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主軸電機以及配置有該主軸電機的存儲盤片驅(qū)動裝置的制作方法

文檔序號:6737324閱讀:148來源:國知局
專利名稱:主軸電機以及配置有該主軸電機的存儲盤片驅(qū)動裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及盤片驅(qū)動裝置用的主軸電機。
背景技術(shù)
以往的硬盤驅(qū)動裝置等盤片驅(qū)動裝置搭載有主軸電機(以下簡稱為“電機”)。在日本國特開2004-135467號公報所公開的外轉(zhuǎn)子型電機中,轉(zhuǎn)子組包括杯狀的旋轉(zhuǎn)轂體和驅(qū)動磁體。定子組包括定子鐵芯和卷繞在定子鐵芯上的驅(qū)動線圈。驅(qū)動磁體被固定在旋轉(zhuǎn)轂體的環(huán)狀立壁部的內(nèi)周面,與定子鐵芯的外周面相對。在電機驅(qū)動的時候,在驅(qū)動磁體和驅(qū)動線圈之間產(chǎn)生磁力的作用。在日本國特開2008-97803號公報中,也公開了永磁鐵被配置成與電磁鐵的外周側(cè)相對的電機。然而,近年來,要求盤片驅(qū)動裝置的薄型化,被搭載于盤片驅(qū)動裝置中的電機也被要求進一步的薄型化。但是,如果僅僅通過使以往的電機結(jié)構(gòu)變薄,則作為盤片驅(qū)動裝置用電機,不能獲得足夠的特性。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于在薄型的電機中,當電機旋轉(zhuǎn)時,產(chǎn)生足夠的轉(zhuǎn)矩,并且抑制振動和噪音。本實用新型的例示性的7mm厚2. 5型存儲盤片驅(qū)動裝置用主軸電機具有基底部、 定子、轉(zhuǎn)子轂、轉(zhuǎn)子磁體和軸承機構(gòu)。所述定子被配置在所述基底部的上側(cè)。所述轉(zhuǎn)子轂包括被配置在所述定子上側(cè)的蓋部以及從所述蓋部的外緣向下側(cè)延伸的側(cè)壁部。所述轉(zhuǎn)子磁體被配置在所述定子的徑向外側(cè),且被配置在所述轉(zhuǎn)子轂的所述側(cè)壁部的內(nèi)周面上。所述軸承機構(gòu)將所述轉(zhuǎn)子轂和所述轉(zhuǎn)子磁體支撐成可相對于所述基底部和所述定子旋轉(zhuǎn)。在軸向上,所述轉(zhuǎn)子磁體的高度為2mm以上且在3mm以下,所述定子的定子鐵芯的高度為所述轉(zhuǎn)子磁體的高度的50%以上且在75%以下,在所述定子和所述轉(zhuǎn)子磁體之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)矩的轉(zhuǎn)矩常數(shù)為3mNm/A以上且在5mNm/A以下。通過下面對本實用新型的優(yōu)選實施方式進行的詳細說明,參照附圖,可以更加清楚地理解本實用新型的上述及其它特點、要素、步驟、特征和優(yōu)點。根據(jù)本實用新型,在薄型的電機中,能夠產(chǎn)生足夠的轉(zhuǎn)矩并且抑制振動和噪音。

圖1是示出盤片驅(qū)動裝置的圖。圖2是主軸電機的剖面圖。圖3是定子的俯視圖。圖4是放大示出主軸電機的一部分的圖。圖5是示出THD與鐵芯-磁體高度比的關(guān)系的圖。圖6是示出SPL和THD之間的關(guān)系的圖。[0014]標號說明1盤片驅(qū)動裝置;4軸承機構(gòu);11盤片;12主軸電機;13存取部;14外殼;21基底部;22定子;31轉(zhuǎn)子轂;32轉(zhuǎn)子磁體;151夾持器;212(基底部的)上表面;221定子鐵芯; 22化磁性鋼板;222線圈;223導線;311蓋部;311a (蓋部的)下表面;312側(cè)壁部;312a (側(cè)壁部的)內(nèi)周面;Hl定子鐵芯的高度;H2轉(zhuǎn)子磁體的高度;H3轉(zhuǎn)子轂的蓋部和底板之間的距離。
