專利名稱：近場光盤機(jī)的傾斜控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種近場光盤機(jī)的傾斜控制方法。
背景技術(shù)：
在目前具有一定規(guī)格大小的盤片中，為了提升盤片的儲(chǔ)存容量，除了發(fā)展可擦寫 多層的盤片外，還可通過縮小讀寫的聚焦光點(diǎn)尺寸以提高單位面積的儲(chǔ)存量，進(jìn)而提升盤 片的總儲(chǔ)存容量。聚焦光點(diǎn)的尺寸大小一般決定于所使用的激光的波長大小以及所使用的 光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑值(NA，numerical aperture)的大小。其中，使用短波長的光源及高 數(shù)值孔徑的光學(xué)系統(tǒng)可產(chǎn)生較小的聚焦光點(diǎn)尺寸。在近年來提升盤片的儲(chǔ)存容量的發(fā)展中，激光的波長已逐漸縮短，其由紅外線 (CD)改成紅光(DVD)，然后再到藍(lán)光。由于激光的波長已經(jīng)縮短至藍(lán)光，因而為了進(jìn)一步提 升盤片的儲(chǔ)存容量，近年已有相關(guān)研究轉(zhuǎn)往使用近場光學(xué)系統(tǒng)來讀寫盤片，通過提高NA值 以產(chǎn)生更小的聚焦光點(diǎn)尺寸。為實(shí)現(xiàn)高NA值，近場光學(xué)系統(tǒng)一般使用物鏡(凸透鏡)與固 態(tài)浸沒透鏡(solid immersion lens, SIL)的組合來產(chǎn)生聚焦光點(diǎn)。在使用近場光學(xué)系統(tǒng) 讀寫盤片時(shí)，若搭配使用藍(lán)光激光，其SIL與盤片表面間的間距非常小，其約為30-100nm， 此區(qū)域稱為一近場區(qū)。由于聚焦光束與盤片數(shù)據(jù)層之間的垂直度會(huì)影響光盤機(jī)讀寫數(shù)據(jù)的能力及準(zhǔn)確 性，因此光盤機(jī)在讀/寫盤片時(shí)，一般會(huì)對(duì)光學(xué)系統(tǒng)(光學(xué)頭)進(jìn)行傾斜調(diào)整控制，使聚焦 光束與盤片數(shù)據(jù)層垂直。然而，如上所述，由于使用近場光學(xué)系統(tǒng)來讀寫盤片時(shí)，SIL與盤 片表面相當(dāng)接近，因此如何在對(duì)SIL進(jìn)行傾斜調(diào)整控制時(shí)避免其與盤片發(fā)生碰撞是本領(lǐng)域 技術(shù)人員重要的課題之一。然而，如果在進(jìn)入近場區(qū)前，光學(xué)頭中的SIL與盤片間的傾斜角過大，則對(duì)于SIL 與盤片的距離容易產(chǎn)生誤判，使得在微小的間距下(30-100nm)，調(diào)整光學(xué)頭的傾角時(shí)會(huì)使 SIL與盤片產(chǎn)生碰撞，因而破壞了近場光盤機(jī)的準(zhǔn)確性。此外，在現(xiàn)有近場光盤機(jī)中，當(dāng)光學(xué) 頭仍處于一遠(yuǎn)場區(qū)(相較于近場區(qū)，在遠(yuǎn)場區(qū)時(shí)，SIL與盤片表面間的間距比較大)時(shí)，幾 乎無法得知SIL的位置，故而，也無法在光學(xué)頭(或SIL)仍處于遠(yuǎn)場區(qū)時(shí)就對(duì)其進(jìn)行傾斜 控制。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是有關(guān)于一種近場光盤機(jī)的傾斜控制方法，當(dāng)SIL仍位于在遠(yuǎn)場區(qū)時(shí)，盡 早控制SIL的傾斜角，以避免SIL與盤片碰撞。本發(fā)明是有關(guān)于一種近場光盤機(jī)的傾斜控制方法，其揭示如何判斷何時(shí)要開始進(jìn) 行SIL的傾斜微調(diào)，以使得SIL進(jìn)入近場區(qū)時(shí)，能符合傾斜限度(tilt margin)。本發(fā)明的一實(shí)施例提出一種近場光盤機(jī)的傾斜控制方法，包括預(yù)估一透鏡與一 盤片間的一間距；根據(jù)一傾斜信號(hào)，預(yù)估該透鏡的一傾斜補(bǔ)償，其中，該透鏡仍于一遠(yuǎn)場區(qū) 內(nèi)；以及在該透鏡位于該遠(yuǎn)場區(qū)時(shí)，根據(jù)該傾斜補(bǔ)償，對(duì)該透鏡進(jìn)行一傾斜粗調(diào)控制。
