專利名稱：在磁頭滑動器和記錄介質(zhì)間包括致動器的記錄介質(zhì)驅(qū)動器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種記錄介質(zhì)驅(qū)動器，例如硬盤驅(qū)動器(HDD)。更具體的說，本發(fā)明涉及一種包括支承在與記錄介質(zhì)相對的磁頭滑動器上的磁頭元件的記錄介質(zhì)驅(qū)動器。
背景技術(shù)：
例如，如在美國專利No.6,876,509中所公開的那樣，提出了在硬盤驅(qū)動器中的磁記錄盤和飛行磁頭滑動器之間形成靜電致動器。從在硬盤驅(qū)動器中支承飛行磁頭滑動器的支架向飛行磁頭滑動器供應(yīng)電力。飛行磁頭滑動器的飛行高度取決于所供應(yīng)的電力量。
降低飛行磁頭滑動器的飛行高度往往會在硬盤驅(qū)動器中的飛行磁頭滑動器和磁記錄盤之間引起電火花。由于飛行磁頭滑動器的流出端通常離硬盤驅(qū)動器中的磁記錄盤最近，因此在飛行磁頭滑動器的流出端和磁記錄盤之間產(chǎn)生電火花。這會導(dǎo)致位于流出端附近的磁頭元件燒毀。磁頭元件的損壞不可避免。因此，不能使飛行磁頭滑動器如所期望的那樣接近磁記錄盤。

發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的目的在于提供一種能夠可靠地使磁頭滑動器進一步接近記錄介質(zhì)的記錄介質(zhì)驅(qū)動器。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種磁頭滑動器，該磁頭滑動器包括滑動器體，該滑動器體具有與記錄介質(zhì)相對的介質(zhì)相對表面；磁頭元件，該磁頭元件安裝在所述滑動器體上；以及電荷區(qū)域，該電荷區(qū)域?qū)㈦姾杀３衷谒龌瑒悠黧w的所述介質(zhì)相對表面中的局部區(qū)域處，所述電荷區(qū)域位于離開所述磁頭元件的位置處。
在所述磁頭滑動器和所述記錄介質(zhì)之間儲存電容。該電容用來確定所述磁頭滑動器和所述記錄介質(zhì)之間的距離。在此情況下，電位集中在所述電荷區(qū)域處，從而即使在所述磁頭滑動器和所述記錄介質(zhì)之間產(chǎn)生電火花，電火花也集中在所述電荷區(qū)域處。所述磁頭元件可遠(yuǎn)離所述電火花。從而可防止所述磁頭元件損壞。一般認(rèn)為減小所述磁頭滑動器和所述記錄介質(zhì)之間的距離會促進在它們之間產(chǎn)生電火花。
可例如在所述磁頭滑動器中的所述電荷區(qū)域處將原子離子注入到所述介質(zhì)相對表面內(nèi)。所述原子離子可被充電為具有正極性或負(fù)極性。通過采用原子離子注入可以以相當(dāng)便利的方式在所述磁頭滑動器上形成所述電荷區(qū)域。
所述電荷區(qū)域可例如形成在限定于所述介質(zhì)相對表面中的空氣軸承表面內(nèi)。在所述磁頭滑動器中，所述空氣軸承表面通常離所述記錄介質(zhì)最近。從而能基于保持在所述電荷區(qū)域和所述記錄介質(zhì)之間的電容而可靠地控制所述磁頭滑動器的飛行高度。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種記錄介質(zhì)驅(qū)動器，該記錄介質(zhì)驅(qū)動器包括記錄介質(zhì)；磁頭滑動器，該磁頭滑動器具有與所述記錄介質(zhì)相對的介質(zhì)相對表面；磁頭元件，該磁頭元件安裝在所述磁頭滑動器上；電荷區(qū)域，該電荷區(qū)域?qū)㈦姾杀３衷谒龃蓬^滑動器的所述介質(zhì)相對表面內(nèi)的局部區(qū)域處，所述電荷區(qū)域位于離開所述磁頭元件的位置處；以及電壓源，該電壓源向所述記錄介質(zhì)施加電壓。
