專(zhuān)利名稱(chēng)：光記錄介質(zhì)以及使用其的光記錄－再現(xiàn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光記錄介質(zhì)，特別是一種使用有機(jī)染料作為記錄層的光記錄介質(zhì)，以及使用其的光記錄-再現(xiàn)方法。
背景技術(shù)：
作為光記錄介質(zhì)，在記錄層上使用光有機(jī)染料材料的光記錄介質(zhì)被構(gòu)造為在如塑料的透明基片上具有其主要成分是有機(jī)染料的記錄層，以及根據(jù)需要也具有反射層、保護(hù)層等，并且信息通過(guò)在此記錄層上掃描激光和通過(guò)僅在被輻射面的一部分中形成凹坑以高密度進(jìn)行記錄。
以CD-R(只寫(xiě)一次(write-once)型CD壓縮盤(pán)，注冊(cè)商標(biāo))為代表的有機(jī)染料記錄介質(zhì)由于結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且其能以低成本進(jìn)行制造而在市場(chǎng)上被廣泛地接受，其用于數(shù)據(jù)、圖像等的備份，也用于存儲(chǔ)音樂(lè)之用途。然而，近些年隨著計(jì)算機(jī)的高速發(fā)展，期望記錄介質(zhì)具有更大的容量，并且要求使用有機(jī)染料的光記錄介質(zhì)從CD-R及其同類(lèi)向DVD-R和DVD+R(只寫(xiě)一次型DVD數(shù)字化通用光盤(pán)，注冊(cè)商標(biāo))轉(zhuǎn)換。
在使用有機(jī)染料的光記錄介質(zhì)上進(jìn)行信息記錄是在熱模式下執(zhí)行的。當(dāng)激光輻射到記錄層上時(shí)，被輻射部分的有機(jī)染料通過(guò)吸收激光產(chǎn)生的熱量被熔化。由于有機(jī)染料熔化的部分的反射率與未熔化部分的反射率不同，一個(gè)凹坑就在記錄層中形成。因此在使用有機(jī)染料的光記錄介質(zhì)中，吸收熱量的機(jī)理變得重要。
熔化記錄層中的有機(jī)染料所需的熱量取決于光的吸收光譜。通常，當(dāng)在某一波長(zhǎng)下對(duì)光的吸收變大時(shí)，雖然反射率降低而記錄敏感度變高。相反地，當(dāng)吸收變小時(shí)，雖然記錄敏感度降低而反射率變高。
雖然記錄層的反射率特性和記錄敏感度特性在使用有機(jī)染料的記錄介質(zhì)中是重要的，但那些特性具有如上文所描述的互相密切的相關(guān)性，并且因此對(duì)光記錄介質(zhì)的記錄特性有很大的影響。在DVD中，使用比CD的波長(zhǎng)短的650nm(DVD-R)或655nm(DVD+R)激光以增加記錄密度，而由于在這個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)的吸收如此地大以致于大大地偏離了最佳記錄敏感度，以前用于CD-R的有機(jī)染料不可以用于DVR-R和DVD+R。
此外，即使在DVD-R和DVD+R中，對(duì)高速記錄的需求也近似于CD-R。在執(zhí)行高速記錄的記錄材料中，不僅需要高的反射率，而且需要高的記錄敏感度，并且需要由加熱引起的染料熔化速度要快。
適合應(yīng)用于DVD-R以及同類(lèi)的各種染料已經(jīng)被提出(如，參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1和2)。
然而，在高速記錄時(shí)的記錄-再現(xiàn)特性沒(méi)有被充分地研究。
另外，為了高速記錄通過(guò)簡(jiǎn)單地提高染料的熔化速度而優(yōu)化材料時(shí)，發(fā)現(xiàn)在低速記錄時(shí)信號(hào)特性惡化，并且類(lèi)似的相反情況是，為低速記錄而優(yōu)化材料時(shí)，在高速記錄時(shí)信號(hào)特性惡化。
此外，在高敏感性的有機(jī)染料記錄介質(zhì)中光的穩(wěn)定性特性可能惡化。
因此，在一個(gè)單一的有機(jī)染料記錄介質(zhì)中，從低速到高速同時(shí)滿(mǎn)足所有的記錄特性和光穩(wěn)定性特性是非常困難的。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1日本專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)第2002-52829號(hào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2日本專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)第2003-231359號(hào)發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種光記錄介質(zhì)，其在只寫(xiě)一次型光記錄介質(zhì)，如DVD-R和DVD+R中從低速記錄到高速記錄都能夠獲得極好的記錄特性，以及使用其的光記錄-再現(xiàn)方法。