3為使本發(fā)明的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并結(jié)合附圖作詳細(xì)說明


圖IA顯示SIL與盤片的關(guān)系圖。圖IB顯示傾斜限度與間距D的關(guān)系，間距D是SIL與盤片表面的間距。圖IC顯示透鏡與SIL的組合。圖2A顯示其中一組光檢測電路的示意圖。圖2B顯示間距誤差信號(hào)(Gap error signal, GES)與間距D的關(guān)系。圖3顯示另一組光檢測電路的示意圖。圖4顯示反射光強(qiáng)度F與間距D的關(guān)系。圖5A與圖5B顯示盤片反射光穿透SIL的低NA區(qū)而投射至PDIC的模擬圖。圖5C顯示傾斜信號(hào)(TS)與SIL的傾斜角(TA)的關(guān)系圖。圖6顯示根據(jù)本實(shí)施例的操作流程圖。附圖符號(hào)說明10 =SIL15 盤片18 透鏡SS =SIL的頂端大小D =SIL與盤片表面的間距Al D1、A2 D2 相位40 光點(diǎn)610 640 步驟
具體實(shí)施例方式在近場光盤機(jī)中，當(dāng)光學(xué)頭處于近場區(qū)時(shí)，光學(xué)頭的SIL與盤片表面的間距可能 只有30-100nm，使得光學(xué)頭的傾角控制范圍不能太大。然而，于傳統(tǒng)上，當(dāng)光學(xué)頭仍處于遠(yuǎn) 場區(qū)時(shí)，幾乎無法得知SIL的位置，因此，也無法在光學(xué)頭(或SIL)仍處于遠(yuǎn)場區(qū)時(shí)就對(duì)其 進(jìn)行傾斜控制。在近場光盤機(jī)中，傾斜限度(ti 11 margin)包括旋轉(zhuǎn)軸傾斜限度(spindle tiltmargin)、SIL傾斜限度(SIL tilt margin)與盤片彎曲角度限度(disc bendingangle margin)等。通常，傾斜限度與SIL的機(jī)構(gòu)構(gòu)造有關(guān)，如SIL的形狀及其頂端大小。圖IA顯示SIL與盤片的關(guān)系圖，而圖IB則顯示傾斜限度與間距的關(guān)系，在此，間 距是定義為SIL與盤片表面的距離。在圖IA中，SS代表SILlO的頂端大小(tip size)，而D則是SILlO與盤片15表 面的間距。通常，SILlO的頂端大小SS約為40 μ m。如圖IB所示，當(dāng)間距D約為IOOnm時(shí)， 如果SILlO的頂端大小約為40 μ m,則傾斜限度為5mrad (約0. 275度)。這代表在此情況 下，SIL的傾斜角(SIL的頂端與盤片表面的角度)不可超過5mrad，如果超過此限度，則SIL 的邊緣可能會(huì)撞到盤片。因此，于本實(shí)施例中，當(dāng)SIL仍位于遠(yuǎn)場區(qū)時(shí)，就開始控制SIL的傾斜角度，使得當(dāng)SIL靠近近場區(qū)時(shí)，SIL所需再調(diào)整的傾斜角度不會(huì)太大，避免僅在近場 區(qū)調(diào)整SIL的傾斜角度時(shí)會(huì)超出傾斜限度之外。接著請參考圖1C，圖IC顯示近場光學(xué)系統(tǒng)中透鏡18與固態(tài)浸沒透鏡(SIL) 10組 合的示意圖。如圖所示，透鏡18會(huì)收斂平行光，并使其產(chǎn)生不同入射角度的光束入射于 SILlO0根據(jù)NA = nSIL*sin θ的公式(其中nSIL為SIL的折射率，θ為光束的入射角)，入 射于SILlO的不同角度的光束會(huì)具有不同的NA值。當(dāng)NA值為1時(shí)的入射角度即為全反射 角Θ。。以NA值為1作分界，若入射至SILlO的光束的NA值小于1，亦即，光束的入射角小 于全反射角Θ。，則光束會(huì)穿透SIL10。另一方面，若入射至SILlO的光束的NA值大于1，亦 即，光束的入射角大于或等于全反射角θ。，則光束會(huì)被SILlO全反射。