專利名稱：包括熱輔助用光源單元的記錄頭的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于熱輔助磁記錄的熱輔助磁記錄頭的制造方法，其中加熱磁記錄介質(zhì)的待寫入部分，并且因此對(duì)各向異性磁場(chǎng)得以減小的該部分執(zhí)行寫入。本發(fā)明尤其涉及一種通過連接光源單元和滑塊(Slider)而組成的熱輔助磁記錄頭的制造方法。本發(fā)明還涉及一種用于進(jìn)行這種連接的設(shè)備。
背景技術(shù)：
隨著這些年來(lái)因特網(wǎng)使用的爆發(fā)，在諸如服務(wù)器和信息處理終端之類的計(jì)算機(jī)上存儲(chǔ)和使用比以往多得多的海量數(shù)據(jù)。預(yù)計(jì)這種趨勢(shì)將進(jìn)一步加速發(fā)展。在這些情況下， 對(duì)于諸如磁盤設(shè)備之類的磁記錄設(shè)備用作大容量存儲(chǔ)器的需求正在增長(zhǎng)，并且對(duì)于磁記錄設(shè)備的更高記錄密度的需求也正在增強(qiáng)。在磁記錄技術(shù)中，為了實(shí)現(xiàn)更高的記錄密度，需要磁頭在磁記錄介質(zhì)上寫入更小的記錄比特。為了穩(wěn)定地形成更小的記錄比特，垂直磁記錄技術(shù)已經(jīng)商用，其中將與介質(zhì)表面垂直的磁化分量用作記錄比特。此外，正在積極地開發(fā)熱輔助磁記錄技術(shù)，熱輔助磁記錄技術(shù)使得能夠使用具有更高磁化熱穩(wěn)定性的磁記錄介質(zhì)。在熱輔助磁記錄技術(shù)中，使用由具有大能量Ku的磁性材料形成的磁記錄介質(zhì)以便使磁化穩(wěn)定，于是通過加熱待寫入數(shù)據(jù)的介質(zhì)部分，減小了該部分的各向異性磁場(chǎng)；隨后通過向加熱后的部分施加寫入場(chǎng)來(lái)執(zhí)行寫入。實(shí)際上，通常使用利用諸如近場(chǎng)光(NF-光)之類的光照射并因此加熱磁記錄介質(zhì)的方法。在這種情況下，具有足夠高光輸出的光源應(yīng)該位于磁頭內(nèi)何處以及如何定位是相當(dāng)重要的，以便在磁記錄介質(zhì)上的所需位置穩(wěn)定地供應(yīng)具有足夠高強(qiáng)度的光。對(duì)于光源的設(shè)置，例如美國(guó)專利no. 7，538，978B2公開了一種結(jié)構(gòu)其中將包括激光二極管的激光器單元安裝在滑塊的背面；以及美國(guó)專利公開No. 2008/0056073A1公開了一種結(jié)構(gòu)其中具有單片集成反射鏡的激光二極管元件安裝在滑塊的背面。本發(fā)明的發(fā)明人提出了一種具有“復(fù)合滑塊結(jié)構(gòu)”的熱輔助磁記錄頭，包括將配備有光源的光源單元連接到配備有寫入頭元件的滑塊的端面(背面)，該端面與滑塊與介質(zhì)相對(duì)的表面相對(duì)。例如，在美國(guó)專利公開No. 2008/043360A1和美國(guó)專利公開 No. 2009/052078A1中公開了 “復(fù)合滑塊結(jié)構(gòu)”。具有“復(fù)合滑塊結(jié)構(gòu)”的熱輔助磁記錄頭的優(yōu)勢(shì)如下a)磁頭與薄膜磁頭的傳統(tǒng)制造方法相似，因?yàn)榕c介質(zhì)相對(duì)的表面和元件集成表面在滑塊中彼此垂直。b)光源可以避免在操作期間直接受到機(jī)械震動(dòng)，因?yàn)閷⒐庠丛O(shè)置為遠(yuǎn)離與介質(zhì)相對(duì)的表面。c)可以彼此獨(dú)立地評(píng)估諸如激光二極管之類的光源和頭元件；因此可以避免獲得整個(gè)磁頭的制造產(chǎn)出率的退化；而在將光源和頭元件都設(shè)置在滑塊內(nèi)的情況中，由于光源的工藝產(chǎn)出率和頭元件的工藝產(chǎn)出率的相乘，可能會(huì)顯著地減小獲得整個(gè)磁頭的制造產(chǎn)出率。d)可以低工時(shí)、低成本制造磁頭，因?yàn)椴恍枰虼蓬^提供諸如透鏡或棱鏡之類需要具有很高精度的光學(xué)部件或者具有專門結(jié)構(gòu)用于連接光纖等的光學(xué)元件。在制造具有“復(fù)合滑塊結(jié)構(gòu)”的熱輔助磁記錄頭時(shí)，重要的是將光源單元適當(dāng)?shù)剡B接至滑塊。具體地，需要提供足夠強(qiáng)的連接，以在連接之后提供光源的散熱路徑，并且確保連接位置的足夠高精確度。可以通過使用金屬焊料連接光源單元和滑塊來(lái)提供足夠強(qiáng)的結(jié)合。在這種情況下，光源單元和滑塊將金屬焊料夾在中間。這種結(jié)構(gòu)可以提供散熱路徑，在磁頭浮在磁記錄介質(zhì)上方的寫入操作期間，從光源輻射的熱沿著該散熱路徑依次傳遞到單元襯底、金屬焊料、滑塊襯底和磁記錄介質(zhì)。當(dāng)金屬焊料用于連接時(shí)，需要將金屬焊料的層形成為合適的厚度，例如在約0.05 至2μπι(微米)范圍內(nèi)的厚度。如果焊料太薄，難以提供足夠的結(jié)合強(qiáng)度。另一方面，如果焊料太厚，光源單元和滑塊之間的距離將太大，使得從光源發(fā)射的光在到達(dá)滑塊中的光學(xué)系統(tǒng)之前顯著地減弱，可能導(dǎo)致磁頭的光利用效率顯著減小。此外，焊料可以流到光源和光學(xué)系統(tǒng)之間的空間中。當(dāng)具有這種厚度限制的焊料用于連接光源單元和滑塊時(shí)，重要的是在光源單元和滑塊的連接表面之間提供非常高的“一致性”。這里使用的術(shù)語(yǔ)“一致性”意味著與參考表面的表面平行度，或者意味著表面與參考表面一致的程度。假設(shè)要將沿軌道(track)寬度方向?yàn)?00 μ m寬的光源單元連接表面連接到比光源單元連接表面寬得多的滑塊連接表面。如果在連接之前進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)時(shí)光源單元連接表面相對(duì)于滑塊連接表面傾斜一小角度 0.5° (度)且隨后熔化焊料以完成連接，那么光源單元連接表面的一端將相距滑塊連接表面至少約4. 4 μ m的距離。即使滑塊為2 μ m厚，也會(huì)在連接表面之間形成間隙，并且可能會(huì)不可接受地減小連接強(qiáng)度。如果連接較弱，光源單元可能在諸如清潔步驟之類的后續(xù)工藝步驟期間或者在磁頭使用期間脫離滑塊。通過主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)可以實(shí)現(xiàn)光源單元和滑塊之間連接位置的足夠高的精確度。這里， 主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)是這樣一種方法其中使諸如激光二極管之類的光源實(shí)際上處于工作狀態(tài)，同時(shí)將光源和諸如波導(dǎo)之類的光學(xué)系統(tǒng)彼此相對(duì)移動(dòng)，在光學(xué)系統(tǒng)的光發(fā)射端一側(cè)實(shí)時(shí)地監(jiān)測(cè)從光源發(fā)射并且入射到光學(xué)系統(tǒng)的光接收端上的光，直到使監(jiān)測(cè)位置中的光強(qiáng)度最大為止，然后將所述最大強(qiáng)度位置設(shè)置為光源相對(duì)于光學(xué)系統(tǒng)的所需相對(duì)位置。主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)要求通過將探針壓到光源的電極上將電功率提供給光源單元的光源，同時(shí)在滑塊上方移動(dòng)光源單元。存在滿足這種要求的一種方法其中利用夾具固定光源，使得電極所形成于的光源單元的表面沒有被夾具覆蓋，并且在滑塊所置于的平臺(tái)上方移動(dòng)固定光源單元的夾具，以將光源單元與滑塊對(duì)準(zhǔn)。然而，通過這種移動(dòng)光源的方法難以足夠地增加光源單元和滑塊的連接表面之間的一致性。實(shí)際上，由于工作精度限制，光源單元的單元襯底的表面在方正度(squareness) 上相對(duì)于彼此存在誤差。此外，固定光源單元的夾具的表面也具有誤差，并且由于調(diào)節(jié)限制，夾具相對(duì)于平臺(tái)的移動(dòng)也具有誤差。因此，即使當(dāng)將夾具移近平臺(tái)以使光源單元接觸滑塊時(shí)，也非常難以實(shí)現(xiàn)光源單元和滑塊的連接表面之間的高度一致性。如果在平臺(tái)中設(shè)置諸如空氣萬(wàn)向架(air gimbal)之類的一致性調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)以便解決一致性問題，該機(jī)構(gòu)對(duì)于調(diào)
5節(jié)一致性幾乎沒有影響，因?yàn)橹糜谄脚_(tái)上的滑塊的尺寸非常小。該機(jī)構(gòu)也增加了連接設(shè)備的復(fù)雜度。根據(jù)前述內(nèi)容可以看出，需要這樣一種方法在通過主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)將光源單元和滑塊彼此對(duì)準(zhǔn)之后，在光源單元和滑塊之間進(jìn)行連接時(shí)，能夠在光源單元和滑塊的連接表面之間實(shí)現(xiàn)非常高的“一致性”。

