復(fù)合光學(xué)薄膜以及包括該復(fù)合光學(xué)薄膜的光源組件的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種復(fù)合光學(xué)薄膜以及包括該復(fù)合光學(xué)薄膜的光源組件。所述復(fù)合光學(xué)薄膜，包括：第一基材；遮光層，形成于所述第一基材的下面；光學(xué)圖案層，形成于所述第一基材的上面，包括凹部及凸部；第二基材，配置于所述第一基材的上部；以及第一粘接層，形成于所述第二基材的下部，所述遮光層包括粘合劑以及分散于所述粘合劑的有機(jī)顆粒以及無機(jī)顆粒，所述光學(xué)圖案層的凸部，至少一部分滲透于所述第一粘接層的內(nèi)部而結(jié)合于所述第一粘接層，在所述第一粘接層和所述光學(xué)圖案層之間形成有折射率低于所述光學(xué)圖案層及所述第一粘接層的低折射區(qū)域。
【專利說明】復(fù)合光學(xué)薄膜以及包括該復(fù)合光學(xué)薄膜的光源組件

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種復(fù)合光學(xué)薄膜，更詳細(xì)而言，涉及一種適用于顯示器的復(fù)合光學(xué)薄膜以及包含該復(fù)合光學(xué)薄膜的光源組件。

【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display ；LCD)是在兩個(gè)玻璃板之間注入液晶，在上下玻璃電極施加電源，此時(shí)，在各像素中的液晶分子排列發(fā)生變化，通過此變化顯示影像的裝置。與陰極射線管顯不裝置(Cathode Ray Tube ;CRT)、等離子顯不裝置(PlasmaDisplay Panel ；PDP)等不同，液晶顯示裝置本身為非發(fā)光型，因此在沒有光的地方不能顯示。為了解決所述問題，安裝光源組件，從而在暗處也能使用，并向信息顯示畫面均勻地進(jìn)行照射。
[0003]用于液晶顯示裝置的光源組件大致分為2種。第一，從液晶顯示裝置的側(cè)面提供光的邊側(cè)式光源組件，第二，從液晶顯示裝置的后面直接提供光的直下式光源組件。邊側(cè)式光源組件為了使來自光源的光照射至上側(cè)，具備導(dǎo)光板，并為了調(diào)整透過導(dǎo)光板的光的光學(xué)特性，在導(dǎo)光板上面至少具備一個(gè)光學(xué)薄膜。在直下式光源組件為了減小來自光源的光線輝線而具備擴(kuò)散板，為了調(diào)整透過擴(kuò)散板的光的光學(xué)特性，具備至少一個(gè)光學(xué)薄膜。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]在直下式光源組件需要用于遮光且精密控制光特性的擴(kuò)散板以及多個(gè)光學(xué)薄膜，因此，不僅光源組件的厚度變厚，而且，制造工藝變復(fù)雜而導(dǎo)致制造費(fèi)用上升。
[0005]本發(fā)明的其他目的在于，提供一種有效體現(xiàn)多個(gè)光調(diào)制特性的同時(shí)，具有出色遮光特性的復(fù)合光學(xué)薄膜。
[0006]本發(fā)明的其他另一種目的在于，提供一種光源組件，所述光源組件無需擴(kuò)散板，SP便在光源上部配置一體型單一復(fù)合光學(xué)薄膜，亮度及遮光特性也出色，而且，厚度變薄，也沒有因薄膜之間的摩擦而發(fā)生磨損。
[0007]本發(fā)明的目的并不局限于以上所提及的內(nèi)容，對(duì)于未提及的其他目的對(duì)本領(lǐng)域的人來說可通過以下記載將會(huì)明確理解。
[0008]為解決所述課題，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)薄膜，包括:第一基材；遮光層，形成于所述第一基材的下面；光學(xué)圖案層，形成于所述第一基材的上面，包括凹部及凸部；第二基材，配置于所述第一基材的上部；以及第一粘接層，形成于所述第二基材的下部，所述遮光層包括粘合劑以及分散于所述粘合劑的有機(jī)顆粒以及無機(jī)顆粒，所述光學(xué)圖案層的所述凸部，至少一部分滲透于所述第一粘接層的內(nèi)部而結(jié)合于所述第一粘接層，在所述第一粘接層和所述光學(xué)圖案層之間形成有折射率低于所述光學(xué)圖案層及所述第一粘接層的低折射區(qū)域。
[0009]為解決所述其他課題，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的光源組件，包括:容納容器；至少一個(gè)光源，容納于所述容納容器；以及所述復(fù)合光學(xué)薄膜，容納于所述容納容器，隔開配置于所述光源的上部。
[0010]其他實(shí)施例的具體事項(xiàng)包含于詳細(xì)說明及附圖中。
[0011]發(fā)明效果
[0012]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，具有如下效果。
[0013]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)薄膜以及包含該復(fù)合光學(xué)薄膜的光源組件不使用擴(kuò)散板而只使用單一復(fù)合光學(xué)薄膜，因此，可以有效地顯示出高遮蔽特性以及高亮度特性。
[0014]而且，由于光源組件不使用擴(kuò)散板，而只組裝單一復(fù)合光學(xué)薄膜使用，因此，組裝工序變簡單。