如果要使近場光學(xué)系統(tǒng)形成聚焦光點(diǎn)于盤片15上，SIL 10與盤片15表面間的間 距D必須遠(yuǎn)小于入射光的波長λ，通常，D<= λ/10。在這樣的間距(D<< λ)之下，NA 值小于1的光束雖然會(huì)穿透SILlO聚焦在盤片上，但因?yàn)槠渚劢构恻c(diǎn)的面積過大，所以并 無法用來讀寫盤片上已經(jīng)小于其聚焦光點(diǎn)解析極限尺寸的溝軌及記錄點(diǎn)。相反，NA值大于 1的光束當(dāng)未靠近盤片至近場距離時(shí)雖然會(huì)被SILlO全反射，但若SILlO靠近盤片15表面 至兩者間距D時(shí)，藉由光穿隧(photon tunneling)效應(yīng)的作用，NA值大于1的光束會(huì)穿過 間距D而入射至盤片并聚焦于盤片15上。在近場光盤機(jī)系統(tǒng)中，我們使用NA大于1部分 所聚焦而成的較小聚焦光點(diǎn)進(jìn)行讀寫的工作，至于分別經(jīng)由透鏡18中NA小于1與NA大于 1部分所形成的兩個(gè)聚焦光點(diǎn)，由于其聚焦光點(diǎn)位置不在同一平面上，因此不存在相互干擾 的問題。當(dāng)光線由盤片反射回近場光盤機(jī)時(shí)，由于偏振方向的不同，此反射光會(huì)在近場光 盤機(jī)內(nèi)形成兩條不同的光學(xué)路徑，并分別由兩組光檢測電路(photo detection IC，PDIC) 所接收。在此，光檢測電路比如為四相位感應(yīng)器(Quadrant photodiode)。其中一組光檢 測電路的示意圖如圖2A所示，而另一組光檢測電路的示意圖如圖3所示。以圖2A的光檢 測電路而言，將其四個(gè)相位Al Dl所接收的信號(hào)強(qiáng)度總和定為間距誤差信號(hào)(Gap error signal,GES)；亦即，GES = A1+B1+C1+D1。圖2B顯示間距誤差信號(hào)(GES)與間距D的關(guān)系。 以圖3的光檢測電路而言，將其四個(gè)相位A2 D2所接收的信號(hào)強(qiáng)度總和定為射頻(RF)信 號(hào)；亦即，RF = A2+B2+C2+D2。此外，圖4顯示反射光強(qiáng)度F與間距D的關(guān)系，其中反射光強(qiáng)度為兩組光檢測電路 所接收到的光束強(qiáng)度的總和。在圖4中，當(dāng)SILlO仍位于較遠(yuǎn)的遠(yuǎn)場區(qū)時(shí)，由于間距D大， 光檢測電路無法接收到由盤片反射的光束，其光檢測電路所接收到的光線較弱(可能為背 景光)，因此反射光強(qiáng)度F較小。當(dāng)SILlO由遠(yuǎn)場區(qū)逐漸移動(dòng)至近場區(qū)時(shí)，由于其間距D縮 短，因此光檢測電路可接收到更多從盤片反射回來的光束，故反射光強(qiáng)度F逐漸變大。在本 發(fā)明中，根據(jù)該反射光強(qiáng)度F與間距D的關(guān)系，可以得知SIL的目前位置。例如在圖4中可 看出，當(dāng)SIL與盤片的間距為IOOOnm時(shí)，反射光強(qiáng)度F有明顯的增加，因此當(dāng)反射光強(qiáng)度F 增加到一定值時(shí)，可得知SIL已經(jīng)位于間距D為IOOOnm處。由圖2B與圖4可看出，當(dāng)SIL逐漸接近盤片(也就是間距D愈小時(shí))時(shí)，間距誤 差信號(hào)會(huì)逐漸衰減，但是反射光強(qiáng)度F會(huì)逐漸增加。特別是，如圖2B所示，當(dāng)間距D小于 200nm時(shí)，間距誤差信號(hào)GES會(huì)開始衰減；而如圖4所示，當(dāng)間距D趨近IOOOnm時(shí)，反射光 強(qiáng)度會(huì)逐漸增加。所以，在本實(shí)施例中，當(dāng)檢測到反射光強(qiáng)度F開始增加時(shí)，可以大略知道SIL的位置，也就是說，可經(jīng)由反射光強(qiáng)度F的值來大略估計(jì)間距D值，在反射光強(qiáng)度F還未 開始增加時(shí)，基本上應(yīng)該視為無法知道SIL的位置(也就是說，無法經(jīng)由反射光強(qiáng)度F的值 來估計(jì)間距D值)，因其仍位于間距較大的遠(yuǎn)場區(qū)內(nèi)，且其反射光強(qiáng)度F并未有明顯改變。