專利名稱：：圓片形高密度記錄介質(zhì)的制作方法圓片形高密度記錄介質(zhì)
背景技術(shù)：
：用于記錄和復(fù)制信息信號(hào)，例如用于記錄聲音或圖像的已知的記錄介質(zhì)包括圓片形光記錄介質(zhì)和圓片形磁記錄介質(zhì)。在這些記錄介質(zhì)中，有光盤(例如通過刻凹紋和凹槽，在其上刻寫有作為微小-不規(guī)則紋路(irregularities)的信息信號(hào))、相變光盤、永磁(magneto)-光盤、采用光磁效應(yīng)的記錄膠片，和用于磁寫信號(hào)的硬盤。為了在光記錄介質(zhì)上形成記錄層，在這些具有與信息信號(hào)，例如數(shù)據(jù)信息或跟蹤伺服信號(hào)有關(guān)的微小-不規(guī)則紋路，例如相凹紋或預(yù)-凹槽(pre-grooves)的記錄介質(zhì)中，通常使用塑料材料的基片的注入成型。特別是，使用注入成型裝置，金屬模型和母盤壓模(stamper)形成圓片形基片，而信息信號(hào)此時(shí)由母盤壓模描述。為讀出和記錄信息至這樣的光盤上，通常將具有波長(zhǎng)λ的激光束通過給定的數(shù)值孔徑NA的單一物鏡通過厚度d>>λ的透光層并以物鏡和透光層的表面之間的工作距離WD>>λ聚焦到記錄層上。因此聚焦激光束的光點(diǎn)直徑D被給定為D=λ/NA0市售可獲得的盤如激光壓縮磁盤(⑶，λ.=780nm,NA=0.45，d=1.2mm)、數(shù)字通用光盤(DVD，λ=650nm,NA=0.60，d=0.6mm)、高清晰度數(shù)字通用光盤(HD-DVD，λ=405nm,NA=0.65，d=0.6mm)或藍(lán)光光盤(Blu-raydiscs)(BD,λ=405nm,NA=0.85，d=0.1mm)正采用這種遠(yuǎn)磁場(chǎng)光學(xué)原理。通過減少λ和增加ΝΑ，可減少光點(diǎn)直徑D，由此可增加數(shù)據(jù)密度。然而在這樣的光學(xué)遠(yuǎn)磁場(chǎng)(d和WD>>λ)下，物鏡的NA被限制于<1.0的值。為進(jìn)一步增加數(shù)據(jù)密度，NA必須變得大于1.0，其可通過近場(chǎng)光學(xué)(NFR)實(shí)現(xiàn)。一種NFR儀器可通過使用所謂的固體油浸物鏡(SIL)(見，例如S.Μ.Mansfield，W.R.Studenmund,G.S.Kino，和K.Osato，“用于光存儲(chǔ)磁頭的高級(jí)數(shù)字快門透鏡系統(tǒng)(High-numerical-aperturelenssystemforanopticalstoragehead)，"Opt.Lett.18，305ff(1993)，這些文獻(xiàn)的全部?jī)?nèi)容通過參考結(jié)合到本文中)進(jìn)行。例如，在由NA<1.0的遠(yuǎn)磁場(chǎng)透鏡和用具有折射率11皿的材料制得的半球形透鏡組成的透鏡系統(tǒng)中，有效的數(shù)值孔徑NAeff由NA.nSIL給出，如果nSIL足夠大，該值將超過1.0。另一個(gè)儀器可通過直徑0#<<λ的小孔進(jìn)行，其可或者通過具有非常窄的端孔的纖維光學(xué)(見，如H.BrUckl，PhysikinunsererZeit，28，Jahrgang1997Nr.2，ρ67ff，這些文獻(xiàn)的全部?jī)?nèi)容通過參考結(jié)合到本文中)或者通過光學(xué)上的非線性響應(yīng)薄屏蔽層(所謂的超分辨率強(qiáng)化近場(chǎng)結(jié)構(gòu)(SuperResolutionEnhancedNearFieldStructure),見，如J.Tominaga,etal.,AppliedPhysicsLetters,Vol73(15)1998pp.2078-2080，這些文獻(xiàn)的全部?jī)?nèi)容通過參考結(jié)合到本文中)實(shí)現(xiàn)。NFR利用透鏡系統(tǒng)或孔的表面和盤或記錄層的表面之間的WD<<λ的電磁場(chǎng)。例如，在K.Saitoetal.，TechnicalDigestISOM2001，p244ff，已顯示工作距離WD<<405nm,SIL的漸消失波的足夠的光可結(jié)合到盤中，以便SIL的NAeff可增加至遠(yuǎn)磁場(chǎng)限度1.0以上。還顯示出WD的準(zhǔn)確度必須被控制至數(shù)nm的水平，以得到穩(wěn)定的再現(xiàn)信號(hào)(reproducingsignal)0這可理解為漸消失波的強(qiáng)度與離開透鏡表面的距離呈指數(shù)衰減。為建立這樣的控制機(jī)理，有效的反饋伺服循環(huán)由T.Ishimotoetal.,TechnicalDigestISOM/ODS2002,WC3,ρ287ff提出并引入，這些文獻(xiàn)的全部?jī)?nèi)容通過參考結(jié)合到本文中。這種伺服循環(huán)也能夠補(bǔ)償來自轉(zhuǎn)盤的模態(tài)振蕩(modaloscillations)的WD的波動(dòng)(J.I.Leeetal.，TechnicalDigestODS2006MC4,ρ43ff，該文獻(xiàn)的全部?jī)?nèi)容通過參考結(jié)合到本文中)。然而由于伺服循環(huán)的帶寬限制，這樣的補(bǔ)償僅在較低的光盤轉(zhuǎn)速時(shí)和在具有眾數(shù)頻率<800Hz的低頻模態(tài)振蕩下起作用。因此，由于例如直徑120mm、厚度1.Imm的整塊(massive)聚碳酸酯盤的高頻模態(tài)振蕩的振幅，存在數(shù)據(jù)傳送速率的限制。其中公開的基片不能滿足本發(fā)明的基片的要求，為改善盤在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)的間歇(gap)伺服控制操作，尤其必須改進(jìn)盤的高頻模態(tài)振蕩行為。模態(tài)振蕩的特征在于其眾數(shù)頻率fn，根據(jù)4與(E/p)°_5的比例(也見方程式1)，fn與盤的幾何形狀和楊氏模數(shù)E(Young'smodulusΕ)和質(zhì)量密度ρ的定量(ration)有關(guān)。品質(zhì)因數(shù)Q(見方程式2)通過Q=3/tanδ(損耗角正切值)而與tanδ有關(guān)。在該意義上，Q可被用作阻尼如tanδ的量度。低Q意指高阻尼，因?yàn)閠anδ是高的。一般來說，E和Q顯示出對(duì)頻率f的明顯的依賴性。US6，908，655B2，該文獻(xiàn)的全部?jī)?nèi)容通過參考結(jié)合到本文中，集中討論了約140Hz的低頻(最初)模態(tài)振蕩(其典型地發(fā)生在直徑120mm，厚度1.Imm的整塊聚碳酸酯盤)的影響并且還與遠(yuǎn)場(chǎng)光拾音頭有關(guān)。WO00/48172，該文獻(xiàn)的全部?jī)?nèi)容通過參考結(jié)合到本文中，集中討論了盤的最初眾數(shù)頻率(<300Hz)行為，據(jù)說最初眾數(shù)頻率應(yīng)優(yōu)選處于該盤的旋轉(zhuǎn)工作范圍之外。就高頻模態(tài)振蕩(>=2000Hz)的行為而言，沒有公開其解決方案。比較實(shí)施例3(其在本申請(qǐng)的實(shí)驗(yàn)部分提出，以WO00/48172的實(shí)施例2為基礎(chǔ))顯示實(shí)施關(guān)于阻尼的低頻要求的解決方案不能滿足本發(fā)明的高頻要求。WO2003/005354A1，該文獻(xiàn)的全部?jī)?nèi)容通過參考結(jié)合到本文中，描述了特殊的共聚碳酸酯(copolycarbonates)以獲得該盤的改進(jìn)的阻尼，該公開在關(guān)于聚合物的化學(xué)結(jié)構(gòu)上不同于本發(fā)明，或者描述了涉及阻尼的低(最初)眾數(shù)頻率的要求，但未描述本發(fā)明的高頻要求。其它解決方案獲得低頻(1Ηζ-16Ηζ)的改進(jìn)的阻尼，然而其對(duì)在US6，391，418B1、EP1158024A1和US2004/0265605A1中公布的本發(fā)明的高頻模態(tài)振蕩要求是不充分的，這些文獻(xiàn)的全部?jī)?nèi)容通過參考各自結(jié)合到本文中。US6，391，418B1描述了由聚碳酸酯組合物制得的用于信息記錄介質(zhì)的基片，所述組合物包含粘均分子量10.000-40.000的聚碳酸酯和聯(lián)苯、三苯化合物或其混合物。EP1158024A1描述了振動(dòng)-阻尼熱塑性樹脂組合物，其包含a)50-90wt.%的具有0，01-0,04的tanδ損耗和加載偏斜溫度不低于120°C的無定形熱塑性樹脂和b)50-10wt.%的甲基異丁烯酸酯樹脂，其中從中模制的產(chǎn)品具有某些物理特性。US2004/0265605A1描述了用于數(shù)據(jù)的包含基片的振動(dòng)阻尼存儲(chǔ)介質(zhì)，其在基片的物理部分包含至少一個(gè)聚酰亞胺層和至少一個(gè)數(shù)據(jù)層。這與最初模態(tài)(低頻)震蕩有關(guān)。NFR的另一個(gè)重要的特征是來自漸逝場(chǎng)的耦合光(couplelight)通過WD<<λ進(jìn)入記錄介質(zhì)的表面以完全利用SIL的NAeff的能力，以用于將D減少至λ/NAeff。為此，記錄介質(zhì)的最高透光層(uppermostlighttransmittinglayer)的折射率的實(shí)數(shù)部分η必須大于NAeff。這樣的層可通過高折射率層(HRI涂層)獲得，其根據(jù)本發(fā)明可形成記錄介質(zhì)的表層并使得漸逝場(chǎng)的光耦合進(jìn)入記錄介質(zhì)。HRI涂層也可用作兩個(gè)或多個(gè)復(fù)制層(reproducinglayer)或記錄層之間的分割層。為增加存儲(chǔ)密度至少為與各遠(yuǎn)磁場(chǎng)光學(xué)(NA<1.0)比較的2倍，NArff應(yīng)為至少>1.41，且因此HRI層的折射率的實(shí)數(shù)部分η應(yīng)為至少>1.41。致力于研究遠(yuǎn)磁場(chǎng)光學(xué)的現(xiàn)有技術(shù)不能對(duì)此作出解釋。US6，875，489Β2或EP1，518，880Α，這些文獻(xiàn)的全部?jī)?nèi)容通過參考文獻(xiàn)1各自結(jié)合到本文中，集中討論了具有厚度d>3μπι的透光層，因?yàn)檫@些實(shí)施方案與遠(yuǎn)磁場(chǎng)光盤如BD有關(guān)。如同NFR的情況，有效的NArff大于1.0，至關(guān)重要的是限制透光層厚度d至較小的值(例如<=3μm)，因?yàn)檠a(bǔ)償例如光行差(aberrations)是較容易的(Zijpetal.，Proc.ofSPIEVol.5380，ρ209ff)。除了HRI層和NFR光拾音頭(OpticalPickUpHeads)的極小WD所致的上述光特性外，這樣的HRI層也應(yīng)用作存儲(chǔ)于記錄介質(zhì)中的信息和在偶然磁頭碰撞的情況下的光拾音頭的保護(hù)層。因此HRI層應(yīng)具有高度的耐擦傷性和低的表面粗糙度Ra，因?yàn)閃D在只有幾個(gè)IOnm的范圍內(nèi)。而且HRI層的吸收或折射率的虛數(shù)部分k應(yīng)該是低的，以便能從被分割層分離的多棧記錄層獲得足夠高的反射光，所述分割層可包含HRI層并實(shí)現(xiàn)高的讀出穩(wěn)定性。另外，現(xiàn)有技術(shù)沒有解釋盤結(jié)構(gòu)的這樣的復(fù)合特性模式(complexpropertyprofile)。發(fā)明簡(jiǎn)述本發(fā)明的各種實(shí)施方案提供間歇伺服控制的NFR盤的光記錄介質(zhì)，其中至少記錄層和透光層順序地形成在基片上，且其中用于記錄和/或復(fù)制信息信號(hào)的透光層面發(fā)出光，而所述基片達(dá)到在2000Hz的高頻下對(duì)楊氏模數(shù)和阻尼(Q-因子)的特殊要求。而且，本發(fā)明的各種實(shí)施方案提供如上所述的光記錄介質(zhì)，其具有滿足對(duì)折射率、耐擦傷性和表面粗糙度的特殊要求的透光層。