具體實施方式
在本說明書中,將電機中心軸方向上的圖1的上側(cè)簡稱為“上側(cè)”,將下側(cè)簡稱為 “下側(cè)”。另外,上下方向并不是表示盤片驅(qū)動裝置在使用時的方向。再者,將與中心軸平行的方向稱為“軸向”,將以中心軸為中心的徑向簡稱為“徑向”,將以中心軸為中心的周向簡稱為“周向”。圖1是包含本實用新型的一個例示性實施方式的主軸電機(以下簡稱為“電機”) 的盤片驅(qū)動裝置1的剖面圖。盤片驅(qū)動裝置1搭載2. 5英寸的盤片。而且,盤片驅(qū)動裝置 1的軸向厚度為7mm。以下,盤片驅(qū)動裝置1是指“7mm厚的2. 5型硬盤驅(qū)動裝置”。盤片驅(qū)動裝置1包括盤片11、電機12、存取部13、外殼14和夾持器151。電機12使盤片11旋轉(zhuǎn)。 存取部13對盤片11進行信息的讀取和寫入中的至少一種操作。外殼14包括杯狀的第一外殼部件141和平板狀的第二外殼部件142。在第一外殼部件141的內(nèi)部,配置有盤片11、電機12、存取部13和夾持器151。第二外殼部件142被配置在第一外殼部件141的上部。盤片11被夾持器151和電機12夾持。存取部13包括讀寫頭131、臂132和讀寫頭移動機構(gòu)133。讀寫頭131接近盤片11、進行信息的讀取和寫入中的至少一種操作。臂 132支撐讀寫頭131。讀寫頭移動機構(gòu)133移動臂132,由此,讀寫頭131相對于盤片11移動。讀寫頭131在盤片11的必要位置進行存取。圖2是電機12的剖面圖。電機12是外轉(zhuǎn)子型的。電機12包括作為固定組合體的靜止部2、作為旋轉(zhuǎn)組合體的旋轉(zhuǎn)部3、和軸承機構(gòu)4。靜止部2包括大致平板狀的底板 21、定子22、絕緣套管23、磁性部件M和布線基板25。圖1的第一外殼部件141包括底板 21。定子22被配置在底板21的上側(cè)。定子22包括定子鐵芯221和線圈222。定子鐵芯 221的徑向內(nèi)側(cè)的部位被固定在包含底板21的圓筒部的保持架211上。磁性部件M包括以中心軸Jl為中心的圓環(huán)部。利用粘接劑將磁性部件M固定在底板21的上表面212上。 線圈222的導線223被配置在絕緣套管23內(nèi)。而且,導線223與絕緣套管23 —起被配置在底板21的貫通孔中。導線223的端部與布線基板25連接。旋轉(zhuǎn)部3包括轉(zhuǎn)子轂31和轉(zhuǎn)子磁體32。轉(zhuǎn)子轂31包括蓋部311、側(cè)壁部312、轂筒部313和盤片放置部314。蓋部311被配置在定子22的上側(cè)。轂筒部313包括以中心軸 Jl為中心的圓筒部。轂筒部313在軸承機構(gòu)4的外側(cè)從蓋部311的下表面311a向下側(cè)延伸。側(cè)壁部312從蓋部311的外緣向下方延伸。盤片放置部314從側(cè)壁部312向徑向外側(cè)延伸。圖1的盤片11被放置在盤片放置部314上。轉(zhuǎn)子磁體32被固定在側(cè)壁部312的內(nèi)周面31 上,且配置于定子22的徑向外側(cè)。 將釹磁鐵(Nd-Fe-B BOND MAGNET)利用于轉(zhuǎn)子磁體32。磁性部件M被固定在底板21的上表面212上,且配置于轉(zhuǎn)子磁體32的下側(cè)。在轉(zhuǎn)子磁體32和磁性部件M之間產(chǎn)生磁吸引力。在電機12驅(qū)動時,在定子22和轉(zhuǎn)子磁體32之間產(chǎn)生轉(zhuǎn)矩。轉(zhuǎn)矩常數(shù)優(yōu)選為3mNm/ A以上、5mNm/A以下。軸承機構(gòu)4包括軸部41、套筒42、套筒外殼43、止推板44、軸承蓋部45和潤滑劑 46。軸部41從蓋部311的徑向內(nèi)側(cè)的部位向下側(cè)延伸。軸部41和轉(zhuǎn)子轂31是連成一體的部件。