專利名稱：評估設(shè)備和評估方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于評估光學(xué)記錄介質(zhì)的信號質(zhì)量的評估設(shè)備和評估方法。
背景技術(shù)：
已使用被稱為抖動(jitter)的指標(biāo)來評估如⑶(壓縮盤)、DVD(數(shù)字多功能盤) 和BD (藍(lán)光盤注冊商標(biāo))的光盤記錄介質(zhì)(以下簡稱為光盤)的質(zhì)量。抖動是表示在光 盤上形成的凹坑(Pit)的邊緣位置的變化的標(biāo)準(zhǔn)偏差值的指標(biāo)。更具體地，首先檢測來自 光盤的讀取信號的多個邊緣位置。然后使用檢測的結(jié)果來產(chǎn)生頻率分布圖。將該圖中所涉 及的邊緣位置的標(biāo)準(zhǔn)偏差值計(jì)算為抖動。如此計(jì)算的抖動值越大，邊緣位置的變化被評估 得越高；抖動越小，變化被評估得越低。也就是說，抖動值越小，所涉及光盤的質(zhì)量被評估得 越高，并且其邊緣位置具有低的變化。一般說來，在對給定的光盤產(chǎn)品進(jìn)行質(zhì)量評估時，對要評估的大量光盤不使用單 個評估設(shè)備(也稱為測量設(shè)備)。為了節(jié)省時間的目的，使用多個測量設(shè)備來分擔(dān)工作負(fù) 荷。此處的問題是評估值變化反應(yīng)出所涉及的測量設(shè)備之間的光學(xué)特性的差 異。因此，難以基于共同的標(biāo)準(zhǔn)來評估目標(biāo)產(chǎn)品的質(zhì)量。特別地，如日本專利早期公開 2009-123266(以下稱為專利文獻(xiàn)1)中所述地，在基于上述抖動值的質(zhì)量評估期間，測量設(shè) 備與光盤的組合會導(dǎo)致復(fù)雜的測量值差。解決測量設(shè)備之間的測量值差的一種方式是選擇性地安裝在特性上彼此明顯相 似的光學(xué)系統(tǒng)，從而減小了測量設(shè)備之間的光學(xué)特性的變化。在其光學(xué)特性的變化由此減 小的情況下，認(rèn)為測量設(shè)備使得與光盤組合所導(dǎo)致的測量設(shè)備的測量值差最小化。然而，選擇光學(xué)系統(tǒng)是相當(dāng)麻煩的任務(wù)，這會導(dǎo)致勞動力成本的顯著增加。此外， 從其特性彼此非常相似的大量光學(xué)系統(tǒng)中進(jìn)行選擇的嘗試是艱巨的任務(wù)。為此，求助于選 擇光學(xué)系統(tǒng)并不是一個實(shí)際的選項(xiàng)。為了在不選擇光學(xué)系統(tǒng)的情況下解決測量值差的問題，提出了從多個測量設(shè)備中 預(yù)先選擇基準(zhǔn)測量設(shè)備的技術(shù)。然后校正其它測量設(shè)備取得的測量值以與該基準(zhǔn)設(shè)備取得 的測量值相匹配。所提出的技術(shù)示例性地包括以下概述的第一種方法和第二種方法。第一方法包括 使用以下一次式獲得的校正系數(shù)y = ax+b其中“X”表示測量的抖動值，且“y”代表要被提供用于測量的校正系數(shù)。也就是 說，以上一次式用于對一方面的基準(zhǔn)測量設(shè)備與另一方面的每個其它測量設(shè)備之間的測量 值差的相關(guān)性進(jìn)行近似。然后使用通過一次式獲得的校正系數(shù)來校正每個測量設(shè)備取得的 測量值。在專利文獻(xiàn)1中描述了第二種方法。根據(jù)該方法，認(rèn)為基準(zhǔn)測量設(shè)備和其它測量 設(shè)備之間的測量值差的相關(guān)性更復(fù)雜。因而第二種方法包括使用通過比以前更復(fù)雜的相關(guān)功能獲取的校正系數(shù)來校正每個測量設(shè)備所取得的測量值。更具體地，注意每個測量設(shè)備 上的邊緣位置的頻率分布的失真。使用基于失真的方向(即，極性)和失真的程度計(jì)算的 校正系數(shù)來校正測量值。

發(fā)明內(nèi)容
然而，上述第一種方法是利用一次式的簡化的校正技術(shù)。這樣，該方法包括進(jìn)行用 于校正的簡單的算術(shù)運(yùn)算，但可提供減小測量變化(即，降低測量值差)的相對低的效果。 上述第二種方法提供了解決測量值差的更好效果，但包括執(zhí)行用于校正目的的更復(fù)雜的算 術(shù)運(yùn)算。在任何情況下，不將用于使用校正系數(shù)校正評估結(jié)果(即，測量)的諸如第一方法 和第二方法的技術(shù)提議為精確地識別測量值差的原因的對策，其中該測量值差以復(fù)雜的方 式源自測量設(shè)備與光盤的組合。在使用這些現(xiàn)有技術(shù)的情況下，測量設(shè)備之間的一些測量 值差從而是不可避免的。考慮到以上情況作出本發(fā)明，且本發(fā)明提供了如下布置該布置用于解決測量設(shè) 備之間的測量值差，而不選擇測量設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)或校正測量設(shè)備的測量，其中該校正需 要復(fù)雜的算術(shù)運(yùn)算。在執(zhí)行本發(fā)明時，根據(jù)其實(shí)施例提供一種評估設(shè)備，該評估設(shè)備包括信號讀取 塊，被配置用于通過對光學(xué)記錄介質(zhì)的光照射而從該光學(xué)記錄介質(zhì)讀取記錄的信號，其中 該信號通過在介質(zhì)上形成凹坑而被記錄；第一波形均衡化塊，被配置用于輸入通過讀取記 錄的信號的信號讀取塊而獲得的再現(xiàn)信號，從而使用均衡化特性對再現(xiàn)的信號進(jìn)行波形均 衡化處理，其中該波形均衡化處理集中地改變再現(xiàn)信號的短波長分量的信號電平；邊界檢 測塊，被配置用于檢測來自再現(xiàn)信號的凹坑的波形與凸區(qū)(land)的波形之間的邊界；選擇 性輸出塊，被配置用于選擇性地基于邊界檢測塊進(jìn)行的邊界檢測的結(jié)果而輸出以下兩個信 號中的一個信號，該兩個信號中的一個是經(jīng)歷了第一波形均衡化塊進(jìn)行的波形均衡化處理 的再現(xiàn)信號，而另一信號是沒有經(jīng)歷第一波形均衡化塊的波形均衡化處理的再現(xiàn)信號；以 及評估值生成塊，被配置用于基于選擇性輸出塊輸出的再現(xiàn)信號而生成表示信號邊緣位置 的分布的評估值。如稍后所述地，本申請人進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)且研究了源自測量設(shè)備(評估設(shè)備)和光學(xué) 記錄介質(zhì)的組合的測量值差。作為研究的結(jié)果，本申請人發(fā)現(xiàn)測量值差源自來自測量設(shè)備 與光學(xué)記錄介質(zhì)的組合的再現(xiàn)信號中的短波長分量(例如，BD(藍(lán)光盤注冊商標(biāo))的2T 或3T)的長度中出現(xiàn)的變化。已確認(rèn)短波長分量的長度變化特別地來自于關(guān)于凹坑的再現(xiàn)信號之間的差。更具 體地，存在與其它設(shè)備相比將諸如2T凹坑之類的短凹坑看得更長或更短的測量設(shè)備、以及 其短凹坑與其它介質(zhì)相比看起來更長或更短的光學(xué)記錄介質(zhì)。在使用多個測量設(shè)備來分擔(dān)測量多個光學(xué)記錄介質(zhì)的評估值的任務(wù)的情況下，假 定與任何其它測量設(shè)備相比將短凹坑視為更短的測量設(shè)備被選擇作為基準(zhǔn)測量設(shè)備(基 準(zhǔn)設(shè)備)。在這種情況下，當(dāng)所有測量設(shè)備測量給定的光學(xué)記錄介質(zhì)時，基準(zhǔn)設(shè)備總是與任 何其它設(shè)備相比將短凹坑視為更短。