本發(fā)明涉及具有用于記錄各種信息信號(hào)。如適合近場(chǎng)光拾音頭的數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的特殊結(jié)構(gòu)的圓片形高密度記錄介質(zhì)。在間歇伺服控制的近場(chǎng)記錄和近場(chǎng)讀出中，透鏡和光盤表面之間的工作距離WD必須減少至遠(yuǎn)低于激光的波長(zhǎng)λ且必須被控制在嚴(yán)密的范圍內(nèi)。因此存在對(duì)與光盤高頻模態(tài)振蕩行為和光盤厚度、透光層的光和機(jī)械特性有關(guān)的嚴(yán)格要求。本發(fā)明顯示用合適的材料實(shí)現(xiàn)對(duì)盤結(jié)構(gòu)的特別選擇，以解決上述問題。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案包括包含基片和順序布置在基片上的記錄層和透光層的光記錄介質(zhì)；其中基片包含一個(gè)或多個(gè)選自注入成型部分(parts)、具有模制表面層和模制芯層的注入成型夾層結(jié)構(gòu)或兩個(gè)經(jīng)UV-粘合的注入成型部分，及其組合的部分；且其中基片在25°C、2000Hz下，按照ASTME756-05測(cè)定時(shí)，具有至少2.15GPa的楊氏模數(shù)E和低于160的品質(zhì)因數(shù)。附圖的幾個(gè)視圖的簡(jiǎn)述在結(jié)合附圖進(jìn)行描述時(shí)，可更好地理解本發(fā)明的上文的簡(jiǎn)述，以及下文的詳細(xì)描述。為了幫助解釋本發(fā)明，附圖顯示了代表性的實(shí)施方案，這些實(shí)施方案被認(rèn)為是示例性的。然而，應(yīng)該理解本發(fā)明并不以任何方式受限于所示的精細(xì)安排和媒介(instrumentalities)。在圖中圖1為按照類似于ASTME756-05中所述設(shè)置的激光多普勒振動(dòng)計(jì)(Laser-Doppler-Vibrometer)(LDV)的圖解表示，其可用于測(cè)量用于本發(fā)明的各種實(shí)施方案的基片的楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)。發(fā)明詳述如本文所用的，單數(shù)術(shù)語(yǔ)"一個(gè)"和"該"是同義的并可與"一個(gè)或多個(gè)"和"至少一個(gè)"互換使用，除非語(yǔ)言和/或上下文另外明確地指出。因此，例如，在此或在所附的權(quán)利要求中提及"樹脂"時(shí)，可指單一的一種樹脂或一種以上的樹脂。另外，所有的數(shù)值，除非另外特別指明，應(yīng)理解為被單詞"約"修飾。以高頻影響光盤的模態(tài)振蕩可包括增加其楊氏模數(shù)E(剛度)，其將模態(tài)振蕩移動(dòng)至較高的頻率，由此以給定的阻尼減少其振幅；或者降低其品質(zhì)因數(shù)Q(增加其阻尼)以減小振蕩幅度。為克服前文描述的問題，剛度或阻尼可作為一個(gè)單一的參數(shù)或者兩個(gè)參數(shù)來改進(jìn)。本發(fā)明的各種實(shí)施方案包括光記錄介質(zhì)，其至少包括記錄層和透光層。記錄層和透光層順序地形成在基片上，且光從透光層側(cè)照射，以便記錄和/或復(fù)制信息信號(hào)。基片可包含注入成型部分或具有帶有模制表面層(皮層)和模制芯層的注入成型夾層結(jié)構(gòu)或可包含兩個(gè)經(jīng)UV-粘合的注入成型部分?；?5°C、2000Hz下，按照ASTME756-05測(cè)定時(shí)，具有至少2.15GPa的楊氏模數(shù)E和低于160的品質(zhì)因數(shù)。透光層的厚度優(yōu)選從Inm至少于3000nm，更優(yōu)選從200nm至少于2000nm且尤其是從500nm至少于1500nm。基片材料用于形成基片的合適基片材料的實(shí)例包括聚合物、混合物和化合物(填充的熱塑性樹脂組合物)，以及基片滿足楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)的要求。然而，本發(fā)明的用于所述基片的聚合物樹脂并不限于以下實(shí)施例。在熱塑性樹脂本身不滿足整塊注入成型部分關(guān)于楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)的要求的情況下，可使用熱塑性樹脂或在夾層結(jié)構(gòu)或在粘合的結(jié)構(gòu)中的熱塑性樹脂基片材料的組合的混合物或填充的組合物。除了關(guān)于楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)的要求外，熱塑性樹脂、混合物或化合物應(yīng)該具有低的水吸收作用，高的耐熱性且應(yīng)該是可用常用方法如注入成型、注入壓縮成型等對(duì)光盤進(jìn)行加工的。這樣的熱塑性樹脂可包括聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂和無定形的聚環(huán)烯烴(polycyclicolefins)以及氫化聚苯乙烯。熱塑性樹脂也可為由不同熱塑性樹脂組成的混合物，以及為熱塑性樹脂(s)化合物與填充劑和/或添加劑的混合物。聚碳酸酯樹脂聚碳酸酯樹脂一般通過芳族二羥基化合物和碳酸酯前體的溶液聚合或熔體聚合而獲得。任何芳族二羥基化合物為可接受的，如果它滿足上述條件的話。優(yōu)選的芳族二羥基化合物包括式(1)化合物HO-Z-OH(1)，其中Z表示式(Ia)的基團(tuán)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage8</formula>其中R1和R2彼此獨(dú)立地表示HorC1-C8-烷基，優(yōu)選H或C1-C4-烷基，特別是氫或甲基和X表示單鍵、C1-C6-烷撐基、C2-C5-烷叉基或C5-C6-亞環(huán)烷基，其可被C1-C6-烷基，優(yōu)選甲基或乙基取代，前提是如果X表示3，3，5三甲基亞環(huán)己基，R1和R2表示氫。更優(yōu)選X表示單鍵、亞甲基、異亞丙基或亞環(huán)己基或3，3，5三甲基亞環(huán)己基，特別是X表示異亞丙基或3，3，5三甲基亞環(huán)己基。芳族二羥基化合物通常為已知的或可根據(jù)通常已知的方法制備。芳族二羥基化合物的實(shí)例包括氫醌、間苯二酚、4，4'-聯(lián)苯酚(biphen0l)、l，1-雙(4-羥基苯基)乙烷、2，2_雙(4-羥基苯基)丙烷、2，2_雙(4-羥基苯基)丁烷、1，1-雙(4-羥基苯基)-1_苯基乙烷、1，1_雙(4-羥基苯基)環(huán)己烷、2，2-雙(4-羥基苯基)戊烷、4，4'_(對(duì)-亞苯基二異亞丙基)二酚(diphenol)、9，9_雙(4-羥基苯基)芴、1，1-雙(4-羥基苯基)-4-異丙基環(huán)己烷、2，2-雙(3-甲基-4-羥基苯基)丙烷，1，1_雙(4-羥基苯基)環(huán)己烷、1，1-雙(4-羥基苯基)-3，3，5-三甲基環(huán)己烷、9，9-雙(3-甲基-4-羥基苯基)芴和α，α‘-雙(4-羥基苯基)間-二異丙基苯。優(yōu)選的二羥基化合物為2，2-雙(4-羥基苯基)丙烷(雙酚Α)、4，4'_(間-亞苯基二異亞丙基)二酚和1，1_雙(4-羥基苯基)-3，3，5_三甲基環(huán)己烷。聚碳酸酯樹脂可以是通過上述芳族二羥基化合物的均聚反應(yīng)獲得的均聚碳酸酯或通過兩個(gè)或多個(gè)芳族二羥基化合物的異分子聚合反應(yīng)獲得的共聚碳酸酯。此外，可以是通過上述芳族二羥基化合物與一個(gè)或多個(gè)其它二羥基化合物的聚合而獲得的共聚碳酸酯。通過溶液方法的反應(yīng)通常為二羥酚和光氣之間的反應(yīng)，且通常在酸偶合劑和有機(jī)溶劑的存在下進(jìn)行。作為酸偶合劑，使用堿金屬氫氧化物，例如氫氧化鈉或氫氧化鉀，或胺化合物，例如吡啶。作為有機(jī)溶劑，使用鹵代烴，例如二氯甲烷或氯苯。為加速反應(yīng)，也可使用催化劑如叔胺、季銨化合物或季鱗化合物，其分別通過三乙胺、N-乙基-哌啶、四-正-丁基溴化銨，或四-正-丁基溴化鱗舉例說明。優(yōu)選地，反應(yīng)溫度為大約0-40°C，反應(yīng)時(shí)間為10分鐘-5小時(shí)，且反應(yīng)期間的PH不低于9。在聚合反應(yīng)中，通常使用封端劑。所用的這些封端劑可以是單官能團(tuán)酚類。這些單官能團(tuán)酚類通常用作調(diào)節(jié)分子量的封端劑。所獲得的聚碳酸酯樹脂具有其被基于單官能團(tuán)酚的基團(tuán)封端的末端，以使其在末端穩(wěn)定性方面優(yōu)于不是如上所述獲得的聚碳酸酯樹月旨。單官能團(tuán)酚類通常為苯酚類或低級(jí)烷基取代的酚類如苯酚、對(duì)_叔丁基苯酚、對(duì)_枯基苯酚、異辛基苯酚或長(zhǎng)鏈烷基酚類如癸基苯酚、十二烷基苯酚、十六烷基苯酚、十八烷基苯酚、二十烷基苯酚、二十二烷基苯酚和三十烷基苯酚。封端劑以獲得適宜分子量的量引入。封端劑可單獨(dú)或組合使用。聚碳酸酯或共聚碳酸酯的平均分子量的特征在于聚合物溶液在二氯乙烷中的相對(duì)溶液粘度(用Ubbelhode毛細(xì)管粘度計(jì)測(cè)量，毛細(xì)管類型0C)。聚合物濃度為5g/l，測(cè)量在25°C的溫度下進(jìn)行。相對(duì)溶液粘度在1.15-1.30范圍內(nèi)，優(yōu)選在1.18-1.25范圍內(nèi)，尤其優(yōu)選在1.19-1.23范圍內(nèi)。通過熔化方法進(jìn)行的反應(yīng)通常為二羥酚和碳酸酯之間的酯交換反應(yīng)，并可通過包括在惰性氣體的存在下，在加熱下使二羥酚和碳酸酯混合，并餾出生成的醇或酚的方法進(jìn)行。雖然反應(yīng)溫度與例如生成的醇或酚的熔點(diǎn)不同，但通常為120-350°C。在反應(yīng)期間的后半段，反應(yīng)系統(tǒng)減壓至大約1.33x10s至13.3Pa的壓力，以促使生成的醇或酚的蒸餾。反應(yīng)時(shí)間通常為1-4小時(shí)。在碳酸酯中，有諸如C6-Cltl芳基或芳烷基或C1-C4烷基酯的酯，其有時(shí)候可被取代，特別是，碳酸二苯酯、雙(氯代苯基)碳酸酯、碳酸二萘基(dinaphtyl)酯、雙(二苯基)碳酸酯、碳酸二甲酯、碳酸二乙酯和碳酸二丁酯。在這些酯中，最優(yōu)選碳酸二苯酯。為加速聚合，也可使用聚合催化劑。因而可使用這些聚合催化劑，常規(guī)用于酯化或酯交換反應(yīng)的那些催化劑，例如堿金屬化合物，如氫氧化鈉、氫氧化鉀或二羥酚的鈉鹽或鉀鹽、堿土金屬化合物，例如氫氧化鈣、氫氧化鋇或氫氧化鎂、含氮堿性化合物，例如四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、三甲基胺或三乙胺、堿金屬或堿土金屬的醇鹽、含磷堿性化合物如四苯基鱗苯酚鹽(phenolat)或堿金屬或堿土金屬的有機(jī)酸鹽、鋅化合物、硼化合物、鋁化合物、硅化合物、鍺化合物、有機(jī)錫化合物、鉛化合物、鋨化合物、銻化合物、錳化合物、鈦化合物或鋯化合物。這些催化劑可單獨(dú)或組合使用。這些催化劑優(yōu)選以相對(duì)于作為起始原料的1摩爾二羥酚的lxlO—8至lxlO—3當(dāng)量，更優(yōu)選lxl(T至5xl(T4當(dāng)量的量使用。由于在聚合中的異構(gòu)化反應(yīng)，芳族聚碳酸酯樹脂可含有三-或更多個(gè)官能團(tuán)的芳族化合物或在該聚合物中含有支鏈配合劑(components)。三-或更多個(gè)官能團(tuán)的芳族化合物的實(shí)例優(yōu)選包括間苯三酚(phlorogrucin)、五羥基苯酚(phlorogrucide)、三酚類，例如4，6-二甲基-2，4，6-三(4-羥基苯基)庚烯-2，2，4，6-三甲基-2，4，6-三(4-羥基苯基)庚烷、1，3，5_三(4-羥基苯基)苯、1，1，1_三(4-羥基苯基)乙烷、1，1，1_三(3，5_二甲基-4-羥基苯基)乙烷、2，6_雙(2-羥基-5-甲基芐基)-4_甲基苯酚和4-(4-[1，1_雙(4-羥基苯基)乙基]苯)-α，α-二甲基η芐基苯酚、四(4_羥基苯基)甲烷、雙(2，4_二羥基苯基)酮、1，4_雙(4，4-二羥基三苯基甲基)苯、偏苯三酸、苯均四酸、二苯甲酮四羧酸及其亞氯酸(acidchlorites)。