在軸部41的上部設(shè)置有內(nèi)螺紋部411。在蓋部311的中央,通過將圖1所示的外螺紋螺絲152擰入內(nèi)螺紋部411中,來將夾持器151固定在電機12上。在夾持方式中,除了已經(jīng)敘述的方式(以下,稱為“中央夾持方式”)之外,還有被稱為轂夾持方式的方式。在轂夾持方式中,在轉(zhuǎn)子轂的蓋部的上表面設(shè)置有多個內(nèi)螺紋部, 通過將外螺紋螺絲擰入內(nèi)螺紋部中,來將夾持器固定在電機上。在轂夾持方式中,因為外螺紋螺絲被固定在蓋部上,所以需要使蓋部的高度下降從夾持器的上表面露出的外螺紋螺絲的高度的量。另外,由于將外螺紋螺絲擰入轂內(nèi),因此需要使轂的厚度比中央夾持方式的轂厚。所以,在7mm厚類型那樣的薄型電機中,在確保蓋部的下表面和底板的上表面之間的空間方面,中央夾持方式是有效的。軸部41被配置在套筒42的內(nèi)側(cè)。套筒外殼43被配置在轂筒部313的內(nèi)側(cè)。套筒42被固定在套筒外殼43的內(nèi)周面上。止推板44被固定在軸部41的下部。軸承蓋部45 被固定在套筒外殼43的下端,封閉套筒外殼43的下側(cè)的開口。電機12包括徑向間隙471、第一推力間隙472、第二推力間隙473。徑向間隙471 是套筒42的內(nèi)周面和軸部41的外周面之間的間隙。第一推力間隙472是套筒42的下表面和止推板44的上表面之間的間隙。第二推力間隙473是套筒42的上表面以及套筒外殼43 的上表面與蓋部311的下表面311a之間的間隙。潤滑劑46被連續(xù)地填充在徑向間隙471、 第一推力間隙472和第二推力間隙473中。而且,潤滑劑46也被連續(xù)地填充在間隙474以及密封間隙475中,所述間隙474是止推板44的下表面和軸承蓋部45的上表面之間的間隙,所述密封間隙475是轂筒部313的內(nèi)周面和套筒外殼43的外周面的上部之間的間隙。套筒42的內(nèi)周面包括徑向動壓槽組。套筒42的上表面和下表面包括止推動壓槽組。在徑向間隙471中,由徑向動壓槽組構(gòu)成徑向動壓軸承部481。在第一推力間隙472 中,由止推動壓槽組構(gòu)成第一止推動壓軸承部482。在第二推力間隙473中,由止推動壓槽組構(gòu)成第二止推動壓軸承部483。在電機12驅(qū)動時,通過徑向動壓軸承部481、第一止推動壓軸承部482和第二止推動壓軸承部483,來將旋轉(zhuǎn)部3支撐成不接觸靜止部2。由此,轉(zhuǎn)子轂31和轉(zhuǎn)子磁體32相對于底板21和定子22相對旋轉(zhuǎn)。圖3是定子22的俯視圖。定子22包括定子鐵芯221和多個線圈222。定子鐵芯 221包括圓筒狀的中央部51和多個齒部52。齒部52為T字狀,從中央部51的外周向徑向外側(cè)延伸,并且在外側(cè)的端部向周向兩側(cè)延伸。通過將導線223卷繞在各齒部52上,構(gòu)成線圈222。線圈222被配置在蓋部311的下表面311a和底板21的上表面212之間。蓋部 311的下表面311a和底板21的上表面212之間的距離H3為3. 2mm。關(guān)于7mm厚類型的盤片驅(qū)動裝置,即使將搭載于9. 5mm厚類型的盤片驅(qū)動裝置中的電機按7mm厚類型來直接進行薄型化,也不能獲得足夠的轉(zhuǎn)矩常數(shù)。例如,在只是單純地將搭載于9. 5mm厚類型中的電機的高度降低約沈%的情況下,轉(zhuǎn)矩常數(shù)減小了一半。因此, 在7mm厚類型的盤片驅(qū)動裝置1的電機12中,即使是比9. 5mm厚類型的盤片驅(qū)動裝置更受限制的空間,也需要設(shè)計成既能產(chǎn)生足夠的轉(zhuǎn)矩又可抑制振動和噪音。也就是說,為了在受限制的空間中產(chǎn)生足夠的轉(zhuǎn)矩,需要設(shè)計成使轉(zhuǎn)矩常數(shù)為3mNm/A以上且在5mNm/A以下, 而且抑制振動和噪音。導線223的直徑為0. IOmm以上且在0. 