發(fā)明內(nèi)容
在解釋本發(fā)明之前，定義說(shuō)明書中使用的一些術(shù)語(yǔ)。在根據(jù)本發(fā)明的磁記錄頭的滑塊襯底的元件集成表面或單元襯底的源安裝表面中形成的分層結(jié)構(gòu)或元件結(jié)構(gòu)中，當(dāng)從標(biāo)準(zhǔn)層或元件觀看時(shí)，將襯底一側(cè)定義為“下”側(cè)，并且將相反的一側(cè)定義為“上”側(cè)。另外， 在示出了根據(jù)本發(fā)明的記錄頭實(shí)施例的一些附圖中，按照需要示出了 “X軸方向、“Y軸方向”和“Z軸方向”。這里，Z軸方向表示上述“上-下”方向，+Z—側(cè)對(duì)應(yīng)于尾部一側(cè)，而-Z 一側(cè)對(duì)應(yīng)于前部一側(cè)。Y軸方向表示軌道寬度方向，而χ軸方向表示高度方向。根據(jù)本發(fā)明，提出了一種制造熱輔助磁記錄頭的方法，在熱輔助記錄頭中，包括設(shè)置在單元襯底中的光源的光源單元和包括設(shè)置在滑塊襯底中的光學(xué)系統(tǒng)的滑塊彼此連接。 該制造方法包括以下步驟利用包括吸持裝置的背部保持夾具，通過吸持，附著單元襯底的單元背面，所述單元背面與單元襯底的源安裝表面相對(duì)；將背部保持夾具移近滑塊，以使得通過吸持附著到背部保持夾具的光源單元與滑塊的滑塊背面接觸，所述滑塊背面和滑塊與介質(zhì)相對(duì)的表面相對(duì)并且包括光學(xué)系統(tǒng)的光接收端面；通過加載裝置向單元襯底的負(fù)載施加表面施加負(fù)載，以使得光源單元的連接表面與滑塊的滑塊背面至少沿軌道寬度方向相一致，所述負(fù)載施加表面和要連接到滑塊的連接表面相對(duì)；停止施加負(fù)載，將背部保持夾具移離滑塊，以將光源單元定位為相距滑塊一定距離，然后沿滑塊背面的平面內(nèi)方向，將光源的發(fā)光中心與光學(xué)系統(tǒng)的光接收端面對(duì)準(zhǔn)；將背部保持夾具再次移近滑塊，以使光源單元與滑塊的滑塊背面接觸；以及通過加載裝置再次向單元襯底的負(fù)載施加表面施加負(fù)載，以使得光源單元的連接表面與滑塊的滑塊背面相一致。在該制造方法中，優(yōu)選地，使探針與光源單元中設(shè)置的用于光源的電極接觸，向光源供電以使得光源處于發(fā)射操作狀態(tài)，然后將光源的發(fā)光中心與光學(xué)系統(tǒng)的光接收端面對(duì)準(zhǔn)，使得來(lái)自光源的光進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)。在根據(jù)本發(fā)明的上述制造方法中，在通過使光源實(shí)質(zhì)上處于發(fā)射操作狀態(tài)的主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)將光源單元和滑塊彼此對(duì)準(zhǔn)的同時(shí)，能夠顯著地增加光源單元的連接表面和滑塊的滑塊背面之間的“一致性”。因此，在光源單元和滑塊之間連接時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)足夠強(qiáng)的結(jié)合和連接位置的足夠高精確度。這里，主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)是這樣一種方法光源實(shí)際上處于工作狀態(tài)，同時(shí)光源和諸如波導(dǎo)之類的光學(xué)系統(tǒng)彼此相對(duì)移動(dòng)，在光學(xué)系統(tǒng)的光發(fā)射端一側(cè)實(shí)時(shí)地監(jiān)測(cè)從光源發(fā)射且入射到光學(xué)系統(tǒng)的光接收端上的光，直到監(jiān)測(cè)位置中的光強(qiáng)度最大為止，然后將最大強(qiáng)度位置設(shè)置為光源相對(duì)于光學(xué)系統(tǒng)的所需相對(duì)位置。另外，這里所使用的術(shù)語(yǔ)“一致性”意味著表面相對(duì)于參考表面的平行度或者表面與參考表面一致的程度。另外，在根據(jù)本發(fā)明的制造熱輔助磁記錄頭的方法中，優(yōu)選地，背部保持夾具中設(shè)置的吸持裝置的吸力(用以吸持光源單元)所具有的幅度使得在施加預(yù)定負(fù)載的情況下改變光源單元的位置或朝向。另外，優(yōu)選地，背部保持夾具中所包括的吸持裝置是在背部保持夾具中設(shè)置的至少一個(gè)吸持孔，并且通過激活與至少一個(gè)吸持孔的一端相連的抽空裝置， 來(lái)通過吸持將光源單元附著到背部保持夾具。此外，優(yōu)選地，加載裝置是具有球形部分或凸起部分的夾具，所述球形部分或凸起部分與單元襯底的負(fù)載施加表面接觸。另外，在根據(jù)本發(fā)明的制造熱輔助磁記錄頭的方法中，優(yōu)選地，該制造方法還包括以下步驟在光源單元的連接表面上，或在滑塊的滑塊背面上，或在這兩個(gè)表面上，預(yù)先形成附著材料層，以及在連接表面與滑塊背面之間夾有附著材料層的情況下使得連接表面與滑塊背面相一致；通過單元襯底，用波長(zhǎng)穿過單元襯底的光，照射附著材料層以熔化附著材料層；以及結(jié)合光源單元和滑塊。在這種情況下，通過由諸如Si、GaAs或SiC之類的半導(dǎo)體材料形成單元襯底，用Nd-YAG激光通過單元襯底照射附著材料層且因此熔化附著材料層， 可以連接光源單元和滑塊。根據(jù)本發(fā)明，還提出了一種用于進(jìn)行上述制造方法的連接設(shè)備，所述連接設(shè)備包括固定裝置，用于支撐滑塊；背部保持夾具，包括吸持裝置，用于通過吸持來(lái)附著光源單元；以及吸持表面， 所述吸持表面接觸單元襯底的單元背面，所述背部保持夾具能夠移動(dòng)，以相對(duì)于固定裝置中保持的滑塊來(lái)調(diào)節(jié)光源單元的相對(duì)位置；加載裝置，用于向單元襯底的負(fù)載施加表面施加負(fù)載；探針，按壓抵靠在光源單元中設(shè)置的用于光源的電極上，配置用于向光源供電，以便沿滑塊背面的平面內(nèi)方向?qū)⒐庠吹陌l(fā)光中心與光學(xué)系統(tǒng)的光接收端面對(duì)準(zhǔn)；以及控制器，配置為適當(dāng)?shù)乜刂票巢勘３謯A具的移動(dòng)、吸持裝置的吸持、加載裝置的負(fù)載施加、探針的移動(dòng)以及通過探針對(duì)光源的供電。在根據(jù)本發(fā)明的連接設(shè)備中，優(yōu)選地，該連接設(shè)備還包括光電探測(cè)器，用于在對(duì)準(zhǔn)光源的發(fā)光中心與光學(xué)系統(tǒng)的光接收端面時(shí)，探測(cè)從通過探針供電的光源發(fā)射、通過光學(xué)系統(tǒng)傳播、且從滑塊與介質(zhì)相對(duì)的表面發(fā)射的光。另外優(yōu)選地，該連接設(shè)備還包括用于附著的光源，所述光源用于在光源單元的連接表面上、或在滑塊的滑塊背面上或在這兩個(gè)表面上預(yù)先形成附著材料層，并且在連接表面與滑塊背面之間夾有附著材料層的情況下使得連接表面與滑塊背面相一致之后，通過單元襯底，利用波長(zhǎng)穿過單元襯底的光照射附著材料層，以便熔化附著材料層，進(jìn)而結(jié)合光源單元和滑塊。根據(jù)以下對(duì)如附圖所示的本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的描述，本發(fā)明的其他目的和優(yōu)點(diǎn)將變得清楚明白。在每一幅圖中，用相同的參考數(shù)字表示在不同圖中示出的相同元件。另外為了便于觀看，元件內(nèi)部和元件之間的尺寸比例是不定的。


圖1示出了透視圖，說(shuō)明了通過根據(jù)本發(fā)明的制造方法制造的熱輔助磁記錄頭的一個(gè)實(shí)施例；
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圖2示出了沿圖1的平面A得到的截面圖，示意性地說(shuō)明了滑塊的頭元件部分的結(jié)構(gòu)、光源單元的激光二極管的結(jié)構(gòu)以及它們?cè)跓彷o助磁記錄頭中的鄰接關(guān)系；圖3示出了透視圖，示意性地說(shuō)明了波導(dǎo)、近場(chǎng)光發(fā)生器和主磁極的結(jié)構(gòu)；圖4示出了透視圖，示意性地說(shuō)明了用于通過根據(jù)本發(fā)明的制造熱輔助磁記錄頭的方法來(lái)連接光源單元和滑塊的連接設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例中的主要部分的結(jié)構(gòu)；圖5示出了透視圖，示意性地說(shuō)明了比較示例，用于與圖4所示的根據(jù)本發(fā)明的連接設(shè)備中保持光源單元的機(jī)構(gòu)進(jìn)行比較；圖6示出了示意圖，說(shuō)明了當(dāng)光源單元的連接表面和滑塊的滑塊背面之間的“一致性”不夠時(shí)，這兩個(gè)表面之間的結(jié)合；圖7al至7j示出了示意圖，說(shuō)明了根據(jù)本發(fā)明的制造熱輔助磁記錄頭的方法的一個(gè)實(shí)施例，其中將光源單元與滑塊連接；圖8示出了透視圖，示意性地說(shuō)明了根據(jù)本發(fā)明的磁記錄設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例中的主要部分的結(jié)構(gòu)；以及圖9示出了透視圖，示意性地說(shuō)明了根據(jù)本發(fā)明的HGA的一個(gè)實(shí)施例中的主要部分的結(jié)構(gòu)。
