qū)動(dòng)控制單元62的控制下，通過諸如聚焦控制和追蹤控制的位置控制，在所需的位置聚焦激光。接近或遠(yuǎn)離全息光盤I的方向稱為聚焦方向。全息光盤I的徑向(朝向圓周內(nèi)部或外部的方向)稱為追蹤方向。在記錄期間，例如，當(dāng)控制單元61從外部裝置等(未示出)接收信息記錄命令、待記錄的信息、在加載全息光盤I的狀態(tài)下信息被記錄的地址時(shí)，控制單元61根據(jù)信息記錄程序等將驅(qū)動(dòng)命令提供到驅(qū)動(dòng)控制單元62。驅(qū)動(dòng)控制單元62根據(jù)驅(qū)動(dòng)命令可控地驅(qū)動(dòng)線電動(dòng)器64，以旋轉(zhuǎn)全息光盤1，例如， 使得其線速度恒定。驅(qū)動(dòng)控制單元62根據(jù)驅(qū)動(dòng)命令可控地驅(qū)動(dòng)線電動(dòng)機(jī)65，以沿移動(dòng)軸 65移動(dòng)光學(xué)拾取器66。信號(hào)處理單元63應(yīng)用諸如編碼或調(diào)制待記錄的信息的預(yù)定處理，以生成由碼O或 I指示的記錄信號(hào)。驅(qū)動(dòng)控制單元62基于由信號(hào)處理單元63提供的記錄信號(hào)生成激光驅(qū)動(dòng)信號(hào)，并將激光驅(qū)動(dòng)信號(hào)提供到光學(xué)拾取器66。在執(zhí)行后面描述的聚焦控制和追蹤控制的同時(shí)，光學(xué)拾取器66基于記錄信號(hào)用光束照射全息光盤I的一面，并基于記錄信號(hào)形成一行標(biāo)記來記錄信息。在再生期間，例如，當(dāng)控制單元61從外部裝置等(未示出)接收信息再生指令以及在加載全息光盤I的狀態(tài)下信息被再生的地址時(shí)，控制單元61根據(jù)信息再生程序等向驅(qū)動(dòng)控制單元62提供驅(qū)動(dòng)命令。驅(qū)動(dòng)控制單元62根據(jù)驅(qū)動(dòng)命令可控地驅(qū)動(dòng)線電動(dòng)機(jī)64，以旋轉(zhuǎn)全息光盤1，例如， 使得其線速度恒定。驅(qū)動(dòng)控制單元62根據(jù)驅(qū)動(dòng)命令可控地驅(qū)動(dòng)線電動(dòng)機(jī)65，以沿移動(dòng)軸65移動(dòng)光學(xué)拾取器66。在執(zhí)行聚焦控制和追蹤控制的同時(shí)，驅(qū)動(dòng)控制單元62讓光學(xué)拾取器66用光束照射全息光盤I的一面。將反射的光的檢測(cè)信息提供到信號(hào)處理單元63，并通過二值化、解碼、錯(cuò)誤校正等再生全息光盤I中記錄的數(shù)據(jù)。如上所述，記錄-再生設(shè)備60在執(zhí)行諸如聚焦控制和追蹤控制的位置控制的同時(shí)，記錄初始化的全息光盤I中的信息，或者由記錄了信息的全息光盤I再生信息。下面將描述光學(xué)拾取器66的結(jié)構(gòu)。如圖8中不意性不出的,光學(xué)拾取器66用光束(記錄-再生光)照射全息光盤I的一面。全息光盤I具有記錄層3，在記錄層3中通過以上預(yù)格式化形成了干擾條紋。在圖8中，用于獲得用于伺服控制的參考的參考面5用虛線指示。參考面5是聚焦伺服參考面，并具有用作追蹤導(dǎo)軌的螺旋或同心槽(或凹坑行)。光學(xué)拾取器66主要具有伺服光學(xué)系統(tǒng)70和記錄-再生光學(xué)系統(tǒng)80。伺服光學(xué)系統(tǒng)70用伺服光LZl照射全息光盤1，或者從全息光盤I接收作為伺服光LZl的反射結(jié)果獲得的反射伺服光LZ2。