在從所述電壓源向所述記錄介質(zhì)施加電壓時，電容儲存在所述記錄介質(zhì)驅(qū)動器中的所述電荷區(qū)域和所述記錄介質(zhì)之間。電容產(chǎn)生吸引力或排斥力。因此，可根據(jù)所施加電壓的強度來控制所述記錄介質(zhì)和所述磁頭滑動器之間的距離。而且，即使所述磁頭滑動器離所述記錄介質(zhì)最近，也可避免在它們之間產(chǎn)生電火花。可使所述磁頭滑動器的飛行高度最小。從而允許所述磁頭滑動器可靠地更加靠近所述記錄介質(zhì)。飛行高度的降低極大地有助于實現(xiàn)較高的記錄密度。
可以以與上述相同的方式在所述記錄介質(zhì)驅(qū)動器中的所述電荷區(qū)域處將原子離子注入到所述介質(zhì)相對表面內(nèi)。所述電荷區(qū)域可以以與上述相同的方式形成在限定于所述介質(zhì)相對表面中的空氣軸承表面內(nèi)。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供了一種控制磁頭滑動器的方法，該方法包括向記錄介質(zhì)施加電壓以在所述記錄介質(zhì)和與所述記錄介質(zhì)相對的所述磁頭滑動器之間儲存電容。
該方法使得可響應(yīng)于電壓的施加而在所述磁頭滑動器和所述記錄介質(zhì)之間產(chǎn)生吸引力或排斥力。根據(jù)所施加電壓的強度控制所述記錄介質(zhì)和所述磁頭滑動器之間的距離。即使所述磁頭滑動器離所述記錄介質(zhì)最近，也可避免在它們之間產(chǎn)生電火花。


本發(fā)明的以上和其它目的、特征和優(yōu)點將從以下結(jié)合附圖對優(yōu)選實施例的描述中變得顯而易見，在附圖中圖1為示意性地表示作為根據(jù)本發(fā)明實施例的記錄介質(zhì)驅(qū)動器的示例的硬盤驅(qū)動器(HDD)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的平面圖；圖2為斜坡件的側(cè)視圖；圖3為飛行磁頭滑動器的放大立體圖；圖4為硬盤驅(qū)動器的局部放大剖視圖，其用于示意性地說明主軸電機中的流體軸承，并且該圖結(jié)合有支架的示意圖；圖5為硬盤驅(qū)動器的局部放大剖視圖，其用于示意性地說明主軸電機中的球軸承，并且該圖結(jié)合有支架的示意圖；圖6為表示施加到磁記錄盤上的電壓與飛行磁頭滑動器的飛行高度之間的關(guān)系的曲線圖；圖7為根據(jù)本發(fā)明的修改實施例的飛行磁頭滑動器的放大剖視圖；以及圖8為示意性地表示作為根據(jù)本發(fā)明另一修改實施例的記錄介質(zhì)驅(qū)動器的示例的硬盤驅(qū)動器的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的平面圖。
具體實施例方式
圖1示意性地示出了作為根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)驅(qū)動器或存儲裝置的示例的硬盤驅(qū)動器(HDD)11的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。該硬盤驅(qū)動器11包括例如限定扁平平行六面體內(nèi)部空間的盒形外殼12。外殼12可例如由諸如鋁的金屬材料制成?？刹捎媚Ｖ铺幚韥硇纬赏鈿?2。一蓋(未示出)連接到外殼12上。該蓋關(guān)閉外殼12的開口。例如可用板材利用壓制處理來形成該蓋。
在外殼12的內(nèi)部空間中封裝至少一個作為記錄介質(zhì)的磁記錄盤13。磁記錄盤13安裝在主軸電機14的驅(qū)動軸上。主軸電機14以較高的轉(zhuǎn)速(例如5,400rpm、7,200rpm、10,000rpm等)驅(qū)動磁記錄盤13。