[0015]進(jìn)一步，光源組件由于不使用擴(kuò)散板或其他的光學(xué)薄膜，而只配置單一復(fù)合光學(xué)薄膜，因此，不會(huì)因兩種薄膜或板之間相接觸而發(fā)生磨損。所以，不僅解決耐磨性問題，而且，可自由選擇物質(zhì)。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的效果并不局限于以上所述的內(nèi)容，本說明書包含更多樣的效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1是根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的光源組件的分解立體圖。
[0018]圖2是根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的光源組件的截面圖。
[0019]圖3是根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)薄膜的截面圖。
[0020]圖4是圖3的A區(qū)域的放大圖。
[0021]圖5是圖3的B區(qū)域的放大圖。
[0022]圖6及圖7是根據(jù)本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施例的遮光層的SEM照片。
[0023]圖8是一般擴(kuò)散層的SEM照片。
[0024]圖9及圖10是根據(jù)本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施例的擴(kuò)散圖案的平面SEM照片。
[0025]圖11及圖12是根據(jù)本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施例的擴(kuò)散圖案的截面SEM照片。
[0026]圖13、圖14、圖15是制造例1、制造例2及比較例I的遮蔽特性檢查照片。
[0027]符號(hào)說明
[0028]10:光源組件
[0029]100:容納容器
[0030]130:光源
[0031]200:復(fù)合光學(xué)薄膜

【具體實(shí)施方式】
[0032]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)、特征以及達(dá)成所述目的的方法通過附圖及后述的詳細(xì)說明將會(huì)明確。但是，本發(fā)明并不局限于以下所述的實(shí)施例而可體現(xiàn)為各種不同的形態(tài)，以下實(shí)施例用來使本發(fā)明更加明確，并對(duì)本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員提供完整的技術(shù)范圍。本發(fā)明僅由權(quán)利要求范圍而決定。
[0033]元件或?qū)訉盈B于另一元件或?qū)拥摹吧?on)”時(shí)，包含在其他元件的上面或在中間沒有其他層或其他元件的情況。另一方面，元件“直接層疊于?上面(directly on) ”是指在中間沒有其他元件或?qū)拥那闆r。在說明書中對(duì)相同的構(gòu)件標(biāo)注相同的符號(hào)?！凹?或”包含所提及的各項(xiàng)目或一個(gè)以上的所有組合。
[0034]第一、第二等序數(shù)的用語用于說明各種構(gòu)成要素而使用，但所述構(gòu)成要素并不限定于所述用語。所述用語僅用來區(qū)別一個(gè)構(gòu)成要素與另一個(gè)構(gòu)成要素。因此，以下所述的第一構(gòu)成要素在本發(fā)明的技術(shù)思想內(nèi)也可為第二構(gòu)成要素。
[0035]在本說明書中使用的術(shù)語是用來說明實(shí)施例而已，并不限定本發(fā)明。本說明書中，沒有特別說明的情況下，單數(shù)形態(tài)也包括復(fù)數(shù)形態(tài)。說明書中使用的“包括(comprises)”及/或“由?組成(comprising)”，所提及的構(gòu)成要素不排除一個(gè)以上的其他構(gòu)成要素的存在或附加。
[0036]在沒有其他定義時(shí)，在本說明書中使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)及科學(xué)術(shù)語)可使用為本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員能共同理解的含義。而且，在沒有特別定義時(shí)，不得夸張解釋詞典上詞義。
[0037]“下面(below) ”，“?之下(beneath) ”，“下方(lower) ”，“?直上(above) ”，“上面(upper)”等空間術(shù)語，如圖所示，用于說明一個(gè)構(gòu)成要素和其他構(gòu)成要素之間的相關(guān)關(guān)系而使用?？臻g術(shù)語除圖示方向之外，在使用或動(dòng)作時(shí)可包含構(gòu)成要素的其他方向。例如，將圖中所示的元件倒過來時(shí)，以其他構(gòu)成要素的“下面(below) ”或“?之下(beneath) ”進(jìn)行說明的構(gòu)成要素可放置于其他構(gòu)成要素的“?直上(above)”。因此，舉例說明的術(shù)語“下方”可包括下方和上方。構(gòu)成要素也可朝其他方向配置，空間術(shù)語可根據(jù)取向解釋。
[0038]本說明書中所使用的術(shù)語“?薄膜”可作為“?片(sheet) ”、“?板”的含義使用。
[0039]以下，參照【專利附圖】

【附圖說明】本發(fā)明的實(shí)施例。