伺服光學(xué)系統(tǒng)70的伺服激光21是例如半導(dǎo)體激光。伺服激光21在圖7中的控制單元61的控制下發(fā)射包括發(fā)散光的預(yù)定光量的伺服光LZ1。伺服光LZl通過準(zhǔn)直鏡22 由發(fā)散光轉(zhuǎn)換成平行光，并進(jìn)入分束器23。分束器23具有波長(zhǎng)選擇性(分色特性)，其中，反射系數(shù)取決于光束的波長(zhǎng)，并且分束器23基本上反射100%例如具有波長(zhǎng)λ s的伺服光。如果將在后面描述的由記錄-再生激光81輸出的記錄-再生光LZll的波長(zhǎng)為λ r，則具有波長(zhǎng)λ r的光基本上100 %穿過分束器23。伺服光LZl的波長(zhǎng)λ s長(zhǎng)于記錄-再生光LZll的波長(zhǎng)λ r。作為一個(gè)實(shí)例，伺服光LZl的波長(zhǎng)λ s為650nm，記錄-再生光LZll的波長(zhǎng)λ r為405nm。由分束器23反射的伺服光LZl進(jìn)入下一分束器24。分束器24允許大約50%的伺服光LZl穿過，并反射剩余部分。穿過分束器24的伺服光LZl通過物鏡25聚焦，并照射全息光盤I的一面。此時(shí)， 伺服光LZl在全息光盤I的參考面5上聚焦,并被參考面5反射。由于伺服光LZl是會(huì)聚光、被物鏡25轉(zhuǎn)換成平行光，因此被參考面5反射的反射伺服光LZ2變成發(fā)散光,并進(jìn)入分束器24。然后，反射的伺服光LZ2被分束器24反射大約 50%，并進(jìn)入聚焦透鏡26。聚焦透鏡26讓反射的伺服光LZ2會(huì)聚，并用伺服光LZ2照射光電檢測(cè)器27。光電檢測(cè)器27具有用于以非點(diǎn)聚焦方法獲得聚焦錯(cuò)誤信號(hào)或以推挽方法追蹤錯(cuò)誤信號(hào)的檢測(cè)區(qū)，并將檢測(cè)區(qū)的光電轉(zhuǎn)換信號(hào)提供到伺服控制電路29。伺服控制電路29使用來自光電檢測(cè)器27的光電轉(zhuǎn)換信號(hào)生成聚焦錯(cuò)誤信號(hào)和追蹤錯(cuò)誤信號(hào)，并基于這些信號(hào)將聚焦伺服驅(qū)動(dòng)信號(hào)和追蹤伺服驅(qū)動(dòng)信號(hào)提供到執(zhí)行器28。執(zhí)行器28被設(shè)置在支持物鏡25的鏡頭支架(未不出)和光學(xué)拾取器16之間，并基于聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)在聚焦方向上驅(qū)動(dòng)物鏡25。執(zhí)行器28還基于追蹤驅(qū)動(dòng)信號(hào)在追蹤方向上驅(qū)動(dòng)物鏡25。這樣，執(zhí)行物鏡25的反饋控制，使得伺服光LZl聚焦在全息光盤I的參考面5中的槽(參考目標(biāo)軌)中。
當(dāng)參考面5中的槽基于地址信息搖擺或者地址信息被記錄作為一行坑等時(shí)，伺服控制電路29能夠從反射的伺服光LZ2的檢測(cè)信息提取地址信息，并將其提供到圖7中的控制電路61等。例如，在記錄期間，可以使用地址信息來執(zhí)行記錄操作。在再生期間，除了來自參考面5的地址信息，還可以使用連同記錄數(shù)據(jù)一起從記錄層3中形成的一行標(biāo)記讀取的地址信息。記錄-再生光學(xué)系統(tǒng)80用記錄-再生光LZll照射全息光盤I的一面，或者檢測(cè)反射的記錄-再生光LZ12。記錄-再生光學(xué)系統(tǒng)80的記錄-再生激光81是例如半導(dǎo)體激光，并發(fā)射具有波長(zhǎng)λ r的激光。