在該點(diǎn)上，假定測量其短凹坑在被基準(zhǔn)設(shè)備測量時看起來比適當(dāng)值更長的光學(xué)記錄介質(zhì)(M_sp_l0ng)，且該光學(xué)記錄介質(zhì)(M_sp_l0ng)在被基準(zhǔn)設(shè)備測量時看起來具有測 量值a_ref_long而在被另一測量設(shè)備測量時具有測量值a_ms_long。由于基準(zhǔn)設(shè)備與任何其它設(shè)備相比將短凹坑視為更短，因此其它測量設(shè)備與基準(zhǔn) 設(shè)備相比將短凹坑視為更長。結(jié)果，其它測量設(shè)備取得的測量值a _ms_long的值是與基準(zhǔn) 設(shè)備取得的測量值a_ref_long的值相比更惡化的值。另一方面，相反地假定測量其短凹坑在被基準(zhǔn)設(shè)備測量時看起來比適當(dāng)值更短的 光學(xué)記錄介質(zhì)(M_Sp_Short)，且該光學(xué)記錄介質(zhì)(M_Sp_Short)在被基準(zhǔn)設(shè)備測量時看起 來具有測量值a_ref_short而在被另一測量設(shè)備測量時具有測量值a_ms_short。在這種情況下，由于另一測量設(shè)備與基準(zhǔn)設(shè)備相比將短凹坑視為更長，因此在被 基準(zhǔn)設(shè)備查看時看起來更短的短凹坑在被另一測量設(shè)備查看時看起來具有適當(dāng)?shù)拈L度。結(jié) 果，另一測量設(shè)備取得的測量值a_mS_Sh0rt是比基準(zhǔn)設(shè)備取得的測量值a_ref_Sh0rt更 良好的值。如上所述，根據(jù)每個測量設(shè)備和每個光學(xué)記錄介質(zhì)，短凹坑看起來比參考長度更 短或更長。從該現(xiàn)象得出復(fù)雜的測量值差如專利文獻(xiàn)1的圖6所示(或如該說明書的圖 1所示)地，當(dāng)被另一測量設(shè)備測量時，一個光學(xué)記錄介質(zhì)可呈現(xiàn)比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時更良 好的值；當(dāng)被基準(zhǔn)設(shè)備測量時，另一光學(xué)記錄介質(zhì)可呈現(xiàn)比被另一測量設(shè)備測量時更惡化 的值。為了通過對該復(fù)雜的測量值差的校正而獲得適當(dāng)?shù)脑u估值，僅需要使短凹坑的長 度看起來相同，而不管根據(jù)每個測量設(shè)備或每個光學(xué)記錄介質(zhì)的特性的變化如何。換句話 說，僅需要校正來自各種測量設(shè)備的再現(xiàn)信號中的短凹坑的波形，以使其與通過基準(zhǔn)設(shè)備 獲取的波形等同。以如此方式通過實(shí)現(xiàn)波形均衡化來執(zhí)行上述校正，使得來自各種測量設(shè)備的再現(xiàn) 信號中的短凹坑的波形與通過基準(zhǔn)設(shè)備獲得的波形等同。這通過例如如下實(shí)施本發(fā)明來完 成使用均衡化特性對再現(xiàn)信號如上所述地進(jìn)行第一波形均衡化處理，其中該均衡化特性 集中地改變再現(xiàn)信號的短波長分量的信號電平?；跈z測再現(xiàn)信號中的凹坑的波形和凸區(qū) 的波形之間的邊界的結(jié)果而選擇性地輸出以下兩個信號中的一個信號，該兩個信號中的一 個信號是經(jīng)歷了第一波形均衡化處理的再現(xiàn)信號，而另一信號是沒有經(jīng)歷第一波形均衡化 處理的再現(xiàn)信號。然后基于已被選擇性輸出的再現(xiàn)信號而生成表示信號邊緣位置的分布的 評估值。上述結(jié)構(gòu)允許以如下方式進(jìn)行校正，該方式使得通過各種其它測量設(shè)備獲得的短 凹坑的波形等同于通過基準(zhǔn)設(shè)備獲取的波形。作為校正的結(jié)果，源自測量設(shè)備和光學(xué)記錄 介質(zhì)的組合的測量值的變化(即，測量值差)被消除，使得能適當(dāng)?shù)貓?zhí)行質(zhì)量評估。根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，提供一種評估方法，該方法包括以下步驟通過對光學(xué) 記錄介質(zhì)的光照射從該光學(xué)記錄介質(zhì)讀取記錄的信號，其中該信號通過在介質(zhì)上形成凹坑 而被記錄；輸入在讀取記錄的信號的讀取步驟中獲得的再現(xiàn)信號，從而使用均衡化特性對 再現(xiàn)信號進(jìn)行波形均衡化處理，其中該均衡化特性集中地改變再現(xiàn)信號的短波長分量的信 號電平；基于從再現(xiàn)信號中檢測凹坑波形和凸區(qū)波形之間的邊界的結(jié)果而選擇性地輸出 以下兩個信號中的一個信號，該兩個信號中的一個信號是經(jīng)歷了波形均衡化處理的再現(xiàn)信 號，而另一信號是沒有經(jīng)歷第一波形均衡化處理的再現(xiàn)信號；以及基于在選擇性輸出步驟中輸出的再現(xiàn)信號而生成表示信號邊緣位置的分布的評估值。根據(jù)本發(fā)明，如上所述，通過波形均衡化使得特別是通過基準(zhǔn)設(shè)備對光學(xué)記錄介 質(zhì)測量的短凹坑的波形與通過其它測量設(shè)備獲取的對應(yīng)波形等同。由此解決了源自測量設(shè) 備和光學(xué)記錄介質(zhì)的組合的測量值差，且適當(dāng)?shù)貓?zhí)行了質(zhì)量評估。如上所述，測量值差可特別地歸因于再現(xiàn)信號中的短凹坑長度的變化。與將校正 系數(shù)添加到測量值的一般技術(shù)相比，本發(fā)明方案對問題提供了關(guān)鍵的解決方案，使得可以 比以前更有效地解決測量值差。顯然，本發(fā)明預(yù)先假定在測量設(shè)備之間存在光學(xué)特性的變化。因此，不需要選擇用 于測量設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)。因此，根據(jù)本發(fā)明，解決了測量設(shè)備之間的測量值差，使得適當(dāng)?shù)貓?zhí)行了質(zhì)量評 估，不需要選擇用于測量設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)或通過復(fù)雜的算術(shù)運(yùn)算來校正測量值。


圖1是測量值差如何實(shí)際上源自測量設(shè)備與光學(xué)記錄介質(zhì)的組合的說明性圖示；圖2A-2F是示出屬于圖1指示的組B (由光盤組成，其中該光盤的抖動值在被其它 測量設(shè)備測量時比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時更惡化)的光盤上的邊緣位置的頻率分布的圖示；圖3A-3F是示出屬于圖1指示的組A(由光盤組成，其中該光盤的抖動值在被其它 測量設(shè)備測量時比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時更良好)的光盤上的邊緣位置的頻率分布的圖示；圖4是示出與系數(shù)“r”的各種設(shè)置相關(guān)的濾波器特性(頻率特性)的圖示；圖5是作為本發(fā)明實(shí)施例的波形均衡化處理施加的典型效果的說明性圖示；圖6是選擇系數(shù)“r”的典型技術(shù)的說明性圖示；圖7是示出實(shí)施本發(fā)明的評估設(shè)備的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的框圖；圖8A和8B是展示通過本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行的校正而獲得的效果的圖示；以及圖9是作為本發(fā)明的變型的另一評估設(shè)備的典型結(jié)構(gòu)的說明性框圖。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在以如下標(biāo)題說明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例1.