在磁記錄盤13表面上的最里面的記錄磁道15和最外面的記錄磁道16之間限定數(shù)據(jù)區(qū)域17。記錄磁道在數(shù)據(jù)區(qū)域17內(nèi)以同心圓的方式形成。磁位數(shù)據(jù)被記錄到記錄磁道上。在最里面的記錄磁道15的內(nèi)側(cè)限定非數(shù)據(jù)區(qū)域18。在最外面的記錄磁道16的外側(cè)限定非數(shù)據(jù)區(qū)域19。在非數(shù)據(jù)區(qū)域18、19上不記錄任何磁位數(shù)據(jù)。
在外殼12的內(nèi)部空間內(nèi)還結(jié)合有磁頭致動器構(gòu)件，即支架21。支架21包括支架臺22。該支架臺22支承在垂直支承軸23上，以相對轉(zhuǎn)動。支架臂24限定在支架臺22中。支架臂24被設(shè)計成從垂直支承軸23沿水平方向延伸。支架臺22可例如由鋁制成?？衫绮捎媚Ｖ铺幚韥硇纬芍Ъ芘_22。
磁頭懸架25安裝到各支架臂24的前端或頂端上。磁頭懸架25被設(shè)計成從支架臂24向前延伸。所謂的萬向彈簧(未示出)連接到磁頭懸架25的前端或頂端上。飛行磁頭滑動器26固定到萬向彈簧的表面上。該萬向彈簧使得飛行磁頭滑動器26可相對于磁頭懸架25改變姿態(tài)。
在飛行磁頭滑動器26上安裝有電磁變換器(未示出)。該電磁變換器包括寫元件和讀元件。寫元件可包括薄膜磁頭，該薄膜磁頭被設(shè)計成通過利用在薄膜線圈圖案處感應(yīng)的磁場將磁位數(shù)據(jù)寫入到磁記錄盤13內(nèi)。讀元件可包括巨磁阻(GMR)元件或隧道結(jié)磁阻(TMR)元件，所述元件被設(shè)計成例如通過利用旋轉(zhuǎn)閥膜或隧道結(jié)膜的電阻的變化米辨識磁記錄盤13上的磁位數(shù)據(jù)。
在磁記錄盤13轉(zhuǎn)動時，飛行磁頭滑動器26能接收沿轉(zhuǎn)動的磁記錄盤13產(chǎn)生的氣流。該氣流用于在飛行磁頭滑動器26上產(chǎn)生正壓(或升力)以及負(fù)壓。因此，飛行磁頭滑動器26可以在磁記錄盤13的轉(zhuǎn)動期間以較高的穩(wěn)定性保持在磁記錄盤13的表面上方飛行，該穩(wěn)定性是通過磁頭懸架25的推動力與升力和負(fù)壓的組合之間的平衡而得到的。
電源或音圈電機(VCM)27連接到支架臺22上。音圈電機27用于繞垂直支承軸23驅(qū)動支架臺22。支架臺22的轉(zhuǎn)動使得支架臂24和磁頭懸架25擺動。在支架臂24繞垂直支承軸23擺動時，飛行磁頭滑動器26可沿磁記錄盤13的徑向方向運動。因此，飛行磁頭滑動器26上的電磁變換器能定位在磁記錄盤13上的目標(biāo)記錄磁道的正上方。
載荷片28安裝到各磁頭懸架25的前端或頂端上。載荷片28被設(shè)計成從磁頭懸架25的頂端進一步向前延伸。支架臂24的擺動運動使得載荷片28沿磁記錄盤13的徑向方向運動。斜坡件29在磁記錄盤13外側(cè)的空間中定位在載荷片28的運動路徑上。斜坡件29的頂端與最外面的記錄磁道16外側(cè)的空間中的非數(shù)據(jù)區(qū)域19相對。斜坡件29和載荷片28組合而形成所謂的加載/卸載機構(gòu)。斜坡件29可例如由硬塑料制成。
現(xiàn)在，假設(shè)所述磁記錄盤13停止轉(zhuǎn)動。在讀/寫操作已經(jīng)完成時，音圈電機27驅(qū)動支架21繞支承軸23沿正向擺動運動。支架臂24和磁頭懸架25被從磁記錄盤13向外驅(qū)動。如圖2所示，當(dāng)飛行磁頭滑動器26與最外面的記錄磁道16外側(cè)的起落區(qū)域(landing zone)或非數(shù)據(jù)區(qū)域19相對時，載荷片28與傾斜表面31接觸。支架臂24的進一步擺動運動使得載荷片28爬上相應(yīng)的傾斜表面31。在載荷片28爬上傾斜表面31時，磁頭懸架25的頂端變得離磁記錄盤13的相應(yīng)表面更遠(yuǎn)。飛行磁頭滑動器26通過這樣的方式從磁記錄盤13的相應(yīng)表面離開。