當(dāng)在全息光盤I中記錄信息時(shí)，記錄-再生激光81在控制單元61 (圖7) 的控制下發(fā)射包括具有相對(duì)高強(qiáng)度的發(fā)散光的記錄-再生光LZl I，并讓記錄-再生光LZll 進(jìn)入準(zhǔn)直鏡82。準(zhǔn)直鏡82將記錄-再生光LZll從發(fā)散光轉(zhuǎn)換成平行光，并讓其進(jìn)入分束器83。 分束器83允許預(yù)定比例的記錄-再生光LZll穿過，并讓光進(jìn)入中繼透鏡84。在中繼透鏡84中，可移動(dòng)透鏡84A將記錄-再生光LZll從平行光轉(zhuǎn)換成會(huì)聚光或發(fā)散光，并且固定透鏡84B改變記錄-再生光LZll的發(fā)散狀態(tài)，并讓其進(jìn)入分束器23。分束器23允許具有波長(zhǎng)λ Γ的記錄-再生光LZl I穿過，并讓該光進(jìn)入分束器24。 分束器24允許預(yù)定比例的記錄-再生光LZll穿過，并讓該光進(jìn)入物鏡25。物鏡25聚焦記錄-再生光LZlI，并用該光照射全息光盤I。通過在從中繼透鏡84的固定鏡頭84B的輸出期間假定的發(fā)散狀態(tài)，來確定記錄-再生光LZll的焦點(diǎn)位置。因此，在控制單元61的控制下，記錄-再生光LZll的焦點(diǎn)被定為在取決于移動(dòng)透鏡84A的位置的特定記錄層3 (圖IB中的層LO至Ln中的一個(gè))的深度位置。即，在執(zhí)行物鏡25的聚焦控制使得伺服光LZl在參考面5上聚焦的情況下，記錄-再生光LZll聚焦在在全息光盤I的深度方向從伺服光LZl移動(dòng)預(yù)定偏移的位置。因此，在可移動(dòng)透鏡84A的控制下，可以執(zhí)行任意一個(gè)記錄層3中的記錄-再生光 LZll的聚焦控制。在記錄期間，記錄-再生光LZll被聚焦在特定記錄層3上，以執(zhí)行標(biāo)記記錄。焦點(diǎn)位置處的記錄-再生光LZll的諸如光能量和熱能量的能量會(huì)聚熱或光化學(xué)地破壞或修改焦點(diǎn)位置附近的干涉條紋，從而在本地形成已經(jīng)失去了全息特性(或退化了)的記錄標(biāo)記。因此，記錄-再生設(shè)備60輸出已經(jīng)基于記錄信號(hào)被調(diào)制的記錄-再生光LZ11，該記錄信號(hào)已經(jīng)使用信號(hào)處理單元63對(duì)待記錄的信息執(zhí)行了預(yù)定調(diào)制，使得能夠形成基于記錄信號(hào)的一行標(biāo)記。在其中沒有形成標(biāo)記行的記錄期間，執(zhí)行上述反射的伺服光LZ2的追蹤控制。因此，在二維視圖中，記錄層3中形成的一行標(biāo)記可以沿參考面5中形成的螺旋或通信槽(或一行坑)螺旋或同心。如上所述，可以通過移動(dòng)透鏡84A控制記錄-再生光LZll聚焦的位置(聚焦位置)。因此，改變成為聚焦位置的深度位置在每個(gè)記錄層3(層LO至Ln)中形成了一行標(biāo)記。即，能夠進(jìn)行跨越多個(gè)層的標(biāo)記記錄。
10
另一方面，當(dāng)從全息光盤I再生信息時(shí)，控制單元61讓記錄-再生激光81發(fā)射具有較高強(qiáng)度的記錄-再生光LZll。通過控制可移動(dòng)透鏡84A，將記錄-再生光LZll的聚焦位置調(diào)整到相當(dāng)于待再生的預(yù)定記錄層3的深度位置。這樣，用記錄-再生光LZll照射待再生的記錄層3。此時(shí)，獲得具有與標(biāo)記的存在或不存在對(duì)應(yīng)的反射光分量的反射的記錄-再生光LZ12，作為由記錄層3反射的光。反射的記錄-再生光LZ12在反方向遵循記錄-再生光LZll的光路。