產(chǎn)生源自測量設(shè)備與盤的組合的測量值差的原因2.作為本發(fā)明實(shí)施例的校正測量值差的技術(shù)2-1.校正技術(shù)的概要2-2.實(shí)施本發(fā)明的評估設(shè)備的典型結(jié)構(gòu)2-3.校正的效果2-4.實(shí)施例的摘要3.變型1.產(chǎn)生源自測量設(shè)備與盤的組合的測量值差的原因以下參考圖1-3F說明產(chǎn)生源自測量設(shè)備與盤的組合的測量值差的原因。該說明 隨后是作為本發(fā)明實(shí)施例的校正測量值差的技術(shù)的說明。首先參考圖1說明實(shí)際上如何從 測量設(shè)備與光學(xué)記錄介質(zhì)的組合導(dǎo)致測量值差。在此應(yīng)注意隨后說明中的“測量值”表示測量的評估值，該測量的評估值代表信號邊緣位置的分布(即，凹坑的波形和凸區(qū)的波形之間的邊界時刻)。更具體地，結(jié)合本發(fā)明 的實(shí)施例，該測量值表示所謂的抖動值。被稱為評估設(shè)備的測量評估值的設(shè)備也被稱為測
量設(shè)備。圖1示出了針對多個光盤D (D01至D27)通過基準(zhǔn)設(shè)備和其它測量設(shè)備(M01至 M10)所測量的抖動值。在圖1中，粗實(shí)線表示基準(zhǔn)設(shè)備取得的測量值；具有不同標(biāo)記的細(xì) 線表示其它測量設(shè)備取得的測量值。在圖1中，光盤D是通過凹坑和凸區(qū)的組合來在其上 記錄信息的BD-ROM(藍(lán)光盤(注冊商標(biāo))只讀存儲器)盤。參考圖1，通過各種測量設(shè)備取得多個光盤D的評估值(即，抖動值)。應(yīng)注意，對 各個光盤D取得的測量值根據(jù)每個測量設(shè)備而不同。還應(yīng)注意，除了基準(zhǔn)設(shè)備之外的測量 設(shè)備所取得的測量值差對于各個光盤D不是恒定的；對于不同的光盤D，測量值差也變化。更具體地，在圖1中，示出存在光盤D的兩個組A和B 在組A中，光盤D的測量 值在被其它測量設(shè)備測量時一般比在被基準(zhǔn)設(shè)備測量時更好(即，抖動值小)；在組B中， 光盤D的測量值在被其它測量設(shè)備測量時一般比在被基準(zhǔn)設(shè)備測量時更惡化(即，抖動值 大)。在此應(yīng)注意，在圖1中，多個光盤D (D01至D27)被編號，使得可從視覺上弄清楚組A 和組B之間的關(guān)系。如圖1的結(jié)果所示，存在源自測量設(shè)備與光盤D的組合的復(fù)雜的測量值差。應(yīng)理 解，通過求助于使用用于變化校正的單個校正系數(shù)來構(gòu)成測量值的上述普通技術(shù)(第一種 技術(shù))不能適當(dāng)?shù)亟鉀Q該測量值差。本申請人對如上所述的源自測量設(shè)備和光盤D的組合的測量值差(針對邊緣位 置)進(jìn)行了研究和實(shí)驗(yàn)，并發(fā)現(xiàn)了其可能的原因。具體地，發(fā)現(xiàn)該差歸因于再現(xiàn)信號中的短 波長分量(特別是在BD上的2T)的長度的變化，當(dāng)不同的測量設(shè)備與不同的光盤D組合時 檢測到該變化。還發(fā)現(xiàn)短波長分量的長度的變化來自于再現(xiàn)信號之間的凹坑的差異。存在兩個特定現(xiàn)象存在如下測量設(shè)備，通過該測量設(shè)備，短凹坑如2T的凹坑的 長度看起來比標(biāo)準(zhǔn)更長或更短；以及存在如下光學(xué)記錄介質(zhì)，在該光學(xué)記錄介質(zhì)上短凹坑 的長度看起來比標(biāo)準(zhǔn)更長或更短。假定使用多個測量設(shè)備來分擔(dān)測量多個光盤D的評估值的任務(wù)，且選擇與任何其 它測量設(shè)備相比將短凹坑確定得更短的測量設(shè)備作為基準(zhǔn)設(shè)備。在這種情況下，當(dāng)給定的 光盤D被基準(zhǔn)設(shè)備以及其它測量設(shè)備評估時，總是發(fā)現(xiàn)在被基準(zhǔn)設(shè)備測量時短凹坑最短?，F(xiàn)在假定測量被基準(zhǔn)設(shè)備測量時其短凹坑看起來比標(biāo)準(zhǔn)更長的光盤D(D_sp_ long)，基準(zhǔn)設(shè)備對該盤取得的測量值被表示為a_ref_long、且其它測量設(shè)備對同一盤取 得的測量值被表示為a_ms_long。在這種情況下，由于在被基準(zhǔn)設(shè)備測量時短凹坑看起來 最短，因此在被其它測量設(shè)備測量時短凹坑看起來比標(biāo)準(zhǔn)長得多。結(jié)果，其它測量設(shè)備取得 的測量值a_ms_long比基準(zhǔn)設(shè)備取得的測量值a_ref_l0ng更惡化。另一方面，假定測量被基準(zhǔn)設(shè)備測量時其短凹坑看起來比標(biāo)準(zhǔn)更短的光盤D(D_ sp_sh0rt)，基準(zhǔn)設(shè)備對該盤取得的測量值被表示為a _ref_sh0rt、且其它測量設(shè)備對同一 盤取得的測量值被表示為a_ms_sh0rt。在這種情況下，由于在被其它測量設(shè)備測量時短凹 坑看起來比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時更長，因此當(dāng)被其它測量設(shè)備測量時短凹坑看起來呈現(xiàn)適當(dāng) 的長度。結(jié)果，在這種情況下其它測量設(shè)備進(jìn)行的測量a_ms_sh0rt比基準(zhǔn)設(shè)備進(jìn)行的測 量a _ref_short更良好。
從上述原理可得出圖1所示的現(xiàn)象。也就是說，其它測量設(shè)備取得的對給定光盤 D的測量值被證明比基準(zhǔn)設(shè)備進(jìn)行的對同一光盤的測量值更良好。其它測量設(shè)備對另一光 盤D取得的測量值被證明比基準(zhǔn)設(shè)備進(jìn)行的對同一盤的測量值更惡化。這里應(yīng)注意，抖動值代表所有波長分量(即，所有凹坑長度)的邊緣位置分布的 和，然而短波長分量的發(fā)生頻率多達(dá)30%，并根據(jù)光盤標(biāo)準(zhǔn)而出現(xiàn)一些變化。為此，根據(jù)短 波長分量的長度變化，抖動值以相對顯著的方式變化。圖2A至3F是視覺上示出一方面的短凹坑的長度變化與另一方面的其測量值差之 間的典型關(guān)系的圖示。具體地，圖2A至3F是通過基準(zhǔn)設(shè)備以及其它測量設(shè)備來測量給定 光盤D的邊緣位置時獲得的直方圖(頻率分布)。更具體地，圖2A至2F是對從屬于圖1的 組B的光盤D ( S卩，其抖動值被證明在被其它測量設(shè)備測量時比在被基準(zhǔn)設(shè)備測量時更惡化 的光盤D)測量的邊緣位置的直方圖。圖3A至3F是對從屬于圖1的組A的光盤D測量的 邊緣位置的直方圖(即，其抖動值被證明在被其它測量設(shè)備測量時比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時更 良好的光盤D)。圖2A和3A是針對兩組中的每個而由基準(zhǔn)設(shè)備獲取的每凹坑長度(2T至8T)的上 升沿LE的直方圖，圖2B和:3B是針對兩組中的每個而由基準(zhǔn)設(shè)備獲得的每凹坑長度的下降 沿TE的直方圖；且圖2C和3C是針對所有凹坑長度(即，不區(qū)分凹坑長度)而由基準(zhǔn)設(shè)備 獲取的上升沿LE和下降沿TE的直方圖。圖2D和3D是針對兩組中的每個而由其它測量設(shè) 備而獲得的每凹坑長度OT-8T)的上升沿LE的直方圖；圖2E和3E是針對兩組中的每個 而由其它測量設(shè)備而獲得的每凹坑長度的下降沿TE的直方圖；且圖2F和3F是針對所有 凹坑長度(即，不區(qū)分凹坑長度)而由其它測量設(shè)備獲取的上升沿LE和下降沿TE的直方 圖。