支架臂24沿正向的進一步擺動運動使得載荷片28從第一平整表面32滑動到第二平整表面33。當(dāng)載荷片28到達(dá)離磁記錄盤13最遠(yuǎn)的位置時，飛行磁頭滑動器26到達(dá)待用位置。載荷片28通過這樣的方式接收在斜坡件29上。磁記錄盤13然后停止轉(zhuǎn)動。因為載荷片28可靠地保持在斜坡件29上，所以即使在沒有任何氣流作用在飛行磁頭滑動器26上的情況下也可防止飛行磁頭滑動器26與磁記錄盤13接觸。因而有效地防止了飛行磁頭滑動器26吸附覆蓋在磁記錄盤13表面上的潤滑劑。
當(dāng)硬盤驅(qū)動器11接收到讀/寫操作指令時，磁記錄盤13首先開始轉(zhuǎn)動。在磁記錄盤13的轉(zhuǎn)動進入穩(wěn)定狀態(tài)后，音圈電機27繞支承軸23沿與正向相反的反向驅(qū)動支架21。支架臂24和磁頭懸架25被朝向磁記錄盤13的轉(zhuǎn)動軸線驅(qū)動。載荷片28依次沿第二平整表面33、第一平整表面32和傾斜表面31滑動。支架臂24的進一步擺動運動使得載荷片28沿著傾斜表面31向下運動。飛行磁頭滑動器26在載荷片28向下運動期間與磁記錄盤13的相應(yīng)表面相對。氣流沿轉(zhuǎn)動的磁記錄盤13的表面作用在飛行磁頭滑動器26上，從而在飛行磁頭滑動器26上產(chǎn)生升力。支架臂24的進一步擺動運動然后允許飛行磁頭滑動器26離開斜坡件29。因此，飛行磁頭滑動器26能夠基于所產(chǎn)生的升力而保持在轉(zhuǎn)動的磁記錄盤13的表面上方飛行。
將對飛行磁頭滑動器26的結(jié)構(gòu)進行詳細(xì)描述。如圖3所示，飛行磁頭滑動器26包括例如呈扁平的平行六面體形式的滑動器體41?；瑒悠黧w41被設(shè)計成使介質(zhì)相對表面(即底面42)與磁記錄盤13的表面相對。底面42包括平整基面43。在磁記錄盤13被驅(qū)動而轉(zhuǎn)動時，氣流44沿底面42從滑動器體41的前端(或流入端)向著后端(或流出端)流動。這里，滑動器體41可包括例如由Al2O3-Ti制成的基體(base mass)45和Al2O3(氧化鋁)膜46。氧化鋁膜46可覆蓋在基體45的流出端或尾端上。
在滑動器體41的底面42上形成有前軌道47。前軌道47在滑動器體41的上游或流入端附近的位置處從基面43直立。前軌道47被設(shè)計成在與氣流44的方向垂直的橫向方向上沿基面43的流入端延伸。一對后側(cè)軌道48、48在滑動器體41的下游或流出端附近的位置處也從基面43直立。后側(cè)軌道48分別定位在基面43的側(cè)邊緣附近。后中間軌道49在后側(cè)軌道48之間的位置處從基面43直立。后中間軌道49被設(shè)計成沿縱向方向從基面43的流出端向著流入端向上游延伸。
一對側(cè)軌道51、51連接到前軌道47上。側(cè)軌道51從基面43直立。側(cè)軌道51、51被設(shè)計成分別沿基面43在縱向方向上的側(cè)邊緣從前軌道47向著后側(cè)軌道48、48向下游延伸。在側(cè)軌道51、51與相應(yīng)的后側(cè)軌道48、48之間分別限定有間隙。這些間隙允許氣流分別通過側(cè)軌道51和相應(yīng)的后側(cè)軌道48之間流動。中間軌道52也連接到前軌道47上。中間軌道52在側(cè)軌道51之間的位置處從基面43直立。中間軌道52被設(shè)計成從前軌道47向著后中間軌道49沿縱向方向向下游延伸。在中間軌道52和后中間軌道49之間限定有間隙。側(cè)軌道51、51以及中間軌道52可彼此平行地延伸。
分別在前軌道47、后側(cè)軌道48和后中間軌道49的頂面上限定所謂的空氣軸承表面53、54、55。空氣軸承表面53、54、55被設(shè)計成在與基面43相距一定間隔的位置處的平行于基面43延伸的平面內(nèi)延伸。在空氣軸承表面53、54、55的流入端處形成有臺階56、57、58，從而分別將流入端連接到相應(yīng)的軌道47、48、49的頂面上。這里，臺階56、57、58可具有相同的高度。