具體實(shí)施例方式圖1示出了透視圖，說(shuō)明了通過根據(jù)本發(fā)明的制造方法制造的熱輔助磁記錄頭的一個(gè)實(shí)施例。如圖1所示，通過將光源單元23和滑塊22對(duì)準(zhǔn)和連接來(lái)制造熱輔助磁記錄頭21， 光源單元23包括激光二極管40作為熱輔助用的光源，滑塊22包括光學(xué)系統(tǒng)31?；瑝K22包括滑塊襯底220，具有氣承(air bearing)面(ABQ 2200，處理該氣承面以提供適當(dāng)?shù)母?dòng)高度；以及頭元件部分221，包括光學(xué)系統(tǒng)31，并且形成在與ABS 2200 垂直且相鄰的元件集成表面2202上。同時(shí)，光源單元23包括單元襯底230，具有連接表面2300 ；以及作為光源設(shè)置在源安裝表面2302上的激光二極管40，源安裝表面2302與連接表面2300垂直且相鄰。將滑塊22和光源單元23結(jié)合，使得滑塊襯底220在與ABS 2200相對(duì)的一側(cè)上的滑塊背面2201和單元襯底230的連接表面2300彼此相對(duì)，并且在其間夾入焊料層58作為附著材料層。(光源單元)在如圖1所示的光源單元23中，激光二極管40可以是邊緣發(fā)射型半導(dǎo)體二極管。 激光二極管40具有發(fā)光中心4000，從該發(fā)光中心4000發(fā)射用于熱輔助的激光。將激光二極管40設(shè)置在單元襯底230的源安裝表面2302中，使得發(fā)光中心4000與光學(xué)系統(tǒng)31的光接收表面430相對(duì)。優(yōu)選地，使ρ-電極層40i (圖幻向下將激光二極管40結(jié)合到單元襯底230(使得ρ-電極層40i面對(duì)源安裝表面230 。通常，在邊緣發(fā)射激光二極管中，產(chǎn)生大部分熱量的有源層(發(fā)光中心)及其鄰近區(qū)域更靠近P-電極。因此，通過將P-電極 40 設(shè)置為底部，有源層變得更靠近單元襯底230，并且單元襯底230可以更有效地作為光源的熱沉。結(jié)果，可以提供散熱路徑，在記錄頭21的寫入操作期間，從激光二極管40輻射的熱依次傳遞至單元襯底230、焊料層58、滑塊襯底220和磁記錄介質(zhì)。
在將ρ-電極40i作為底部來(lái)設(shè)置激光二極管40的情況下，激光二極管40的上表面是η-電極40乂圖幻的表面。η-電極40a是在隨后參考圖7g詳細(xì)解釋的主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)使之與探針67相接觸的電極。再參考圖1，將光源電極410和引線電極411設(shè)置在光源單元23的源安裝表面 2302中。光源電極410將會(huì)與激光二極管40的ρ-電極40i (圖2)直接電連接。引線電極 411從光源電極410引出。在主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)期間也會(huì)將探針67放置為與引線電極411接觸，這在隨后將參考圖7g詳細(xì)描述。在將光源單元23連接到滑塊22之后，可以通過諸如引線鍵合或焊料球鍵合(SBB)之類的方法，將引線電極411和激光二極管40的η-電極40a電連接到頭萬(wàn)向架組件(HGA) 17 (圖9)的配線構(gòu)件203的連接焊盤。電連接使得能夠向激光二極管40供電。優(yōu)選地，將諸如Al2O3 (氧化鋁)或SW2之類的絕緣材料的絕緣層56設(shè)置在源安裝表面2302上，并且在絕緣層56上設(shè)置光源電極410和引線電極411，從而將光源電極 410和引線電極411電絕緣于單元襯底230。光源電極410和引線電極411可以包括底層和在底層上形成的導(dǎo)電層，底層由諸如Ta或Ti之類的材料制成，并且具有例如約IOnm(納米)的厚度，導(dǎo)電層由諸如Au、Cu或Au合金之類的導(dǎo)電材料制成，并且具有例如范圍在約 1-5 μ m (微米)的厚度。還參考圖1，優(yōu)選地，單元襯底230由諸如AlTiC(Al2O3-TiC)或SiO2之類的陶瓷材料制成，或者由諸如Si、GaAs或SiC之類的半導(dǎo)體材料制成。在單元襯底230由這種半導(dǎo)體材料制成的情況下，可以通過用傳播通過單元襯底230的諸如Nd-YAG激光之類的光照射，來(lái)熔化焊料層58，從而結(jié)合光源單元23和滑塊22。另外，單元襯底230略小于滑塊襯底220。然而，單元襯底230沿軌道寬度方向(Y 軸方向)的寬度Wun大于激光二極管40沿軌道寬度方向(Y軸方向)的寬度Wu，使得即使在將激光二極管40安裝到光源電極410上之后，引線電極411也暴露在源安裝表面2302上。 例如，在使用飛米滑塊(Femto slider)作為滑塊襯底220的情況下，單元襯底230可以具有350 μ m的厚度Tra(沿X軸方向)，沿軌道寬度方向500 μ m的寬度Wun，以及300 μ m的長(zhǎng)度Lun(沿Z軸方向)。使單元襯底230的與源安裝表面2302相對(duì)的表面2303接觸保持光源單元23的背部保持夾具62的吸持表面620，并且通過吸力附著到吸持表面620，這在隨后參考圖7a2 詳細(xì)描述。表面2303在下文中稱作單元背面2303。單元襯底230的與連接表面2300相對(duì)的表面2301是按壓圓頂桿65所抵靠的表面，以便將負(fù)載施加于光源單元23來(lái)增加連接表面2300的“一致性”，這在隨后參考圖7d詳細(xì)描述。表面2301在下文中稱作負(fù)載施加表面2301。這里所使用的術(shù)語(yǔ)“一致性”意味著與參考表面的表面平行度或者表面與參考表面的一致程度。(滑塊)在圖1中示出的滑塊22中，元件集成表面2202上形成的頭元件部分221包括頭元件32，包括磁阻(MR)元件33和電磁變換器34，磁阻元件33用于從磁盤10(圖8)中讀取數(shù)據(jù)，電磁變換器34用于將數(shù)據(jù)寫入到磁盤10中；光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43，接收從激光二極管40發(fā)射的光，改變(減小)激光的光斑尺寸，然后將激光導(dǎo)引至波導(dǎo)35 ；波導(dǎo)35，將光斑尺寸改變后的激光導(dǎo)引至作為與介質(zhì)相對(duì)表面的頭端面2210或其附近；近場(chǎng)光(NF-光)發(fā)生器36，通過與傳播通過波導(dǎo)35的激光耦合，產(chǎn)生用于熱輔助的NF-光；以及覆蓋層38， 形成于元件集成表面2202上以便覆蓋頭元件32、光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43、波導(dǎo)35和NF-光發(fā)生器36。這里，光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43、波導(dǎo)35和NF-光發(fā)生器36組成了記錄頭21 (頭元件部分221)中用于產(chǎn)生NF-光的光學(xué)系統(tǒng)31。光斑轉(zhuǎn)換器43和波導(dǎo)35被覆蓋層38覆蓋， 并且用作光傳播的芯區(qū)，而覆蓋它們的那部分覆蓋層38用作包層。MR元件33、電磁變換器34和NF-光發(fā)生器36的一端到達(dá)作為與介質(zhì)相對(duì)表面的頭端面2210。這里，頭端面2210和ABS2200組成熱輔助磁記錄頭21的整個(gè)與介質(zhì)相對(duì)表面。在實(shí)際的寫入和讀取操作期間，熱輔助磁記錄頭21氣動(dòng)地氣浮于旋轉(zhuǎn)的磁盤10的表面上方預(yù)定的氣浮高度。因此，MR元件33和電磁變換器34的端部面對(duì)磁盤10的磁記錄層的表面，之間相距合適的磁間隔。于是，MR元件33通過感測(cè)來(lái)自磁記錄層的信號(hào)磁場(chǎng)來(lái)讀取數(shù)據(jù)，并且電磁變換器；34通過向磁記錄層施加信號(hào)磁場(chǎng)來(lái)寫入數(shù)據(jù)。當(dāng)寫入數(shù)據(jù)時(shí)， 將從光源單元23的激光二極管40產(chǎn)生并且傳播通過光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43和波導(dǎo)35的激光改變?yōu)镹F-光發(fā)生器36中的NF-光NF(圖幻。然后，用NF-光62照射并因此加熱磁記錄層的待寫入部分。結(jié)果，將該部分的各向異性磁場(chǎng)(矯磁力)減小到能夠?qū)崿F(xiàn)寫入的值，進(jìn)而可以通過利用電磁變換器34將寫入場(chǎng)WF(圖3)施加至各向異性場(chǎng)減小的該部分來(lái)實(shí)現(xiàn)熱輔助磁記錄。