專利名稱：光驅(qū)聚焦高度搜尋方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)一種讀寫光盤片的光驅(qū)，尤其關(guān)于光驅(qū)在讀寫光盤片需重新聚焦時， 搜尋聚焦高度的方法。
背景技術(shù)：
光盤片為塑性材料模制成形，于制造、輸運或收藏過程中，常因材料變化、受熱不 均、冷卻不足、涂敷不勻或受壓不平等因素，導致光盤片不平整或翹曲等，影響光驅(qū)讀寫光 盤片的數(shù)據(jù)。如圖1所示，已知光驅(qū)聚焦時，通過電壓脈沖多寡所產(chǎn)生的電磁力，驅(qū)動讀取頭1 中的物鏡2升降，將激光束投射至光盤片3數(shù)據(jù)層4。具有反射涂層的數(shù)據(jù)層4，將光束反 射回讀取頭1，形成零穿越的聚焦誤差信號，使激光束的焦點鎖定在數(shù)據(jù)層4，以便光驅(qū)循 著數(shù)據(jù)層4上的軌道讀寫光盤片3的數(shù)據(jù)。由于光驅(qū)讀寫過程中，常因機身碰撞、振動、污漬或伺服失誤等，無法適時擷取聚 焦誤差信號，造成失焦而需重新聚焦。但是光驅(qū)轉(zhuǎn)盤的水平度各有差異性，且光盤片3不平 整或翹曲的程度不同，造成數(shù)據(jù)層如的聚焦高度不一致。在重新聚焦時，如無法適時擷取 到聚焦誤差信號，過度上升的物鏡2將擦撞到光盤片3而受損，過度下降的物鏡2也會撞擊 到讀取頭1而受損。因此，本國公告第1303820號「光驅(qū)的防刮片機制」專利案，利用預定 聚焦電壓的上下界限Δ V，限制物鏡2移動升降幅度，以避免物鏡2碰損或刮傷光盤片3。然而，對于過度翹曲的光盤片3，尤其在靠近光盤片3的外圈，受上下界限移動距 離限制的物鏡2，并無法達到適當?shù)木劢垢叨?，常造成重新聚焦失敗，導致無法順利完成讀 寫光盤片。再者，翹曲的光盤片，讀寫信號的狀況較差，在正常光驅(qū)的操作參數(shù)下易失焦，需 一再重試聚焦讀寫，也會影響光驅(qū)的讀寫效率。此外，每次重新聚焦都需逐漸升降物鏡2， 搜尋聚焦高度，相當費時且影響光驅(qū)的讀寫效率。因此，光驅(qū)在重新聚焦搜尋聚焦高度的方 法，仍有問題亟待解決。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，通過建立聚焦電壓曲線，搜 尋聚焦高度，快速完成重新聚焦，以提高光驅(qū)效能。本發(fā)明另一目的在于提供一種光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，利用聚焦電壓曲線中，聚 焦電壓大小的變化，判別光盤片的垂直偏差程度，適時調(diào)整光驅(qū)的操作參數(shù)，以提高重新聚 焦成功率。為了達到前述發(fā)明的目的，本發(fā)明光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，是將光盤片置入光驅(qū)， 移動物鏡鎖定聚焦在數(shù)據(jù)層。由內(nèi)圈至外圈徑向移動物鏡，并記錄徑向位置的聚焦電壓。利 用記錄的聚焦電壓，曲線適應一聚焦電壓曲線。根據(jù)失焦發(fā)生的徑向位置，由該聚焦電壓曲 線，獲得相對應的重新聚焦電壓，利用該重新聚焦電壓，移動物鏡至聚焦高度，以快速完成 重新聚焦。