上升沿LE是從凸區(qū)過渡到凹坑的邊緣位置。相反，下降沿TE是從凹坑過渡到凸 區(qū)的邊緣位置。在圖2A-3F中，(邊緣位置的)橫軸上指示的值是通過將1T(T代表通道時 鐘)的時間間隔劃分成IOM個相等的部分而獲得的值。在該圖中，虛線C代表適當(dāng)?shù)倪吘?位置(理想的邊緣位置)。應(yīng)注意，對上述情況選擇的基準(zhǔn)設(shè)備是如下的基準(zhǔn)設(shè)備通過該基準(zhǔn)設(shè)備，短凹坑 看起來比通過任何其它測量設(shè)備更短。因此得出，當(dāng)被其它測量設(shè)備測量時，短凹坑看起來 比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時更長?，F(xiàn)在請讀者注意圖2A、2B、2D、2E、3A、3B、3D和3E中所示的短凹坑(特別是2T)的 頻率分布中的峰值位置(平均邊緣位置)。當(dāng)測量組B的光盤D時(圖2A、2B、2D和2E)， 短凹坑被確認(rèn)為比測量組A的光盤D時(圖3A、3B、3D和3E)更長(即，作為上升沿LE和 下降沿TE之間的時間間隔)。由此可進(jìn)一步認(rèn)識到組B的光盤D是其短凹坑看起來比標(biāo)準(zhǔn) 更長的盤，且組A的光盤D是其短凹坑看起來比標(biāo)準(zhǔn)更短的盤。參考圖2A、2B、2D和2E，該圖揭示了短凹坑在被其它測量設(shè)備測量時比被基準(zhǔn)設(shè) 備測量時看起來更長。因此得出其短凹坑看起來比標(biāo)準(zhǔn)更長的組B的光盤D看起來在被其 它測量設(shè)備測量時比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時具有更長的短凹坑。在這種情況下，如圖2C和圖2F 之間的比較所示地，其它設(shè)備測量的抖動值趨向于比基準(zhǔn)設(shè)備測量的值更惡化。也就是說， 如更早所討論的那樣，組B的光盤D趨向于在被其它測量設(shè)備測量時比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時 呈現(xiàn)更惡化的抖動值。在這種情況下，如圖所示，特別地，針對下降沿TE的抖動值具有變得
9更惡化的趨向。參考圖3A、3B、3D和3E，該圖揭示了短凹坑在被其它測量設(shè)備測量時比被基準(zhǔn)設(shè) 備測量時看起來更長。由于組A的光盤D是其短凹坑看起來比標(biāo)準(zhǔn)更短的光盤，因此該盤 在被其它測量設(shè)備測量時看起來具有適當(dāng)長度的短凹坑；該盤在被基準(zhǔn)設(shè)備測量時看起來 具有比標(biāo)準(zhǔn)更短的短凹坑。因此，如圖3C和圖3F之間的比較所示地，在這種情況下其它設(shè) 備測量的抖動值趨向于比基準(zhǔn)設(shè)備測量的值更良好。因此得出，如上所述，組A的光盤D趨 向于在被其它測量設(shè)備測量時比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時呈現(xiàn)更良好的抖動值。在這種情況下， 如圖所示，特別地，針對下降沿TE的抖動值具有變得更良好的趨向。2.作為本發(fā)明實(shí)施例的校正測量值差的技術(shù)2-1.校正技術(shù)的概述如上所述，短凹坑根據(jù)每個測量設(shè)備以及每個光盤D而看起來比標(biāo)準(zhǔn)更長或更 短。因此如圖1所示地以復(fù)雜方式出現(xiàn)測量值差的現(xiàn)象一組盤在被其它測量設(shè)備測量時 比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時呈現(xiàn)更良好的測量值，且另一組盤在被基準(zhǔn)設(shè)備測量時比被其它測量 設(shè)備測量時呈現(xiàn)更惡化的測量值。為了通過對該復(fù)雜的測量值差的校正而取得評估值的適當(dāng)測量值，僅需要使短凹 坑看起來在長度上相同，而不考慮根據(jù)每個測量設(shè)備以及每個光學(xué)記錄介質(zhì)的特性變化。 也就是說，僅需要校正各個測量設(shè)備，以使再現(xiàn)信號中的短凹坑的波形等同于通過基準(zhǔn)設(shè) 備獲得的對應(yīng)波形。在上述情況下，以如此方式根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例執(zhí)行波形均衡化，使得來自各個測 量設(shè)備的再現(xiàn)信號中的短凹坑的波形等同于通過基準(zhǔn)設(shè)備獲得的波形。以下參考圖4-6概述用于實(shí)施本發(fā)明的校正的具體布置。如從以上說明中可理解 地，存在執(zhí)行本發(fā)明的校正技術(shù)的兩個要點(diǎn)集中地使再現(xiàn)信號中的短波長分量的波形均 衡化，且主要針對凹坑進(jìn)行波形均衡化。短波長分量的長度受到光盤D上形成的凹坑的深度的顯著影響，然而該長度實(shí)質(zhì) 上不受到凸區(qū)(land)的影響。為此，主要針對凹坑進(jìn)行波形均衡化。根據(jù)本發(fā)明該實(shí)施例， 僅對凹坑進(jìn)行波形均衡化處理；凸區(qū)被完全排除在波形均衡化處理之外。示例性地，本實(shí)施例利用5抽頭FIR(有限脈沖響應(yīng))濾波器(例如使用以下表達(dá) 式1的濾波器)來進(jìn)行針對短波長分量的集中的波形均衡化-(1/8) * r * ZO-(1/2) * r * Zl+(1+1. 25 * r) * Z2_(l/2) * r * Z3-(l/8) * r * Z4(表達(dá)式1)由以上表達(dá)式1組成的濾波器函數(shù)表示的HR濾波器可通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)置系數(shù)“r” 來根據(jù)需要建立其均衡化特性(頻率特性)。對于該實(shí)施例，選擇用于將短凹坑測量為明顯最短的測量設(shè)備作為基準(zhǔn)設(shè)備。因 此得出短凹坑當(dāng)被所有其它測量設(shè)備測量時看起來比標(biāo)準(zhǔn)更長。為了校正這種情況下，以 如此方式建立濾波器特性，以集中地降低(即，衰減)短波長分量的水平，從而縮短短凹坑 的長度。圖4示出了當(dāng)利用以上濾波器函數(shù)表示的HR濾波器時實(shí)際的典型濾波器特性。 具體地，圖4表示與系數(shù)“r”的各個設(shè)置(r = 0，-4，-8，-12，-16，-20)相關(guān)的濾波器特性 (頻率特性)。作為粗略的引導(dǎo)，圖4表示了在BD情況下的2T信號的頻率(約為16MHz)。在BD的情況下3T信號約為11MHz。對于該實(shí)施例，僅對凹坑進(jìn)行波形均衡化處理，從而使得再現(xiàn)信號中的短波長分 量的水平集中地衰減；凸區(qū)被排除在波形均衡化之外。更具體地，該實(shí)施例涉及建立并列的第一濾波器和第二濾波器，作為被輸入再現(xiàn) 信號的波形均衡化濾波器。第一濾波器進(jìn)行包含適當(dāng)?shù)乃p特性的波形均衡化處理，其中 系數(shù)“r”非零。第二濾波器具有被設(shè)為零的系數(shù)“r”，使得短波長分量不被衰減。該實(shí)施例 另外包括用于檢測再現(xiàn)信號中的凹坑和凸區(qū)之間的邊界的邊界檢測塊?；谶吔鐧z測塊進(jìn) 行的邊界檢測的結(jié)果，選擇性地輸出通過了第一濾波器的再現(xiàn)信號或通過了第二濾波器的 再現(xiàn)信號。以這種方式，有可能獲取如下再現(xiàn)信號該再現(xiàn)信號的短波長分量的水平被僅針 對凹坑而集中地衰減。