還參考圖1，光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43是這樣一種光學(xué)元件，該光學(xué)元件在沿軌道寬度方向(Y軸方向)具有寬度％。的光接收端面430處接收從激光二極管40發(fā)射的激光，低損耗地將激光轉(zhuǎn)換為具有較小光斑直徑的激光，然后將轉(zhuǎn)換后的激光導(dǎo)引至波導(dǎo)35的光接收端面352。本實(shí)施例中的光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43包括下傳播層和上傳播層。下傳播層沿軌道寬度方向(Y軸方向)的寬度沿著通過光接收端面430入射的激光的行進(jìn)方向(-X方向)從寬度Ws。逐漸減小。上傳播層沿軌道寬度方向(Y軸方向)的寬度沿著激光的行進(jìn)方向(-χ 方向)比下傳播層431從寬度Ws。更加急劇地減小。當(dāng)通過光接收端面430入射的激光傳播通過該分層結(jié)構(gòu)時(shí)，該激光轉(zhuǎn)換為具有更小光斑尺寸的激光，并抵達(dá)波導(dǎo)35的光接收端面 352ο例如，光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43在光接收端面430處的寬度Wse可以處于約1至IOym 的范圍。例如，光接收端面430處的厚度Tsc(沿Z方向)也可以處于約1至10 μ m的范圍。 光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43由折射率高于周圍覆蓋層38的組成材料的折射率n 的材料制成。光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43可以由與波導(dǎo)35相同的電介質(zhì)材料制成，如下文所述。在這種情況下，可以整體地形成光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43和波導(dǎo)35。本實(shí)施例中的波導(dǎo)35自接收從光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43發(fā)射的激光的光接收端面352， 與元件集成表面2202平行地延伸到頭端面2210 —側(cè)上的端面350。這里，端面350可以是頭端面2210的一部分，或者可以從頭端面2210凹進(jìn)預(yù)定的距離。波導(dǎo)35 —側(cè)表面靠近端面350的一部分面對(duì)NF-光發(fā)生器36。這允許通過光接收端面352入射、并且通過波導(dǎo)35 行進(jìn)的激光(波導(dǎo)光)到達(dá)面對(duì)NF-光發(fā)生器36的該部分，從而與發(fā)生器36相耦合。再次參考圖1，用于磁頭元件32的一對(duì)端電極370和一對(duì)端電極371設(shè)置在滑塊 22的覆蓋層38的上表面上。通過引線鍵合方法或SBB方法，將端電極370和371電連接至 HGA 17(圖9)中設(shè)置的配線構(gòu)件的連接焊盤。隨后將詳細(xì)地描述撓性件(flexure) 201上配線構(gòu)件和這些端電極之間的連接模式。
例如，滑塊襯底220可以是所謂的飛米滑塊(Femto slider)，具有230 μ m的厚度 Ta (沿X軸方向)，沿軌道寬度方向(Y軸方向)700 μ m的寬度Wa，以及(沿Z軸方向)850 μ m 的長(zhǎng)度La。飛米滑塊通常用作能夠進(jìn)行高密度記錄的薄膜磁頭的襯底，并且在目前市場(chǎng)上的所有滑塊中具有最小標(biāo)準(zhǔn)化尺寸?；瑝K襯底220可以由諸如AlTiC (Al2O3-TiC)或Si022 類的陶瓷材料制成。(熱輔助磁記錄頭)如上所述，熱輔助磁記錄頭21具有“復(fù)合滑塊結(jié)構(gòu)”，其中結(jié)合滑塊22和光源單元 23以連接。因此，可以分離地制造滑塊22和光源單元23，然后將其連接在一起以制造記錄頭21。因此，如果在制造記錄頭之前執(zhí)行光源單元23和滑塊22的性能和可靠性評(píng)估，并且只將好的光源單元23和好的滑塊22用于制造記錄頭，則可以避免由于光源單元23和滑塊 22的廢品率而導(dǎo)致的記錄頭制造過程中對(duì)于記錄頭21生產(chǎn)率的明顯不利影響。在制造具有“符合滑塊結(jié)構(gòu)”的熱輔助磁記錄頭時(shí)，非常重要的是合適的連接光源單元23和滑塊22。具體地，重要的是提供足夠強(qiáng)的結(jié)合，以確保結(jié)合位置的足夠高精確度， 并且在連接之后提供激光二極管40的散熱路徑。隨后將參考圖7al至7j解釋根據(jù)本發(fā)明的制造熱輔助磁記錄頭21的方法，其滿足上述要求。圖2示出了沿圖1的平面A得到的截面圖，示意性地說(shuō)明了滑塊22的頭元件部分 221的結(jié)構(gòu)、光源單元23的激光二極管40的結(jié)構(gòu)以及它們?cè)跓彷o助磁記錄頭21中的鄰接關(guān)系。(激光二極管)根據(jù)圖2，激光二極管40是邊緣發(fā)射型的?？梢允褂贸Ｓ糜谕ㄐ拧⒐獗P存儲(chǔ)或材料分析的hP基、GaAs基或GaN基二極管作為激光二極管40。所發(fā)射的激光的波長(zhǎng)λ L例如可以是在約375nm至1. 7 μ m的范圍內(nèi)。圖2中所示的激光二極管40具有多層結(jié)構(gòu)，其中從上表面一側(cè)依次堆疊有n-電極40a ；n-GaAs襯底40b ；n-InGaAlP蓋層40c ；第一 InGaAlP 引導(dǎo)層40d;由多量子阱(InGaP/InGaAlP)等構(gòu)成的有源層40e ；第二 hGaAlP引導(dǎo)層40f ； P-^iGaAlP蓋層40g ；ρ-電極基層40h ；以及ρ-電極40i。另外，在激光二極管40的多層結(jié)構(gòu)的前后解理面上，分別形成反射層510和511，用于通過全反射激勵(lì)振蕩。這里，發(fā)光中心4000位于反射層510上有源層40e的位置處。在本實(shí)施例中，η-電極40a例如可以是由Au或Au合金制成的層，具有約0. 1 μ m的厚度并且形成于n-GaAs襯底40b上。當(dāng)然，激光二極管40的結(jié)構(gòu)不局限于上述結(jié)構(gòu)。然而優(yōu)選地，設(shè)置激光二極管40， 使得P-電極40i位于底部，并且結(jié)合到光源電極410。通常在邊緣發(fā)射激光二極管中，有源層40e (發(fā)光中心4000)沿各層堆疊的方向(沿Z軸方向)離ρ-電極40i近而離η-電極 40a遠(yuǎn)。因此，通過將ρ-電極40i作為底部來(lái)設(shè)置激光二極管40，由于ρ-電極40i更靠近在工作期間產(chǎn)生大多數(shù)熱量的有源層40e，單元襯底230可以更加有效地用作光源的熱沉。 實(shí)際上，從激光二極管40產(chǎn)生的熱的適當(dāng)散熱對(duì)于維持激光二極管40的振蕩操作處于良好的工作狀態(tài)是非常重要的。另外，設(shè)置在磁盤設(shè)備內(nèi)的電源可以用于驅(qū)動(dòng)激光二極管40。實(shí)際上，磁盤驅(qū)動(dòng)設(shè)備通常具有施加例如約2至5V電壓的電源，這對(duì)于激光振蕩是足夠的。激光二極管40 沿軌道寬度方向(沿Y軸方向)的寬度Wla(圖1)可以大于單元襯底230的寬度f(wàn)fUN。激光二極管40的長(zhǎng)度Lla近似與腔長(zhǎng)(反射層510和511之間的距離)相對(duì)應(yīng)，并且優(yōu)選地是300 μ m或以上，以便獲得足夠高的輸出。另外，可以通過使用諸如Au-Sn合金之類的焊料進(jìn)行焊接，來(lái)彼此結(jié)合激光二極管40的ρ-電極40i和單元襯底230的光源電極410。(頭元件部分)。也如圖2所示，頭元件部分221包括MR元件33、電磁變換器34和光學(xué)系統(tǒng)31。MR元件33形成于基層380上，基層380由諸如Al2O3 (氧化鋁)、SW2之類的絕緣材料制成，并且堆疊在元件集成表面2202上。MR元件33包括MR多層332 ；以及下屏蔽層 330和上屏蔽層334，下屏蔽層和上屏蔽層由軟磁材料制成，并且在其間夾入MR多層332和絕緣層381。MR多層332是磁敏部分，用于利用MR效應(yīng)來(lái)檢測(cè)信號(hào)磁場(chǎng)。MR多層332例如可以是電流位于平面內(nèi)的巨磁阻(CIP-GMR)多層，利用CIP-GMR效應(yīng)；電流與平面垂直的巨磁阻(CPP-GMR)多層，利用CPP-GMR效應(yīng)；或者隧道磁阻(TMR)多層，利用TMR效應(yīng)。電磁變換器34設(shè)計(jì)用于垂直磁記錄，并且包括上磁軛層340、主磁極3400、寫入線圈層343、線圈絕緣層344、下磁軛層345和下屏蔽3450。上磁軛層340形成為覆蓋線圈絕緣層344，并且主磁極3400形成于由諸如 Al2O3 (氧化鋁)之類的絕緣材料制成的絕緣層385上。