[0040]圖1是根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的光源組件的分解立體圖。圖2是根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的光源組件的截面圖。圖3是根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)薄膜的截面部。圖4是圖3的A區(qū)域的放大圖。圖5是圖3的B區(qū)域的放大圖。
[0041]根據(jù)圖1至圖5，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的光源組件10，包括:容納容器100 ;至少一個(gè)光源130、容納于容納容器100 ;復(fù)合光學(xué)薄膜200、容納于容納容器100，隔開配置于至少一個(gè)光源130的上部。
[0042]容納容器100用于容納至少一個(gè)光源130和復(fù)合光學(xué)薄膜200。容納容器100可包括底殼110及中模120。
[0043]底殼110可包括形成為矩形的底面以及垂直形成于底面各邊的側(cè)壁。在底殼的側(cè)壁可形成用于安裝復(fù)合光學(xué)薄膜200的安裝部。圖中舉例示出了安裝部由形成于底殼110的側(cè)壁上部的階梯部而成的情況，但是，通過將底殼110側(cè)壁的整個(gè)上端部形成為平坦，從而，可作為安裝部使用。底殼110的側(cè)壁的一部分從安裝部朝上側(cè)延長之后朝下側(cè)彎曲。
[0044]在底殼110的底面可配置反射薄膜150。在底殼110的底面可配置薄膜支撐突起140。薄膜支撐突起140防止復(fù)合光學(xué)薄膜200凸出彎曲或下垂。
[0045]中模120可具有在中央形成有開放窗的矩形窗框形狀。中模120可與底殼110結(jié)合固定。中模120可包括朝內(nèi)側(cè)突出的突出部。在突出部的上端可安裝液晶顯示面板。
[0046]至少一個(gè)光源130可配置于底殼110的底面上。光源130可使用LED (LightEmitting D1de)、 CCFL(Cold Cathode Fluorescent Lamp)、 HCFL(Hot CathodeFluorescent Lamp)、EEFL (External Electrode Fluorescent Lamp)等。作為光源 130 的一例，圖中示出LED。
[0047]多個(gè)光源130相隔開配置。多個(gè)光源130為點(diǎn)光源的LED時(shí)，各LED以規(guī)定規(guī)則可朝矩陣方向排列。例如，各LED可朝矩陣方向等間隔排列，排列成3個(gè)行時(shí)，第一行排列5個(gè)，第二行排列7個(gè)，第三行排列6個(gè)等方式將各行的排列數(shù)量可不同。但是，本發(fā)明并不局限于以上舉例說明的排列。
[0048]復(fù)合光學(xué)薄膜200可設(shè)置于底殼110的安裝部和中模120的突出部之間。中模120的突出部按壓配置于下部的復(fù)合光學(xué)薄膜200的邊緣而防止復(fù)合光源薄膜200移動(dòng)。而且，薄膜支撐突起140的上端可接觸于復(fù)合光源薄膜200的底面。
[0049]光源130和復(fù)合光學(xué)薄膜200可相隔開配置。在光源130和復(fù)合光學(xué)薄膜200之間可設(shè)置空氣層。本實(shí)施例中，復(fù)合光學(xué)薄膜200本身具有高遮蔽特性，因此，在光源130和復(fù)合光學(xué)薄膜200之間可以不設(shè)置擴(kuò)散板等另外的遮蔽層或遮蔽構(gòu)造物。即復(fù)合光學(xué)薄膜200以在中間設(shè)置空氣層的狀態(tài)直接與光源130相對(duì)。
[0050]復(fù)合光學(xué)薄膜200包括多個(gè)基材。各基材相粘附、粘接或者通過樹脂層形成為一體。由此，復(fù)合光學(xué)薄膜200能以一體形態(tài)提供。
[0051]在各基材的上下面可形成有光調(diào)制層或遮光層。各光調(diào)制層可為棱鏡層、微透鏡層、透鏡狀層等。復(fù)合光學(xué)薄膜200為一個(gè)一體型薄膜，具有支撐作用以及至少一個(gè)光調(diào)制特性，還可具有遮光特性。因此，在直下式光源組件僅適用一個(gè)一體型復(fù)合光學(xué)薄膜200，而不設(shè)置其他遮蔽層、遮蔽構(gòu)造物或者其他薄膜，也能充分具有遮光、集光、擴(kuò)散等光學(xué)特性以及機(jī)械特性。
[0052]以下，進(jìn)一步詳細(xì)說明根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)薄膜200。圖示復(fù)合光學(xué)薄膜200包括第一基材211、第二基材212、第三基材213、及第四基材214。第一基材211、第二基材212、第三基材213以及第四基材214可由透明塑料而形成。例如，第一基材211、第二基材212、第三基材213以及第四基材214可包括聚碳酸酯(polycarbonate)類、聚砜(Polysulfone)類、聚丙烯酸酯(Polyacrylate)類、聚苯乙烯(polystyrene)類、聚氯乙稀(polyvinyl chloride)類、聚乙烯醇(polyvinyl alcohol)類、聚降冰片烯(polynorbornene)類、聚酯(Polyester)類物質(zhì)而成。舉例說明的幾個(gè)實(shí)施例中，第一基材211、第二基材212、第三基材213以及第四基材214皆可由PET (Polyethylene phthalate)而成。