在這些化合物中，優(yōu)選1，1，1_三(4_羥基苯基)乙烷和1，1，1_三(3，5-二甲基-4-羥基苯基)乙烷。磷基熱穩(wěn)定劑可加入到熱塑性樹脂中。合適的磷基熱穩(wěn)定劑為例如，亞磷酸、磷酸、亞膦酸、膦酸及其酯。特別是，可指定亞磷酸酯化合物，例如亞磷酸三苯酯、亞磷酸三壬基苯酯、亞磷酸三(2，4_二-叔丁基苯基)酯、亞磷酸三癸酯、亞磷酸三辛酯、亞磷酸三(十八烷基)酯(trioctadecylphosphite)、亞磷酸二癸酯單苯酯、亞磷酸二辛酯單苯酯、亞磷酸二異丙酯單苯酯、亞磷酸一丁酯二苯酯、亞磷酸一癸酯二苯酯、亞磷酸一辛酯二苯酯、雙(2，6-二-叔丁基-4-甲基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、2，2-亞甲基雙(4，6-二-叔丁基苯基)辛基亞磷酸酯、雙(壬基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯和雙(2，4-二-叔丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯和磷酸酯化合物，例如磷酸三丁酯、磷酸三甲酯、磷酸三甲苯酯、磷酸三苯酯、磷酸三氯代苯酯、磷酸三乙酯、磷酸二苯酯甲苯酯、磷酸二苯酯一鄰聯(lián)苯基酯(diphenylmonoorthoxenylphosphate)、三丁氧基乙基磷酸酯、二丁基磷酸酯和二異丙基磷酸酯。另外的磷基熱穩(wěn)定劑為例如四(2，4_二-叔丁基苯基)-4，4'-聯(lián)亞苯基二次膦酸酯(diphosphonite)、二次膦酸四(2，4_二-叔丁基苯基)_3，3‘-聯(lián)亞苯基酯和次膦酸雙(2，4-二-叔丁基苯基)-4-聯(lián)亞苯基酯。在這些化合物中，優(yōu)選三壬基苯基次膦酸酯、二硬脂酰季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2，4_二-叔丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、三(2，4-二-叔丁基苯基)亞磷酸酯、磷酸三苯酯、磷酸三甲酯、四(2，4-二-叔丁基苯基)-4，4'-聯(lián)亞苯基二次膦酸酯和雙(2，4-二-叔丁基苯基)-4-聯(lián)亞苯基次膦酸酯。這些熱穩(wěn)定劑可單獨(dú)使用或作為混合物使用。這些熱穩(wěn)定劑的量?jī)?yōu)選為相對(duì)于100重量份熱塑性樹脂組合物的0.0001-0.5重量份，更優(yōu)選0.0005-0.2重量份和最優(yōu)選0.002-0.2重量份。通常已知的抗氧化劑可加入到本發(fā)明的熱塑性樹脂中以預(yù)防氧化?？寡趸瘎┑膶?shí)例為酚-基抗氧化劑?？寡趸瘎┑牧?jī)?yōu)選為基于熱塑性樹脂的0.0001-0.05wt%。一元醇或多元醇的高級(jí)脂肪酸酯可任選加入到本發(fā)明的熱塑性樹脂中。通過混合一元醇或多元醇的高級(jí)脂肪酸酯，改善在熱塑性樹脂成型時(shí)從模具中的脫出性(releasability)，并使在光盤基片成型時(shí)的脫開力(releaseload)變小，由此使防止光盤基片的變形和因脫模失敗所致的凹陷斷層(Pitdislocation)成為可能。熱塑性樹脂的熔化流動(dòng)性也得到改善。醇和高級(jí)脂肪酸的酯的量基于熱塑性樹脂計(jì)為0.01_2wt%，優(yōu)選0.015-0.5wt%,更優(yōu)選0.02-0.2wt%。添加劑如其它熱塑性樹脂、光穩(wěn)定劑、著色劑、抗靜電劑和潤(rùn)滑劑可加入到用于本發(fā)明的光盤基片的樹脂中，加入的量在不削弱模制盤的濕氣吸收和濕度解吸收步驟中的減少翹曲的可轉(zhuǎn)錄性(transcribility)和作用的范圍內(nèi)。在本發(fā)明的樹脂組合物的制備中，可以理解，各種聚碳酸酯樹脂的混合和/或聚碳酸酯樹脂與其它樹脂的混合在聚合物溶液或模制品如顆?；蛄Ａ?pellet)的階段進(jìn)行。這不受特別的限制。作為混合的手段，在聚合物溶液的階段，主要使用裝配有攪拌器的容器，而在模制品如顆?；蛄Ａ系碾A段中，可使用滾筒式、雙筒混合器(twin-cylindermixer)、Nauter混合器、班拍里(Banbury)混合器、擠壓輥(kneadingroll)或擠壓機(jī)。無論在那種情況下，可使用任何技術(shù)且沒有特別的限制。在上述樹脂組合物中，各種填充劑可作為額外的成分加入，以改善剛度和振蕩阻尼特性。可列舉的填充劑有玻璃纖維、玻璃薄片、碳化纖維、研磨纖維、針狀單晶硅灰石、碳黑、碳納米管(nanotubes)、硅石微粒、氧化鈦顆粒、氧化鋁顆粒、滑石粉、云母和其它無機(jī)材料。也可使用耐熱性有機(jī)填充劑，例如芳族聚酰胺纖維、多芳基化合物纖維、聚苯并噻唑纖維和芳族聚酰胺(aramide)粉末。在使用這樣的成分的情況時(shí)，優(yōu)選滑石粉填充劑和石墨填充劑。這種成分加入的量?jī)?yōu)選為基于樹脂組合物重量計(jì)的l_30wt%。熱塑性樹脂組合物可通過捏和機(jī)，例如滾筒式、V-混合器、諾塔混合器、班拍里混煉機(jī)、擠壓輥或擠壓機(jī)將熱塑性樹脂組合物的各種成分混合來制備。更有效地，通過擠壓機(jī)，特別是雙筒_螺旋擠壓機(jī)，將各成分熔化和捏和在一起。丙烯酸樹脂合適的丙烯酸樹脂包括聚甲基異丁烯酸酯或甲基異丁烯酸酯和一種或多種其它成分的共聚物。這樣的成分的實(shí)例為丙烯酸烷基酯，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸辛酯、2-乙基己基丙烯酸酯、丙烯酸環(huán)己基酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸十八烷基酯、丙烯酸苯酯和丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸烷基酯，例如甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸辛酯、2-乙基己基甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸環(huán)己基酯、甲基丙烯酸十二烷基酯、甲基丙烯酸十八烷基酯、甲基丙烯酸苯酯和甲基丙烯酸芐酯，及其共聚物。也可使用丙烯酸樹脂的混合物。聚甲基異丁烯酸酯為最優(yōu)選的丙烯酸樹脂。丙烯酸樹脂的分子量Mw(重均分子量)經(jīng)光散射測(cè)定，優(yōu)選為50，000-2,000,000g/mol，更優(yōu)選60，000-1,000,000gt/mol，最優(yōu)選70，000-500,000g/mol且特別是80，000-300,OOOg/moL·這些丙烯酸樹脂也可以與上述聚碳酸酯的混合物形式使用。在這種情況下丙烯酸樹脂的量基于總組合物計(jì)，優(yōu)選少于50wt%，更優(yōu)選少于20wt%，特別優(yōu)選少于IOwt%。在與聚碳酸酯的混合物中，丙烯酸樹脂也可以是丙烯酸彈性材料。在這種情況下，其包含作為基本成分的丙烯酸酯橡膠成分，在必要時(shí)包含可與其共聚的甲基異丁烯酸酯、帶有C1-C8烷基的丙烯酸烷基酯和乙烯基單體作為共聚物成分。在這樣的丙烯酸彈性材料中，甲基異丁烯酸酯的量在100wt%彈性材料中占15-65wt%。丙烯酸酯橡膠含有C2-Cltl烷基丙烯酸酯以及必要時(shí)作為可與其共聚的成分的苯乙烯、甲基異丁烯酸酯或丁二烯。在C2-Cltl烷基丙烯酸酯的情況下，優(yōu)選2-乙基己基丙烯酸酯和丙烯酸正丁酯。這種丙烯酸烷基酯優(yōu)選以50wt%的量包含在IOOwt%的丙烯酸酯橡膠中。還優(yōu)選地，丙烯酸酯橡膠為至少部分交聯(lián)的。用于交聯(lián)的交聯(lián)劑的實(shí)例可以為例如，二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸丁二醇酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、甲基丙烯酸烯丙酯和二丙烯酸聚丙二醇酯。優(yōu)選地，0.01-3襯％的這些交聯(lián)劑用于丙烯酸酯橡膠中。作為丙烯酸彈性材料的優(yōu)選形式，其可優(yōu)選為丙烯酸酯橡膠成分，與必要時(shí)在多層中可與其共聚的甲基異丁烯酸酯、帶有C1-C8烷基的丙烯酸烷基酯、苯乙烯和乙烯基單體在聚合時(shí)獲得的芯殼結(jié)構(gòu)和多層結(jié)構(gòu)。這種丙烯酸彈性材料可通過任何已知的方法制備，例如嵌段聚合、懸浮聚合、嵌段-懸浮聚合、溶液聚合或乳液聚合。多層結(jié)構(gòu)也可含有在多級(jí)聚合(multi-stagepolymerization)中在接枝擴(kuò)散基極(graftbase)上不接枝的成分。這些有彈性的丙烯酸樹脂在以與上述聚碳酸酯的混合物形式使用時(shí)，優(yōu)選以少于10襯％的總組合物的量使用。更優(yōu)選其含量少于5wt%。聚苯乙烯樹脂適合于本發(fā)明的各種實(shí)施方案的苯乙烯(Styrenic)樹脂包括苯乙烯的均聚物、苯乙烯共聚物或苯乙烯熱塑性高彈體或混合物，例如聚苯乙烯和聚苯醚的混合物。這些材料以幾種形式采用，但最大的部分包括包含苯乙烯、異戊二烯和丁二烯的共聚物。共聚物包括三嵌段共聚物如S-B-S、S-I-S、S-EB-S和S-EP-S;交互的嵌段共聚物如(S-I)；接枝的嵌段共聚物如(S-B)和(S-I)和三嵌段共聚物/二嵌段共聚物的混合物(例如S-B-S/S-B)。這些苯乙烯樹脂可根據(jù)已知的聚合規(guī)則和通過已知的程序制備。苯乙烯聚合物，例如可通過HoubenWeyl的方法、有機(jī)化學(xué)的方法，第4版，Vol.XIV/1，pp.761-841，GeorgThieme-Verlag(1961)制備。它們也可以合適的形式從市場(chǎng)購(gòu)得。優(yōu)選游離基程序，但也可使用離子聚合程序。根據(jù)本發(fā)明使用的聚合物的分子量Mw通常為約2000，優(yōu)選在5000-5，000,000范圍內(nèi)，且特別優(yōu)選在20，000-200,000道爾頓范圍內(nèi)。(經(jīng)光散射測(cè)定；cf.Ullmann'sEncyclopediaofIndustrialChemistry,第4版，Vol.15,pp.285-387,VerlagChemie1978)。均聚物和共聚物也可通過已知的程序制備。(Cf.H.Rauch-Puntigam，Th.Volker,丙烯酸和甲基丙烯酸化合物，Springer-Verlag1967)。即使有可能在原則上通過陰離子聚合或基團(tuán)轉(zhuǎn)移聚合制備它們(也見O.W.Websteretal.,J.Am.Chem.Soc,105,5706(1983))，然而，優(yōu)選的制備形式為游離基聚合。苯乙烯熱塑性的高彈體的分子量Mw(重均分子量)經(jīng)光散射測(cè)定，一般高于2000，通常在10，000-2，000，000，優(yōu)選20，000-200，000道爾頓范圍內(nèi)。而且，也可使用來自一組無定形聚烯烴的聚合物。這樣的聚合物得自環(huán)烯烴的聚合，得自環(huán)烯烴的開環(huán)聚合以及特殊氫化的聚烯烴如氫化聚苯乙烯_基聚合物。聚環(huán)烯烴樹脂環(huán)烯烴的合適的聚合物包括，例如，烯烴和降冰片烯(norbonene)結(jié)構(gòu)如降冰片烯自身、四環(huán)十二烯(tetracyclododecene)、乙烯基降冰片烯或降冰片二烯的聚合產(chǎn)物。合適的聚環(huán)烯烴樹脂也包括此類烯烴與帶有烯烴的降冰片烯結(jié)構(gòu)的共聚物，例如，乙烯和降冰片烯以及乙烯和四環(huán)十二烯的共聚物。這樣的產(chǎn)物例如描述于日本專利申請(qǐng)Kokai(Laid-Open)No.292，601/86、日本專利申請(qǐng)Kokai(Laid-Open)No.26，024/85、日本專利申請(qǐng)Kokai(Laid-Open)Nos.19，801/87和19,802/87以及EP-A317262和EP-A532337中，這些文獻(xiàn)的全部?jī)?nèi)容通過參考各自結(jié)合到本文中。