本發(fā)明另一實施例光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，是將光盤片置入光驅(qū)，移動物鏡鎖定 聚焦在數(shù)據(jù)層。由內(nèi)圈至外圈徑向移動物鏡，同時記錄徑向位置的聚焦電壓。利用記錄的 聚焦電壓，曲線適應一聚焦電壓曲線。比對徑向位置間的聚焦電壓，獲得垂直偏差，再檢查 垂直偏差大于門坎值時，調(diào)整光驅(qū)的操作參數(shù)。根據(jù)失焦發(fā)生的徑向位置，由聚焦電壓曲 線，獲得相對應的重新聚焦電壓，利用該重新聚焦電壓，移動物鏡至聚焦高度，以完成重新 聚焦ο


圖1為已知光驅(qū)重新聚焦過程的示意圖。圖2為本發(fā)明光驅(qū)聚焦電壓曲線的建立的示意圖。圖3為本發(fā)明第一實施例光驅(qū)重新聚焦的示意圖。圖4為本發(fā)明第一實施例光驅(qū)聚焦高度搜尋方法的流程圖。圖5為本發(fā)明第二實施例檢查垂直偏差的示意圖。圖6為本發(fā)明第二實施例光驅(qū)聚焦高度搜尋方法的流程圖。[主要元件標號說明]10讀取頭11 物鏡12數(shù)據(jù)層
具體實施例方式有關(guān)本發(fā)明為達成上述目的，所采用的技術(shù)手段及其功效，茲舉較佳實施例，并配 合圖式加以說明如下。請參閱圖2，為本發(fā)明光驅(qū)聚焦電壓曲線的建立過程。由于讀取頭10是藉電磁力 移動物鏡11，電磁力又隨著讀取頭10供給的電壓脈沖的多寡改變。因此，讀取頭10利用聚 焦電壓控制物鏡11升降的高度，聚焦電壓大小與物鏡11的聚焦高度具有一定的比例。建立聚焦電壓曲線時，首先將光盤片置入光驅(qū)，以聚焦電壓V推升物鏡11，投射激 光束，接近光盤片的數(shù)據(jù)層12，擷取聚焦誤差信號，以鎖定聚焦在數(shù)據(jù)層12。因光盤片的內(nèi) 圈接近受光驅(qū)夾箝轉(zhuǎn)動的部分，翹曲程度最小，較易完成聚焦，因此鎖定聚焦通常在光盤片 的內(nèi)固執(zhí)行，亦即徑向R設(shè)定為RO的位置。接著利用讀取頭10由內(nèi)圈徑向移動物鏡11至 外圈。在鎖定聚焦中，同時記錄移動過程中，各徑向位置升降物鏡11的聚焦電壓VO至Vn。理論上，鎖定聚焦時，物鏡11的焦點沿著數(shù)據(jù)層12移動，聚焦電壓VO至Vn是物 鏡11相對讀取頭10的聚焦高度。實際上，因光盤片轉(zhuǎn)動會產(chǎn)生上下晃動及光驅(qū)伺服控制的 延遲，物鏡11的焦點，如圖中虛線13所示，是沿著數(shù)據(jù)層12上下些微波動，所以，由聚焦電 壓VO至Vn，可獲得光盤片的近似聚焦電壓。利用各徑向位置所記錄的聚焦電壓VO至Vn， 曲線適應(Curve-fitting)聚焦電壓曲線。如圖3所示，為本發(fā)明第一實施例光驅(qū)聚焦高度搜尋方法的重新聚焦過程。在光 驅(qū)針對置入的光盤片，建立特定的聚焦電壓曲線V(r)后，當讀取頭10沿著光盤片的徑向讀 寫光盤片數(shù)據(jù)時，一發(fā)生失焦，讀取頭10即可根據(jù)失焦發(fā)生的徑向位置r，由預先建立的聚 焦電壓曲線V (r)，獲得該徑向位置r相對應的重新聚焦電壓v，利用重新聚焦電壓v，馬上推
4升物鏡11至聚焦高度或接近聚焦高度，擷取聚焦誤差信號，鎖定聚焦在數(shù)據(jù)層12完成重新 聚焦，立即回復聚焦伺服狀態(tài)，以繼續(xù)讀寫光盤片。因而可減少已知逐漸升降物鏡搜尋聚焦 高度的時間，并可避免已知限制物鏡升降界限，無法在翹曲幅度較大的外圈重新聚焦的缺 陷。如圖4所示，為本發(fā)明第一實施例光驅(qū)聚焦高度搜尋方法的流程。本發(fā)明利用預 先建立的聚焦電壓曲線，快速搜尋重新聚焦高度的步驟，詳細說明如下首先在步驟Si，將 光盤片置入光驅(qū)中。