14mm以下。更優(yōu)選導線223的直徑為 0. 115mm以上且在0. 130mm以下。各線圈222的匝數(shù)為40以上且在70以下。各線圈222 的電阻值為3.3Ω以上且在5Ω以下。然而,在9. 5mm厚類型的盤片驅(qū)動裝置中所利用的導線的直徑一般為0. 15mm以上且在0.2mm以下。線圈的匝數(shù)為40以上且在60以下。線圈的電阻值為1.3Ω以上且在4.1Ω以下。在電機12中,與9. 5mm厚類型的盤片驅(qū)動裝置的電機相比,在受限制的空間中,既可抑制線圈電阻值的增大又能獲得足夠的匝數(shù)。因此, 在受到限制的空間中,當電機旋轉(zhuǎn)時,可產(chǎn)生足夠的轉(zhuǎn)矩,并且可抑制振動和噪音。圖4是圖2的轉(zhuǎn)子磁體32附近區(qū)域的放大圖。定子鐵芯221是磁性鋼板221a的層疊體。一片磁性鋼板221a的厚度為0.2mm。在本實施方式中,磁性鋼板221a的數(shù)量為 7。在軸向上,定子鐵芯221的高度Hl為1.4mm。另外,在軸向上,轉(zhuǎn)子磁體32的高度H2為2. 3mm。定子鐵芯221的高度Hl相對于轉(zhuǎn)子磁體32的高度H2的比例(以下,稱為“鐵芯-磁體高度比”)為61%。如已經(jīng)敘述的那樣,轉(zhuǎn)子轂31的蓋部311的下表面311a和底板21的上表面212之間的距離H3為 3. 2mm。圖5示出鐵芯-磁體高度比和THD (total harmonic distortion 總諧波失真)之間的關(guān)系。在圖5中,縱軸表示THD。橫軸表示鐵芯-磁體高度比。將產(chǎn)生于定子22的感應(yīng)電壓的波形變換為多個頻率成分,THD表示所包含的作為波形失真的高頻成分占全部頻率成分的比例。另外,圖6是示出SPL(sound pressure level 聲壓級)和THD之間的關(guān)系的圖。在圖6中,縱軸表示SPL,橫軸表示THD。SPL是表現(xiàn)聲壓的大小的量,單位采用分貝(dB)。另外,關(guān)于圖6的SPL,是在將盤片搭載于電機上且第二外殼部件安裝在第一外殼部件上的狀態(tài)下,測量SPL。關(guān)于在暗噪音約為30dB的環(huán)境下的、純音(正弦波音)的最小可聽值,年輕人群體平均約為10dB,老年人群體平均約為20dB。暗噪音約為30dB的環(huán)境例如是非常安靜的室內(nèi)等。如圖6所示,在7mm厚類型的電機中,如果THD超過4%,則SPL因磁激振力而超過10dB。如果SPL超過10dB,則產(chǎn)生在電機特性上成為問題的大振動和噪音。如圖5所示,在7mm厚類型的電機中,通過將鐵芯-磁體高度比設(shè)為50 %以下,來將THD抑制在4% 以下。如已經(jīng)敘述的那樣,根據(jù)電機12的鐵芯-磁體高度比為61%這一情況,可知THD不足4%。感應(yīng)電壓波形的失真被認為是因下述情況而產(chǎn)生的,所述情況為在定子22和轉(zhuǎn)子磁體32之間產(chǎn)生的磁通密度比定子鐵芯221中的飽和磁通密度高。但是,在電機12中, 通過確保定子鐵芯221的高度,來抑制定子鐵芯221中的磁通飽和。由此,可以將THD抑制得足夠低,能夠抑制振動和噪音。另外,在本實施方式中,優(yōu)選定子鐵芯221中的磁通密度為1. 3T以下。在上面,對電機12的結(jié)構(gòu)進行了說明,但是,在電機12中,可以將THD設(shè)為不足4%。其結(jié)果是,防止了轉(zhuǎn)矩特性變差,可以抑制電機12驅(qū)動時的振動和噪音。另外,通過將轉(zhuǎn)矩常數(shù)設(shè)為3mNm/A以上且在5mNm/A以下,既能抑制電流量又能高效地產(chǎn)生轉(zhuǎn)矩。在電機12中,轉(zhuǎn)子磁體32的高度并不限于2. 3mm,優(yōu)選為2mm以上且在3mm以下。 