上述讀/寫電磁變換器59安裝在滑動器體41上。該讀/寫電磁變換器59嵌入在滑動器體41的氧化鋁膜46中。讀/寫電磁變換器59的讀間隙和寫間隙在后中間軌道49的空氣軸承表面55處露出。可在空氣軸承表面55的表面上形成DLC(類金剛碳)保護膜以覆蓋在讀/寫電磁變換器59的前端上。
沿轉(zhuǎn)動的磁記錄盤13的表面產(chǎn)生氣流44。氣流44沿滑動器體41的底面42流動。臺階56、57、58分別用于在空氣軸承表面53、54、55上產(chǎn)生相對較大的正壓或升力。在前軌道47的后方產(chǎn)生負(fù)壓。飛行磁頭滑動器26因此能基于升力和負(fù)壓之間的平衡而保持由螺旋角α限定的飛行姿態(tài)?；瑒悠黧w41可使其流出端離磁記錄盤13最近。
在軌道47、51、52的頂面上分別形成有墊(pad)61、62、63。墊61、62、63分別遠(yuǎn)離空氣軸承表面53、54、55。墊61、62、63的頂端定位在一平面內(nèi)，該平面在離開基面43的位置處超過包括空氣軸承表面53、54、55的平面與基面43平行地延伸。墊61、62、63用于在飛行磁頭滑動器26接收在磁記錄盤13的表面上時將滑動器體41支承在磁記錄盤13的表面上方。因此，防止了空氣軸承表面53、54、55與磁記錄盤13的表面接觸。顯著減小了滑動器體41和磁記錄盤13之間的接觸面積。有效地防止了滑動器體41吸附覆蓋在磁記錄盤13表面上的潤滑劑。這里，應(yīng)指出的是，飛行磁頭滑動器26可采取與所述飛行磁頭滑動器26不同的任何形狀或形式。
在底面42內(nèi)，在離開飛行磁頭滑動器26中的讀/寫電磁變換器59的局部區(qū)域處形成有電荷區(qū)域64。該電荷區(qū)域64保持電荷。例如將原子離子注入到底面42內(nèi)，以形成電荷。這里，在基體45上的空氣軸承表面55中形成有B+或As+的電荷區(qū)域64。
例如可采用離子注入來形成電荷區(qū)域64。可以在成形底面42時進行離子注入?？梢栽陔x子注入之前通過傳統(tǒng)的方式從晶片切割出包括一組成行的飛行磁頭滑動器26的晶片條。然后例如在該晶片條的表面上與飛行磁頭滑動器26的底面42相對應(yīng)地形成抗蝕膜。該抗蝕膜用于限定與電荷區(qū)域64的范圍對應(yīng)的空隙(void)。各個空隙例如距離對應(yīng)的讀/寫電磁變換器59約1μm的距離。原子離子被注入到空隙內(nèi)的晶片條中。可在離子注入之前或之后從底面42切割出空氣軸承表面53、54、55。
接著，將詳細(xì)描述主軸電機14。如圖4所示，主軸電機14包括固定到外殼12的底板上的托架65。所謂的流體軸承66結(jié)合在托架65內(nèi)。轉(zhuǎn)動軸68容納在流體軸承66內(nèi)的套筒67中的筒形空間內(nèi)。例如，諸如潤滑劑的流體填充套筒67和轉(zhuǎn)動軸68之間的間隙。轉(zhuǎn)動軸68可在套筒67內(nèi)以較高的轉(zhuǎn)速繞其縱向軸線轉(zhuǎn)動。止推凸緣69安裝到轉(zhuǎn)動軸68的下端上。止推凸緣69被設(shè)計成從轉(zhuǎn)動軸68的縱向軸線沿離心方向延伸。推動凸緣69容納在止推板71上。流體還填充止推凸緣69與止推板71之間的間隙。
主軸轂72安裝在轉(zhuǎn)動軸68上。磁記錄盤13例如安裝在主軸轂72上。間隔件73插設(shè)在相鄰的磁記錄盤13之間。磁記錄盤13和間隔件73插設(shè)在夾具74和凸緣75之間。可例如采用螺釘將夾具74固定到主軸轂72上。