這些設(shè)置構(gòu)成了如下結(jié)構(gòu)通過該結(jié)構(gòu)以集中的方式衰減了再現(xiàn)信 號中的短凹坑的水平。安裝在普通評估設(shè)備中的波形均衡器不進(jìn)行該選擇性的波形均衡化。該波形均衡 器是對凹坑和凸區(qū)建立相同的系數(shù)“r”的線性均衡器。一般說來，通過在光盤評估設(shè)備內(nèi) 部改變波形均衡器的系數(shù)沒有適當(dāng)?shù)匦Ｕ秳訙y量這一事實(shí)歸因于該線性波形均衡器的 使用。圖5是該實(shí)施例進(jìn)行的波形均衡化處理的效果的說明性圖示。具體地，圖5示出 了如何使用根據(jù)以上表達(dá)式1建立的濾波器函數(shù)來模擬均衡化之前的再現(xiàn)信號的波形(虛 線所示)和均衡化之后的再現(xiàn)信號的波形(實(shí)線所示)的結(jié)果，并且對第一濾波器(即，凹 坑側(cè))系數(shù)“r”被設(shè)為“-16”，且對第二濾波器(即，凸區(qū)側(cè))系數(shù)“r”被設(shè)為“0”。如從圖5可理解地，當(dāng)該實(shí)施例利用進(jìn)行上述選擇性的波形均衡化的波形均衡器 時，凸區(qū)的水平保持不變。對于凹坑，可看出如圖所示的如3T凹坑和2T凹坑之類的短凹 坑的水平被集中地降低。在濾波器函數(shù)被設(shè)置成包含基于以上表達(dá)式1的設(shè)置時，確認(rèn)短 凹坑的水平的集中下降導(dǎo)致了主要是2T凹坑的縮短(在該圖中，作為參考，對均衡化之前 (BF)的2T凹坑的長度和均衡化之后(AF)的2T凹坑的長度進(jìn)行比較)。在解決所涉及的測量設(shè)備之間的測量值差時，設(shè)置系數(shù)“r”，從而使得通過其它測 量設(shè)備獲得的短凹坑的長度與通過基準(zhǔn)設(shè)備獲取的短凹坑的長度相一致。如同從示出基準(zhǔn) 設(shè)備和其它測量設(shè)備所取得的測量值的差的圖1中可理解地，通過各個測量設(shè)備所測量的 短凹坑的長度與通過基準(zhǔn)設(shè)備獲得的短凹坑長度不相同。為此，為了使通過各個測量設(shè)備 測量的短凹坑的長度與通過基準(zhǔn)設(shè)備測量的短凹坑長度相一致，需要確定適合于每個測量 設(shè)備的系數(shù)“r”。圖6是對每個測量設(shè)備確定系數(shù)“r”的典型技術(shù)的說明性圖示。在確定系數(shù)“r” 時，首先從多個光盤D (圖1的DOl至D27)中選擇代表組A的盤和代表組B的盤。然后使 用已被確定了系數(shù)“r”的各個測量設(shè)備來測量兩個組的代表盤的抖動值，并且系數(shù)“r”根 據(jù)每個測量設(shè)備而改變。將使用系數(shù)值“r”的各個變化的設(shè)置而通過各個目標(biāo)測量設(shè)備對組A的代表盤取 得的抖動測量值與通過基準(zhǔn)設(shè)備對組A的代表盤取得的抖動測量值進(jìn)行比較。從該比較 中，針對組A的代表盤而獲得通過基準(zhǔn)設(shè)備取得的抖動測量值與通過各個目標(biāo)測量設(shè)備取 得的抖動測量值的比率(即，基準(zhǔn)設(shè)備相對于目標(biāo)測量設(shè)備的抖動比率)。
同樣地，將使用系數(shù)值“r”的各個變化的設(shè)置通過各個目標(biāo)測量設(shè)備對組B的代 表盤取得的抖動測量值與通過基準(zhǔn)設(shè)備對組B的代表盤取得的抖動測量值進(jìn)行比較。從該 比較中，針對組B的代表盤而獲得通過基準(zhǔn)設(shè)備取得的抖動測量值與通過每個目標(biāo)測量設(shè) 備取得的抖動測量值的比率(即，基準(zhǔn)設(shè)備相對于目標(biāo)測量設(shè)備的抖動比率)。圖6繪出了針對代表組A的盤和代表組B的盤、通過基準(zhǔn)設(shè)備獲得的抖動值與使 用對應(yīng)的系數(shù)“r”通過各個目標(biāo)測量設(shè)備獲取的抖動值的比率。如圖6所示，虛線表示針 對代表組A的盤與變化的系數(shù)“1·”相對應(yīng)的比率的變遷，而實(shí)線表示針對代表組B的盤與 變化的系數(shù)“r”相對應(yīng)的比率的變遷。在這種情況下，在橫軸的較高水平上的系數(shù)“r”的 值代表針對上述第一濾波器的設(shè)置，且在橫軸的較低水平上的系數(shù)“r”的值表示針對第二 濾波器的設(shè)置。如圖所示，當(dāng)針對第一濾波器的系數(shù)“r”的值是“0”時(即，沒有進(jìn)行校正)，針對 代表組A的盤而通過基準(zhǔn)設(shè)備獲得的抖動值與通過目標(biāo)測量設(shè)備獲得的抖動值的比率大 于針對代表組B的盤而通過基準(zhǔn)設(shè)備獲取的抖動值與通過目標(biāo)測量設(shè)備獲取的抖動值的 比率。這是因?yàn)榻MA是其抖動值在被其它測量設(shè)備測量時看起來比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時更小 的盤的組，而組B是其抖動值在被其它測量設(shè)備測量時看起來比被基準(zhǔn)設(shè)備測量時更大的 盤的組(見圖1)。隨著針對第一濾波器的系數(shù)“r”的絕對值變得更大，針對代表組A的盤的基準(zhǔn)設(shè) 備相對于目標(biāo)測量設(shè)備的抖動比率逐漸接近于針對代表組B的盤的基準(zhǔn)設(shè)備相對于目標(biāo) 測量設(shè)備的抖動比率，如圖所示。兩個比率相一致之處的點(diǎn)是如下的點(diǎn)在該點(diǎn)處，針對具有不同特性的相應(yīng)光盤 D通過基準(zhǔn)設(shè)備取得的測量值和通過目標(biāo)測量設(shè)備取得的測量值表示相同趨向。實(shí)際上在 該點(diǎn)處的系數(shù)“r”的值被選擇為要對目標(biāo)測量設(shè)備設(shè)置的系數(shù)“1·”的值。在圖6的例子中， “r = -18”是要對目標(biāo)測量設(shè)備在凹坑側(cè)設(shè)置的系數(shù)“r”。以上所述是確定針對所涉及的每個測量設(shè)備而預(yù)先建立的系數(shù)“r”的值的典型技 術(shù)。在對每個測量設(shè)備設(shè)置了如此確定的系數(shù)“r”之后，通過所討論的設(shè)備來測量實(shí)際抖 動。這使得有可能以如下方式進(jìn)行波形均衡化該方式使得通過每個測量設(shè)備所測量的短 凹坑的長度與通過基準(zhǔn)設(shè)備測量的短凹坑的長度相一致。結(jié)果，校正了所涉及的測量設(shè)備 之間的測量值差，且獲得了適當(dāng)?shù)脑u估值。2-2.實(shí)施本發(fā)明的評估設(shè)備的典型結(jié)構(gòu)以下參考圖7說明用于實(shí)現(xiàn)以上討論的校正技術(shù)的評估設(shè)備(評估設(shè)備1)的典 型結(jié)構(gòu)。參考圖7，光盤D被加載到評估設(shè)備1中，并被置于轉(zhuǎn)盤(未示出)上，且示例性地 以恒定的線速度(CLV)被主軸馬達(dá)(SPM) 2旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動。從被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的光盤D中，通過光學(xué)拾取器(optical pickup，OP) 3讀取信號。盡 管未示出，光學(xué)拾取器3包括激光二極管、光電檢測器、物鏡和光學(xué)系統(tǒng)。激光二極管作為 激光束的源工作。光電檢測器檢測來自盤的反射光。物鏡用作從其照射激光束的邊緣。光 學(xué)系統(tǒng)使激光束經(jīng)由物鏡而被發(fā)射到盤的記錄表面，并將反射的光從盤的記錄表面導(dǎo)向光 電檢測器。同樣在光學(xué)拾取器3中，通過可在跟蹤方向和聚焦方向上移動的雙軸機(jī)構(gòu)保持物 鏡。通過可在光盤D的徑向方向上移動的滑動機(jī)構(gòu)進(jìn)一步保持物鏡。