如上所述，入射至SILlO的低NA區(qū)的光線會(huì)穿過間距D而入射至盤片15，且此光 線會(huì)被盤片15所反射。如果SILlO距離盤片15太遠(yuǎn)的話，則由盤片15所反射的光無法被 SILlO所收集而被光檢測電路所接收。然而，如果SILlO距離盤片15約IOOOnm的話，則由 盤片所反射的光將可穿透SIL的低NA區(qū)并投射至PDIC，因此檢測到一隨反射光強(qiáng)度而變化 的信號(hào)。圖5A與圖5B顯示盤片反射光穿透SIL的低NA區(qū)而投射至PDIC的模擬圖。其 中，為仿真起見，將盤片視為100%反射。圖5A為SIL的傾斜角為+1度的模擬圖，光點(diǎn)40 投射在相位A2上，請注意光點(diǎn)40并非成像光。圖5B為SIL的傾斜角為_1度的模擬圖，光 點(diǎn)40投射在相位C2上，光點(diǎn)40并非成像光。故而，由此可知，如果SIL的傾斜角不同，則 光點(diǎn)40投射在PDIC的位置亦會(huì)改變。在本實(shí)施例中，將PDIC的上方相位m所接收到的光信號(hào)強(qiáng)度減去PDIC的下方 相位(C2)所接收到的光信號(hào)強(qiáng)度稱為傾斜信號(hào)(TS，Tilt Signal)，其中，此光是盤片的反 射光穿透SIL的低NA區(qū)而被PDIC所收集。TS可表示為TS = A2-C2。在正規(guī)化(normalize) 后，TS 可表示為=TS = (A2-C2) / (A2+C2)。圖5C顯示傾斜信號(hào)(TS)與SIL的傾斜角(TA，Tilt Angle)的關(guān)系圖。在SIL的 傾斜角介于+1度 -1度之間的范圍內(nèi)，傾斜信號(hào)(TS)可視為線性，因此，于本實(shí)施例中， 可經(jīng)由傾斜信號(hào)(TS)來估計(jì)SIL的傾斜角(TA)，繼而根據(jù)SIL的傾斜角(TA)來進(jìn)行SIL 的傾斜角度控制。于本實(shí)施例中，可先找出使TS = 0的SIL的傾斜角。因此，對(duì)在不同SIL傾斜角 下的傾斜信號(hào)進(jìn)行取樣，以預(yù)估傾斜信號(hào)(TS)與SIL傾斜角(TA)的關(guān)系。例如，可利用數(shù) 值方法，根據(jù)所取樣出的傾斜信號(hào)來找到使得TS = 0的SIL的傾斜角。找出使TS = 0的 SIL的傾斜角后，可據(jù)以控制SIL的傾斜角度。例如，可控制SIL在徑向(radial)方向及/ 或切向(tangential)方向上的傾斜角度。也就是說，使得TS = 0的SIL的傾斜角可視為 一補(bǔ)償值，以預(yù)先補(bǔ)償并控制SIL的傾斜角度，而且此時(shí)的傾斜控制屬于粗調(diào)，因?yàn)镾IL仍 位于遠(yuǎn)場區(qū)，且離近場區(qū)仍遠(yuǎn)，因此無法進(jìn)行較為準(zhǔn)確的微調(diào)控制。以上找出SIL傾角與傾斜信號(hào)的方法可在近場光盤機(jī)一初始化的過程中執(zhí)行，且 在本實(shí)施例中，當(dāng)找出傾斜信號(hào)(TS)與SIL的傾斜角(TA)的關(guān)系時(shí)，可將該關(guān)系儲(chǔ)存至 一存儲(chǔ)器中，之后要重新移動(dòng)光學(xué)頭時(shí)，可根據(jù)該儲(chǔ)存的關(guān)系調(diào)整SIL傾角，以節(jié)省操作時(shí) 間?；蛘?，可在近場光盤機(jī)制造時(shí)，制造商即針對(duì)不同的SIL找出其傾斜信號(hào)與傾角的關(guān) 系，并儲(chǔ)存至存儲(chǔ)器中，以節(jié)省近場光盤機(jī)初始化的時(shí)間。此外，于本實(shí)施例中，在SIL靠近近場區(qū)但尚未進(jìn)入近場區(qū)前，即可開始對(duì)SIL 進(jìn)行傾斜控制的微調(diào)，等到進(jìn)入近場區(qū)時(shí)，再做微調(diào)時(shí)的微調(diào)幅度就不會(huì)太大。請?jiān)俅?