這些上磁軛層340和主磁極3400彼此磁連接，并且作為朝著磁盤10 (圖8)的磁記錄層(垂直磁化層)會(huì)聚和引導(dǎo)磁通量的磁路，通過流經(jīng)寫入線圈層343的寫入電流來(lái)激勵(lì)磁通量。主磁極3400具有沿軌道寬度方向具有較小寬度Wp的端面3400e (圖幻，端面3400e抵達(dá)頭端面2210。寬度Wp限定了寫入場(chǎng) WF沿軌道寬度方向(Y軸方向)的分布寬度，并且可以設(shè)置為例如0.05至0.5 μ m。優(yōu)選地， 主磁極3400由飽和磁通密度比上磁軛層340高的軟磁材料制成，例如是包含！^作為主成分的鐵合金。寫入線圈層343形成于由諸如A1203 (氧化鋁)之類的絕緣材料制成的絕緣層385 上，使得至少在下磁軛層345和上磁軛層340之間通過一匝，并且寫入線圈層具有以背部接觸部分3402為中心的螺旋結(jié)構(gòu)。寫入線圈層343由諸如Cu(銅)之類的導(dǎo)電材料制成。寫入線圈層343涂覆有線圈絕緣層344，線圈絕緣層由諸如熱固化光致抗蝕劑之類的絕緣材料制成，并且將寫入線圈層343與上磁軛層340電隔離。在本實(shí)施例中寫入線圈層343具有單層結(jié)構(gòu)，然而，寫入線圈層可以具有兩個(gè)或以上的分層結(jié)構(gòu)或者螺旋線圈形狀。另外， 寫入線圈層343的匝數(shù)不局限于圖2所示的匝數(shù)，并且例如可以在從2至7的范圍內(nèi)。背部接觸部分3402具有沿X軸方向延伸的通孔，并且波導(dǎo)35和覆蓋波導(dǎo)35的絕緣層穿過該通孔。在通孔中，波導(dǎo)35與背部接觸部分3402的內(nèi)壁相距例如至少1 μ m的預(yù)定距離。該距離防止背部接觸部分3402吸收波導(dǎo)光。下磁軛層345形成于由諸如Al2O3 (氧化鋁)之類的絕緣材料制成的絕緣層383上， 并且作為從設(shè)置在磁盤10的磁記錄層(垂直磁化層)之下的軟磁下層返回的磁通量的磁路。下磁軛層；345由軟磁材料制成。另外，下屏蔽3450是磁路的一部分，與下磁軛層345 相連并抵達(dá)頭端面2210。下屏蔽3450通過NF-光發(fā)生器36與主磁極3400相對(duì)，并且用于接收從主磁極3400散布的磁通量。下屏蔽3450優(yōu)選地由具有高飽和磁通密度的材料制成，例如NiFe (坡莫合金)或構(gòu)成主磁極3400的鐵合金。這里，絕緣層381、382、383、384、 385和386組成了覆蓋層38。還參考圖2，光學(xué)系統(tǒng)31包括光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43、波導(dǎo)35和NF-光發(fā)生器36。由光斑尺寸轉(zhuǎn)換器43改變(減小)其光斑尺寸的激光53從光接收端面352進(jìn)入波導(dǎo)35，并且傳播通過波導(dǎo)35。波導(dǎo)35通過設(shè)置在背部接觸部分3402中且沿X軸方向延伸的通孔，從光接收端面352延伸到頭端面2210上的端面350。另外，NF-光發(fā)生器36是將通過波導(dǎo)35傳播的激光(波導(dǎo)光)53轉(zhuǎn)換為NF-光的元件。波導(dǎo)35在頭端面2210 — 側(cè)上的一部分和NF-光發(fā)生器36設(shè)置在下屏蔽3450 (下磁軛層34 和主磁極3400 (上磁軛層340)之間。下面將是參考圖3進(jìn)一步解釋上述光學(xué)系統(tǒng)31。圖3示出了透視圖，示意性地說(shuō)明了波導(dǎo)35、近場(chǎng)光發(fā)生器36和主磁極3400的結(jié)構(gòu)。在圖中，頭端面2210位于左側(cè)，端面2210包括寫入場(chǎng)和NF-光朝著磁記錄介質(zhì)發(fā)射所在的位置。如圖3所示，該結(jié)構(gòu)包括波導(dǎo)35，用于朝著端面350傳播激光(波導(dǎo)光)53，用于產(chǎn)生NF-光；以及NF-光發(fā)生器36，接收波導(dǎo)光53并產(chǎn)生NF-光NF。另外，緩沖部分50是夾在波導(dǎo)35的一部分側(cè)表面3M和NF-光發(fā)生器36的一部分下表面362之間的部分。緩沖部分50例如由折射率小于波導(dǎo)35的電介質(zhì)材料制成，并且用于將波導(dǎo)光53與NF-光發(fā)生器36耦合。在圖1至3所示的光源和光學(xué)系統(tǒng)中，優(yōu)選地，從激光二極管40的發(fā)光表面 400發(fā)射的激光具有TM模式偏振，在TM模式偏振中激光的電場(chǎng)振蕩方向沿Z軸。另外還如圖3所示，在本實(shí)施例中，NF-光發(fā)生器36由諸如Au、Ag、或包括Au或Ag 的合金之類的金屬制成，并且沿Π平面具有三角形形狀的截面。抵達(dá)頭端面2210的端面 36a尤其具有等腰三角形形狀，其頂點(diǎn)位于前部一側(cè)(-Z側(cè))與底邊相對(duì)。NF-光發(fā)生器36 將通過波導(dǎo)35傳播的波導(dǎo)光53轉(zhuǎn)換為NF-光，并且從端面36a發(fā)射NF-光NF。NF-光NF 朝著磁盤10 (圖8)的磁記錄層發(fā)射，并且抵達(dá)磁盤10的表面以加熱磁盤10的一部分磁記錄層。這種加熱將該部分的各向異性磁場(chǎng)(矯磁力)減小到可以用來(lái)執(zhí)行寫入操作的值。 在加熱之后，馬上將從主磁極3400產(chǎn)生的寫入場(chǎng)WF施加至該部分以執(zhí)行寫入操作。因此， 可以實(shí)現(xiàn)熱輔助磁記錄。設(shè)置在頭元件部分221中并且產(chǎn)生熱輔助用光的光學(xué)系統(tǒng)不局限于上述光學(xué)系統(tǒng)。例如，作為替代，可以使用NF-光發(fā)生器具有其他形狀和結(jié)構(gòu)的光學(xué)系統(tǒng)，或者在波導(dǎo)端部設(shè)置有由金屬件構(gòu)成的等離子體激元天線(plasmon antenna)的光學(xué)系統(tǒng)。圖4示出了透視圖，示意性地說(shuō)明了通過根據(jù)本發(fā)明的制造熱輔助磁記錄頭的方法來(lái)連接光源單元23和滑塊22用的連接設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例中的主要部分的結(jié)構(gòu)。參考圖4，用于連接光源單元23和滑塊22的連接設(shè)備60包括平臺(tái)61，所述平臺(tái)是用于支撐滑塊22的緊固裝置；背部保持夾具62，具有至少一個(gè)吸持孔630，是通過吸力來(lái)附著光源單元23的吸持裝置；圓頂桿65，是用于將負(fù)載施加至單元襯底230的負(fù)載施加表面2301的加載裝置；以及探針67，探針將被按壓抵靠在光源單元23中設(shè)置的激光二極管 40的電極上，以向激光二極管40提供電功率。連接設(shè)備60還包括控制器69?？刂破?9適當(dāng)?shù)赝ㄟ^背部保持夾具驅(qū)動(dòng)單元64 來(lái)控制背部保持夾具62的移動(dòng)，通過抽空裝置63來(lái)控制吸持孔630的吸力，通過加載單元 660和測(cè)力儀(load cell)661來(lái)控制圓頂桿56的負(fù)載施加，通過探針驅(qū)動(dòng)單元681來(lái)控制探針67的移動(dòng)，以及通過主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)電源680和探針67來(lái)控制提供給激光二極管40的功率?？刂破?9可以是包括軟件和記錄介質(zhì)的計(jì)算機(jī)，用于適當(dāng)?shù)靥峁┤缟纤龅目刂啤１巢勘３謯A具62包括吸持表面620，吸持表面620接觸單元襯底230的單元背面 2303。吸持孔630穿過背部保持夾具62。吸持孔630的一端抵達(dá)吸持表面620，另一端連
13接到抽空裝置63。因?yàn)楸巢勘３謯A具62只覆蓋光源單元23的單元背面2303，附著到背部保持夾具62的光源單元23可以由各種夾具和裝置容易地從外部訪問。背部保持夾具62 與背部保持夾具驅(qū)動(dòng)單元64相連，并且可以移動(dòng)以調(diào)節(jié)光源單元23相對(duì)于平臺(tái)61上保持的滑塊22的相對(duì)位置。參考圖4，圓頂桿65具有球形或凸起頂端，將負(fù)載按壓并且施加于光源單元23。圓頂桿65與加載單元660和測(cè)力儀661相連，測(cè)力儀661是重量傳感器。圓頂桿65向單元襯底230的負(fù)載施加表面2301施加預(yù)定的載荷。負(fù)載施加表面2301是單元襯底230的上表面，與連接表面2300相對(duì)。圓頂桿65可以用替代的加載裝置來(lái)代替，例如具有微小頂端表面的桿，例如平截頭三棱錐體、平截頭四棱錐體或平截頭圓錐體。探針67是用于執(zhí)行主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)的金屬針。探針67與主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)電源680電連接。本實(shí)施例中的探針67之一按壓抵靠在光源單元23的源安裝表面2302上設(shè)置的引線電極411 上，并且另一探針抵靠至η-電極40a (激光二極管40的上表面)，以向激光二極管40提供電功率。