氫化聚苯乙烯樹脂合適的氫化聚苯乙烯_基聚合物可具有線性或星形支鏈結(jié)構(gòu)。線性形式例如描述于JP-B7-114030中，具有星形支鏈結(jié)構(gòu)的聚合物描述于例如WO0148031中。對(duì)于基片樹脂，也可使用上述聚合物的混合物。合適的添加劑如熱穩(wěn)定劑、脫模劑等以及填充劑也可加入到丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚環(huán)烯烴樹脂和氫化聚苯乙烯樹脂中。粘結(jié)劑材料粘結(jié)劑材料通常為UV-可固化的和自旋可涂布的(coatable)樹脂，其可包含粘合劑和活性稀釋劑和添加劑例如UV引發(fā)劑或溶劑。典型的光引發(fā)劑(UV引發(fā)劑)為α-羥基酮(Irgacure184，Ciba)、(Darocur1173,Ciba)或?；?acylphosphines)(DarocurTPO,Ciba)。粘合劑可選自以下類型例如聚氨酯丙烯酸酯例如DesmoluxXP2513、Desmoluxu100>Desmoluxυ200、DesmoluxXP2614或DesmoluxVPLS2220,BayerMaterialScienceAG或胺修飾的聚醚丙烯酸酯例如DesmolllXVPLS2299、BayerMaterialScienceAG或彈性聚酯丙烯酸酯例如DesmoluxLPWDJ1602,BayerMaterialScienceAG0聚氨酯丙烯酸酯可由含有(甲基)丙烯?；?acrylolyl)的醇和二-或多異氰酸酯合成。合成聚氨酯丙烯酸酯的方法為已知的并描述于例如DE-A-1644798、DE-A2115373或DE-A-2737406中。含有(甲基)丙烯?；拇伎梢允潜┧峄蚣谆┧崤c二-官能團(tuán)醇(包括一個(gè)游離羥基)所成的酯例如2-羥基乙基_、2或3-羥基丙基或2_，3_，4-羥基丁基-(甲基)丙烯酸酯及其混合物。也可使用含有單-官能團(tuán)(甲基)-丙烯?；拇蓟蚩墒褂弥饕纱祟惔冀M成的產(chǎn)物，所述醇通過使η-官能團(tuán)醇與(甲基)丙烯酸的酯化而獲得，由此也可使用不同的醇的混合物作為醇，只要η是大于2至4，優(yōu)選3的整數(shù)或均值(平均值)即可，且由此最優(yōu)選按每摩爾上述醇使用(η-1)摩爾(甲基)丙烯酸。此外，可使用含有單_官能團(tuán)(甲基)丙烯?；倪@些醇與ε(印silon)-己內(nèi)酯所成的產(chǎn)物。由羥基烷基(甲基)丙烯酸與ε(epsilon)-己內(nèi)酯所成的產(chǎn)物是優(yōu)選的。對(duì)于二-或多異氰酸酯，原則上所有的(環(huán))脂族、脂族和芳族結(jié)構(gòu)都是合適的，優(yōu)選的(環(huán))脂族結(jié)構(gòu)例如六-亞甲基-二-異氰酸酯或異佛爾酮二-異氰酸酯、三-甲基六-亞甲基二-異氰酸酯、二-(異氰酸基(isocyanato)環(huán)己基)甲烷或它們與聚氨酯-異氰脲酸酯_、脲基甲酸酯_、縮二脲_、uretdion-結(jié)構(gòu)所成的衍生物，及其混合物。合適的胺修飾的聚醚丙烯酸酯在原則上是已知的并可通過甲基丙烯酸與3個(gè)官能團(tuán)醇及其混合物的酯化及隨后與伯胺的反應(yīng)來制備。屬于些醇或其混合物的有例如烷氧基化ο甘油或三羥甲基(trimethylol)丙烷的低分子量產(chǎn)物，例如環(huán)氧乙烷和三羥甲基丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物(含有550mgK0H/g的OH-數(shù))。每摩爾醇優(yōu)選使用0.7-0.9mol(甲基丙烯酸)酸。對(duì)于隨后與伯胺的反應(yīng)，單-烷基胺和羥基烷基胺是合適的，例如羥基乙基胺。所用的單-烷基胺的量相當(dāng)于單-烷基胺和(甲基)丙烯酸雙鍵的摩爾比0.0051至0.41，優(yōu)選0.011至0.31。合適的聚酯丙烯酸酯是低粘性產(chǎn)物，其原則上根據(jù)已知的共沸酯化方法合成。特別合適的是聚酯丙烯酸酯，其由α、β-乙烯的(ethylenic)不飽和碳酸、烷氧基化聚醚三醇，尤其是丙氧基化三醇和丙烯酸組成，由此優(yōu)選OH-基團(tuán)與羧基的比率為1，2至1，6?；钚韵♂寗┛蛇x自以下種類乙氧基化烷基丙烯酸酯如2-(2-乙氧基乙氧基)乙基丙烯酸酯(SartomerSR256,Sartomer)和t丙烯酸單-官能團(tuán)酯如乙氧基化苯基丙烯酸酯如乙氧基化(3)苯酚單丙烯酸酯(Photomer4039F，Cognis)、烷基丙烯酸酯如月桂基_或硬脂酰丙烯酸酯、環(huán)脂族丙烯酸酯如異冰片基丙烯酸酯和雜環(huán)丙烯酸酯如四氫化糠基丙烯酸酯。透光層透光層通常為UV-可固化的和自旋可涂布的樹脂，其具有在405nm處測(cè)量的至少1.41的折射率的實(shí)數(shù)部分。樹脂可包含粘合劑和活性稀釋劑分子和另外的添加劑例如UV引發(fā)劑或溶劑。典型的光引發(fā)劑(UV引發(fā)劑)為α-羥基酮如1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(Irgacure184，Ciba)或如2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮(Darocur1173,Ciba)，或單酰基膦如2，4，6_三甲基苯甲?；?二苯基-膦氧化物(phosphineoxide)(DarOCUrΤΡ0，Ciba)。粘合劑分子可選自例如聚氨酯丙烯酸酯或聚醚丙烯酸酯類?；钚韵♂寗┛蛇x自乙氧基化烷基丙烯酸酯、乙氧基化苯基丙烯酸酯、環(huán)脂族丙烯酸酯和雜環(huán)丙烯酸酯。作為高折射率層涂層A(HRI)的透光層高折射率透光層(涂層A)可從澆鑄溶液k*獲得，將澆鑄溶液k*施加于基片(S)或施加于信息和記錄層(B)上并交聯(lián)。成分A*(澆鑄溶液)根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案的澆鑄溶液A*包括以下成分Al含有納米微粒和水與至少一種有機(jī)溶劑的混合物的懸浮液，A2粘合劑和任選A3其它添加劑。如本文所用的，納米微粒應(yīng)理解為具有平均粒度(d5(1)少于lOOnm，優(yōu)選0.5-50nm,特別優(yōu)選l-40nm，更特別優(yōu)選5-30nm的顆粒。優(yōu)選的納米微粒另外具有少于200nm，特別是少于lOOnm，特別優(yōu)選少于40nm，更特別優(yōu)選少于30nm的d9(l值。納米微粒優(yōu)選以單分散(monodisperse)形式存在于懸浮液中。平均粒度d5(1為在各種情況下50wt.%的顆粒粒度在該直徑上下范圍內(nèi)。D9tl值為90wt.%的顆粒粒度低于該直徑。激光散射或優(yōu)選地，使用分析超速離心法(AUC)對(duì)測(cè)定粒度和證實(shí)單分散性將是合適的。AUC是本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的，如在"ParticleCharacterization",Part.Part.Syst.Charact.,1995,12,148-157中所述。為制備成分Al(含有納米微粒和水與至少一種有機(jī)溶劑的混合物的懸浮液)，A1203、ZrO2,ZnO、Y2O3>SnO2,SiO2,CeO2,Ta2O5,Si3N4,Nb2O5,NbO2,HfO2或TiO2的納米微粒的含水懸浮液是合適的，CeO2納米微粒的含水懸浮液是特別合適的。特別優(yōu)選地，納米微粒的含水懸浮液包含一種或多種酸，優(yōu)選羧酸RC(O)OH,其中R=HK1至C18-烷基，其可任選被鹵素，優(yōu)選被氯和/或溴取代；或C5-至C6-環(huán)烷基、C6-至C2tl-芳基或C7-至C12-芳烷基，其各自可任選被C1至C4-烷基和/或鹵素(優(yōu)選氯、溴)取代。R優(yōu)選甲基、乙基、丙基或苯基且特別優(yōu)選乙基。納米粒子懸浮液也可含有作為酸的無機(jī)酸，例如硝酸、鹽酸或硫酸。納米微粒的含水懸浮液優(yōu)選含有基于酸和水的總重量份計(jì)的0.5-10重量份，特別優(yōu)選1-5重量份的酸。例如，得自NyacolNanoTechn.，Inc.，USA的納米粒子懸浮液NanoCeriaCeO2-ACT(用乙酸制得的CeO2納米微粒的含水懸浮液，pH值=3.0)和CeO2-NIT(用硝酸制得的CeO2納米微粒的含水懸浮液，pH值=1.5)是合適的。用至少一種有機(jī)溶劑替代來自這些含水懸浮液中的部分水。這種部分溶劑的交換通過蒸餾或通過膜滲濾作用進(jìn)行，優(yōu)選通過超濾，例如根據(jù)"交叉-流動(dòng)"方法進(jìn)行。交叉_流動(dòng)超濾是一種工業(yè)規(guī)模的超濾形式(M.Mulder=BasicPrinciplesofMembraneTechnology,KluwerAcad.Publ.，1996，第1版)，其中待過濾的溶液(進(jìn)料溶液)穿過膜成切線方向流動(dòng)。這種溶劑交換優(yōu)選使用至少一種選自醇、酮、二酮、環(huán)醚、二醇、乙二醇醚、乙二醇酯、N-甲基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲亞砜、二甲基乙酰胺和丙烯碳酸酯的溶劑。給定的優(yōu)先選擇是使用選自上述溶劑類的至少兩種溶劑的溶劑混合物，特別優(yōu)選使用1-甲氧基-2-丙醇和雙丙酮醇的溶劑混合物。給定的特別的優(yōu)選是使用1-甲氧基-2-丙醇(MOP)和雙丙酮醇(DAA)的溶劑混合物，優(yōu)選比例為955-3070，特別優(yōu)選為9010-5050。水可存在于溶劑中，優(yōu)選的用量是至多20wt.%，更優(yōu)選的量為5-15wt.在本發(fā)明的進(jìn)一步的實(shí)施方案中，納米微粒的懸浮液可通過在至少一種上述有機(jī)溶劑中進(jìn)行溶劑交換，然后加入額外的溶劑來制備，這種額外的溶劑選自醇、酮、二酮、環(huán)醚，例如四氫呋喃或二氧六環(huán)、二醇、乙二醇醚、乙二醇酯、N-甲基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲亞砜、二甲基乙酰胺、solketal、丙烯碳酸酯和烷基乙酸酯，例如乙酸丁基酯，在該實(shí)施方案中，水可存在于溶劑中，優(yōu)選的用量是至多20wt.%，更優(yōu)選的量為5-15wt.%。給定的優(yōu)選選擇是使用由聚醚聚砜制備的超濾膜，其優(yōu)選具有少于200，000D,優(yōu)選少于150，000D，特別優(yōu)選少于100，000D的截止值(cut-off)。膜的截止值定義如下保留相應(yīng)的大小的分子(例如200，000D和更大)，而分子和較小尺寸的顆粒能夠通過(“BasicPrinciplesofMembraneTechnology“,Μ.Mulder,KluwerAcademicPublishers,1996，第1版)。這樣的超濾膜即使在溶劑高流速穿過時(shí)也保留納米微粒。根據(jù)本發(fā)明，溶劑交換通過連續(xù)的過濾產(chǎn)生，通過的水被相應(yīng)量的溶劑或溶劑混合物替換。作為聚合物膜的一種選擇，也可在溶劑交換過程的步驟中使用陶瓷膜。根據(jù)本發(fā)明的這種實(shí)施方案的方法的特征在于，水被一種上述有機(jī)溶劑或溶劑混合物的替換在生成的納米粒子懸浮液(成分Al)中不會(huì)降至低于5wt.%的極限值。優(yōu)選地，水被有機(jī)溶劑或溶劑混合物的替換應(yīng)如此進(jìn)行，以使生成的納米粒子懸浮液(成分Al)具有5-50wt.%，優(yōu)選7-30wt.%，特別優(yōu)選10-20wt.%的含水量。生成的納米粒子懸浮液優(yōu)選含有l(wèi)_50wt.%，更優(yōu)選5-40wt.%，特別優(yōu)選15-35wt.%的納米微粒(下文稱為納米粒子固體部分)。如果納米粒子懸浮液在膜單元(mumbranecell)上的溶劑交換進(jìn)行較長(zhǎng)時(shí)間，如此導(dǎo)致水含量少于5wt.