通過光電檢測器檢測來自光盤D的反射光的信息。將檢測的信息轉(zhuǎn)換成表示接收 的光的量的電信號。將電信號從光學(xué)拾取器3發(fā)送到圖7所示的矩陣電路4。矩陣電路4包括用于處理來自構(gòu)成光電檢測器的多個光接收元件的輸出電流的 電流電壓轉(zhuǎn)換電路和矩陣運(yùn)算/放大電路。示例性地，矩陣電路4生成與源自記錄在光盤 D上的信號的再現(xiàn)信號相當(dāng)?shù)纳漕l信號(RF)、以及用于伺服控制(servo control)的目的 的聚焦誤差信號和跟蹤誤差信號。聚焦誤差信號和跟蹤誤差信號被饋送到未示出的伺服電路(servo circuit)。伺 服電路在保持如此提供的誤差信號的同時控制光學(xué)拾取器3中操作的雙軸機(jī)構(gòu)，從而實(shí)現(xiàn) 了諸如聚焦伺服控制和跟蹤伺服控制的各種伺服控制。通過第一低通濾波器(LPF)5由模數(shù)轉(zhuǎn)換器(A/D converter) 6對從矩陣電路4輸 出的再現(xiàn)信號RF進(jìn)行數(shù)字采樣。采樣的信號被饋送到高通濾波器(HPF) 7以進(jìn)行低切濾波 (low-cut filtering)。高通濾波器7進(jìn)行的低切濾波處理進(jìn)行調(diào)整，使得再現(xiàn)信號RF中 的凹坑和凸區(qū)之間的邊界水平基本上變?yōu)榱?。通過高通濾波器7的再現(xiàn)信號RF被提供給均衡器(EQ) 8。該均衡器8用于符號間 干擾消除。因而均衡器8作為所謂的傳統(tǒng)EQ而眾所周知。在進(jìn)行了通過均衡器8的均衡化處理以進(jìn)行符號間干擾消除之后，將再現(xiàn)信號RF 發(fā)送到短凹坑集中校正塊9以進(jìn)行波形均衡化處理，從而集中地衰減短凹坑分量的水平。 通過波形均衡化處理之后，通過數(shù)模轉(zhuǎn)換器(D/A converter) 10將再現(xiàn)信號RF轉(zhuǎn)換成模擬 信號。通過第二低通濾波器11將模擬形式的再現(xiàn)信號RF發(fā)送到抖動測量塊12。抖動測量塊12基于通過第二低通濾波器11輸入的再現(xiàn)信號RF測量(即，計(jì)算) 針對上升沿LE的抖動值(LE抖動)和針對下降沿TE的抖動值(TE抖動)。在圖7中，將短凹坑集中校正塊9示出為包括第一濾波器9A、第二濾波器9B、選擇 器9C和邊界檢測塊9D，如圖所示。從均衡器8輸出的再現(xiàn)信號RF被輸入到如圖所示的第 一濾波器9A和第二濾波器9B中。第一濾波器9A對應(yīng)于上述第一濾波器。在該設(shè)置中，第一濾波器9A是利用以上表 達(dá)式1的5抽頭FIR濾波器。如參考圖6以上所述地對第一濾波器9A預(yù)先建立系數(shù)“r”。 以集中地衰減再現(xiàn)信號RF中的短波長分量的水平的方式，執(zhí)行波形均衡化。第二濾波器9B對應(yīng)于上述第二濾波器。在該設(shè)置中，第二濾波器9B是如同第一 濾波器9A的5抽頭FIR濾波器。如上所述，利用該實(shí)施例，凸區(qū)側(cè)的水平保持不變。因而 將要對第二濾波器9B設(shè)置的系數(shù)“r”確定為“0”。如果也期望對凸區(qū)側(cè)實(shí)施波形均衡化， 可將系數(shù)“r”確定為非“0”，只要利用第二濾波器9B的水平衰減效果保持小于利用第一濾 波器9A的水平衰減效果即可。將通過第一濾波器9A和第二濾波器9B的再現(xiàn)信號RF饋送到選擇器9C。在這種 情況下，還將通過第一濾波器9A的再現(xiàn)信號RF分支到邊界檢測信號9D。給定來自第一濾波器9A的再現(xiàn)信號RF，則邊界檢測塊9D檢測再現(xiàn)信號RF中的凹 坑和凸區(qū)之間的邊界位置。更具體地，通過檢測如下點(diǎn)來確定該邊界位置在該點(diǎn)處，當(dāng)如 上所述地通過高通濾波器7將邊界水平調(diào)整到“0”時，來自第一濾波器9A的再現(xiàn)信號RF 的值的極性被改變。選擇器9C基于邊界檢測塊9D的邊界檢測結(jié)果而輸出來自第一濾波器9A的輸出或來自第二濾波器9B的輸出。更具體地，給定作為邊界檢測塊9D的邊界檢測的結(jié)果而檢 測到從凸區(qū)過渡到凹坑的邊界位置這一指示，則選擇器9C將其輸出切換到通過了第一濾 波器9A的再現(xiàn)信號RF。如果給定作為邊界檢測塊9D的邊界檢測的結(jié)果而檢測到從凹坑過 渡到凸區(qū)的邊界位置這一指示，則選擇器9C將其輸出切換到通過了第二濾波器9B的再現(xiàn) 信號RF。如上所述地構(gòu)造短凹坑集中校正塊9。該結(jié)構(gòu)集中地校正(即，在這種情況下為衰 減)再現(xiàn)信號RF中的短凹坑的水平。2-3.校正的效果圖8A和8B是展示通過本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行的校正而獲取的效果的圖示。圖8A示 出了在沒有校正的情況下通過基準(zhǔn)設(shè)備取得的測量值與通過其它測量設(shè)備取得的測量值 之間的典型相關(guān)性，在此呈現(xiàn)用于比較目的(即，沒有執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的校正)。圖8B示出 了通過基準(zhǔn)設(shè)備取得的測量值與通過其它測量設(shè)備取得的測量值之間的典型相關(guān)性，其中 執(zhí)行了集中校正(實(shí)施了本發(fā)明)。圖8A和8B均示出了通過基準(zhǔn)設(shè)備和其它測量設(shè)備對多個光盤D取得的上升沿LE 的抖動值之間的相關(guān)性，以及通過基準(zhǔn)設(shè)備和其它測量設(shè)備對多個光盤D取得的下降沿TE 的抖動值之間的相關(guān)性。在這些圖中，縱軸表示基準(zhǔn)設(shè)備進(jìn)行的測量，且橫軸表示其它測量 設(shè)備進(jìn)行的測量。針對每個光盤D，在附圖中使用菱形標(biāo)記繪制通過基準(zhǔn)設(shè)備和其它測量設(shè) 備取得的上升沿LE的測量值，且使用矩形標(biāo)記繪制通過基準(zhǔn)設(shè)備和其它測量設(shè)備取得的 下降沿TE的測量值。在圖8A和8B中，繪制的點(diǎn)距示出的Y = X線越近，則基準(zhǔn)設(shè)備和其它測量設(shè)備之 間的相關(guān)性越高(即，基準(zhǔn)設(shè)備和其它測量設(shè)備之間的測量值差越小)。對圖8A和圖8B的比較揭示了 在沒有校正的圖8A的情況下，下降沿TE的測量 值之間存在相對大的差；而在執(zhí)行集中校正的圖8B的情況下，示出了較大地校正了測量值 差，具體地，下降沿TE的抖動測量值之間的差實(shí)際上被消除。根據(jù)計(jì)算，在沒有校正的情況下針對上升沿LE的抖動值的標(biāo)準(zhǔn)偏差值LEo是 0.13，同樣在沒有校正的情況下針對下降沿TE的抖動值的標(biāo)準(zhǔn)偏差值TE ο是0.30。與之 對照，在執(zhí)行集中校正的情況下，LE ο是0.12且TEo是0.11。這是上升沿LE和下降沿TE 二者的測量值的顯著改善。2-4.實(shí)施例的概要如從以上說明可理解地，以如此方式通過本發(fā)明實(shí)施例執(zhí)行波形均衡化，使得來 自基準(zhǔn)設(shè)備的再現(xiàn)信號中的短凹坑的水平(長度)變得等同于來自其它測量設(shè)備的再現(xiàn)信 號中的短凹坑的水平。這解決了源自測量設(shè)備與光盤D的組合的測量值差，從而適當(dāng)?shù)貓?zhí) 行質(zhì)量評估。