S卩，反射的記錄-再生光LZ12順序穿過物鏡25、分束器24、分束器23、以及中繼透鏡84，然后進(jìn)入分束器83。 分束器83反射一部分反射的記錄-再生光LZ12，并讓反射光進(jìn)入聚焦透鏡86。聚焦透鏡86讓反射的記錄-再生光LZ12會(huì)聚，并用該光照射光電檢測(cè)器87。光電檢測(cè)器87接收反射的記錄-再生光LZ12，并根據(jù)檢測(cè)的光量生成電子信號(hào) (再生信號(hào))。然后，光電檢測(cè)器87將電子信號(hào)發(fā)送到圖7中示出的信號(hào)處理單元63。信號(hào)處理單元63執(zhí)行來自光電檢測(cè)器87的再生信號(hào)的二值化、解碼、錯(cuò)誤校正、 和其他處理，以再生全息光盤I中記錄的信息，并將再生的信息提供到控制單元61?？刂茊卧?1相應(yīng)地將再生的信息發(fā)送到外部裝置。如上所述，當(dāng)在全息光盤I中記錄信息時(shí)，記錄-再生設(shè)備60根據(jù)待記錄的信息打破(修改)或保持初始全息圖。當(dāng)再生全息光盤I的信息時(shí)，記錄和再生設(shè)備60檢測(cè)由其上聚焦記錄-再生光LZll的一行標(biāo)記反射的光(反射的記錄-再生光LZ12)，并基于檢測(cè)結(jié)果再生信息。在該實(shí)施方式中使用了記錄-再生設(shè)備60，但是通過基本上相同的結(jié)構(gòu)也能實(shí)現(xiàn)不具有記錄功能的再生設(shè)備。<3.記錄層的厚度〉在以上描述中，記錄層3的厚度d設(shè)置為滿足8PF<d彡30Pf,更優(yōu)選地， 8PF< d彡22PF，其中，PF表示干涉條紋的節(jié)距。這將在下面描述。為了確定記錄層3的最佳厚度，使用每個(gè)都具有不同厚度的全息光盤I來計(jì)算再生號(hào)的水平。在光穿過圖10中示意性示出的針孔201之后，使用考慮的檢測(cè)系統(tǒng)，針孔201的直徑D用4 λ /NA表示，其中，NA為聚焦系統(tǒng)200的數(shù)值孔徑。例如，聚焦系統(tǒng)200為在如圖 7所示的記錄-再生設(shè)備60中反射的記錄-再生光LZ12的光學(xué)系統(tǒng)。在光穿過針孔201 之后，聚焦系統(tǒng)200使用光電檢測(cè)器87執(zhí)行檢測(cè)。基于全息光盤I中的(l,7)RLL(run length limited,游程長(zhǎng)度受限)調(diào)制的記錄信號(hào)，假定以O(shè). 36 μ m的軌道節(jié)距Tp形成一行標(biāo)記(IT = 112nm)。假定物鏡25的NA為O. 85，并假定再生光波長(zhǎng)λ r為405nm。圖9A表示當(dāng)使用每個(gè)都具有不同厚度的記錄層3時(shí)的再生信號(hào)水平(最低水平 Il和峰值水平12)。例如，最低水平Il和峰值水平12分別是如圖9B所示實(shí)例中的再生信號(hào)波形中的最低水平和峰值水平。由于DC分量被添加到再生信號(hào)，因此最低水平Il可以認(rèn)為是DC分量的水平，并且峰值水平12至最低水平Il是調(diào)制深度。指示峰值水平12和最低水平Il的信號(hào)水平繪制在圖9A中的縱軸上。記錄層3的厚度繪制在橫軸上。橫軸表示d · λ f/N，其中，d表示厚度。在該實(shí)施方式中，預(yù)格式化光波長(zhǎng)Xf為405nm,這等于再生光波長(zhǎng)λι·。在每個(gè)擴(kuò)展、收縮、或消失類型的形成標(biāo)記中執(zhí)行測(cè)量。例如，如果測(cè)量結(jié)果如 11(1. 