%，發(fā)生顆粒聚集，這樣生成的涂層不能滿足單分散性和高透明度的條件。在另一方面，如果在基于有機(jī)的納米粒子懸浮液中的含水量大于50wt.%，待用于后續(xù)步驟的粘合劑可不再溶于含水的懸浮液以得到澄清溶液，這樣在這兩種情況下，即是說，聚集的納米微粒或粘合劑不能溶解而得到澄清溶液，生成的涂層不能同時(shí)滿足對(duì)高折射率η和高透明度的要求。作為粘合劑(成分Α2)，可使用非活性熱干燥熱塑性塑料，例如聚甲基異丁烯酸酯(Elvacite，Tennants)或聚乙酸乙烯酯(Mowilith30，Synthomer)，以及活性單體成分兩者，后者在涂層后可通過化學(xué)反應(yīng)或通過光化學(xué)反應(yīng)得到高度交聯(lián)的聚合物基體。例如，交聯(lián)通過UV輻射進(jìn)行。鑒于增大的耐擦傷性，通過UV輻射的交聯(lián)是特別優(yōu)選的?；钚猿煞謨?yōu)選如上所述的UV-可交聯(lián)的丙烯酸酯系統(tǒng)，例如如p.G.Garratt在“StrahlenhSrtung‘‘1996,C.VincentzVIg.，Hannover中所述。粘合劑(成分A2)優(yōu)選選自聚乙酸乙烯酯、聚甲基異丁烯酸酯、聚聚氨酯和丙烯酸酯中的至少一種。粘合劑(成分A2)特別優(yōu)選選自二丙烯酸己二醇酯(HDDA)、二丙烯酸三丙二醇酯、一縮二季戊四醇五丙烯酸酯、一縮二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、二(三羥甲基丙烷)(ditrimethylolpropane)四丙烯酸酯(DTMPTTA)、三_(2-羥基乙基)-異氰脲酸酯三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、三_(2-羥基乙基)-異氰脲酸酯三丙烯酸酯和二丙烯酸己二醇酯(HDDA)中的至少一種。在澆鑄溶液中用作額外的添加劑(成分A3)的成分優(yōu)選至少一種選自光引發(fā)劑和熱引發(fā)劑(thermoinitiators)的添加劑?；跐茶T溶液的各成分的總重量份計(jì)，使用至多3重量份的添加劑(成分A3)，優(yōu)選0.05-1重量份，特別優(yōu)選0.1-0.5重量份。典型的光引發(fā)劑(UV引發(fā)劑)為α-羥基酮(Irgacure184，Ciba)或單?；?DaroeureΤΡ0,Ciba)。引發(fā)UV聚合所需的能量(UV輻射的能量)的量在約0.5-4J/cm2，特別優(yōu)選在2.0-3.OJ/cm2涂布表面的范圍內(nèi)。作為額外的添加劑，由例如Byk/Altana(46483Wesel，德國(guó))以商品名BYK，例如BYR344.供應(yīng)的所謂涂層添加劑，也是合適的。用于根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案的高折射率涂層的澆鑄溶液A*可通過將至少一種粘合劑(成分A2)和任選的額外添加劑(成分A3)溶解于可含有水的有機(jī)溶劑或溶劑混合物中制備。使生成的溶液(下文稱為粘合劑溶液)與成分Al混合并任選過濾和脫氣。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，成分Al含有相同的有機(jī)溶劑或溶劑混合物作為粘合劑溶液。澆鑄溶液AM尤選具有以下組成12-30重量份，優(yōu)選13-25重量份，特別優(yōu)選14_19重量份的納米粒子固體部分，2-8重量份，優(yōu)選2.5-5重量份的粘合劑0-3重量份，優(yōu)選0.05-1重量份，特別優(yōu)選0.1_5重量份的額外添加劑(成分A3)，7-28重量份，優(yōu)選15-27重量份，特別優(yōu)選20_26重量份的水和32-79重量份，優(yōu)選42-70重量份，特別優(yōu)選50_63重量份的有機(jī)溶劑，各成分的重量份的總和歸一化至100。澆鑄溶液A*通常具有10_50wt.%，優(yōu)選14_28wt.%的固體含量。澆鑄溶液A*的固體含量為成分A2、A3和納米粒子固體部分的總和。粘合劑(成分A2)與納米粒子固體部分在澆鑄溶液中的比例優(yōu)選為4060至793，特別優(yōu)選為2674至1288。涂層A的層厚度通常可為lnm-3000nm，優(yōu)選200nm-2000nm，特別優(yōu)選500nm-1500nmo層厚度可通過澆鑄溶液中的固體含量來調(diào)節(jié)，特別是在自旋涂層方法的情況下。如果涂層的高層厚度是需要的，使用高固體含量的澆鑄溶液；如果需要較稀的涂層，使用低固體含量的澆鑄溶液。已涂布產(chǎn)品的涂層A的特性測(cè)定如下復(fù)數(shù)折射率的實(shí)數(shù)部分η和虛數(shù)部分k在400-410nm(即在藍(lán)光(bluelaser)的波長(zhǎng)范圍)波長(zhǎng)下測(cè)定。表面粗糙度經(jīng)AFM(原子力顯微鏡檢查法)測(cè)定為Ra值。為測(cè)定耐擦傷性，使具有尖部半徑50μm的金剛石針在施加40g的重力下，以1.5cm/s的推進(jìn)速度在該涂層上移動(dòng)，并測(cè)定產(chǎn)生的擦痕深度。各種測(cè)定方法的細(xì)節(jié)在有關(guān)已涂布產(chǎn)品的生產(chǎn)和測(cè)試的章節(jié)中給出?；琒:基片(S)包括從上述聚合物樹脂并通過下述的方法制備的盤形物品。通過將至少一個(gè)記錄層和一個(gè)透光層順序施加于基片上，形成光記錄介質(zhì)。生產(chǎn)用于光記錄介質(zhì)的基片的方法為從上述樹脂生產(chǎn)用于光記錄介質(zhì)的基片，可使用注入成型機(jī)(包括注入壓縮成型機(jī))通過注入成型形成光盤基片，該成型機(jī)裝配有具有滿足光記錄介質(zhì)和精確表面所需技術(shù)條件的凹紋和凹槽的母盤壓模。光盤基片的厚度可以是0.3-2.0mm。這種注入成型機(jī)可以是通常使用的機(jī)器，但優(yōu)選由具有低粘附于樹脂的、耐腐蝕性和耐磨性材料的圓筒和螺絲制得的機(jī)器，以抑制碳化物的產(chǎn)生和改進(jìn)光盤基片的可靠性。鑒于本發(fā)明的目的，模壓成型步驟的環(huán)境優(yōu)選盡可能的潔凈。重要的是，待模制的材料應(yīng)該完全干燥以除去水且應(yīng)該避免可引起熔化的樹脂分解的水分滯留。用于本發(fā)明的光盤基片的樹脂優(yōu)選具有足夠高的流動(dòng)性，其在注入成型或注入壓縮成型期間對(duì)可轉(zhuǎn)錄性(transcribility)有利。通過在本發(fā)明的基片的至少一側(cè)形成至少一種反射薄膜可生產(chǎn)光記錄介質(zhì)。反射薄膜的材料為元素金屬或復(fù)合金屬。Al或Au可單獨(dú)使用，或者優(yōu)選使用含有0.5-10wt%,優(yōu)選3.O-IOwt%的量的Ti的Al合金或含有0.5-10wt%的量的Cr的Al合金。反射薄膜可通過物理蒸汽沉積、離子束濺射、DC濺射或RF濺射(高頻濺射)形成。只有這種金屬薄膜(反射層)足以用于預(yù)先錄制的本發(fā)明的光記錄介質(zhì)，但除反射層外，可形成記錄層(例如相變薄膜和在可重寫的(rewriteable)或可記錄的和可記錄的光記錄介質(zhì)的情況下的染料，和在永磁-光記錄介質(zhì)的情況下的磁-光記錄膠片)和透光層，以獲得可重寫的或可記錄的本發(fā)明的光記錄介質(zhì)。相變薄膜記錄材料層由硫?qū)僭貑为?dú)或硫?qū)倩衔镏频谩Ｌ貏e是，可使用Te、Se或硫?qū)倩衔颻基材料如Ge-Sb-Te、Ge-Te、In-Sb-Te、In-Se-Te-Ag、In_Se、In-Se-Tl-Co、In-Sb-Se>Bi2Te3、BiSe、Sb2Se3或Sb2Te30具有永磁-光學(xué)特性，包括刻爾效應(yīng)或法拉第效應(yīng)的縱向磁化薄膜，例如Tb-Fe-Co的無定形合金薄膜，被用作永磁-光記錄膠片層。透光層在記錄層上形成。透光層由透過激光的材料制得并在透光層的一般說明的章節(jié)和澆注(eating)作為高折射率層(HRI)的透光層的一般說明的章節(jié)中有更具體的描述。形成透光層的方法在生產(chǎn)透光層的方法和生產(chǎn)作為高折射率層的透光層的方法的章節(jié)中有更具體的描述。而且，透光層的厚度限制在lnm-3000nm，優(yōu)選200nm-2000nm，特別優(yōu)選500nm-1500nm之間，以消除球面像差和色像差。本發(fā)明的光記錄介質(zhì)的基本組成已在上文描述?？蓪㈦娊橘|(zhì)層加入到上面的組成中，以控制光記錄介質(zhì)的光特性和熱性質(zhì)，在這種情況下，光反射層、第一電介質(zhì)層、記錄層、第二電介質(zhì)層和透光層，可以以上述次序形成在基片上。此外，本發(fā)明的上述光記錄介質(zhì)并不限制在基片上的唯一一個(gè)疊加層，其可包括上述的不同的層。其也應(yīng)具有多個(gè)疊加層，各自通過由也可用于透光層的材料制成的間隔層隔開。單一成分注入成型方法(1-K模制成型)在下文中，描述適用于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的光記錄介質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)I-K模制基片的制備，所述方法用于實(shí)驗(yàn)部分且不限制本發(fā)明的范圍，只要基片滿足楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)的要求。具有直徑120mm和厚度1.2mm的光盤基片使用裝配有模型AWM2313和DVD-ROM母盤壓模的ArburgAlldisc，由各粒料經(jīng)注入成型制備?；蛘呤褂醚b配有夾層平板、PhilipsCD-Mould和DVD-ROM母盤壓模的Arburg370U70030/302-K注入成型機(jī)。為此，對(duì)模子采用修飾的方式，以使其適合于夾層平板。對(duì)I-K模制基片，用同樣的樹脂的粒料供給該機(jī)器ο為形成各光記錄介質(zhì)，反射層(IOOnmAg)通過物理蒸汽沉積(LeyboldAl100)或通過DC濺射(ReuterLP800)在1-K模制基片上形成。根據(jù)上述方法，在其上形成HRI型的反射層和透光層。為形成用于根據(jù)ASTME756-05測(cè)量楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q的試驗(yàn)臂，臂可被剪裁成光記錄介質(zhì)的各基片或用記錄疊加層覆蓋的基片或用記錄覆蓋層和透光層覆蓋的基片，或?qū)碜杂糜诒景l(fā)明基片的相應(yīng)樹脂的試驗(yàn)臂經(jīng)直接I-K注入成型。兩種成分夾層注入成型方法(2-K模制成型)在下文中，描述適用于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的光記錄介質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)2-K夾層模制基片的制備，所述方法用于實(shí)驗(yàn)部分且不限制本發(fā)明的范圍，如果基片滿足楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)的要求。具有直徑120mm和厚度1.2mm的光盤基片使用裝配有夾層平板、PhilipsCD-Mould和DVD-ROM母盤壓模的Arburg370U70030/302-K注入成型機(jī)由各粒料注入成型。為此，對(duì)模子采用修飾的方式，以使其適合于夾層平板。對(duì)2-K夾層模制基片，用不同樹脂的粒料供應(yīng)機(jī)器，這些粒料將形成三層夾層基片，即由一種樹脂制成的芯層和由其它樹脂制成的兩個(gè)皮層。芯層厚度和皮層厚度的比例主要受配給原料的相對(duì)量的控制。在第一次噴丸(shot)時(shí)，皮層樹脂被注入模具的空腔，在第二次噴丸時(shí)，芯層被注入模具的空腔，和在第三次噴丸時(shí)，澆口再用皮層材料密封。為獲得均勻的芯層厚度，優(yōu)選以具有較高流動(dòng)性的樹脂形成皮層的這種方式選擇樹脂和處理溫度。