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，通過校正再現(xiàn)信號的水平消除了測量值差。因而與將校正系 數(shù)添加到取得的測量值的一般技術(shù)相比，本發(fā)明技術(shù)對實(shí)際上引起測量值差的原因提供了 關(guān)鍵解決方案。結(jié)果，本發(fā)明的技術(shù)比以前更有效地解決了測量值差。不需說，實(shí)施本發(fā)明的技術(shù)預(yù)先假定在所涉及的測量設(shè)備之間存在光學(xué)特性的變 化。這意味著不需要選擇用于測量設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)。上述本發(fā)明的主要特征使得有可能通過解決測量設(shè)備之間的測量值差來實(shí)現(xiàn)適當(dāng)?shù)馁|(zhì)量評估，而不需要通過選擇用于測量設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)或通過執(zhí)行復(fù)雜的算術(shù)運(yùn)算來 校正測量。3.變型盡管以上說明包含許多規(guī)定，這些不應(yīng)被理解為限定本發(fā)明的范圍，而僅是提供 本發(fā)明一些優(yōu)選實(shí)施例的示例。例如，盡管迄今沒有提及，但是通過基準(zhǔn)設(shè)備取得的測量值 與通過其它測量設(shè)備取得的測量值之間的差可根據(jù)例如具有多個記錄層的多層光盤D的 記錄層而變化。基準(zhǔn)設(shè)備和其它測量設(shè)備之間的測量值差實(shí)際上還可根據(jù)再現(xiàn)速度(讀取 速度X1，X2，X4，X8等)而變化?？紤]到這些方面，可針對例如不同的記錄層或不同的讀取速度的每個不同測量情 況而預(yù)先確定針對每個測量設(shè)備設(shè)置的系數(shù)“r”。實(shí)際上可根據(jù)測量情況而選擇性地建立 系數(shù)“r”的每個該值。圖9是作為本發(fā)明變型的評估設(shè)備的典型結(jié)構(gòu)的說明性框圖。該設(shè)備被布置成根 據(jù)諸如不同的記錄層或不同的讀取速度之類的所設(shè)想的每個不同測量情況而選擇性地設(shè) 置系數(shù)“r”的值。作為本發(fā)明的變型的圖9所示的評估設(shè)備的內(nèi)部結(jié)構(gòu)主要由與短凹坑的集中校 正相關(guān)的組件構(gòu)成；該設(shè)備的其它組件與圖7所示的相似因而未被示出。在圖9的組成部 件中，由相同附圖標(biāo)記指示圖7所示的部件，且在重復(fù)時省略其說明。如從圖9可見地，該評估設(shè)備包括短凹坑集中校正塊15，代替圖7中的評估設(shè)備1 保持的短凹坑集中校正塊9。除了圖7所示的第一濾波器9A、第二濾波器9B、選擇器9C和 邊界檢測塊9D之外，短凹坑集中校正塊15還包含系數(shù)設(shè)置塊9E和系數(shù)儲存存儲器9F。系數(shù)儲存存儲器9F存儲針對各種測量條件如不同記錄層或不同記錄速度的每個 而預(yù)先確定的系數(shù)“r”的值。系數(shù)設(shè)置塊9E從保持在系數(shù)儲存存儲器9F中的多個系數(shù)值 “r”中選擇與來自圖9所示的控制器16的指令相對應(yīng)的系數(shù)“r”。系數(shù)設(shè)置塊9E接著對 第一濾波器9A設(shè)置所選擇的系數(shù)值“r”?？刂破?6是整體上控制評估設(shè)備的示例性微計(jì)算機(jī)。根據(jù)預(yù)定的測量條件如從 其再現(xiàn)信號的具體記錄層或?qū)嶋H的讀取速度，控制器16向系數(shù)設(shè)置塊9E指示從系數(shù)儲存 存儲器9F中保持的系數(shù)值“r”中選擇哪個系數(shù)值“r”。作為實(shí)施例的變型的上述評估設(shè)備提供了如下優(yōu)點(diǎn)即使在通過基準(zhǔn)設(shè)備取得的 測量值和通過其它測量設(shè)備取得的測量值之間的差根據(jù)諸如不同記錄層或不同讀取速度 之類的不同測量條件而變化時，也適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行質(zhì)量評估。圖9示出了其中在保持測量條件有效的情況下僅用于第一濾波器9A的系數(shù)“r” 被改變的結(jié)構(gòu)。替代性地，評估設(shè)備可被構(gòu)造成使得根據(jù)實(shí)際測量條件而也改變用于第二 濾波器9B的系數(shù)“r”。在以上說明中，示出了對來自凹坑側(cè)的信號選擇性地進(jìn)行波形均衡化，第一濾波 器9A和第二濾波器9B被設(shè)置成根據(jù)邊界檢測的結(jié)果而選擇它們輸出中的一個。替代性地， 在不像上面討論的實(shí)施例中那樣對來自凸區(qū)側(cè)的信號進(jìn)行波形均衡化的情況下，可省略第 二濾波器9B，且可將被輸入到第一濾波器9A中的再現(xiàn)信號RF( S卩，在圖7和圖9的情況下 來自均衡器8的輸出信號)分支到選擇器9C中。該設(shè)置允許僅對來自凹坑側(cè)的信號進(jìn)行 選擇性的波形均衡化。
在這種情況下，在不通過第一濾波器9A的情況下被輸入到選擇器9C中的再現(xiàn)信 號RF (即，被從均衡器8直接輸入到選擇器9C中的再現(xiàn)信號RF)明顯需要延遲第一濾波器 9A的均衡化處理所需的時間量。該設(shè)置旨在提供與選擇器9C的輸出的時間一致性。確定系數(shù)“r”的技術(shù)不限于以上所述。盡管以上解釋了選擇一個盤來代表組A和 組B中的每個，但是還有可能選擇代表每個組的多個盤。針對代表每個組的每組盤，可以以 如此方式獲得系數(shù)“r”，使得該盤中的基準(zhǔn)設(shè)備相對于目標(biāo)測量設(shè)備的抖動比率彼此一致。 然后可對這些系數(shù)值“r”取平均，以確定要建立的系數(shù)“r”。替代性地，可采用許多其它技 術(shù)來確定系數(shù)“r”。與系數(shù)“r”的確定相關(guān)聯(lián)地，應(yīng)注意對于以上實(shí)施例，將通過其短凹坑被測量得明 顯最短的測量設(shè)備選擇作為基準(zhǔn)設(shè)備。因而以均衡化特性設(shè)置其它測量設(shè)備，以衰減短凹 坑的水平(即，對這些設(shè)備建立負(fù)系數(shù)值“r”)。替代性地，可將通過其短凹坑被測量得明 顯最長或正好處于中間的測量設(shè)備選擇作為基準(zhǔn)設(shè)備。然后可在保持所選擇的基準(zhǔn)設(shè)備的 特性的情況下適當(dāng)?shù)卮_定并建立系數(shù)值“r” (包括其符號)。濾波器功能不限于以上表達(dá)式1中所示。可根據(jù)需要對要實(shí)施的實(shí)際實(shí)施例另外 地建立適當(dāng)?shù)臑V波器函數(shù)。在以上說明中，短凹坑集中校正塊(對凹坑側(cè)的短波長分量選擇性地進(jìn)行集中波 形均衡化的塊)被示出為位于均衡器8的緊接著的下游以用于符號間干擾消除。替代性地， 短凹坑集中校正塊可位于任何位置，只要其在對再現(xiàn)信號RF的模數(shù)轉(zhuǎn)換的下游即可。仍然優(yōu)選地通過短凹坑水平被最大化之處的位置來輸入再現(xiàn)信號?？紤]到該方 面，短凹坑集中校正塊可至少位于均衡器8的下游以用于符號間干擾消除。在以上說明中，示出了基于進(jìn)行了第一濾波器執(zhí)行的波形均衡化的再現(xiàn)信號RF 來進(jìn)行邊界檢測，該波形均衡化集中地改變了短波長分量的水平。替代性地，可基于進(jìn)行該 集中波形均衡化的再現(xiàn)信號RF來進(jìn)行邊界檢測。在這種情況下，需要使輸入到邊界檢測塊 中的再現(xiàn)信號RF延遲波形均衡化處理所需的時間量。