線圈76繞轉(zhuǎn)動軸68固定到托架65上。永磁體77固定到主軸轂72上。永磁體77位于主軸轂72的內(nèi)側(cè)表面上，從而永磁體77可與線圈76相對。響應(yīng)于電流的供應(yīng)而在線圈76中產(chǎn)生磁場。線圈76的磁場用來驅(qū)動永磁體77。因此，主軸轂72被驅(qū)動而繞轉(zhuǎn)動軸68的縱向軸線轉(zhuǎn)動。于是，磁記錄盤13轉(zhuǎn)動。
電壓源78連接到流體軸承66上。從電壓源78向流體軸承66施加電壓。這里，套筒67、止推板71、轉(zhuǎn)動軸68和主軸轂72例如由諸如金屬材料的導(dǎo)電材料制成。該流體具有預(yù)定的導(dǎo)電性。因而電壓從電壓源78傳輸?shù)酱庞涗洷P13。電壓源78可連接在套筒67和地之間、止推板71和地之間，等等。只要保持向磁記錄盤13施加電壓，就不必將電壓源78連接到流體軸承66上。而且，只要保持向磁記錄盤13施加電壓，則套筒67、止推板71、轉(zhuǎn)動軸68和主軸轂72中的任何一個都可以不具有導(dǎo)電性。
當(dāng)在飛行磁頭滑動器26的飛行期間從電壓源78向磁記錄盤13施加電位時，在磁記錄盤13的表面和相應(yīng)的飛行磁頭滑動器26的電荷區(qū)域64之間儲存電容。施加負(fù)電位導(dǎo)致產(chǎn)生吸引力。施加正電位導(dǎo)致產(chǎn)生排斥力。負(fù)電位或正電位的較大幅值或絕對值導(dǎo)致較大的吸引力或排斥力。飛行磁頭滑動器26的飛行高度取決于所述吸引力或排斥力與由氣流44產(chǎn)生的升力和負(fù)壓的組合之間的平衡。受到控制的吸引力或排斥力用于使飛行磁頭滑動器26的飛行高度最小。飛行磁頭滑動器26能可靠地更加靠近磁記錄盤13的相應(yīng)表面。飛行高度的降低極大地有助于實現(xiàn)較高的記錄密度。
如圖5所示，可例如采用一對球軸承79、79，即上下球軸承79、79來替代上述的流體軸承66。在此情形下，將電壓源78連接到轉(zhuǎn)動軸68上。采用滑動墊81用于該連接。該滑動墊81通過預(yù)定彈性力而壓靠轉(zhuǎn)動軸68的外表面?；瑒訅|81因而被強制與轉(zhuǎn)動軸68的外表面接觸。電壓依次通過該滑動墊81、轉(zhuǎn)動軸68和主軸轂72從電壓源78供應(yīng)到磁記錄盤13?？刹捎糜脖P驅(qū)動器中的傳統(tǒng)接地墊作為滑動墊81。
本發(fā)明人已經(jīng)觀察到了電荷區(qū)域64的效果。制備上述硬盤驅(qū)動器11以用于觀察。進行B+的離子注入來形成電荷區(qū)域64。離子注入的輸出電平設(shè)置為5MeV。密度設(shè)置為5×103離子/厘米3。測量在硬盤驅(qū)動器11中飛行磁頭滑動器26的飛行高度。測量讀取信號的輸出電平以測量飛行高度。將所測量的輸出電平轉(zhuǎn)換為飛行高度。磁記錄盤13與飛行磁頭滑動器26之間的相對速度設(shè)置為21.4米/秒。
如圖6所示，已經(jīng)證實飛行磁頭滑動器26的飛行高度取決于施加到磁記錄盤13上的電位的極性和幅值。即使在磁記錄盤13經(jīng)受4V的電壓時，也沒有在飛行磁頭滑動器26和磁記錄盤13之間觀察到電火花。本發(fā)明人還準(zhǔn)備了比較示例以進行觀察。在該比較示例中，從飛行磁頭滑動器省略了電荷區(qū)域64。在比較示例中向飛行磁頭滑動器和磁記錄盤之間的空間施加電壓。在施加4V的電壓后，本發(fā)明人用電子顯微鏡觀察根據(jù)該比較示例的飛行磁頭滑動器的讀/寫電磁變換器。在比較示例的讀/寫電磁變換器中觀察到了損壞或燒壞。這表明讀/寫電磁變換器必然遭受過電火花。
如圖7所示，可例如在上述飛行磁頭滑動器26中的一個或兩個后側(cè)軌道48的空氣軸承表面54上形成電荷區(qū)域82。電荷區(qū)域82用于減少飛行磁頭滑動器26的滾動。這里，術(shù)語“滾動”定義為繞從滑動器體41的流入端向流出端延伸的縱向中心線的轉(zhuǎn)動運動。