為形成相應(yīng)的光記錄介質(zhì)并剪裁出(cutout)用于楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q測(cè)量的試驗(yàn)臂，采用如在單一成分注入成型方法(1-K模制成型)中描述的相同方法，除了試驗(yàn)臂的直接I-K注入成型外。UV-粘合方法(UV粘合)在下文中，描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的適用于光記錄介質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)UV-粘合基片的制備，所述方法用于實(shí)驗(yàn)部分且不限制本發(fā)明的范圍，如果基片滿足楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)的要求。具有直徑120mm和厚度0.6mm的盤使用附接有Singulus的流水生產(chǎn)線(Streamline)IIDVD-R的SingulusEMouldDVD-R機(jī)(裝配有來自Axxicon模具的ST-模具和DVD+R或DVD-R母盤壓模)由各粒料注入成型。通過使用失活的染料分散體和失活的金屬化的上述Singulus的流水生產(chǎn)線IIDVD-R的下游方法，但激活UV-粘合，由兩個(gè)0.6mm厚的光盤生產(chǎn)UV-粘合的基片。為此，將UV-粘合材料進(jìn)料給Singulus的流水生產(chǎn)線IIDVD-R粘結(jié)劑罐。將UV粘結(jié)劑分布在旋轉(zhuǎn)臺(tái)(spinstand)上，而UV固化通過使用以下設(shè)定進(jìn)行，以達(dá)到指定的粘合層厚度粘合層厚度約90μm約40μπι·轉(zhuǎn)速11800RPM4500RPM轉(zhuǎn)速2:2600RPM6500RPM·粘結(jié)劑的量1.2gr0.6gr·照射時(shí)間1·5sec0.9sec·基礎(chǔ)功率1.8kff1.8kff·最大功率4.Okff4.Okff·罐溫度34°C34°C·針溫度34°C34°C或者，UV-粘合的基片可通過使用實(shí)驗(yàn)室自旋涂布機(jī)(KarlSussCT62)，由兩個(gè)0.6mm厚的盤生產(chǎn)，一個(gè)0.6mm的盤被夾緊在涂布機(jī)上，通過已經(jīng)夾緊的光盤的內(nèi)圓周，以200RPM的低轉(zhuǎn)速涂布UV粘合材料。第二個(gè)0.6mm的盤被放置在第一個(gè)已夾緊的盤上，再將UV粘合材料通過以1500RPM旋轉(zhuǎn)自旋涂布機(jī)8秒鐘，在兩個(gè)光盤之間鋪開。為形成相應(yīng)的光記錄介質(zhì)并剪裁成(cutout)用于楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q測(cè)量的試驗(yàn)臂，采用如在單一成分注入成型方法(1-K模制成型)中描述的相同方法，除了試驗(yàn)臂的直接I-K注入成型外。用于生產(chǎn)透光層的方法通過自旋涂層，可將樹脂施加于基片的表面或信息和記錄層的表面。樹脂的隨后的交聯(lián)可在UV暴露裝置上進(jìn)行，例如為此，將已涂布的基片放置在傳送帶上，使其以大約Im/分鐘的速度移動(dòng)通過UV光源(Hg燈，80W)。該方法也可重復(fù)進(jìn)行以影響每m2的輻射能量。至少lj/cm2，優(yōu)選2-lOJ/cm2的輻射劑量是優(yōu)選的。然后可使已涂層的基片經(jīng)歷熱的后處理，優(yōu)選于60°C_120°C的溫度下，用熱空氣處理例如5-30分鐘。用于生產(chǎn)作為高折射率層(HRI)的透光層的方法涂層(A)可如下制備i)用至少一種有機(jī)溶劑替換含水納米粒子懸浮液中所含的部分水，以便生成的納米粒子懸浮液(成分Al)具有5-50wt.%的含水量，ii)加入至少一種粘合劑(成分A2)至納米粒子懸浮液(成分Al)中，得到澆鑄溶液(A*)，iii)將澆鑄溶液(A*)施加于基片(S)或信息和記錄層(B)上，和iv)通過熱或光化學(xué)方法交聯(lián)澆鑄溶液(A*)。優(yōu)選地，在步驟iii)之后，從用澆鑄溶液(A*)覆蓋的基片⑶完全或部分除去殘留的溶劑和/或在步驟iv)后獲得的涂層上施加熱后處理(thermalposttreatment)。澆鑄溶液Α*任選用超聲處理至多5分鐘，優(yōu)選10-60秒鐘，和/或通過濾器過濾，優(yōu)選用0.2μπι膜(如RC膜，Sartorius)過濾?？墒┘映曁幚硪云茐募{米粒子附聚物(如果存在的話)?？蓪茶T溶液施加于基片表面或信息和記錄層的表面。在優(yōu)選通過自旋除去過量的澆鑄溶液后，澆鑄溶液的殘留物保留在基片上，殘留物的厚度取決于澆鑄溶液的固體含量，而在自旋涂層的情況下，則取決于自旋條件?？扇芜x除去澆鑄溶液中所含的部分或全部溶劑，優(yōu)選通過熱處理。澆鑄溶液或殘留物的隨后的交聯(lián)通過熱方法(例如使用熱空氣)或光化學(xué)方法(例如UV光)進(jìn)行。光化學(xué)交聯(lián)可在UV暴露裝置上進(jìn)行，例如為此，將已涂布的基片放置在傳送帶上，使其以大約Im/分鐘的速度移動(dòng)通過UV光源(Hg燈，80W)。該方法也可重復(fù)進(jìn)行以影響每m2的輻射能量。至少lj/cm2，優(yōu)選2-lOJ/cm2的輻射劑量是優(yōu)選的。然后可使已涂層的基片經(jīng)歷熱的后處理，于60°C-120°C的溫度下，優(yōu)選用熱空氣處理例如5-30分鐘。因此本發(fā)明還提供生產(chǎn)透光層的方法，且包括以下步驟i)制備單分散納米粒子在至少一種有機(jī)溶劑中的懸浮液，從含水納米粒子懸浮液開始，除去存在于含水納米粒子懸浮液中的水并同時(shí)用至少一種有機(jī)溶劑替換，以使納米粒子懸浮液具有5-50wt.%的含水量，ii)加入至少一種粘合劑(成分A2)和任選的額外添加劑(成分A3)至該納米粒子懸浮液(成分Al)中，得到澆鑄溶液(A,，iii)將得自ii)的澆鑄溶液施加于基片或信息和記錄層⑶上，iv)任選除去澆鑄溶液中所含的部分或全部溶劑，優(yōu)選通過熱處理，得到基片上的殘留物，ν)通過熱或光化學(xué)方法，使該澆鑄溶液或殘留物交聯(lián)，和vi)任選對(duì)涂層進(jìn)行熱處理，優(yōu)選在60-120°C進(jìn)行。試驗(yàn)程序的描述1.楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q的測(cè)定為測(cè)定所述材料在約ΙΟΗζ-ΙΟΚΗζ頻率范圍內(nèi)的楊氏模數(shù)E和阻尼相關(guān)的因數(shù)Q(品質(zhì)因數(shù))，采用類似于ASTME756-05(圖1)中所述的設(shè)置。這種測(cè)量原理基于所涉及材料的搖臂(oscillatingbeam)的共振頻率fn的評(píng)價(jià)。為激發(fā)共振頻率，將該臂固定在壓電振蕩器(Piezo-shaker)的一側(cè)，其由從ImHz延伸至IOKHz范圍的模擬白噪聲信號(hào)驅(qū)動(dòng)。記錄所述臂對(duì)激發(fā)(exciation)例如速度相對(duì)于用激光多普勒振動(dòng)計(jì)(Laser-Doppler-Vibrometer)(LDV)在未固定于壓電振蕩器的臂尖端測(cè)量的頻率的響應(yīng)對(duì)例如速度相對(duì)于固定在壓電振蕩器的臂尖端激發(fā)的頻率的標(biāo)準(zhǔn)化(normalized)。從這個(gè)反應(yīng)曲線，如下計(jì)算E和Q:五=方程式1Ifβ=^"方程式2其中E=臂材料的楊氏模數(shù)(Pa)，fn=對(duì)模數(shù)η的共振頻率(Hz)，Afn=在模數(shù)η的半冪(half-power)時(shí)的全帶寬(FWHM)Hz，Cn=對(duì)夾緊-可自由振動(dòng)的(clamped-free)(均勻的)臂的模數(shù)η的系數(shù)，H=臂在震蕩方向的厚度(米)，1=臂的長(zhǎng)度(米)，!!=模數(shù)1，2，3，Q=臂材料的品質(zhì)因數(shù)，無量鋼的(dimensionless)，ρ=臂的質(zhì)量密度(kg/m3)例如，所述臂可剪裁成盤，這可根據(jù)上述程序制造或可被注入成型。這種描述應(yīng)不限制如何制備臂的方法，至少層結(jié)構(gòu)在臂厚度方向上看來是相同的。選擇臂寬度W為0.013m和選擇長(zhǎng)度1，以使共振頻率很好地適合測(cè)定的頻率范圍10HZ-10kHZ。在測(cè)量的fn低于2000Hz和測(cè)量的fn+1高于2000Hz處，采用從方程式1和方程式2開方得到的各個(gè)值，通過線性內(nèi)插法計(jì)算E和Q在2000Hz的值。2.使用AFM測(cè)量紋孔(Pit)高度紋孔高度通過原子力顯微鏡檢查法，以tapping模式測(cè)定。3.經(jīng)AFM測(cè)定的表面粗糙度表面粗糙度給定為Ra，根據(jù)ASTME_42.14STM/AFM，通過原子力顯微鏡檢查法，以Tapping模式(TappingMode)測(cè)得。4.質(zhì)量密度采用Mettler密度套件(Mettlerdensitykit)MettlerAT250H66765于室溫下，使用乙醇作為浸液，對(duì)剪裁成盤狀的樣品測(cè)量質(zhì)量密度P，或者將盤剪裁成已知寬度W、已知高度H和已知長(zhǎng)度1的矩形盤片。矩形盤片的質(zhì)量m通過用天平(例如MettlerAT250)稱重來確定和P通過P=m/(l·H·W)來計(jì)算。5.粘結(jié)劑厚度的測(cè)量盤的兩半的厚度Cl1和d2用SchenkPrometheus140脫機(jī)掃描儀在DVD基片模型中測(cè)定。粘合的盤的總厚度dt用SchenkPrometheus140脫機(jī)掃描儀在⑶基片模型中測(cè)定。粘結(jié)劑厚度dB從這些厚度通過下式計(jì)算dB=Clt-(Cl^d2)方程式36.芯層厚度dc和皮層厚度dsl和dS2的測(cè)定兩個(gè)皮層的厚度dsl和dS2和芯層的厚度dc通過體視顯微鏡在盤的橫截面的超薄切片上測(cè)定。7.傾角測(cè)量(Tiltmeasurement)用SchenkPrometheus140脫機(jī)掃描儀測(cè)量盤的傾角(tilt)。8.復(fù)數(shù)折射率的測(cè)量n*=n+ik涂層的復(fù)數(shù)折射率η*的實(shí)數(shù)部分η和復(fù)數(shù)折射率的虛數(shù)部分k(下文也稱為吸收常數(shù)k)從其發(fā)射光譜和反射光譜獲得。為獲得這些光譜，約100-300nm厚的涂層膜經(jīng)自旋涂層由稀釋溶液施用于石英玻璃載體上。這種層結(jié)構(gòu)的發(fā)射光譜和反射光譜通過來自STEAGETA-Optik,CD-測(cè)定系統(tǒng)(MeasurementSystem)ETA-RT的分光計(jì)測(cè)定，然后涂層的層厚和η和k的光譜依存性適于測(cè)定發(fā)射光譜和反射光譜。使用分光計(jì)的內(nèi)部軟件進(jìn)行擬合，該光譜計(jì)需要石英玻璃基片的η和k的光譜依存性，這種依存性已在先前的空白測(cè)量中確定，k與光強(qiáng)度的衰減常數(shù)α的關(guān)系如下眾方程式4Απλ為光的波長(zhǎng)。9.耐擦傷性的測(cè)定為測(cè)定盤基片上的涂層的耐擦傷性，使用具有尖部半徑50μm的金剛石針，以1.5cm/s的推進(jìn)速度和施加40g的重力，在已涂層的基片上沿徑向從內(nèi)向外造成擦痕。擦痕深度使用來自Tencor的AlphaSt印500步長(zhǎng)斷面儀(profiler)測(cè)量。這種擦痕深度被作為耐擦傷性的量度。擦痕深度值小意味著相應(yīng)涂層的高耐擦傷性。10.涂層溶液的含水量的測(cè)定涂層溶液的含水量通過KarlFischer方法測(cè)定。11.透光層厚度的測(cè)定對(duì)于lnm-1500nm的厚度范圍，采用如將透光層施用于本發(fā)明的光記錄介質(zhì)的基片的相同方法，將透光層施用于透明的BPA-聚碳酸酯CD-基片，用空白母盤壓模(不存在凹紋和凹槽)模制所述基片。