為了產(chǎn)生足夠的轉(zhuǎn)矩,需要將轉(zhuǎn)子磁體32的高度設(shè)為2mm以上。另外,在7mm厚類型的盤片驅(qū)動裝置1的電機12中,可使用的高度的上限為3mm。此外,在7mm厚類型那樣的薄型電機中,在轉(zhuǎn)子轂和底板的厚度薄且轉(zhuǎn)子轂和底板的剛性小的情況下,產(chǎn)生因這些因素而造成的振動和噪音。因此,在7mm厚類型的電機中,在受限制的空間內(nèi),必須既要確保轉(zhuǎn)子轂和底板的厚度為一定值以上又要確保規(guī)定的用于設(shè)置線圈的空間。為了確保規(guī)定的用于設(shè)置線圈的空間,優(yōu)選鐵芯-磁體高度比為 75%以下。在上面,為了既要將THD設(shè)為不足4%又要確保用于設(shè)置線圈222的空間,優(yōu)選鐵芯-磁體高度比為50%以上且在75%以下。而且,更優(yōu)選定子鐵芯221的高度為7mm厚類型的盤片驅(qū)動裝置1的高度的16% 以上且在以下,即為1. Imm以上且在1. 7mm以下。由此,既能充分確保線圈222的空間又能抑制磁通的飽和。在電機12中,也可以使蓋部311的下表面311a和底板21的上表面212之間的距離在3. Omm以上且在4. Omm以下的范圍變更。在電機12中,即使是這樣的小的空間,也能夠既充分地產(chǎn)生轉(zhuǎn)矩又能夠抑制振動和噪音。在定子22中,磁性鋼板221a的數(shù)量可以是6。在該情況下,定子鐵芯221的高度為1. 2mm。轉(zhuǎn)子磁體32的高度為2mm以上,而為了將鐵芯-磁體高度比設(shè)為50%以上,則為2. 4mm以下。由此,可以抑制電機12的振動和噪音。磁性鋼板221a的厚度也可以為0. 2mm以外的厚度,例如可以為0. 15mm。在該情況下,磁性鋼板221a的數(shù)量優(yōu)選為8或9。優(yōu)選定子鐵芯221的高度為1. 2mm或1. 35mm,轉(zhuǎn)子磁體32的高度為2mm以上且在3mm以下,并且鐵芯-磁體高度比為50%以上且在75% 以下。再者,也可以利用厚度為0. 3mm的磁性鋼板221a,在該情況下,優(yōu)選磁性鋼板221a的數(shù)量為4。在電機12中,利用一般的0. 15mm厚、0. 2mm厚和0. 3mm厚的磁性鋼板221a,由此能夠廉價地制造定子鐵芯221。如上面所述,在定子鐵芯221中,也可以對應(yīng)于各種厚度來利用合適數(shù)量的磁性鋼板221a。在上面,對本實用新型的實施方式進行了說明,但是本實用新型并不限于上述實施方式。除了底板21之外,電機12還可以利用被安裝在第一外殼部件141上的底架來作為基底部。只要不相互矛盾,上述實施方式和各變化例中的結(jié)構(gòu)就可以適當?shù)亟M合。本實用新型可作為盤片驅(qū)動裝置用的主軸電機來使用。
權(quán)利要求1.一種7mm厚2. 5型存儲盤片驅(qū)動裝置用主軸電機,其具有 基底部;定子,其被配置在所述基底部的上側(cè);轉(zhuǎn)子轂,其包括被配置在所述定子的上側(cè)的蓋部以及從所述蓋部的外緣向下側(cè)延伸的側(cè)壁部;轉(zhuǎn)子磁體,其被配置在所述定子的徑向外側(cè),且被配置在所述轉(zhuǎn)子轂的所述側(cè)壁部的內(nèi)周面上;以及軸承機構(gòu),其將所述轉(zhuǎn)子轂和所述轉(zhuǎn)子磁體支撐成可相對于所述基底部和所述定子旋轉(zhuǎn),在軸向上,所述轉(zhuǎn)子磁體的高度為2mm以上且在3mm以下,所述定子的定子鐵芯的高度為所述轉(zhuǎn)子磁體的高度的50%以上且在75%以下,在所述定子和所述轉(zhuǎn)子磁體之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)矩的轉(zhuǎn)矩常數(shù)為3mNm/A以上且在5mNm/A以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的存儲盤片驅(qū)動裝置用主軸電機,其中, 所述定子鐵芯為磁性鋼板的層疊體,所述磁性鋼板的數(shù)量為6或7,所述磁性鋼板的厚度為0. 2mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的存儲盤片驅(qū)動裝置用主軸電機,其中,所述蓋部的下表面和所述基底部的上表面之間的距離為3mm以上且在4mm以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項所述的存儲盤片驅(qū)動裝置用主軸電機,其中,所述定子的線圈的導線直徑為0. IOmm以上且在0. 14mm以下,所述線圈的匝數(shù)為40以上且在70以下。
5.一種7mm厚2. 5型存儲盤片驅(qū)動裝置,其具有使盤片旋轉(zhuǎn)的權(quán)利要求1至3中的任一項所述的主軸電機; 存取部,其對所述盤片進行信息的讀取和寫入中的至少一種操作; 夾持器,其與所述轉(zhuǎn)子轂一起夾持所述盤片;以及外殼,在其內(nèi)部配置有所述盤片、所述主軸電機、所述存取部和所述夾持器。
6.一種7mm厚2. 5型存儲盤片驅(qū)動裝置,其具有 使盤片旋轉(zhuǎn)的權(quán)利要求4所述的主軸電機;存取部,其對所述盤片進行信息的讀取和寫入中的至少一種操作;夾持器,其與所述轉(zhuǎn)子轂一起夾持所述盤片;以及外殼,在其內(nèi)部配置有所述盤片、所述主軸電機、所述存取部和所述夾持器。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的存儲盤片驅(qū)動裝置,其中,其包括 外螺紋部;軸部,其被配置在所述軸承機構(gòu)上;以及內(nèi)螺紋部,其被配置在所述軸部的上部,所述夾持器在所述蓋部的中央被所述外螺紋部和所述內(nèi)螺紋部夾持而被固定。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的存儲盤片驅(qū)動裝置,其中,其包括 外螺紋部;軸部,其被配置在所述軸承機構(gòu)上;以及內(nèi)螺紋部,其被配置在所述軸部的上部,所述夾持器在所述蓋部的中央被所述外螺紋部和所述內(nèi)螺紋部夾持而被固定。
專利摘要提供7mm厚2.5型存儲盤片驅(qū)動裝置用主軸電機以及配置有該主軸電機的存儲盤片驅(qū)動裝置,主軸電機具有基底部、定子、轉(zhuǎn)子轂、轉(zhuǎn)子磁體和軸承機構(gòu)。定子被配置在基底部的上側(cè)。轉(zhuǎn)子轂包括被配置在定子上側(cè)的蓋部以及從蓋部的外緣向下側(cè)延伸的側(cè)壁部。轉(zhuǎn)子磁體被配置在定子的徑向外側(cè),且被配置在轉(zhuǎn)子轂的側(cè)壁部的內(nèi)周面。所述軸承機構(gòu)將所述轉(zhuǎn)子轂和所述轉(zhuǎn)子磁體支撐成可相對于所述基底部和所述定子旋轉(zhuǎn)。在軸向上,所述轉(zhuǎn)子磁體的高度為2mm以上且在3mm以下,所述定子的定子鐵芯的高度為所述轉(zhuǎn)子磁體的高度的50%以上且在75%以下,在所述定子和所述轉(zhuǎn)子磁體之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)矩的轉(zhuǎn)矩常數(shù)為3mNm/A以上且在5mNm/A以下。
文檔編號G11B17/022GK202134968SQ20112004896
公開日2012年2月1日 申請日期2011年2月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月31日
發(fā)明者玉岡健人, 阿部弘幸 申請人:日本電產(chǎn)株式會社
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