如圖8所示，可例如在上述硬盤驅(qū)動器11中省略包括載荷片28和斜坡件29的加載/卸載機構(gòu)。在此情形下，當(dāng)磁記錄盤13靜止時應(yīng)保持向磁記錄盤13施加正電位。所施加的正電位用于在磁記錄盤13和相應(yīng)的飛行磁頭滑動器26的電荷區(qū)域64之間產(chǎn)生排斥力。從而即使在沒有任何氣流作用于飛行磁頭滑動器26上的情況下，也可防止飛行磁頭滑動器26與磁記錄盤13接觸。
權(quán)利要求
1.一種磁頭滑動器，該磁頭滑動器包括滑動器體，該滑動器體具有與記錄介質(zhì)相對的介質(zhì)相對表面；磁頭元件，該磁頭元件安裝在所述滑動器體上；以及電荷區(qū)域，該電荷區(qū)域?qū)㈦姾杀３衷谒龌瑒悠黧w的所述介質(zhì)相對表面中的局部區(qū)域處，所述電荷區(qū)域位于離開所述磁頭元件的位置處。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁頭滑動器，其特征在于，所述滑動器體包括在所述電荷區(qū)域處注入到所述介質(zhì)相對表面內(nèi)的原子離子。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁頭滑動器，其特征在于，所述電荷區(qū)域位于限定在所述介質(zhì)相對表面中的空氣軸承表面內(nèi)。
4.一種記錄介質(zhì)驅(qū)動器，該記錄介質(zhì)驅(qū)動器包括記錄介質(zhì)；磁頭滑動器，該磁頭滑動器具有與所述記錄介質(zhì)相對的介質(zhì)相對表面；磁頭元件，該磁頭元件安裝在所述磁頭滑動器上；電荷區(qū)域，該電荷區(qū)域?qū)㈦姾杀３衷谒龃蓬^滑動器的所述介質(zhì)相對表面中的局部區(qū)域處，所述電荷區(qū)域位于離開所述磁頭元件的位置處；以及電壓源，該電壓源向所述記錄介質(zhì)施加電壓。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的記錄介質(zhì)驅(qū)動器，其特征在于，所述磁頭滑動器包括在所述電荷區(qū)域處注入到所述介質(zhì)相對表面內(nèi)的原子離子。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的記錄介質(zhì)驅(qū)動器，其特征在于，所述電荷區(qū)域位于限定在所述介質(zhì)相對表面中的空氣軸承表面內(nèi)。
7.一種控制磁頭滑動器的方法，該方法包括向記錄介質(zhì)施加電壓以在所述記錄介質(zhì)和與所述記錄介質(zhì)相對的所述磁頭滑動器之間儲存電容。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種在磁頭滑動器和記錄介質(zhì)之間包括靜電致動器的記錄介質(zhì)驅(qū)動器。在記錄介質(zhì)驅(qū)動器中，磁頭滑動器的滑動器體具有與記錄介質(zhì)相對的介質(zhì)相對表面。磁頭元件安裝在所述滑動器體上。在所述滑動器體上形成有電荷區(qū)域，以將電荷保持在所述滑動器體的所述介質(zhì)相對表面中的局部區(qū)域處。所述電荷區(qū)域位于離開所述磁頭元件的位置處。在所述磁頭滑動器和所述記錄介質(zhì)之間儲存電容。該電容用來確定所述磁頭滑動器和所述記錄介質(zhì)之間的距離。在此情況下，電位集中在所述電荷區(qū)域處，從而電火花集中在所述電荷區(qū)域處。所述磁頭元件可遠(yuǎn)離電火花。從而可防止所述磁頭元件損壞。
文檔編號G11B21/21GK101022012SQ20061016993
公開日2007年8月22日 申請日期2006年12月25日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月16日
發(fā)明者山本憲郎 申請人:富士通株式會社