1)、Ι2(1. I)所示，則(I. I)表示PM/PF的值，其中，標(biāo)記形成之后的干涉條紋節(jié)距為Pm， 并且初始干涉條紋節(jié)距為PF。因此，(I. I)或(I. 2)所遵循的峰值水平12和最低水平Il測(cè)量結(jié)果是擴(kuò)展型的，其中，用擴(kuò)展的干涉條紋形成標(biāo)記。(O. 91)或(O. 83)所遵循的測(cè)量結(jié)果是收縮型的，其中，用干涉條紋收縮來形成標(biāo)記。(uni.)所遵循的測(cè)量結(jié)果是消失型的，其中，用干涉條紋消失來形成標(biāo)記。當(dāng)預(yù)格式化光的波長(zhǎng)為λ f時(shí)，在預(yù)格式化期間形成的干涉條紋的節(jié)距Pf為 λ f/2N(N表示記錄層3的材料的折射率)。因此，當(dāng)圖9A中橫軸上的值X用干涉條紋的節(jié)距Pf表示時(shí)，足以使用(X · λ /N)/ (λ /2Ν)。例如，橫軸上的厚度5是IOPf，厚度15是30PF。從圖9A中的結(jié)果可以看出，在任意的擴(kuò)展、收縮和消失類型中，隨著記錄層3厚度的增大，信號(hào)水平也增大。峰值水平12和最低水平Il在擴(kuò)展、收縮和消失類型之間幾乎相同。由于最低水平Il相當(dāng)于DC電平，并且應(yīng)當(dāng)獲得足夠的調(diào)制深度(12-11)，因此確定了適當(dāng)?shù)暮穸确秶??！愕兀S著記錄層3的厚度變薄，調(diào)制深度(12-11)變小。特別地，當(dāng)橫軸上的值小于4時(shí)，調(diào)制深度減小。另一方面，隨著記錄層3的厚度增大，調(diào)制深度(12-11)與DC分量(最低水平II) 的比例減小。即，隨著記錄層3的厚度增大，S/N比降低。因此，由范圍Al指示的從4至15的范圍(8PF彡d彡30PF)，適合作為記錄層3的厚度d。當(dāng)滿足8Pf ( d時(shí)，調(diào)制深度幾乎沒有減小。當(dāng)滿足d彡3(^時(shí)，保持(12-11)/{(12+11)/2} >0.5。這意味著調(diào)制深度等于或大于再生信號(hào)的平均幅度水平的一半的范圍，是良好的S/N比的指示。因此，記錄層3的厚度的適當(dāng)范圍是8Pf< d彡30Pf。另外，由范圍A2(8Pf彡d彡22Pf)表示的從4至11的范圍，更適合作為記錄層3 的厚度。當(dāng)滿足8Pf ( d時(shí)，如上所述，調(diào)制深度幾乎沒有減少。接下來，通過條件(12-11)彡Il確定d彡22Pf。該條件意味著調(diào)制等于或大于DC 電平。該條件提高了再生信號(hào)的S/N比。另外，對(duì)于22Pf以下的厚度，記錄層3相對(duì)于待形成的標(biāo)記的厚度系數(shù)是適當(dāng)?shù)?。圖5示出了當(dāng)厚度d取不同厚度時(shí)形成的標(biāo)記。在圖中可以看出，當(dāng)厚度d為30Pf， 其中形成有干涉條紋的記錄層3的厚度相對(duì)于記錄標(biāo)記的垂直長(zhǎng)度過多地較大。即，一個(gè)記錄層3的厚度是冗余的。另一方面，當(dāng)厚度d為20匕時(shí)，冗余沒有這么多。厚度的冗余影響能夠在整體厚度設(shè)置為預(yù)定厚度的全息光盤I中形成的記錄層的數(shù)量。因此，最好減