[0053]第一基材211、第二基材212、第三基材213以及第四基材214可具有50至500 μ m的厚度。實(shí)施例中，第一基材211、第二基材212、第三基材213以及第四基材214的厚度都可為約125 μ m。其他實(shí)施例中，至少一個(gè)基材的厚度可為250 μ m。
[0054]在基材211的下面形成有遮光層220。遮光層220位于復(fù)合光學(xué)薄膜200的最下部而散射所入射的光，從而，稀釋亮度部和暗部。
[0055]遮光層220可包括粘合劑221、分散于粘合劑221內(nèi)的有機(jī)顆粒222、以及無機(jī)顆粒223而成。此處，有機(jī)顆粒可為有機(jī)珠、填料，無機(jī)顆粒可為無機(jī)珠、填料。所述有機(jī)顆粒及無機(jī)顆?？煞謩e為球型，平板型，核層構(gòu)造等定型顆粒，但也可為無定型顆粒。還可混合各種形狀的顆粒而成。
[0056]有機(jī)顆粒222及無機(jī)顆粒223可分散于遮光層220的整體。無機(jī)顆粒223除遮光層220外，還可分散于凹部。有機(jī)顆粒222主要可分散于遮光層220的凸部，但并不局限于此，也可分散于遮光層220的凹部。幾個(gè)實(shí)施例中，有機(jī)顆粒222及無機(jī)顆粒223隨機(jī)分散于遮光層220的整體，其密度大致均勻。
[0057]有機(jī)顆粒222的平均尺寸(球形時(shí)的平均直徑)為約I至40 μ m。不限制本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施例中，有機(jī)顆粒222的平均尺寸可為1.5至10 μ m。其他實(shí)施例中，有機(jī)顆粒222的平均尺寸可為2至6 μ m。
[0058]無機(jī)顆粒223的平均尺寸可小于有機(jī)顆粒222的平均尺寸。無機(jī)顆粒223大于有機(jī)顆粒222時(shí)，會(huì)降低復(fù)合光學(xué)薄膜200的亮度。而且，若無機(jī)顆粒223的平均尺寸過小，則會(huì)降低復(fù)合光學(xué)薄膜200的遮光性。若無機(jī)顆粒223的平均尺寸過小，則會(huì)降低在遮光層220內(nèi)的分散性。在以此觀點(diǎn)上，無機(jī)顆粒223的平均尺寸可為50nm至2μπι。幾個(gè)實(shí)施例中，無機(jī)顆粒223的平均尺寸可為約10nm至400nm。其他幾個(gè)實(shí)施例中，無機(jī)顆粒223的平均尺寸可為約150nm至300nm。
[0059]在幾個(gè)實(shí)施例中，有機(jī)顆粒222具有各種尺寸，在整個(gè)有機(jī)顆粒222中，95%以上的有機(jī)顆粒222的尺寸可為I至20 μ m。尺寸為2至4 μ m的有機(jī)顆粒222可為整個(gè)有機(jī)顆粒222的70%以上。
[0060]無機(jī)顆粒223具有各種尺寸，在整個(gè)無機(jī)顆粒223中，95%以上的無機(jī)顆粒223的尺寸可為約50nm至2 μ m。尺寸為10nm至400nm的無機(jī)顆粒223可為整個(gè)無機(jī)顆粒223的70%以上。
[0061]構(gòu)成有機(jī)顆粒222的物質(zhì)可以舉三聚氰胺(melamine)。構(gòu)成無機(jī)顆粒223的物質(zhì)可以舉二氧化鈦(Ti02)。當(dāng)然構(gòu)成有機(jī)顆粒222及無機(jī)顆粒223的物質(zhì)并不局限于以上所述物質(zhì)。
[0062]有機(jī)顆粒222和無機(jī)顆粒223的含量比可為1:1至10:1。幾個(gè)實(shí)施例中，有機(jī)顆粒222和無機(jī)顆粒223的含量比可為2:1至4:1。在不限定本發(fā)明的實(shí)施例中，當(dāng)有機(jī)顆粒222和無機(jī)顆粒223的總和為100%時(shí)，也可以有機(jī)顆粒222的含量為約75%，無機(jī)顆粒223的含量為約25%。
[0063]相對(duì)于固含量，有機(jī)顆粒222和無機(jī)顆粒223的總和含量可為1:0.4至1:0.6。
[0064]遮光層220，例如可通過在第一基材211的下面涂布在粘合劑221樹脂分散混合有機(jī)顆粒222及無機(jī)顆粒223的組成物而形成。所述涂布方法可舉凹版印刷方式，但并不局限于此。
[0065]圖6及圖7是根據(jù)本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施例的遮光層的SEM照片。圖8是一般擴(kuò)散層的SEM照片，是將不使用無機(jī)顆粒而只包含有機(jī)顆粒的組成物通過凹版方式印刷而得到的一般擴(kuò)散層的SEM照片。
[0066]如圖8所示，一般擴(kuò)散層，其表面光滑，但如圖6及7所示，遮光層的凹部及凸部整個(gè)表面形成有很多微細(xì)凹凸。尤其，凹部表面與圖8的一般擴(kuò)散層相比其表面更粗糙，即表面粗度大。通過表面粗度之差及無機(jī)顆粒223的含有與否，遮光層220顯示出比一般擴(kuò)散層高的遮光效率。
[0067]再次，參照?qǐng)D1至圖5，在第一基材211的上面形成有光學(xué)圖案層230。光學(xué)圖案層230具有不平坦的表面，可包括凹部和凸部。例如，光學(xué)圖案層230可為擴(kuò)散圖案、微透鏡圖案或棱鏡圖案，但并不局限于此，可形成為無定型。
[0068]在第二基材212的下面形成有第一粘接層251。第一粘接層251的厚度為I至10 μ m。而且，第一粘接層251，例如可形成為約3μπι的厚度。