該層結(jié)構(gòu)的發(fā)射光譜和反射光譜通過來自STEAGETA-Optik,CD-測(cè)定系統(tǒng)(MeasurementSystem)ETA-RT的分光計(jì)測(cè)定，該涂層的層厚適于測(cè)定的發(fā)射光譜和反射光譜。使用分光計(jì)的內(nèi)部軟件進(jìn)行擬合，該分光計(jì)需要聚碳酸酯基片的η和k的光譜依存性，這種依存性已在先前的空白測(cè)量中確定，而透光層的η和k根據(jù)復(fù)數(shù)折射率n*=n+ik的測(cè)定中的描述測(cè)定。對(duì)于1500nm-150000nm的厚度范圍，已施用于光記錄介質(zhì)的基片的透光層的厚度通過帶有模"用于藍(lán)光/數(shù)字視頻記錄(DVR)光盤的ETA-DVR測(cè)量系統(tǒng)"的CD-測(cè)量系統(tǒng)ETA-RT測(cè)量。為此，透光層的復(fù)數(shù)折射率的實(shí)數(shù)部分η是必需的，其根據(jù)復(fù)數(shù)折射率n*=n+ik的測(cè)量中的描述測(cè)定?，F(xiàn)在將參照以下非限制性實(shí)施例更詳細(xì)地描述本發(fā)明。實(shí)施例IOOnmAg的反射層⑶(如果施用)通過DC濺射(ReuterLP800)在基片⑶上形成。透光層，如果施用于基片(S)上的反射層上，由以下成分和程序獲得成分A.0二氧化鈰CeO2-ACTCeO2的含水懸浮液20wt.%CeO2納米微粒在77wt.%水和3wt.%乙酸中，懸浮液的pH值3.0，懸浮的CeO2納米微粒的粒度10_20nm，比重(spec，weight):1.22g/ml，粘度IOmPa·s，生產(chǎn)商=NyacolInc.,Ashland,ΜΑ,USA.成分Α.2-1粘合劑一縮二季戊四醇五_/六-丙烯酸酯(DPHA，Aldrich)。成分Α.2-2粘合劑二丙烯酸己二醇酯(HDDA，Aldrich)。成分Α.3UV光引發(fā)劑Irgacure184(l-羥基-環(huán)己基苯基酮)，CibaSpecialtyChemicalsInc.,Basel,瑞士。以下成分用作實(shí)施例中的有機(jī)溶劑1-甲氧基-2-丙醇(MOP)，生產(chǎn)商=Aldrich雙丙酮醇(DAA)，生產(chǎn)商Aldrich。通過如下所述的交叉流動(dòng)超濾，將CeO2納米粒子的含水懸浮液(成分A.0)轉(zhuǎn)變?yōu)楹兴蚆OP的納米粒子的懸浮液(成分Α.1)。來自PALL(Centramate0S070C12)的帶有UF膜盒(membranecassette)(PES,MW100，000)的膜組件被用于交叉流動(dòng)超濾(UF)。在2.5巴的壓力下進(jìn)行滲透，棄去含水的滲透物并用醇溶劑1-甲氧基-2-丙醇(MOP)替換減少的滲余物。使用6.5升的成分A.0。如在下表中所示，在不同時(shí)長(zhǎng)的3次循環(huán)后終止過濾，且如此獲得納米粒子在有機(jī)溶劑MOP和水的混合物中的懸浮液(成分Α.1)。表1成分A.1的組成和特性<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>1)通過卡爾·費(fèi)歇爾滴定法測(cè)定2)含有3wt.%乙酸具有含水量IOwt.%的澆鑄溶液(成分A*)通過混合溶液A和溶液B獲得溶液A在攪拌下，將25g的成分A.2_1和6.2g的成分A.2_2溶解于108g溶劑DAA中。然后加入2.35g的成分A.3，于是形成澄清溶液。溶液B在玻璃燒瓶中，將54g溶劑DAA加入到435g的成分Α.1中并攪拌混合物，此時(shí)獲得透明的、黃色懸浮液，將其經(jīng)超聲處理30秒鐘。在此期間加入32.5g水。合并溶液A和B，然后再用超聲處理30秒鐘并經(jīng)0.2μm濾膜(MinisartRC膜)過濾。如下計(jì)算澆鑄溶液(成分A*)的組分表2澆鑄溶液成分A*的組成和特性<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table>1)由成分A.1產(chǎn)生的納米粒子固體部分(這里為CeO2)2)各澆鑄溶液的標(biāo)明的固體含量為成分A.2-1+成分A.2-2+成分A.3+納米粒子固體部分(CeO2)的總和。復(fù)數(shù)折射率的實(shí)數(shù)部分η經(jīng)在405nm處測(cè)定為1.84和復(fù)數(shù)折射率的虛數(shù)部分k經(jīng)在405nm處測(cè)定為0.004。為將涂層溶液(成分A*)施用于圓盤形基片(S)上的反射層(B)上，將成分A*通過自旋涂布，將成分YWsringe以低轉(zhuǎn)速240RPM，經(jīng)2.1秒鐘的時(shí)間涂布到已夾緊基片的內(nèi)徑上，將成分k*以750RPM，經(jīng)3.5秒鐘的時(shí)間分布在盤的總面積上，以10RPM，經(jīng)40秒鐘的時(shí)間，調(diào)整已分布的成分A*，通過以3000RPM的高旋轉(zhuǎn)速度自旋40秒鐘除去過量的成分k*。用汞燈以5.5J/cm2使涂層交聯(lián)。透光層的殘留物層厚度為730nm。比較實(shí)施例1根據(jù)在單一成分注入成型方法(1-K模制成型)，本發(fā)明的光記錄介質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)I-K模制基片的制備中描述的方法，具有120mm直徑、1.2mm厚度的盤由雙酚A聚碳酸酯(BPA-PC，相對(duì)溶液粘度1.202)MakrolonOD2015在裝配有模型AWM2313和DVD-ROM母盤壓模的ArburgAlldisc注入成型機(jī)模制而成。為形成用于依照ASTME756-05測(cè)定楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q的試驗(yàn)臂(testbeam)，將臂剪裁成具有長(zhǎng)度1=114mm，厚度H=1.2mm和寬度W=12.7mm的各個(gè)盤。質(zhì)量密度經(jīng)Mettler密度套件MettlerAT250H66765測(cè)定為1.190g/cm3。隨即楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q在2000Hz處測(cè)定為E=2.53GPa和Q=167。比較實(shí)施例2根據(jù)在單一成分注入成型方法(1-K模制成型)，本發(fā)明的光記錄介質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)I-K模制基片的制備中描述的方法，具有13.Imm寬度W和81mm長(zhǎng)度1的1.64mm厚的試驗(yàn)臂由聚苯乙烯(CAS-no.298-07-7，分子量140000道爾頓，Aldrich/德國(guó))在Arburg370注入成型機(jī)上直接注入成型。質(zhì)量密度經(jīng)Mettler密度套件MettlerAT250H66765測(cè)定為1.014g/cm3。隨即楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q在2000Hz處按照ASTME756-05測(cè)定為E=3.28GPa禾口Q=175。比較實(shí)施例3根據(jù)在單一成分注入成型方法(1-K模制成型)，本發(fā)明的光記錄介質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)I-K模制基片的制備中描述的方法，具有13.Imm寬度W和81mm長(zhǎng)度1的1.64mm厚的試驗(yàn)臂由具有溶液粘度1，202和20重量碳纖維(碳纖維Tenax-UType234,TohoTenaxEuropeGmbHWuppertal德國(guó))的雙酚A制得的聚碳酸酯化合物(化合物4)在Arburg370注入成型機(jī)上直接注入成型。質(zhì)量密度經(jīng)Mettler密度套件MettlerAT250H66765測(cè)定為1.206g/cm3。隨即楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q在2000Hz處按照ASTME756-05測(cè)定為E=6.18GPa和Q=170。實(shí)施例1(基片)化合物(化合物1)由具有溶液粘度1.202的79，95wt.%BPA-聚碳酸酯(MakrolonOD2015,BayerMaterialScience)、5wt.%聚甲基甲基丙烯酸酯(PMMA6N，Degussa)、15wt.%滑石粉(FinntalcM05SL，MondoMinerals,Helsinki/芬蘭)和0，05wt.%甘油單硬脂酸酯(Dimodan，Danisco/德國(guó))制備，方法是通過在ZSK25/4擠壓機(jī)(CoperionHoldingGmbH,Stuttgart/德國(guó))上混合各成分并將熔融的擠壓條(strands)在水浴中冷卻后造粒。這些粒料在I-K注入成型過程中，以單一成分注入成型方法(1-K模制成型)，使用裝配有夾層板，PhilipsCD-Mould和DVD-ROM母盤壓模的Arburg370U70030/302-K注入成型機(jī)模制成如上所述的120mm直徑和1.2mm厚度的盤。如在單一成分注入成型方法(1-K模制成型)中所述，從該盤基片制備試驗(yàn)臂。測(cè)量的楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q描述于表3中。實(shí)施例2(光記錄介質(zhì))將如上所述的反射層和透光層施用于實(shí)施例1的盤基片上。擦痕深度被測(cè)定為0.638μm和表面粗糙度被測(cè)定為Ra=9.99nm,如在單一成分注入成型方法(1_K模制成型)中所述，從該盤基片制備試驗(yàn)臂。測(cè)量的楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q描述于表3中。實(shí)施例3(基片)化合物(化合物2)由59.90wt.%BPA-聚碳酸酯(MakrolonOD2015,BayerMaterialScience)、IOwt.%聚甲基甲基丙烯酸酯(PMMA6N,Degussa)、30wt.%滑石粉(FinntalcM05SL,MondoMinerals，Helsinki/芬蘭)、0.05wt.%雙(2-乙基己基)磷酸酯(CAS-no.298-07-7，AlfaAesarGmbH&CoKG,Karlsruhe/德國(guó))和0.05wt.%甘油單硬脂酸酯(Dimodan，Danisco/德國(guó))通過在ZSK25/4擠壓機(jī)(CoperionHoldingGmbH,Stuttgart/德國(guó))混合各成分并將熔融的擠壓條(strands)在水浴中冷卻后造粒來制備。這些粒料在I-K注入成型過程中，以單一成分注入成型方法(1-K模制成型)，使用裝配有夾層板，PhilipsCD-Mould和DVD-ROM母盤壓模的Arburg370U70030/302-K注入成型機(jī)模制成如上所述的120mm直徑和1.2mm厚度的盤。如在單一成分注入成型方法(1_K模制成型)中所述，從該盤基片制備試驗(yàn)臂。測(cè)量的楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q描述于表3中。實(shí)施例4(光記錄介質(zhì))將如上所述的反射層和透光層施用于實(shí)施例3的盤基片上。擦痕深度被測(cè)定為0.706μm和表面粗糙度被測(cè)定為Ra=8.06nm。如在單一成分注入成型方法(1_K模制成型)中所述，從該盤基片制備試驗(yàn)臂。測(cè)量的楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q描述于表3中。實(shí)施例5(基片)化合物(化合物3)由77.95wt.%BPA-聚碳酸酯(MakrolonOD2015,BayerMaterialScience)UOwt.%聚甲基甲基丙烯酸酯(PMMA6N，Degussa)、12wt.