如果在延遲至邊界檢測塊的輸入信號的同時需要基于對短波長分量的集中波形 均衡化之前的再現(xiàn)信號RF而進(jìn)行邊界檢測，則第一濾波器應(yīng)優(yōu)選地是有限脈沖響應(yīng)(FIR) 濾波器。如果使用無限脈沖響應(yīng)(IIR)濾波器作為第一濾波器，則在保持輸入信號的頻率 時需要改變延遲時間，這是因?yàn)榫饣幚硭璧臅r間隨輸入信號(即，再現(xiàn)信號)的頻率 而改變。只要使用對稱FIR濾波器(固定延遲型)，就不需要改變延遲時間，因此可相應(yīng)地 簡化設(shè)備的結(jié)構(gòu)。在以上說明中，在再現(xiàn)信號RF的凹坑-凸區(qū)邊界水平被調(diào)整到零的情況下，顯示 出在檢測到再現(xiàn)信號RF的極性變化的點(diǎn)時執(zhí)行邊界檢測。替代性地，可從對再現(xiàn)信號RF 檢測的峰值水平和谷值水平獲得中點(diǎn)水平，且中點(diǎn)水平可用作邊界檢測的閾值。作為另一 替代，即使在邊界水平被調(diào)整到零之后，也可使用最短波長的峰值和谷值之間的中點(diǎn)水平 作為其閾值來進(jìn)行邊界檢測，從而改善了邊界檢測的精確性。本申請包含與2009年10月27日提交日本專利局的日本優(yōu)先權(quán)專利申請JP 2009-246555中的公開相關(guān)的主題內(nèi)容，其全部內(nèi)容通過引用包括在此。因此顯然對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說在借鑒了以上說明的情況下許多替代、變型和 變化是明顯的。本發(fā)明旨在包含所有這些落入權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)的替代、變型和變化。
權(quán)利要求
1.一種評估設(shè)備，包括信號讀取塊，被配置用于通過對光學(xué)記錄介質(zhì)的光照射而從所述光學(xué)記錄介質(zhì)讀取記 錄的信號，所述信號通過在所述介質(zhì)上形成凹坑而被記錄；第一波形均衡化塊，被配置用于輸入通過讀取所述記錄的信號的所述信號讀取塊而獲 得的再現(xiàn)信號，從而使用均衡化特性對所述再現(xiàn)信號進(jìn)行波形均衡化處理，其中所述均衡 化特性集中地改變所述再現(xiàn)信號的短波長分量的信號電平；邊界檢測塊，被配置用于從所述再現(xiàn)信號中檢測凹坑的波形與凸區(qū)的波形之間的邊界；選擇性輸出塊，被配置用于基于所述邊界檢測塊進(jìn)行的邊界檢測的結(jié)果而選擇性地輸 出兩個信號中的一個信號，所述兩個信號中的一個信號是經(jīng)歷了所述第一波形均衡化塊進(jìn) 行的所述波形均衡化處理的所述再現(xiàn)信號，另一信號是沒有經(jīng)歷所述第一波形均衡化塊的 所述波形均衡化處理的所述再現(xiàn)信號；以及評估值生成塊，被配置用于基于所述選擇性輸出塊輸出的所述再現(xiàn)信號而生成表示信 號邊緣位置的分布的評估值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評估設(shè)備，還包括第二波形均衡化塊，被配置用于輸入通過讀取所述記錄的信號的所述信號讀取塊獲取 的所述再現(xiàn)信號，從而對所述再現(xiàn)信號進(jìn)行波形均衡化處理；其中由所述第二波形均衡化塊處理的所述再現(xiàn)信號作為沒有經(jīng)歷所述第一波形均衡 化塊進(jìn)行的波形均衡化處理的所述再現(xiàn)信號而被輸入到所述選擇性輸出塊中。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的評估塊，其中所述第二波形均衡化塊使用均衡化特性進(jìn)行所 述波形均衡化處理，其中所述第二波形均衡化塊使用的所述均衡化特性被建立用于使信號 電平變化小于所述第一波形均衡化塊的信號電平變化或用于保持所述信號電平不變。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評估設(shè)備，其中輸入到所述第一波形均衡化塊中的所述再現(xiàn) 信號作為沒有經(jīng)歷所述第一波形均衡化塊進(jìn)行的波形均衡化處理的所述再現(xiàn)信號而被分 支且被輸入到所述選擇性輸出塊中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評估設(shè)備，其中所述邊界檢測塊基于來自所述第一波形均衡 化塊的輸出信號而檢測所述邊界。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評估設(shè)備，其中所述邊界檢測塊基于要被輸入到所述第一波 形均衡化塊中的所述再現(xiàn)信號而檢測所述邊界。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評估設(shè)備，其中所述第一波形均衡化塊和所述第二波形均衡 化塊均由有限脈沖響應(yīng)濾波器構(gòu)成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評估設(shè)備，其中所述評估值生成塊分別生成兩個評估值，一 個所述評估值代表從所述凸區(qū)過渡到所述凹坑的邊緣位置的分布，另一評估值表示從所述 凹坑過渡到所述凸區(qū)的邊緣位置的分布。
9.一種評估方法，包括以下步驟通過對光學(xué)記錄介質(zhì)的光照射而從所述光學(xué)記錄介質(zhì)讀取記錄的信號，其中所述信號 通過在所述介質(zhì)上形成凹坑而被記錄；輸入在讀取所述記錄的信號的所述讀取步驟中獲得的再現(xiàn)信號，從而使用均衡化特性 對所述再現(xiàn)信號進(jìn)行波形均衡化處理，其中所述均衡化特性集中地改變所述再現(xiàn)信號的短波長分量的信號電平；基于檢測來自所述再現(xiàn)信號的凹坑的波形與凸區(qū)的波形之間的邊界的結(jié)果而選擇性 地輸出兩個信號中的一個，所述兩個信號中的一個是經(jīng)歷了所述波形均衡化處理的所述再 現(xiàn)信號，另一信號是沒有經(jīng)歷所述第一波形均衡化處理的所述再現(xiàn)信號；以及基于所述選擇性輸出步驟中輸出的所述再現(xiàn)信號，生成表示信號邊緣位置的分布的評 估值。
10. 一種評估設(shè)備，包括信號讀取裝置，用于通過對光學(xué)記錄介質(zhì)的光照射而從所述光學(xué)記錄介質(zhì)讀取記錄的 信號，所述信號通過在所述介質(zhì)上形成凹坑而被記錄；第一波形均衡化裝置，用于輸入通過讀取所述記錄的信號的所述信號讀取裝置而獲得 的再現(xiàn)信號，從而使用均衡化特性對所述再現(xiàn)信號進(jìn)行波形均衡化處理，其中所述均衡化 特性集中地改變所述再現(xiàn)信號的短波長分量的信號電平；邊界檢測裝置，用于從所述再現(xiàn)信號中檢測凹坑的波形與凸區(qū)的波形之間的邊界； 選擇性輸出裝置，用于基于所述邊界檢測裝置進(jìn)行的邊界檢測的結(jié)果而選擇性地輸出 兩個信號中的一個，所述兩個信號中的一個是經(jīng)歷了所述第一波形均衡化裝置進(jìn)行的所述 波形均衡化處理的所述再現(xiàn)信號，另一信號是沒有經(jīng)歷所述第一波形均衡化裝置的所述波 形均衡化處理的所述再現(xiàn)信號；以及評估值生成裝置，用于基于所述選擇性輸出裝置輸出的所述再現(xiàn)信號而生成表示信號 邊緣位置的分布的評估值。
全文摘要
公開了評估設(shè)備和評估方法。該評估設(shè)備包括信號讀取塊；第一波形均衡化塊；邊界檢測塊；選擇性輸出塊；以及評估值生成塊。
文檔編號G11B7/00GK102074247SQ20101053828
公開日2011年5月25日 申請日期2010年10月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月27日
發(fā)明者谷澤成司 申請人:索尼公司, 索尼碟片數(shù)位解決方案股份有限公司