[0069]第一基材211的光學(xué)圖案層230的凸部接觸于第一粘接層251或者滲透于第一粘接層251的內(nèi)部而與第二基材212結(jié)合。第一基材211的光學(xué)圖案層230的凹部與第一粘接層251隔開并不相接觸。因此，在第一基材211和第二基材212之間形成有規(guī)定狹縫(gap),在該狹縫可以填充低折射區(qū)域(Low Refract1n Area)。此處,低折射區(qū)域可意味著折射率低于光學(xué)圖案層230及第一粘接層251的區(qū)域。以下，作為所述低折射區(qū)域，以在第一基材211和第二基材212之間的所述狹縫形成有空氣層AG為例進(jìn)行說明，但是，低折射區(qū)域并不局限于空氣層AG。
[0070]根據(jù)第一基材211的光學(xué)圖案層230的形狀,第一基材211和第二基材212之間的空氣層AG可以整體連接，或者以島形狀分為多個(gè)。
[0071]透過遮光層220入射的光透過第一基材211及光學(xué)圖案層230之后，射到上側(cè)。光學(xué)圖案層230的局部區(qū)域被第二基材212的第一粘接層251圍繞著，光學(xué)圖案層230和第一粘接層251形成界面。相反，光學(xué)圖案層230的其他區(qū)域與空氣層AG形成界面。光在界面通過斯涅耳定律(Snell’ slaw)折射，由于空氣層AG的折射率小于第一粘接層251，因此，第一粘接層251為界面的區(qū)域和空氣層AG為界面的區(qū)域的光折射程度相互相同。進(jìn)一步，由于第一基材211的光學(xué)圖案層230的表面不平坦，因此所射出的方向變形為非常多樣。利用所述原理朝各種方向射出光，由此，可以更加稀釋亮部及暗部。
[0072]另外，即便從第一基材211的光學(xué)圖案層230向空氣層AG射出光線，射出的光線會(huì)再次入射到配置于上部的第二基材212的下面的第一粘接層251。光線在空氣層AG和第一粘接層251的界面再次折射，此處，被折射的光線的行進(jìn)方向與通過斯涅耳定律不透過空氣層AG而從光學(xué)圖案層230直接進(jìn)入第一粘接層251的方向平行。結(jié)果，光線的最后行進(jìn)方向，在透過空氣層AG或不透過空氣層AG的情況都相同，但是，透過空氣層AG時(shí)，光線朝水平方向移動(dòng)。空氣層AG的厚度越厚，越向水平方向移動(dòng)。
[0073]因此，為了稀釋亮部和暗部而有效體現(xiàn)遮光效果，優(yōu)選，形成在第一基材211的上面的光學(xué)圖案層230和第二基材212的下面的第一粘接層251之間的空氣層AG的厚度厚。
[0074]空氣層AG的厚度可通過光學(xué)圖案層230的凸部和凹部的高度差以及光學(xué)圖案層230的凸部的第一粘接層251的滲透深度控制。
[0075]具體而言，光學(xué)圖案層230的凸部和凹部的高度差越大，則空氣層AG的厚度越厚。假設(shè)光學(xué)圖案層230的凸部及凹部的幅度相同時(shí)，若光學(xué)圖案層230的凸部和凹部的高度差過大，則凸部的強(qiáng)度減小，施加外力時(shí)，凸部被倒塌或破損等設(shè)備的穩(wěn)定性變?nèi)?。為防止此問題，增加凸部和凹部的高度差的同時(shí)，可增加凸部和凹部的幅度，但此時(shí)，由于圖案的平均尺寸增加，因此可以看到光學(xué)圖案層230。在此觀點(diǎn)上，光學(xué)圖案層230的凸部和凹部的高度差可在約5 μ m至100 μ m的范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)整。幾個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)圖案層230的凸部和凹部的高度差為約30 μ m至80 μ m。
[0076]若越減小光學(xué)圖案層230滲透至第一粘接層251內(nèi)的深度，則空氣層AG的厚度越增加。但是，若光學(xué)圖案層230滲透至第一粘接層251內(nèi)的深度過小，則第一基材211和第二基材212之間的結(jié)合力變?nèi)酢Ｒ虼?，將光學(xué)圖案層230的凸部滲透至第一粘接層251的深度調(diào)整為第一粘接層251整體厚度的30至80%，或者調(diào)整為約50%。光學(xué)圖案層230的凸部滲透至第一粘接層251的深度可為約0.5至10 μ m。幾個(gè)實(shí)施例中，所述滲透厚度可為約I至7 μ m。其他幾個(gè)實(shí)施例中，所述滲透深度可為約2至5 μ m。
[0077]—方面，空氣層AG的厚度越厚越有利于遮光，但是，若空氣層AG的厚度過厚，則很難使光源組件10薄型化，而且，光線過于朝水平方向移動(dòng)，因此亮度會(huì)減小?？紤]這些問題，空氣層AG的最大厚度可為約5μπι至ΙΟΟμπι。幾個(gè)實(shí)施例中，空氣層AG的最大厚度可為約30 μ m至80 μ m。
[0078]形成于第一基材211的上面的光學(xué)圖案層230可以適用擴(kuò)散圖案、微透鏡圖案、棱鏡圖案等各種圖案。圖9至圖12中作為能有效顯示出遮光特性的光學(xué)圖案層230的適用圖案的具體例示出擴(kuò)散圖案的SEM照片。
[0079]圖9及圖10是根據(jù)本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施例的擴(kuò)散圖案的平面SEM照片。圖11及圖12是根據(jù)本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施例的擴(kuò)散圖案的截面SEM照片。