%石墨Cond5/99(GraphitKropfmuhlAG，Hauzenberg/德國(guó))和0.05wt.%甘油單硬脂酸酯(Dimodan，Danisco/德國(guó))通過在ZSK25/4擠壓機(jī)(CoperionHoldingGmbH,Stuttgart/德國(guó))混合各成分并將熔融的擠壓條(strands)在水浴中冷卻后造粒來制備。這些粒料在1_K注入成型過程中，以單一成分注入成型方法(1-Κ模制成型)，使用裝配有夾層板，PhilipsCD-Mould和DVD-ROM母盤壓模的Arburg370U70030/302-K注入成型機(jī)模制成如上所述的120mm直徑和1.2mm厚度的盤。如在單一成分注入成型方法(1_K模制成型)中所述，從該盤基片制備試驗(yàn)臂。測(cè)量的楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q描述于表3中。實(shí)施例6(光記錄介質(zhì))將如上所述的反射層和透光層施用于實(shí)施例3的盤基片。擦痕深度被測(cè)定為0.690μm和表面粗糙度被測(cè)定為Ra=3.7nm。如在單一成分注入成型方法(1_K模制成型)中所述，從該盤基片制備試驗(yàn)臂。測(cè)量的楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q描述于表3中。表3:1-Κ模制成型樹脂/化合物密度在2kHz的在2kHz(g/cm3)E(GPa)的Q實(shí)施例1化合物11.2974Λ6103實(shí)施例2化合物11.298456107實(shí)施例3化合物21.4317Γ678Z8實(shí)施例4化合物21.4277746937實(shí)施例5化合物31.2454791690實(shí)施例6化合物31.259δΓΤοTL2比較實(shí)施例1BPA-聚碳酸酯~~1.190253167比較實(shí)施例2聚苯乙烯1.014328175樹脂/化合物密度在2kHz的在2kHz(g/cm3)E(GPa)的Q比較實(shí)施例3化合物41.2066ΓΤ8170實(shí)施例7120mm直徑和1.2mm厚度的2_K夾層注入成型模制盤如在上文兩種成分的夾層注入成型方法(2-Κ模制成型)中所述，使用裝配有夾層板、Philips⑶-Mould和DVD-ROM母盤壓模的Arburg370U70030/302-K注入成型機(jī)，由在實(shí)施例3中描述的作為芯樹脂的化合物2的粒料和作為作為表皮樹脂的BPA-聚碳酸酯的粒料(MakrolonOD2015,BayerMaterialScience)制成。機(jī)器設(shè)置被設(shè)定在第一次噴丸時(shí)的50%配料體積的表皮材料在和在第二次噴丸時(shí)的50%配料體積的芯材料。在第三次噴丸時(shí)用表皮材料密封注入口。在該盤上測(cè)定的平均芯層厚度d。為57%的總厚度和兩個(gè)平均表皮層厚度dsl和dS2分別為21.5%的總厚度。如在兩種成分的夾層注入成型方法(2-K模制成型)中所述，從該盤基片制備試驗(yàn)臂。測(cè)量的楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q描述于表4中。實(shí)施例8將如上所述的反射層和透光層施用于實(shí)施例7的盤基片上。擦痕深度被測(cè)定為0.665μm和表面粗糙度被測(cè)定為Ra=7.91nm。如在兩種成分的夾層注入成型方法(2-K模制成型)中所述，從該盤基片制備試驗(yàn)臂。測(cè)量的楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q描述于表4中。表4:2-K夾層模制成型皮層pS密度在2kHz的EI在2kHz(g/cm3)(GPa)的Q實(shí)施例7BPA-聚碳酸酯化合物21.328344122實(shí)施例8BPA-聚碳酸酯化合物21.3243751136實(shí)施例9120mm直徑和1.2mm厚度的UV粘合的盤如在上文的UV-粘合方法(UV粘合)中所述，采用上述Singulus的流水生產(chǎn)線IIDVD-R的配置，由BPA-聚碳酸酯(MakrolonOD2015,BayerMaterialScience)粒料模制的0.6mm厚的兩個(gè)半盤制備。UV粘結(jié)劑由67.9wt.%DesmoluxXP2513,BayerMaterialScience,29.lwt.%SartomerSR256,Sartomer和2.9wt.%(Darocur1173，Ciba)的混合物組成。這些成分的混合使用SpeedMixer根據(jù)本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的技術(shù)狀況進(jìn)行。UV粘結(jié)劑的分布在自旋臺(tái)上進(jìn)行和UV固化也如上所述通過使用達(dá)到90μm粘合層厚度的設(shè)置進(jìn)行。在該盤上測(cè)量的平均粘合劑層厚度4為89μm。如在UV-粘合方法(UV粘合)中所述，從該盤基片制備試驗(yàn)臂。測(cè)量的楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q描述于表5中。實(shí)施例10將如上所述的反射層和透光層施用于實(shí)施例9的盤基片上。擦痕深度被測(cè)定為0.523μm和表面粗糙度被測(cè)定為Ra=3.6nm。如在UV-粘合方法(UV粘合)中所述，從該盤基片制備試驗(yàn)臂。測(cè)量的楊氏模數(shù)E和品質(zhì)因數(shù)Q描述于表5中。表5:UV粘合<table>tableseeoriginaldocumentpage27</column></row><table>本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解，可對(duì)上述實(shí)施方案進(jìn)行各種修改而不背離其廣泛發(fā)明概念。因此，應(yīng)該理解，本發(fā)明不限于公開的具體實(shí)施方案，而是意欲覆蓋由所附權(quán)利要求書限定的、在本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)的各種修飾。權(quán)利要求一種光記錄介質(zhì)，其包含基片和順序布置在基片上的記錄層和透光層；其中基片包含一個(gè)或多個(gè)選自注入成型部分、具有模制表面層和模制芯層的注入成型夾層結(jié)構(gòu)或兩個(gè)經(jīng)UV-粘合的注入成型部分，及其組合的部分；且其中基片在25℃、2000Hz下，按照ASTME756-05測(cè)定時(shí)，具有至少2.15GPa的楊氏模數(shù)E和低于160的品質(zhì)因數(shù)。2.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中基片在25°C、2000Hz下，按照ASTME756-05測(cè)定時(shí)，具有至少2.15GPa的楊氏模數(shù)E和低于100的品質(zhì)因數(shù)。3.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中基片在25°C、2000Hz下，按照ASTME756-05測(cè)定時(shí)，具有至少2.93GPa的楊氏模數(shù)E和低于160的品質(zhì)因數(shù)。4.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中透光層包含UV可固化和自旋-可涂布的樹脂，所述樹脂具有的折射率為實(shí)數(shù)部分η為至少1.41的折射率。5.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中透光層包含UV可固化和自旋-可涂布的樹脂，其具有(i)折射率的實(shí)數(shù)部分η為至少1.70和虛數(shù)部分k為最多0.016的復(fù)數(shù)折射率；()低于20nm的表面粗糙度Ra;和(iii)不大于0.75μm擦痕深度的耐擦傷性；其中復(fù)數(shù)折射率的實(shí)數(shù)部分η和虛數(shù)部分k以400-410nm的波長(zhǎng)測(cè)定；其中表面粗糙度Ra通過原子力顯微鏡檢查法測(cè)定；且其中擦痕深度通過在施用40g的重力下，將具有50μm尖部半徑的金剛石針在透光層上以1.5cm/s的推進(jìn)速度移動(dòng)來測(cè)定。6.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中透光層包含UV可固化和自旋-可涂布樹脂，其包含具有平均粒度(d5(1)少于IOOnm的納米微粒。7.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中透光層具有Inm-少于3000nm厚度。8.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中透光層具有200nm-少于2000nm的厚度。9.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中透光層具有500nm-少于1500nm的厚度。10.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中基片包含通過I-K注入成型方法制備的部分。11.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中基片包含通過2-K夾層注入成型方法制備的部分。12.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中基片包含通過UV-粘合方法粘結(jié)的兩個(gè)注入成型基片。13.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中基片包含選自聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚環(huán)烯烴樹脂、氫化聚苯乙烯樹脂，及其組合的樹脂。14.依據(jù)權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中基片包含用通式(1)的芳族二羥基單體化合物制備的聚碳酸酯樹脂<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>其中Z表示通式(Ia)的基團(tuán)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>其中各R1和R2獨(dú)立地表示H或C1-C8-烷基；且X表示單鍵、C1-C6-烷撐基、c2-c5-烷叉基或任選的C1-C6-烷基-取代的C5-C6-亞環(huán)烷基；前提是當(dāng)X表示3，3，5三甲基亞環(huán)己基時(shí)，R1和R2各自表示氫。15.依據(jù)權(quán)利要求2的光記錄介質(zhì)，其中基片包含選自聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚環(huán)烯烴樹脂、氫化聚苯乙烯樹脂，及其組合的樹脂。全文摘要本發(fā)明涉及包含基片和順序布置在基片上的記錄層和透光層的光記錄介質(zhì)；其中基片包含一個(gè)或多個(gè)選自注入成型部分、具有模制表面層和模制芯層的注入成型夾層結(jié)構(gòu)或兩個(gè)經(jīng)UV-粘合的注入成型部分，及其組合的部分；且其中基片在25℃、2000Hz下，按照ASTME756-05測(cè)定時(shí)，具有至少2.15GPa的楊氏模數(shù)E和低于160的品質(zhì)因數(shù)。文檔編號(hào)G11B7/2538GK101828227SQ200880112612公開日2010年9月8日申請(qǐng)日期2008年10月7日優(yōu)先權(quán)日2007年10月19日發(fā)明者F·布魯?shù)?J·韋卡德,J·韋爾,K·希爾登布蘭德,R·奧澤,R·普羅特,W·費(fèi)希爾,W·黑斯申請(qǐng)人:拜爾材料科學(xué)股份公司