小厚度。考慮到這一點(diǎn)和以上條件(12-11)彡II，條件d彡22P更合適。如上所述，在該實(shí)施方式中，通過將記錄層3的厚度設(shè)置為以上范圍中的值，可以獲得高質(zhì)量的再生信號(hào)?！?.根據(jù)另一實(shí)施方式的全息光盤〉下面將描述根據(jù)另一實(shí)施方式的全息光盤I。根據(jù)另一實(shí)施方式的全息光盤I具有與圖IA和IB的結(jié)構(gòu)相同的結(jié)構(gòu)，但是待記錄的標(biāo)記的全息間距是恒定的。在首先描述的實(shí)施方式中，預(yù)格式化波長(zhǎng)λ f等于再生光波長(zhǎng)λ r，并且預(yù)格式化狀態(tài)下的干涉條紋的節(jié)距為λ ·/2Ν，其等于由再生信號(hào)波長(zhǎng)λΓ表示的λΓ/2Ν。因此，在再生期間沒有形成標(biāo)記的部分(保留初始干涉條紋的部分)中發(fā)生布拉格匹配，并在標(biāo)記部分中發(fā)生布拉格不匹配。結(jié)果，用再生光照射期間在標(biāo)記部分中獲得的再生信號(hào)與在非標(biāo)記部分中獲得的不同。可選地，相對(duì)于再生光，可以在標(biāo)記部分發(fā)生布拉格匹配，并在非標(biāo)記部分中發(fā)生布拉格不匹配。在其他實(shí)施方式中，實(shí)現(xiàn)了該情形，并且預(yù)格式化光波長(zhǎng)λ f不同于再生光波長(zhǎng)λΓ。另外，標(biāo)記部分中的干涉條紋節(jié)距Pm等于λΓ/2Ν。圖IlA示出了當(dāng)預(yù)格式化光波長(zhǎng)Af是再生光波長(zhǎng)λΓ乘以O(shè). 91、乘以O(shè). 83、以及乘以O(shè). 77時(shí)，相對(duì)于記錄層3的厚度的信號(hào)幅度水平。如圖IlB所示，縱軸上的信號(hào)幅度水平的在從峰值水平到最低水平的范圍內(nèi)變動(dòng)。在其他實(shí)施方式中，由于在非標(biāo)記部分中可發(fā)生布拉格不匹配，因此幾乎沒有DC 光分量。因此，可以假設(shè)信號(hào)幅度水平等于調(diào)制深度。圖IlA中的橫軸如同9Α中一樣表示d · λ f/N，其中，d為記錄層3的厚度。檢測(cè)系統(tǒng)與圖10中不出的相同。圖12示出了與圖IlA中的那些對(duì)應(yīng)的峰值水平12和最低水平II。在圖IlA和12中可以看出，因?yàn)榧词乖陬A(yù)格式化光波長(zhǎng)λ f不同于再生光波長(zhǎng)時(shí) Ar，如果厚度d落入由范圍Al表示的從4至15的范圍(8PF彡d彡30PF)以及從4至11 的范圍(8Pf ( d ( 22Pf)，則獲得了特定水平的調(diào)制深度，因此記錄層3的厚度d是適當(dāng)?shù)??！?.根據(jù)又另一實(shí)施方式的全息光盤〉將參照?qǐng)D13A至13C描述根據(jù)又另一實(shí)施方式的全息光盤I。圖13A示出了初始化之前的全息光盤I ;圖13B示出了初始化之后的全息光盤I。根據(jù)又另一實(shí)施方式的全息光盤I與首先和其次描述的實(shí)施方式的相同點(diǎn)在于， 全息光盤I具有記錄層形成區(qū)10，在記錄層形成區(qū)10中層壓了感光層和非感光層，但是全息光盤I的不同在于一個(gè)感光層包括多個(gè)記錄層，每個(gè)記錄層都在其厚度方向的部分中具有干涉條紋。如圖13A所示，全息光盤I具有記錄層形成區(qū)10，在記錄層形成區(qū)10中非感光層 (中繼層4)和感光層7在光盤襯底6上交替層壓。激光入射的面是覆蓋層2。例如，覆蓋層2具有大約50 μ m的厚度。中繼層4 (非感光層)具有大約5至15 μ m的厚度。