至步驟S2，以聚焦電壓推升物鏡，投射激光束至光盤片的數(shù)據(jù)層，以鎖 定聚焦在數(shù)據(jù)層。進入步驟S3，在鎖定聚焦中，由內(nèi)圈至外圈徑向移動物鏡，同時記錄移動 過程中，各徑向位置升降物鏡的聚焦電壓。再進入步驟S4，利用各徑向位置所記錄的聚焦電 壓，曲線適應一聚焦電壓曲線。接著至步驟S5，在讀寫光盤片數(shù)據(jù)發(fā)生失焦時，進行重新聚焦。進入步驟S6，根據(jù) 失焦發(fā)生的徑向位置，由預先建立的聚焦電壓曲線，獲得該徑向位置相對應的重新聚焦電 壓。在步驟S7，利用該重新聚焦電壓，升降物鏡至聚焦高度。最后進入步驟S8，擷取到聚焦 誤差信號后，完成重新聚焦。由上述的步驟，本發(fā)明第一實施例光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，即可讓光驅(qū)針對每一 置入的光盤片，由內(nèi)圈移動至外圈鎖定聚焦，記錄各徑向位置的聚焦電壓，以預先建立該光 盤片特定翹曲的聚焦電壓曲線。以利失焦時，利用失焦所在的徑向位置，由聚焦電壓曲線快 速搜尋聚焦高度，完成重新聚焦，達到因應各光驅(qū)差異性及光盤片翹曲程度，以提高光驅(qū)效 能的目的。如圖5所示，為本發(fā)明第二實施例檢查垂直偏差的過程。本發(fā)明第二實施例系利 用第一實施例所建立的聚焦電壓曲線V (r)。比對徑向位置rl及r2間的聚焦電壓大小的變 化(v2-vl)，由其差值即可獲得其間的垂直偏差Ah程度，以判斷光盤片數(shù)據(jù)層12中過度翹 曲的部位。進而設(shè)定一可接受的垂直偏差門坎值H，當翹曲部位的垂直偏差Ah超過門坎 值H時，即調(diào)整光驅(qū)容忍度較高的操作參數(shù)，以利在翹曲部位失焦時，由聚焦電壓曲線快速 搜尋聚焦高度，完成重新聚焦，對不正常翹曲光盤片進行正常的讀寫。如圖6所示，為本發(fā)明第二實施例光驅(qū)聚焦高度搜尋方法的流程。本實施例的詳 細步驟說明如下首先在步驟Tl，將光盤片置入光驅(qū)中。至步驟T2，移動物鏡鎖定聚焦在數(shù) 據(jù)層。進入步驟T3，在鎖定聚焦中，由內(nèi)圈至外圈徑向移動物鏡，并記錄移動過程中，各徑向 位置升降物鏡的聚焦電壓。再進入步驟T4，利用記錄的聚焦電壓，曲線適應一聚焦電壓曲 線。至步驟T5，利用聚焦電壓曲線，比對徑向位置間的聚焦電壓，獲得其間的垂直偏差。接著進入步驟T6，檢查垂直偏差是否大于過門坎值H ？假如大于過門坎值H時，即 至步驟T7調(diào)整光驅(qū)容忍度較高的操作參數(shù)，然后進入步驟T8，假如不大于過門坎值H時， 則直接進入步驟T8。在步驟T8，當讀寫光盤片數(shù)據(jù)發(fā)生失焦時，進行重新聚焦。進入步驟 T9，根據(jù)失焦發(fā)生的徑向位置，由預先建立的聚焦電壓曲線，獲得該徑向位置相對應的重新 聚焦電壓。在步驟T10，利用該重新聚焦電壓，升降物鏡至聚焦高度。最后進入步驟T11，擷 取到聚焦誤差信號后，完成重新聚焦。由上述的步驟，本發(fā)明第二實施例光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，即可利用預先建立的 聚焦電壓曲線，經(jīng)由比對聚焦電壓大小的變化，判別光盤片的垂直偏差程度，適時調(diào)整光 驅(qū)的操作參數(shù)，以利失焦時，利用失焦所在的徑向位置，由聚焦電壓曲線快速搜尋聚焦高度后，增加對不正常翹曲光盤片完成重新聚焦，以達到提高重新聚焦成功率的目的。