[0080]根據(jù)圖9至圖12，擴(kuò)散圖案包括凹陷的凹部和相對(duì)突出的凸部，但可隨機(jī)設(shè)定凹部及凸部的大小并可隨機(jī)配置。幾個(gè)實(shí)施例中，平面圖上，凹部整體上相連接，凸部在凹部之間分為多個(gè)島形狀而形成。
[0081]凹部及凸部的表面可包括不規(guī)則的面并不是光滑的面。即便整體上形成為凹部或凸部，在表面也可形成有凹凸不平的微細(xì)凹凸。
[0082]凸部的表面可為多個(gè)突出的立體構(gòu)造物相互部分重疊配置的形狀。所述突出的立體構(gòu)造物的形狀可為球形、橢圓形、圓錐形、或者無定型。所述突出的立體構(gòu)造物可分別為相互不同的形狀。
[0083]擴(kuò)散圖案的表面粗度可大于遮光層220的表面粗度。但本發(fā)明并不局限于此。
[0084]如上所述的擴(kuò)散圖案是在形成有圖案的模具供應(yīng)液體組成物，將其轉(zhuǎn)印在第一基材211之后，或者轉(zhuǎn)印的同時(shí)進(jìn)行固化而成。作為其他例，在第一基材211供應(yīng)液體組成物之后與模具緊貼，或者將液體組成物皆供應(yīng)至第一基材211和模具之后，將這些緊貼進(jìn)行轉(zhuǎn)印后或者轉(zhuǎn)印的同時(shí)進(jìn)行固化而成。
[0085]再次，參照?qǐng)D1至圖5，在第二基材212的上面形成有第二粘接層252，第二粘接層252接觸于第三基材213的下面。第二粘接層252結(jié)合第二基材212的上面和第三基材213的下面。在第二基材212的上面和第三基材213的下面不另外設(shè)置光調(diào)制層，而設(shè)置第二粘接層252。因此，在第二基材212的上面和第三基材213的下面之間可以不具有集光、擴(kuò)散、遮光等其他的光調(diào)制特性。但是，第二基材212和第三基材213的結(jié)合會(huì)有利于增加復(fù)合光學(xué)薄膜200的整體強(qiáng)度(stiffness)。復(fù)合光學(xué)薄膜200直接設(shè)置于光源130上，中間沒有擴(kuò)散板，因此，強(qiáng)度不足時(shí)，會(huì)容易彎曲或破損。而且，會(huì)發(fā)生相對(duì)于顯示器的中央部，邊緣部的光不均勻的問題。由于可通過第二粘接層252堅(jiān)固地結(jié)合多個(gè)基材，因此，可加強(qiáng)強(qiáng)度來改善上述的問題。
[0086]幾個(gè)實(shí)施例中，第二粘接層252可進(jìn)一步包括擴(kuò)散顆粒。包含于第二粘接層252的擴(kuò)散顆?？商岣咭暯翘匦曰蛘诠馓匦缘裙庹{(diào)制特性。所述擴(kuò)散顆?？捎捎袡C(jī)顆?；驘o機(jī)顆粒而成。包含于第二粘接層252的擴(kuò)散顆粒的總量(或每單位體積的含量)可少于投入于所述遮光層220的有機(jī)顆粒222及無機(jī)顆粒223的總量(或每單位體積的含量)。
[0087]為得到充分的結(jié)合力，在第二基材212的上面和第三基材213的下面之間填充第二粘接層252，中間可不設(shè)置空氣層。第二基材212和第三基材213之間的第二粘接層252的厚度可厚于第二基材212的下面的第一粘接層251的厚度。例如，第二基材212和第三基材213之間的第二粘接層252的厚度可為約I至100 μ m。幾個(gè)實(shí)施例中，第二粘接層252的厚度可為約10至70 μ m。其他幾個(gè)實(shí)施例中，第二粘接層252的厚度可為約20至50 μ m。
[0088]其他幾個(gè)實(shí)施例中，適用更厚的基材例如厚度為250 μ m以上的基材來加強(qiáng)強(qiáng)度，此時(shí)，可以省略第二基材212和第三基材213中的一個(gè)。理所當(dāng)然，也可以省略第二粘接層252或第一粘接層251中的至少一個(gè)。
[0089]在第三基材213上形成有第一光調(diào)制層240，在第四基材214上形成有第二光調(diào)制層250。圖中示出作為第一光調(diào)制層240形成有棱鏡圖案，作為第二光調(diào)制層250形成有微透鏡圖案的情況。在第四基材214的下面形成有第三粘接層253。在第四基材214的下面的第三粘接層253實(shí)際上可與第二基材212的下面的第一粘接層251由相同的物質(zhì)及相同厚度形成，但并不局限于此。其他實(shí)施例中，粘接層251、252、253中的至少一個(gè)可由不同物質(zhì)及不同厚度形成。
[0090]第一光調(diào)制層240的至少一部分可與第四基材214的下面的第三粘接層253局部一體化。而且，在第一光調(diào)制層240和第四基材214下面的第三粘接層253之間可設(shè)置空氣層。
[0091]第一光調(diào)制層240和第二光調(diào)制層250的高度可分別為10 μ m至50 μ m。
[0092]如上所述，第一光調(diào)制層240和第二光調(diào)制層250位于第二基材212的上部的同時(shí)，在中間設(shè)置其他基材213、214或粘接層252、253、254等而固定結(jié)合于第二基材212。因此，可以提供一體化的復(fù)合光學(xué)薄膜。
[0093]另外，與圖中所示例不同，作為第二光調(diào)制層250可適用棱鏡圖案。此時(shí)，第二光調(diào)制層250的棱鏡延長方向可與第一光調(diào)制層240的棱鏡延長方向垂直。而且，在第一光調(diào)制層240可適用微透鏡。