例如，感光層7 (非初始化感光層，其上沒有形成記錄層)具有30 μ m的厚度。在該類型的全息光盤I中，如圖13B所示，通過預(yù)格式化在每個(gè)感光層7上形成了兩個(gè)記錄層3。即，部分地在每個(gè)感光層7中形成了干涉條紋并且包括干涉條紋的部分稱為了記錄層3。例如，在感光層7中，在與上非感光層(中繼層4或覆蓋層2)接觸的部分以及與下非感光層接觸的部分中形成了包括干涉條紋的部分，并且包括干涉條紋的部分成為了記錄層3。圖13C示出了通過記錄層3中干涉條紋的變形形成的標(biāo)記的實(shí)例。在該情況下， 通過作為記錄層3的干涉條紋擴(kuò)展、收縮、或消失來形成標(biāo)記。如同在最先描述的實(shí)施方式中，記錄層3的厚度d設(shè)置為滿足8Pf ^ 30PF，更優(yōu)選地，8Pf彡d彡22Pf，其中，Pf表示干涉條紋的節(jié)距。在該類型的全息光盤I中，如同在最先描述的實(shí)施方式中，獲得了具有良好S/N比的再生信號(hào)。雖然在最先描述的實(shí)施方式中一個(gè)感光層具有一個(gè)記錄層3,但是在該實(shí)施方式中，一個(gè)感光層7具有多個(gè)記錄層3。因此，在層壓期間，一個(gè)感光層7的厚度增加，但是通過采用獲得所需數(shù)量的記錄層的層壓結(jié)構(gòu)，可以減少層壓的數(shù)量。這提高了光盤制造過程的效率。層壓數(shù)量的減少還具有減少記錄層3和中繼層4之間的界面處的不必要反射的優(yōu)例如，可以通過圖14中示出的預(yù)格式化設(shè)備來執(zhí)行預(yù)格式化，用于在圖13B所示的感光層7中形成包括干涉條紋(記錄層3)的部分。激光源41輸出具有波長(zhǎng)λ f (例如，405nm)的預(yù)格式化光。激光的相干性為10 μ m 或以下。該預(yù)格式化光穿過透鏡42、空間濾波器44、以及透鏡43，并到達(dá)分束器45。由分束器45分散的一個(gè)光分量穿過偏振分束器46、四分之一波長(zhǎng)板47、調(diào)節(jié)鏡子48、四分之一波長(zhǎng)板47、偏振分束器46、以及鏡頭53,并且其光直徑被鏡頭53和鏡頭54放大。全息光盤 I的一面用從鏡頭54獲得的平面波的平行光照射。由分束器45分散的其他光分量穿過半波長(zhǎng)板49、鏡子50、鏡子51,并且其光直徑被透鏡52和55放大。全息光盤I的另一面用從鏡頭55獲得的平面波的平行光照射。在該類型的結(jié)構(gòu)中，由于調(diào)節(jié)鏡子48可以在光軸方向移動(dòng)，因此移動(dòng)調(diào)節(jié)鏡子48 改變形成干涉條紋處的深度。因此，通過在根據(jù)記錄層3在圖13A的感光層7中形成的位置控制調(diào)節(jié)鏡子48的同時(shí)，順序形成干涉條紋，可以制造圖13B示出的實(shí)例中的全息光盤I。在根據(jù)又另一實(shí)施方式的全息光盤I中，通過圖7和8中描述的記錄-再生設(shè)備可以記錄和再生信息。雖然上面已經(jīng)描述了實(shí)施方式，但是本技術(shù)不限于實(shí)施方式中的實(shí)例，并可以考慮各種修改。記錄介質(zhì)的層結(jié)構(gòu)不限于圖IB和圖13A至13C中示出的那些。記錄介質(zhì)應(yīng)當(dāng)僅具有其中至少層壓了感光層和非感光層的記錄層形成區(qū)，記錄層包括在感光層中形成的干涉條紋。如上所述，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的全息光盤I或記錄介質(zhì)基于光量的變化再生信息，但是其能夠再生記錄為所謂的全息檢測(cè)的信息，其中，光量取決于標(biāo)記部分和非標(biāo)記部分(初始狀態(tài))之間的折射率的差異。例如，干涉條紋被擴(kuò)展成標(biāo)記，從而在用再生光照射期間在反射光中引起標(biāo)記部分和非標(biāo)記部分之間的相差?？梢詸z測(cè)該相差以獲得再生信息O本公開包含于2011年I月20日在日本專利局提交的日本優(yōu)先權(quán)專利申請(qǐng) JP2011-009731中所公開的相關(guān)的主題，其全部?jī)?nèi)容結(jié)合與此作為參考。