以上所述者，僅為用以方便說明本發(fā)明的較佳實施例，本發(fā)明的范圍不限于該等 較佳實施例，凡依本發(fā)明所做的任何變更，于不脫離本發(fā)明的精神下，皆屬本發(fā)明權(quán)利要求 的范圍。
權(quán)利要求
1.一種光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，其步驟包含(1)將光盤片置入光驅(qū)；(2)移動物鏡鎖定聚焦在該光盤片的數(shù)據(jù)層；(3)由該光盤片的內(nèi)圈至外圈徑向移動該物鏡，同時記錄徑向位置的聚焦電壓；(4)利用記錄的該聚焦電壓，曲線適應一聚焦電壓曲線；以及(5)利用該聚焦電壓曲線，獲得相對應的重新聚焦電壓，完成重新聚焦。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，其中該步驟( 在該光盤片的內(nèi)圈 鎖定聚焦。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，其中該步驟( 是在讀寫光盤片數(shù) 據(jù)發(fā)生失焦，進行重新聚焦。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，其中根據(jù)該失焦發(fā)生的徑向位置， 由該聚焦電壓曲線，獲得相對應的重新聚焦電壓。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，其中利用該重新聚焦電壓，移動物 鏡至聚焦高度。
6.一種光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，其步驟包含(1)將光盤片置入光驅(qū)；(2)移動物鏡鎖定聚焦在該光盤片的數(shù)據(jù)層；(3)由該光盤片的內(nèi)圈至外圈徑向移動該物鏡，同時記錄徑向位置的聚焦電壓；(4)利用記錄的該聚焦電壓，曲線適應一聚焦電壓曲線；(5)比對徑向位置間的聚焦電壓，獲得其間的垂直偏差；(6)檢查該垂直偏差是否大于過門坎值H 假如大于門坎值H時，則調(diào)整光驅(qū)的操作參 數(shù)，然后進入下一步驟，否則進入下一步驟；(7)根據(jù)失焦發(fā)生的徑向位置，由該聚焦電壓曲線，獲得相對應的重新聚焦電壓；以及(8)利用該重新聚焦電壓，移動物鏡至聚焦高度，完成重新聚焦。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，其中該步驟( 在該光盤片的內(nèi)圈 鎖定聚焦。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，其中該步驟(7)是在讀寫光盤片數(shù) 據(jù)發(fā)生失焦時，進行重新聚焦。
全文摘要
一種光驅(qū)聚焦高度搜尋方法，是將光盤片置入光驅(qū)，移動物鏡鎖定聚焦在數(shù)據(jù)層。由內(nèi)圈至外圈徑向移動物鏡，并記錄徑向位置的聚焦電壓。利用記錄的聚焦電壓，曲線適應一聚焦電壓曲線。根據(jù)失焦發(fā)生的徑向位置，由該聚焦電壓曲線，獲得相對應的重新聚焦電壓。利用該重新聚焦電壓，移動物鏡至聚焦高度，以快速完成重新聚焦。
文檔編號G11B7/095GK102103870SQ200910253469
公開日2011年6月22日 申請日期2009年12月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月16日
發(fā)明者侯俊仰, 蕭亦隆 申請人:廣明光電股份有限公司