在主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，將激光二極管40的發(fā)光中心4000與光學(xué)系統(tǒng)31的光接收端面 430沿滑塊背面2201的平面內(nèi)方向(沿^平面的方向)彼此對(duì)準(zhǔn)。因此，與探針驅(qū)動(dòng)單元 681相連的探針67可移動(dòng)，使得激光二極管40的電極上的探針67可以在對(duì)準(zhǔn)期間保持按壓抵靠在電極上。圖5示出了透視圖，示意性地說(shuō)明了比較示例，用于與根據(jù)圖4所示的根據(jù)本發(fā)明的連接設(shè)備60中用于保持光源單元23的機(jī)構(gòu)進(jìn)行比較。圖6示出了示意圖，說(shuō)明了當(dāng)光源單元23的連接表面2300和滑塊22的滑塊背面2201之間的“一致性”不夠時(shí)，這兩個(gè)表面之間的結(jié)合。這里所使用的術(shù)語(yǔ)“一致性”意味著表面與參考表面的平行度，或者表面與參考表面的一致程度。參考圖5，在比較示例中，夾具70保持光源單元23。具體地，夾具70的兩個(gè)臂700 和701夾住光源單元23，使得臂700和701與光源單元23的兩個(gè)側(cè)表面2304和2305接觸，這兩個(gè)側(cè)表面沿軌道寬度方向(沿Y軸方向)彼此相對(duì)。因此，光源單元23不能夠相對(duì)于夾具70繞Z軸旋轉(zhuǎn)。由于工作精確度限制，光源單元23的單元襯底230的表面在方正度上相對(duì)于彼此存在誤差。夾住光源23的夾具70的臂700和701的表面也在方正度上相對(duì)于彼此存在誤差。由于調(diào)節(jié)限制，夾具70相對(duì)于平臺(tái)71的移動(dòng)也具有誤差。根據(jù)以上描述應(yīng)該理解，即使夾具70相對(duì)于平臺(tái)71的位置和朝向的誤差得以最小化且然后使夾具 70靠近平臺(tái)71以使得光源單元23接觸滑塊22，也難以維持光源單元23的連接表面2300 和滑塊22的滑塊背面2201之間的高度一致性。將參考圖6描述當(dāng)連接表面2300和滑塊背面2201之間的一致性不夠時(shí)，光源單元的連接表面2300和滑塊22的滑塊背面2201之間的結(jié)合。假設(shè)如圖6所示，將沿軌道寬度方向(沿Y軸方向)具有500 μ m寬度Wra的光源單元23 (單元襯底230)連接至滑塊22。這里假設(shè)已經(jīng)將焊料層58設(shè)置在滑塊22的滑塊背面2201上，并且焊料層58的厚度dEK是2 μ m。不希望焊料層58的厚度dEK太大，例如大于2 μ m。如果焊料層58太厚，光源單元23和滑塊22之間的距離將太大，使得從激光二極管40發(fā)射的光在抵達(dá)滑塊22中的光學(xué)系統(tǒng)之前明顯衰減，結(jié)果是顯著減小記錄頭的光利用效率。此外，焊料層58可能不利地流到激光二極管40和光學(xué)系統(tǒng)之間的空間中。如果在連接之前光源單元23的連接表面2300相對(duì)于滑塊22的滑塊背面2201傾
14斜0. 5° (度)的小角度θ ER的情況下來(lái)完成光源單元23的連接表面2300和滑塊22的滑塊背面2201之間的對(duì)準(zhǔn)，然后熔化焊料以完成連接，那么光源單元23的連接表面2300的一端2300a通過焊料層58附著到滑塊背面2201，而另一端2300b與一端2300a相比沿+X 方向與滑塊背面2201相距多出4. 4 μ m的距離dEK。即使焊料層58是2 μ m厚，由于傾斜小到0.5°的角度θ EK，連接表面2300在端部2300b附近的區(qū)域和滑塊背面2201之間也會(huì)形成間隙。結(jié)果，可能會(huì)不可接受地減小連接的強(qiáng)度。如果連接較弱，光源單元23可能會(huì)在諸如清潔步驟之類的后續(xù)工藝步驟期間或者在記錄頭的使用期間脫離滑塊22。圖7al至7j示出了示意圖，說(shuō)明了根據(jù)本發(fā)明的制造熱輔助磁記錄頭21的方法的一個(gè)實(shí)施例，其中將光源單元23與滑塊22連接。為了清楚起見，從圖7al至幾和圖7j 中省略了滑塊22的滑塊背面2201上設(shè)置的焊料層58。參考圖7al和7a2，首先用具有至少一個(gè)吸持孔630的背部保持夾具62來(lái)保持光源單元23，吸持孔630抵達(dá)背部保持夾具62的吸持表面620。具體地，通過吸力，將光源單元23的單元背面2303附著到背部保持夾具62的吸持表面620。通過吸持孔630的吸力來(lái)附著光源單元23是通過以下步驟來(lái)完成的激活與吸持孔630的一端相連的抽空裝置63， 以減小吸持孔630中的氣壓。這里，吸持光源單元23的力取決于吸持孔630的內(nèi)徑、所提供的吸持孔630的個(gè)數(shù)以及抽空裝置63的抽空程度，并且可以在相當(dāng)大的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。在本實(shí)施例中，將吸力調(diào)節(jié)為具有這樣的幅度，使得在所施加的預(yù)定負(fù)載下改變光源單元23 的位置或朝向。這種調(diào)節(jié)使得能夠在后續(xù)步驟中利用圓頂桿65來(lái)有效調(diào)節(jié)連接表面2300 的一致性。將光源單元23附著到這樣的位置，使得將其連接表面2300定位于背部保持夾具 62的下表面621之下(在-X —側(cè))。這種定位允許光源單元23與滑塊22相接觸，同時(shí)當(dāng)使背部保持夾具62靠近滑塊22時(shí)防止背部保持夾具62接觸滑塊22。這里，當(dāng)吸持光源單元23時(shí)，不需要使連接表面2300與下表面621平行。這是因?yàn)樵诤罄m(xù)步驟中通過由圓頂桿65施加負(fù)載來(lái)調(diào)節(jié)連接表面2300的一致性。因此，可以在較短的時(shí)間內(nèi)相對(duì)容易地完成用背部保持夾具62保持光源單元23的步驟。然后如圖7b所示，移動(dòng)背部保持夾具62靠近滑塊22，以使得通過吸力附著到背部保持夾具62的光源單元23靠近或接觸滑塊22的滑塊背面2201。然后使得背部保持夾具 62進(jìn)一步靠近滑塊22，直到背部保持夾具62的下表面621和滑塊背面2201之間的距離達(dá)到預(yù)定值，例如幾十μ m，從而如圖7c所示將光源單元23按壓抵靠在滑塊22上。按壓不必提供光源單元23的連接表面2300相對(duì)于滑塊背面2201的足夠一致性。部件的一個(gè)表面通常不會(huì)簡(jiǎn)單地通過按壓該表面抵靠在參考表面上來(lái)容易地與參考表面相一致。然后如圖7d所示，將圓頂桿65按壓抵靠在光源單元23的負(fù)載施加表面2301上， 以將負(fù)載施加于光源單元23。這種負(fù)載使得光源單元23的連接表面2300與滑塊22的滑塊背面2201至少沿軌道寬度方向(沿Y軸方向)相一致。在這一階段，在本實(shí)施例中，連接表面2300與滑塊背面2201還沿軌道的方向(沿Z軸方向)相一致。圓頂桿65與負(fù)載施加表面2301的接觸面積明顯小于連接表面2300的面積。因?yàn)橥ㄟ^這種小接觸面積按壓光源單元23，即使連接表面2300相對(duì)于滑塊背面2201傾斜一小角度，在按壓抵靠在滑塊背面2202上的過程中，連接表面2300充分地與滑塊背面2201相一致。這里，圓頂桿65通過測(cè)力儀661 (圖4)與加載單元660相連，測(cè)力儀是重量傳感器。這種結(jié)構(gòu)使得能夠?qū)⑹┘又凉庠磫卧?3的負(fù)載的幅度調(diào)節(jié)到適當(dāng)?shù)闹担绶秶?0 至200gf (克力)內(nèi)的值，來(lái)實(shí)現(xiàn)一致性。已經(jīng)調(diào)節(jié)了用來(lái)吸持光源單元23的吸持孔630 的吸力，使得如上所述通過施加于光源單元23的預(yù)定負(fù)載來(lái)移動(dòng)光源單元23。因此，即使背部保持夾具62保持靜止，也可以通過來(lái)自圓頂桿65的壓力來(lái)移動(dòng)光源單元23，使得連接表面2300可以與滑塊背面2201相一致。然后，如圖7e所示，使探針67與光源單元23的源安裝表面2302上設(shè)置的引線電極411和形成激光二極管40的上表面的η-電極40相接觸。因?yàn)橥ㄟ^靜止不動(dòng)的背部保持夾具62在背部保持光源單元23，光源單元23不會(huì)由于來(lái)自探針67的壓力而移動(dòng)，并且連接表面2300保持與滑塊背面2201相一致。當(dāng)應(yīng)用探針67時(shí)，優(yōu)選地，將圓頂桿65保持為按壓抵靠在光源單元23上，以進(jìn)一步確保防止光源單元23移動(dòng)。如圖7f所示，然后升高圓頂桿65，以從光源單元23釋放負(fù)載，并且將背部保持夾具62移離滑塊22，以將光源單元23定位于相距滑塊22預(yù)定的距離Dus，例如幾μ m。在這樣的距離下，光源單元23的連接表面2300與滑塊背面2201沿軌道寬度方向(沿Y軸方向)的一致性保持較高，而沿軌道方向(沿Z軸方向)的一致性較低。