權(quán)利要求
1.一種記錄介質(zhì)，包括感光層；非感光層；以及記錄層形成區(qū)，所述感光層和所述非感光層在所述記錄層形成區(qū)中層壓；其中，所述感光層包括記錄層，在所述記錄層中，通過在用聚焦光照射的部分內(nèi)刪除或改變平行于記錄介質(zhì)表面形成的干涉條紋來記錄信息，或者，使用在用聚焦光照射期間反射的光來再生信息。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中，所述記錄層具有8Pf以上且30Pf以下的厚度，其中，Pf表示所述干涉條紋的節(jié)距。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的記錄介質(zhì)，其中，所述記錄層具有SPf以上且22Pf以下的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的記錄介質(zhì)，其中，形成有所述干涉條紋的所述記錄層在所述感光層的整個(gè)厚度方向延伸。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的記錄介質(zhì)，其中，所述感光層包括多個(gè)所述記錄層，在所述記錄層中，所述干涉條紋形成在所述感光層的厚度方向上的一部分中。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的記錄介質(zhì)，進(jìn)一步包括參考面，所述參考面用于在記錄或再生期間照射所述記錄層的光的聚焦控制或追蹤控制。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄介質(zhì)，其中，所述感光層和所述非感光層交替層壓。
8.一種用于記錄介質(zhì)的再生設(shè)備，所述介質(zhì)包括感光層；非感光層；以及記錄層形成區(qū)，所述感光層和所述非感光層在所述記錄層形成區(qū)中層壓，其中，所述感光層包括記錄層，在所述記錄層中，通過在用聚焦光照射的部分內(nèi)刪除或改變平行于記錄介質(zhì)表面形成的干涉條紋來記錄信息，或者，使用在用聚焦光照射期間反射的光來再生信息，所述再生設(shè)備包括光學(xué)拾取器，用光照射所述記錄層并接收反射光；以及信號(hào)處理單元，基于關(guān)于所述光學(xué)拾取器接收的所述反射光的信息，再生記錄在所述記錄層中的信息。
全文摘要
一種記錄介質(zhì)和再生設(shè)備，所述記錄介質(zhì)包括感光層、非感光層、以及記錄層形成區(qū)，在記錄層形成區(qū)中感光層和非感光層層壓。感光層包括記錄層，在記錄層中，通過在用聚焦光照射的部分中刪除或改變平行于記錄介質(zhì)表面形成的干涉條紋來記錄信息，或者，使用在用聚焦光照射期間反射的光來再生信息。
文檔編號(hào)G11B7/004GK102610245SQ201210011509
公開日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2012年1月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月20日
發(fā)明者小林誠(chéng)司, 角洋次郎, 齊藤公博 申請(qǐng)人:索尼公司