參考圖2B，在本實(shí)施例中，當(dāng)間距誤差信號(hào)GES由在遠(yuǎn)場區(qū)的值衰減到一范圍值(比如 80%-95%)時(shí)，則可視為SIL已十分靠近近場區(qū)但仍尚未進(jìn)入近場區(qū)。一般來說，近場區(qū) 約為30-100nm之間，當(dāng)間距誤差信號(hào)GES衰減到其在遠(yuǎn)場區(qū)的一范圍值，比如80% -95% 時(shí)，SIL與盤片的間距可能約為100 200nm之間，于本實(shí)施例中，即可開始對(duì)SIL進(jìn)行傾斜角度的微調(diào)控制，如同SIL已進(jìn)入近場區(qū)一般。至于如何進(jìn)行SIL的傾斜微調(diào)控制，在此 可不特別限定。此外，當(dāng)SIL已經(jīng)進(jìn)入近場區(qū)時(shí)(其間距誤差信號(hào)GES由在遠(yuǎn)場區(qū)的值衰 減到一范圍值30% -80% )，可再做傾斜微調(diào)，使聚焦光束與盤片數(shù)據(jù)層的垂直度更佳。因 此，在本發(fā)明中，SIL在間距誤差信號(hào)GES由在遠(yuǎn)場區(qū)的值衰減到范圍值30% -90%時(shí)皆可 做微調(diào)控制，因此增加了 SIL可做微調(diào)的范圍，還能使聚焦光束與盤片數(shù)據(jù)層互相垂直，以 達(dá)到更好的讀寫效果。請參考圖6，其顯示根據(jù)本實(shí)施例的操作流程圖。如圖6所示，于步驟610中，預(yù)估 SIL的高度(亦即，預(yù)估SIL與盤片的間距)。如上述，當(dāng)反射光強(qiáng)度F開始增加或增加至 某一預(yù)定值時(shí)，可以視為已大略知道SIL的位置，也就是說，可經(jīng)由反射光強(qiáng)度F的值來大 略估計(jì)間距D值。于步驟620中，找出傾斜信號(hào)與SIL傾斜的關(guān)系，以找出對(duì)SIL的傾斜補(bǔ)償。如上 述，找出令TS = 0的SIL傾斜角度，以此來補(bǔ)償SIL的傾斜。于步驟630中，在SIL仍位于遠(yuǎn)場區(qū)時(shí)，根據(jù)傾斜補(bǔ)償，對(duì)SIL傾斜進(jìn)行粗調(diào)控制。 于本實(shí)施例中，步驟620可執(zhí)行單次，以靜態(tài)方式來進(jìn)行SIL位于遠(yuǎn)場區(qū)的傾斜粗調(diào)控制； 或是步驟620與630可執(zhí)行多次，以動(dòng)態(tài)(回授)方式來進(jìn)行SIL位于遠(yuǎn)場區(qū)的傾斜粗調(diào) 控制。于步驟640中，根據(jù)間距誤差信號(hào)(GES)的衰減，決定何時(shí)開始對(duì)SIL傾斜進(jìn)行微 調(diào)控制。如上所述，當(dāng)間距誤差信號(hào)(GES)衰減到達(dá)某一范圍值時(shí)，會(huì)視為SIL已十分靠近 近場區(qū)，故而，此時(shí)會(huì)開始對(duì)SIL傾斜進(jìn)行微調(diào)控制。之后，等SIL已經(jīng)進(jìn)入近場區(qū)時(shí)，可對(duì) SIL做更進(jìn)一步的微調(diào)控制。綜上所述，雖然本發(fā)明已以實(shí)施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明。本領(lǐng)域的 技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下可作各種的更動(dòng)與潤飾。因此，本發(fā)明的 保護(hù)范圍以本發(fā)明的權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種近場光盤機(jī)的傾斜控制方法，包括預(yù)估一透鏡與一盤片間的一間距；根據(jù)一傾斜信號(hào)，預(yù)估該透鏡的一傾斜補(bǔ)償，其中，該透鏡仍于一遠(yuǎn)場區(qū)內(nèi)；以及 在該透鏡位于該遠(yuǎn)場區(qū)時(shí)，根據(jù)該傾斜補(bǔ)償，對(duì)該透鏡進(jìn)行一傾斜粗調(diào)控制。