這是因?yàn)楣庠磫卧?23沿著光源單元23再次附著到背部保持夾具62的吸持表面620的方向移動(dòng)。探針67跟隨光源單元23的移動(dòng)，并且保持按壓抵靠在引線電極411和η-電極40a上。在連接表面2300處于這種一致狀態(tài)的同時(shí)，如圖7g所示，通過主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)，沿滑塊背面2201的平面內(nèi)方向(沿^平面的方向)將光源單元23中的激光二極管40的發(fā)光中心4000與滑塊22中的光學(xué)系統(tǒng)31的光接收端面430對(duì)準(zhǔn)。具體地，通過探針67向激光二極管40提供電功率，以實(shí)際上使激光二極管40工作，同時(shí)相對(duì)于滑塊22 (光學(xué)系統(tǒng)31) 移動(dòng)光源單元23 (激光二極管40)。然后，在移動(dòng)光源單元23的同時(shí)，在光學(xué)系統(tǒng)31的光發(fā)射端面一側(cè)(在NF-光發(fā)生器36的端面36a —側(cè))，實(shí)時(shí)地監(jiān)測(cè)從激光二極管40的發(fā)光中心4000發(fā)射且入射到光學(xué)系統(tǒng)31的光接收端面430上的激光72，直到使監(jiān)控位置中的光強(qiáng)度最大為止，然后將最大強(qiáng)度位置設(shè)置為光源單元23 (激光二極管40)相對(duì)于滑塊 22(光學(xué)系統(tǒng)31)的所需相對(duì)位置。根據(jù)主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)，可以在連接之后實(shí)際上可靠地提供所需光路，并且可以實(shí)現(xiàn)光源單元23和滑塊22之間結(jié)合位置的超高精確度?？梢岳迷诨瑝K22的頭端面2210—側(cè)上設(shè)置的諸如光電二極管之類的光電探測(cè)器73，來(lái)實(shí)時(shí)地監(jiān)測(cè)從滑塊22的頭端面2210發(fā)射的激光72或者轉(zhuǎn)換的NF-光。光電探測(cè)器73與控制器69相連，并且可以基于光電探測(cè)器73的監(jiān)測(cè)輸出來(lái)控制背部保持夾具 62 (光源單元2 在H平面內(nèi)的移動(dòng)。在上述對(duì)準(zhǔn)期間，激光二極管40保持工作并且輻射相當(dāng)多的熱量。然而，通過用諸如不銹鋼或Cu (銅)之類具有高導(dǎo)熱率的金屬制成背部保持夾具62且使用該背部保持夾具62作為熱沉，可以通過單元襯底230耗散從激光二極管40輻射的相當(dāng)大的熱量。因此，穩(wěn)定了激光二極管40的振蕩，并且可以實(shí)現(xiàn)良好的主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)。在完成光源單元23和滑塊22的對(duì)準(zhǔn)之后，將背部保持夾具62沿X方向進(jìn)一步移近滑塊22，以朝著滑塊22將光源單元23向回移動(dòng)在圖7f的步驟中將光源單元23移動(dòng)了的距離Dus，從而如圖所示使得光源單元23與滑塊22接觸。該操作不會(huì)改變TL平面內(nèi)光源單元23相對(duì)于滑塊22的相對(duì)位置。然后，將圓頂桿65按壓抵靠在光源單元23的負(fù)載施加表面2301上，以再次向光源單元23施加負(fù)載。例如。負(fù)載可以在10至200gf (克力)的范圍內(nèi)。負(fù)載的施加能夠使得光源單元23的連接表面2300沿軌道寬度方向(Y軸方向)以及沿軌道方向(Z軸方向)均與滑塊22的滑塊背面2201相一致。然后如圖7i所示，熔化在滑塊22的滑塊背面2201上設(shè)置的焊料層58，以連接光源單元23和滑塊22。這里，光源單元23和滑塊22已經(jīng)沿YL平面彼此對(duì)準(zhǔn)，然后沿X-軸方向移動(dòng)以利用它們之間的焊料層58來(lái)彼此附著。在本實(shí)施例中，利用穿過單元襯底230 的預(yù)定波長(zhǎng)的光74，通過單元襯底230來(lái)照射焊料層58。焊料層58通過光74的輻射而熔化，然后固化以連接光源單元23和滑塊22。預(yù)先形成焊料層58的位置不局限于滑塊背面2201 ；焊料層58可以預(yù)先形成在光源單元23的連接表面2300上，或者形成在滑塊背面 2201和連接表面2300兩者之上。光74可以是通過光纖75從Nd-YAG激光振蕩器76發(fā)射的Nd-YAG激光(具有 1064nm的波長(zhǎng))，Nd-YAG激光振蕩器是一種用于附著的光源。這里，YAG是具有石榴石結(jié)構(gòu)的晶體的名稱，由Y(釔)和Al(鋁)的復(fù)合氧化物(Y3Al5O12)制成。Nd-YAG激光可以通過使用其中若干百分比的Y被Nd(釹)替代的YAG晶體作為激光介質(zhì)來(lái)獲得，且廣泛用于研究、工業(yè)、醫(yī)療和其他應(yīng)用中。如果將Nd-YAG激光用作光74，單元襯底230由在1064nm 波長(zhǎng)處透射率大于或等于50 %的材料制成，例如Si (67 %的透射率),GaAs (66 %的透射率) 或SiC (80%的透射率)，使得可以通過單元襯底230用足量光74來(lái)照射焊料層58進(jìn)行熔化。光74可以是其他類型的激光，例如除了 Nd-YAG激光之外的YAG激光、除了 YAG激光之外的固態(tài)激光、或者諸如二氧化碳?xì)怏w激光之類的氣體激光。重要的是使用具有能夠通過單元襯底230的波長(zhǎng)并且具有熔化焊料層58所需的輸出功率的光，或者使用由能夠使所使用的光的波長(zhǎng)通過的材料所制成的單元襯底230。優(yōu)選地，在用光74照射的情況下進(jìn)行連接的步驟期間，維持背部保持夾具62的位置和吸持操作，并且也繼續(xù)利用圓頂桿65來(lái)施加負(fù)載。優(yōu)選地，焊料層58由熔點(diǎn)低于400°C的合金制成。例如，如果焊料層58由Au-Sn 合金(包括20(重量)％的Sn)制成，則焊料層58的熔點(diǎn)約為^0°C。實(shí)驗(yàn)已經(jīng)表明，通過光源單元23用例如光輸出功率為0. lkW、光斑直徑為IOOym且脈沖寬度為4微秒的Nd-YAG 激光74照射焊料層58，將充分熔化焊料層58足以結(jié)合光源單元23和滑塊22。以這種方式在光74的照射下用焊料層58將光源單元23附著到滑塊22完成了光源單元23和滑塊22的連接。因此，已經(jīng)制造了熱輔助磁記錄頭21。在記錄頭21中，光源單元23和滑塊22通過它們之間的焊料層58而連接在一起。因此，在記錄頭21浮于磁記錄介質(zhì)上方的寫入操作期間，可以提供散熱路徑，通過該散熱路徑，從發(fā)光操作的激光二極管40輻射的熱依次傳遞至單元襯底230、焊料層58、滑塊襯底220和磁記錄介質(zhì)。如圖7j 所示，所制造的熱輔助磁記錄頭21可以和背部保持夾具62 —起轉(zhuǎn)移到執(zhí)行下一工藝步驟 (例如，清潔步驟)的工作位置，其中維持通過吸力將光源單元23粘附到背部保持夾具62。根據(jù)參考圖7al_7j所述的本發(fā)明的制造熱輔助磁記錄頭21的方法，在通過主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)將光源單元23和滑塊22彼此對(duì)準(zhǔn)的同時(shí)，可以顯著地增加光源單元23的連接表面 2300和滑塊22的滑塊背面2201之間的“一致性”。因此，可以在光源單元和滑塊之間連接時(shí)實(shí)現(xiàn)足夠強(qiáng)的結(jié)合和足夠高的連接位置精確度。另外，因?yàn)榭梢蕴峁┻B接之后從激光二極管40散熱的散熱路徑，可以提供激光二極管40的穩(wěn)定振蕩，進(jìn)而可以實(shí)現(xiàn)良好的熱輔助效應(yīng)。