[0094]幾個(gè)實(shí)施例中，第一光調(diào)制層240及/或第二光調(diào)制層250可適用透鏡狀圖案(lenticular pattern)。
[0095]第一光調(diào)制層240的圖案和第二光調(diào)制層250的圖案排列(或圖案的延長方向)可以規(guī)定角度傾斜。所述傾斜角例如可為1°至45°。幾個(gè)實(shí)施例中，所述傾斜角可為約3°至6°。其他幾個(gè)實(shí)施例中，所述傾斜角可為約2°至3°。
[0096]復(fù)合光學(xué)薄膜200的整體厚度可為約300至1000 μ m。實(shí)施例中，復(fù)合光學(xué)薄膜200的整體厚度可為600 μ m。
[0097]如上所述，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)薄膜200及包含該復(fù)合光學(xué)薄膜的光源組件10，不使用擴(kuò)散板，而只使用單一復(fù)合光學(xué)薄膜200也能有效顯示出高遮蔽特性及高亮度特性。
[0098]而且，光源組件10不使用擴(kuò)散板而只組裝單一復(fù)合光學(xué)薄膜200使用，因此，可以簡化組裝工序。
[0099]進(jìn)一步，光源組件10，不使用擴(kuò)散板或其他光學(xué)薄膜，而只配置復(fù)合光學(xué)薄膜200，因此，不會(huì)因兩種薄膜或板之間的接觸而發(fā)生磨損。所以，無耐磨性問題，且可自由選擇物質(zhì)。
[0100]通過下面的具體制造例及實(shí)施例詳細(xì)說明本發(fā)明。
[0101]制誥例I
[0102]在由丙烯酸而成的粘合劑樹脂混合顆粒尺寸為5 μ m的黑色素有機(jī)珠和平均顆粒尺寸為Iym的二氧化鈦填料，制造了遮蔽用組成物。粘合劑樹脂、黑色素有機(jī)珠及二氧化鈦填料的配合重量比為50:40:10。
[0103]將所述遮蔽用組成物凹版印刷于厚度為125 μ m的第一 PET基材的一面。此時(shí)，所述涂層的厚度為約10 μ m。然后，在120°C的溫度下進(jìn)行熱處理后固化所述遮蔽用組成物涂層。
[0104]接著，利用隨機(jī)形成凹部和凸部的擴(kuò)散圖案用模具，在所述第一 PET基材的另一面轉(zhuǎn)印由丙烯酸而成的組成物。干燥所述組成物之后，照射紫外線，固化所述組成物而形成擴(kuò)散圖案層。擴(kuò)散圖案層的最大厚度為100 μ m,凹部和凸部的最大高度差為60 μ m。
[0105]準(zhǔn)備厚度為125μπι的第二 PET基材，在一面涂布厚度為3μπι的粘接層。接著，將第一 PET的擴(kuò)散層和第二 PET的粘接層相面對(duì)配置后，進(jìn)行加壓層合使得擴(kuò)散圖案層的凸部部分滲透于粘接層。
[0106]并且，準(zhǔn)備厚度為125 μ m的第三PET基材及第四PET基材。在第三基材的一面形成棱鏡層。在厚度為125μπι的第四PET基材的一面形成微透鏡層，在另一面涂布厚度為3μπι的粘接層。接著，將第三PET基材的棱鏡層和第四PET基材的粘接層相面對(duì)配置后，將其加壓層合使得棱鏡層的散部的一部分滲透于粘接層。接著，在第三PET基材的另一面涂布厚度為30 μ m的粘接層之后，配置成第二 PET基材的另一面與所述粘接層相面對(duì)。然后，將其相層合制造4個(gè)PET基材一體化的復(fù)合光學(xué)薄膜。
[0107]制誥例2
[0108]除在第一 PET基材的另一面形成平均高度為20 μ m的微透鏡層之外，與制造例I相同的方法制造復(fù)合光學(xué)薄膜。
[0109]比較例I
[0110]除在第一 PET基材的一面代替遮光層形成墊層之外，與制作例I相同的方法制作復(fù)合光學(xué)薄膜。所述墊層是凹版印刷以50:50的重量比混合粘合劑樹脂和黑色素有機(jī)珠的組成物后進(jìn)行熱固化處理而形成的。
[0111]比較例2
[0112]準(zhǔn)備厚度為125 μ m的第三PET基材及第四PET基材。在第三PET基材的一面形成棱鏡層。并且，在厚度為125μπι的第四PET基材的一面形成微透鏡層，在另一面涂布厚度為3μπι的粘接層。接著，第三PET基材的棱鏡層和第四PET基材的粘接層相面對(duì)配置之后進(jìn)行加壓層合使棱鏡層的散部的一部分滲透于粘接層。
[0113]一起準(zhǔn)備了厚度為1500 μ m的發(fā)泡擴(kuò)散板。
[0114]實(shí)驗(yàn)例1:測定厚度
[0115]測定根據(jù)制造例I及2，比較例I及2的復(fù)合光學(xué)薄膜的厚度。比較例2的情況，在發(fā)泡擴(kuò)散板的直上面放置層合的光學(xué)薄膜，然后測定了整體厚度。表I示出測定厚度的結(jié)果。
[0116]【表I】
[0117]
制造例I 制造例2 比較例I 比較例2
厚度
,JZ 、6206006201805
(單位:m)
[0118]實(shí)驗(yàn)例2:測定遮蔽特性及光學(xué)特性
[0119]配置LED光源，在其上面設(shè)置制造例I的復(fù)合光學(xué)薄膜。復(fù)合光學(xué)薄膜的遮光圖案與LED光源相對(duì)，LED光源和復(fù)合光學(xué)薄膜的間隔為約2cm。接著,在復(fù)合光學(xué)薄膜的上部測定了透射率(total transmittance, TT),霧度(Haze)及亮度。