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，預(yù)估該透鏡與該盤片的該間距的該步驟包括 根據(jù)一反射光強(qiáng)度來預(yù)估該透鏡與該盤片的該間距。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其中，當(dāng)該反射光強(qiáng)度開始增加時(shí)，預(yù)估該透鏡與該盤片 的該間距。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，根據(jù)該傾斜信號(hào)以預(yù)估該透鏡的該傾斜補(bǔ)償?shù)脑?步驟包括對(duì)該透鏡不同的多個(gè)傾斜角所產(chǎn)生對(duì)應(yīng)的多個(gè)傾斜信號(hào)進(jìn)行取樣；以及 預(yù)估該傾斜信號(hào)與該傾斜角的關(guān)系，根據(jù)該關(guān)系找出該補(bǔ)償傾斜角。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，該方法包括根據(jù)一間距誤差信號(hào)，決定是否開始對(duì)該透鏡進(jìn)行傾斜微調(diào)控制，其中該透鏡仍位于 該遠(yuǎn)場區(qū)。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其中，根據(jù)該間距誤差信號(hào)以決定是否開始對(duì)該透鏡進(jìn) 行傾斜微調(diào)控制的該步驟包括根據(jù)該間距誤差信號(hào)的衰減，決定何時(shí)開始對(duì)該透鏡進(jìn)行傾斜微調(diào)控制。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其中該傾斜信號(hào)是將一第一光檢測電路的一第一相位所接收到的一第一光信號(hào)強(qiáng)度減去 一第二相位所接收到的一第二光信號(hào)強(qiáng)度，其中，該光是由該盤片所反射并穿透該透鏡的 一第一數(shù)值孔徑區(qū)而被該第一光檢測電路所收集。
8.如權(quán)利要求2所述的方法，其中該反射光強(qiáng)度是一第一與一第二光檢測電路的所有相位所接收到的光信號(hào)強(qiáng)度的總和。
9.如權(quán)利要求5所述的方法，其中該間距誤差信號(hào)是將一第二光檢測電路的所有相位所接收到的光信號(hào)強(qiáng)度的總和。
10.如權(quán)利要求4所述的方法，其中預(yù)估該傾斜信號(hào)與該傾斜角的關(guān)系是在該近場光 盤機(jī)的初始化過程中進(jìn)行或在光盤機(jī)制造商的生產(chǎn)過程中進(jìn)行。
11.如權(quán)利要求4所述的方法，其中當(dāng)獲得該傾斜信號(hào)與該傾斜角的關(guān)系后，將該關(guān)系 儲(chǔ)存至一存儲(chǔ)器中。
12.如權(quán)利要求3所述的方法，其中當(dāng)該反射光強(qiáng)度開始增加時(shí)，該間距小于lOOOnm。
13.如權(quán)利要求5所述的方法，當(dāng)該間距誤差信號(hào)衰減到該透鏡位于該遠(yuǎn)場區(qū)的間距 誤差信號(hào)值的30% -90%時(shí)，對(duì)該透鏡進(jìn)行傾斜角度微調(diào)控制。
全文摘要
一種近場光盤機(jī)的傾斜控制方法，包括預(yù)估一透鏡與一盤片間的一間距；根據(jù)一傾斜信號(hào)，預(yù)估該透鏡的一傾斜補(bǔ)償，其中，該透鏡仍于一遠(yuǎn)場區(qū)內(nèi)；以及在該透鏡位于該遠(yuǎn)場區(qū)時(shí)，根據(jù)該傾斜補(bǔ)償，對(duì)該透鏡進(jìn)行一傾斜粗調(diào)控制。
文檔編號(hào)G11B7/09GK102097111SQ200910261458
公開日2011年6月15日 申請日期2009年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月15日
發(fā)明者林威志, 游凌豪, 郭承儀 申請人:建興電子科技股份有限公司