圖8示出了透視圖，示意性地說(shuō)明了在根據(jù)本發(fā)明的磁記錄設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例中的主要部分的結(jié)構(gòu)。圖9示出了透視圖，示意性地說(shuō)明了在根據(jù)本發(fā)明的HGA的一個(gè)實(shí)施例中的主要部分的結(jié)構(gòu)。在圖9中，將與磁盤表面相對(duì)的HGA —側(cè)示出為上部一側(cè)。圖8所示的作為磁記錄設(shè)備的磁盤設(shè)備包括多個(gè)磁盤10，繞主軸電機(jī)11的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；組件承載裝置12，其上配置有多個(gè)驅(qū)動(dòng)臂14 ；HGA 17，附著到每一個(gè)驅(qū)動(dòng)臂14的頂端部分上，并且配置有熱輔助磁記錄頭21 ；以及記錄/再現(xiàn)和光發(fā)射控制電路13，用于控制熱輔助磁記錄頭21的寫入/讀取操作，并且還用于控制作為光源用以生成熱輔助磁記錄用激光的激光二極管40的發(fā)射操作。在本實(shí)施例中，磁盤10設(shè)計(jì)用于垂直磁記錄，并且具有例如這樣的結(jié)構(gòu)在盤襯底上順序堆疊軟磁性下層、中間層、以及磁記錄層(垂直磁化層)。組件承載裝置12是一種用于將熱輔助磁記錄頭21定位于磁盤10的磁記錄層上形成的軌道上方的裝置，在軌道上對(duì)準(zhǔn)記錄比特。在該設(shè)備中，驅(qū)動(dòng)臂14沿樞承軸16的方向堆疊，并且可以通過音圈電機(jī) (VCM)繞軸16角向擺動(dòng)。根據(jù)本發(fā)明的磁盤設(shè)備的結(jié)構(gòu)不局限于上述結(jié)構(gòu)。例如，磁盤10、 驅(qū)動(dòng)臂14、HGA 17和滑塊21各自的數(shù)目可以是1。參考圖9，HGA 17中的懸架20包括負(fù)載臂200 ；彈性固定至負(fù)載臂200的撓性件 (flexure) 201 ；設(shè)置在負(fù)載臂200的底座部分上的底盤202 ；以及設(shè)置在撓性件201上并且由引線導(dǎo)體和電連接至引線導(dǎo)體兩端的連接焊盤制成的配線構(gòu)件203。在懸架20的頂端部分處，熱輔助磁記錄頭21固定到撓性件201，從而以預(yù)定間隔(氣浮高度)面對(duì)每一個(gè)磁盤10的表面。這里，在撓性件201中設(shè)置孔徑2010 ；固定熱輔助磁記錄頭21，使得光源單元23通過孔徑2010從撓性件201的相對(duì)一側(cè)伸出。此外，通過引線鍵合、SBB等，形成配線構(gòu)件203 —端的連接焊盤與端電極370和 371 (圖1)電連接，所述端電極用于熱輔助磁記錄頭21的磁頭元件32，并且連接焊盤還與光源單元23的引線電極411和激光二極管40的η-電極40a(圖1)電連接。這些連接使得MR元件33、電磁變換器和激光二極管40能夠接收電功能并且進(jìn)行操作。懸架20的結(jié)構(gòu)不局限于上述結(jié)構(gòu)。盡管并未示出，用于驅(qū)動(dòng)記錄頭的IC芯片可以安裝于懸架20中部。所有的前述實(shí)施例都只是本發(fā)明的示例，而并非限制；在不脫離本發(fā)明精神和范圍的情況下，可以構(gòu)建本發(fā)明的許多不同替代和修改。因此，本發(fā)明只由所附權(quán)利要求及其等價(jià)物的限定。
權(quán)利要求
1. 一種制造熱輔助磁記錄頭的方法，在所述熱輔助磁記錄頭中，包括設(shè)置在單元襯底中的光源的光源單元和包括設(shè)置在滑塊襯底中的光學(xué)系統(tǒng)的滑塊彼此連接，所述制造方法包括以下步驟通過吸持將單元襯底的單元背面與包括吸持裝置的背部保持夾具相附著，所述單元背面與單元襯底的源安裝表面相對(duì)；將背部保持夾具移近滑塊，以使得通過吸持附著到背部保持夾具的光源單元與滑塊的滑塊背面接觸，所述滑塊背面和滑塊與介質(zhì)相對(duì)的表面相對(duì)并且包括光學(xué)系統(tǒng)的光接收端通過加載裝置向單元襯底的負(fù)載施加表面施加負(fù)載，以使得光源單元的連接表面與滑塊的滑塊背面至少沿軌道寬度方向相一致，所述負(fù)載施加表面和要連接到滑塊的連接表面相對(duì)；停止施加負(fù)載，將背部保持夾具移離滑塊，以將光源單元定位為相距滑塊一定距離，然后沿滑塊背面的平面內(nèi)方向，將光源的發(fā)光中心與光學(xué)系統(tǒng)的光接收端面對(duì)準(zhǔn)；將背部保持夾具再次移近滑塊，以使光源單元與滑塊的滑塊背面接觸；以及通過加載裝置再次向單元襯底的負(fù)載施加表面施加負(fù)載，以使得光源單元的連接表面與滑塊的滑塊背面相一致。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其中使探針與光源單元中設(shè)置的光源的電極接觸，向光源供電以使得光源處于發(fā)射操作狀態(tài)，然后將光源的發(fā)光中心與光學(xué)系統(tǒng)的光接收端面對(duì)準(zhǔn)，使得來(lái)自光源的光進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其中背部保持夾具中設(shè)置的吸持裝置的吸力所具有的幅度使得在施加預(yù)定負(fù)載的情況下改變光源單元的位置或朝向，其中通過所述吸力來(lái)吸持光源單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其中背部保持夾具中所包括的吸持裝置是在所述背部保持夾具中設(shè)置的至少一個(gè)吸持孔，并且通過激活與所述至少一個(gè)吸持孔的一端相連的抽空裝置，來(lái)通過吸持將光源單元附著到背部保持夾具。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其中所述加載裝置是具有球形部分或凸起部分的夾具，所述球形部分或凸起部分與單元襯底的負(fù)載施加表面接觸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，還包括以下步驟在光源單元的連接表面上，或在滑塊的滑塊背面上，或在這兩個(gè)表面上，預(yù)先形成附著材料層，以及在連接表面與滑塊背面之間夾有附著材料層的情況下使得連接表面與滑塊背面相一致；通過單元襯底，用波長(zhǎng)穿過單元襯底的光，照射附著材料層以熔化所述附著材料層；以及結(jié)合光源單元和滑塊。
7.一種用于連接光源單元和滑塊的連接設(shè)備，配置用于進(jìn)行根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，所述連接設(shè)備包括固定裝置，用于支撐滑塊；背部保持夾具，包括吸持裝置，用于通過吸持來(lái)附著光源單元；以及吸持表面，所述吸持表面接觸單元襯底的單元背面，所述背部保持夾具能夠移動(dòng)，以相對(duì)于固定裝置中保持的滑塊來(lái)調(diào)節(jié)光源單元的相對(duì)位置；加載裝置，用于向單元襯底的負(fù)載施加表面施加負(fù)載；探針，按壓抵靠在光源單元中設(shè)置的光源的電極上，配置用于向光源供電，以便沿滑塊背面的平面內(nèi)方向?qū)⒐庠吹陌l(fā)光中心與光學(xué)系統(tǒng)的光接收端面對(duì)準(zhǔn)；以及控制器，配置為適當(dāng)?shù)乜刂票巢勘３謯A具的移動(dòng)、吸持裝置的吸持、加載裝置的負(fù)載施加、探針的移動(dòng)以及通過探針對(duì)光源的供電。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的連接設(shè)備，還包括光電探測(cè)器，用于在對(duì)準(zhǔn)光源的發(fā)光中心與光學(xué)系統(tǒng)的光接收端面時(shí)，探測(cè)從通過探針供電的光源發(fā)射、通過光學(xué)系統(tǒng)傳播、且從滑塊與介質(zhì)相對(duì)的表面發(fā)射的光。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的連接設(shè)備，其中背部保持夾具中所包括的吸持裝置是在所述背部保持夾具中設(shè)置的至少一個(gè)吸持孔，并且所述至少一個(gè)吸持孔的一端達(dá)到吸持表面， 而另一端與抽空裝置相連。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的連接裝置，其中所述加載裝置是具有球形部分或凸起部分的夾具，所述球形部分或凸起部分與單元襯底的負(fù)載施加表面接觸。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的連接裝置，還包括用于附著的光源，所述光源用于在光源單元的連接表面上、或在滑塊的滑塊背面上或在這兩個(gè)表面上預(yù)先形成附著材料層，并且在連接表面與滑塊背面之間夾有附著材料層的情況下使得連接表面與滑塊背面相一致之后， 利用波長(zhǎng)穿過單元襯底的光照射附著材料層，以便熔化所述附著材料層，進(jìn)而結(jié)合光源單元和滑塊。
全文摘要
提出了一種制造熱輔助磁記錄頭的方法，在記錄頭中包括光源的光源單元和包括光學(xué)系統(tǒng)的滑塊彼此連接。該方法包括以下步驟利用背部保持夾具，通過吸持，附著光源單元；使光源單元與滑塊的滑塊背面接觸；通過加載裝置向光源單元的負(fù)載施加表面施加負(fù)載，以使光源單元的連接表面與滑塊背面相一致；將光源單元定位于離開滑塊，然后將光源與光學(xué)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)；再次使光源單元與滑塊接觸；以及再次向負(fù)載施加表面施加負(fù)載，以使得連接表面與滑塊背面相一致。因此，可以顯著地提高表面之間的一致性，從而實(shí)現(xiàn)足夠強(qiáng)的結(jié)合和足夠高的位置精確度。
文檔編號(hào)G11B5/60GK102411937SQ20111028306
公開日2012年4月11日 申請(qǐng)日期2011年9月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月23日
發(fā)明者原晉治, 土屋芳弘, 島澤幸司, 森信幸, 高山清市 申請(qǐng)人:Tdk股份有限公司