[0120]對(duì)于制造例2、比較例I及比較例2也適用相同的方法測定了總透射率、霧度及亮度。比較例2的情況，在LED光源的上部設(shè)置發(fā)泡擴(kuò)散板，在其上面配置被層合的光學(xué)薄膜。比較例2中，LED光源和發(fā)泡擴(kuò)散板之間的間隔為約2cm，層合的光學(xué)薄膜接觸配置于發(fā)泡擴(kuò)散板的直上面。
[0121]對(duì)于單獨(dú)設(shè)置發(fā)泡擴(kuò)散板，也適用同樣的方法測定了總透射率、霧度及亮度。
[0122]以下表2表示所述測定結(jié)果。
[0123]【表2】
[0124]

【權(quán)利要求】
1.一種復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，包括: 第一基材； 遮光層，形成于所述第一基材的下面； 光學(xué)圖案層，形成于所述第一基材的上面，包括凹部及凸部； 第二基材，配置于所述第一基材的上部；以及 第一粘接層，形成于所述第二基材的下部， 所述遮光層包括粘合劑以及分散于所述粘合劑的有機(jī)顆粒以及無機(jī)顆粒， 所述光學(xué)圖案層的所述凸部，至少一部分滲透于所述第一粘接層的內(nèi)部而結(jié)合于所述第一粘接層， 在所述第一粘接層和所述光學(xué)圖案層之間形成有折射率低于所述光學(xué)圖案層及所述第一粘接層的低折射區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，所述光學(xué)圖案層為無定型。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，所述低折射區(qū)域?yàn)榭諝鈱印?br> 4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，所述空氣層的最大厚度為5μπι至100 μ m0
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，所述遮光層的表面為非平坦面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，所述遮光層的表面粗度大于所述光學(xué)圖案層的表面粗度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，所述光學(xué)圖案層為擴(kuò)散圖案層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，進(jìn)一步包括形成在所述第二基材的上部的至少一個(gè)光調(diào)制層， 所述至少一個(gè)光調(diào)制層為選自棱鏡層、微透鏡層、擴(kuò)散圖案層及透鏡狀層中的至少一個(gè)， 所述至少一個(gè)光調(diào)制層固定結(jié)合于所述第二基材。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，進(jìn)一步包括: 第三基材，配置于所述第二基材的上部；以及 第二粘接層，設(shè)置于所述第二基材和所述第三基材之間，用于結(jié)合所述第二基材和所述第三基材。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，所述第二粘接層包括擴(kuò)散顆粒。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，所述第二粘接層的厚度薄于所述第一粘接層的厚度。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，進(jìn)一步包括: 第四基材，配置于所述第三基材的上部； 第一光調(diào)制層，形成于所述第三基材的上面，以及第二光調(diào)制層，形成于所述第四基材的上面；以及 第三粘接層，形成于所述第四基材的下面，結(jié)合有至少部分所述第一光調(diào)制層。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，所述第一光調(diào)制層為棱鏡層，所述第二光調(diào)制層為微透鏡層。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，其中，進(jìn)一步包括: 第三基材，配置于所述第二基材的上部； 第一光調(diào)制層，形成于所述第二基材的上面，以及第二光調(diào)制層，形成于所述第三基材的上面；以及 第二粘接層，形成于所述第三基材的下面，結(jié)合有至少部分所述第一光調(diào)制層。
15.一種光源組件，其中，包括: 容納容器； 至少一個(gè)光源，容納于所述容納容器；以及 根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的復(fù)合光學(xué)薄膜，容納于所述容納容器，隔開配置于所述光源的上部。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光源組件，其中，中間設(shè)置所述復(fù)合光學(xué)薄膜、所述光源及空氣層而直接相面對(duì)。
【文檔編號(hào)】G02F1/1335GK104166175SQ201410193666
【公開日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2014年5月8日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月15日
【發(fā)明者】禹鎮(zhèn)珆, 李在洵, 鞠旻澈, 林鐘潤, 金成根, 全一鎬, 崔容準(zhǔn) 申請(qǐng)人:新和因特泰科株式會(huì)社