為了解決上述問(wèn)題，根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)被構(gòu)造為具有包括有機(jī)染料的記錄層結(jié)構(gòu)，其中該記錄層具有至少一種如下列化學(xué)式1(在該式中，R1表示碳數(shù)從1至4的烷基，R2和R3分別表示碳數(shù)從1至4的烷基和苯甲基或通過(guò)耦合形成3-6元環(huán)的基團(tuán)，Y1和Y2的每個(gè)單獨(dú)表示有機(jī)基團(tuán)，并且X表示ClO4，BF4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有機(jī)染料，和由下列化學(xué)式2(在該式中，R1和R4表示碳數(shù)從1至4的烷基，R2和R3分別表示碳數(shù)從1至4的烷基和苯甲基或通過(guò)耦合形成3-6元環(huán)的基團(tuán)，Y1和Y2的每個(gè)單獨(dú)表示有機(jī)基團(tuán)，并且X表示ClO4，BF4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有機(jī)染料。
化學(xué)式1
化學(xué)式2
進(jìn)一步，根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄-再現(xiàn)方法使用具有本發(fā)明具體實(shí)施方式
的上述構(gòu)造的光記錄介質(zhì)。
根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)被構(gòu)造為具有記錄層，該記錄層混合有如前面所描述具有上述化學(xué)式1和化學(xué)式2的通式所表示的有機(jī)染料，因此可以抑制由低速記錄到高速記錄，即由1X速到16X速的抖動(dòng)，而這在以前是不能實(shí)現(xiàn)的，并且可以獲得極好的記錄-再現(xiàn)特性。
此外，可以提供一種光記錄-再現(xiàn)方法，該方法能夠通過(guò)使用這樣的光記錄介質(zhì)進(jìn)行記錄和再現(xiàn)使其至少在1X速記錄到16X速記錄達(dá)到極好的記錄和再現(xiàn)。
根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)，能夠獲得如前所說(shuō)明的極好的從低速記錄到高速記錄的記錄-再現(xiàn)特性。
而且，在本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中，通過(guò)選擇形成在基片中的凹槽的凹槽深度D，能夠使抖動(dòng)和反射率維持在一個(gè)極好的范圍100nm≤D≤200nm以致于能夠獲得從1X速記錄到16X速記錄的極好的記錄-再現(xiàn)特性。
還有，在本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中，通過(guò)選擇形成在基片中的凹槽的寬度，能夠使抖動(dòng)維持在一個(gè)極好的范圍230nm≤Wg≤400nm以致于能夠獲得從1X速記錄到16X速記錄的極好的記錄-再現(xiàn)特性。
此外，在本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中，通過(guò)使用具有如下列化學(xué)式3所示的結(jié)構(gòu)式的材料作為上述化學(xué)式1所示的有機(jī)染料，可能獲得從1X速記錄到16X速記錄的極好的記錄-再現(xiàn)特性。
化學(xué)式3
再有，在本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中，通過(guò)使用具有如下列化學(xué)式4所示的結(jié)構(gòu)式的材料作為上述化學(xué)式2所示的有機(jī)染料，可能獲得從1X速記錄到16X速記錄的極好的記錄-再現(xiàn)特性。
化學(xué)式4
再有，在本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中，當(dāng)將上述化學(xué)式1中所示的有機(jī)染料的重量設(shè)為W1，以及將上述化學(xué)式2中所示的有機(jī)染料的重量設(shè)為W2時(shí)，記錄功率的范圍可以在從低速記錄到高速記錄的在如下設(shè)置的適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)進(jìn)行選擇0.1≤W2/(W1+W2)≤0.8進(jìn)一步，在本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中，光的穩(wěn)定性可以通過(guò)在記錄層中添加減活劑得到提高。
另外，在該光記錄介質(zhì)中，當(dāng)將上述化學(xué)式1中所示的有機(jī)染料的重量設(shè)為W1，上述化學(xué)式2所示的有機(jī)染料的重量設(shè)為W2，以及減活劑的添加量設(shè)為W3時(shí)，可以通過(guò)下列的設(shè)置提高光的穩(wěn)定性，也確定地抑制抖動(dòng)以及獲得極好的記錄-再現(xiàn)特性0.08＜W3/(W1+W2+W3)≤0.35再有，在本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中，當(dāng)將有機(jī)染料的最大吸收波長(zhǎng)下的光密度(Optical Density)設(shè)為OD時(shí)，可以通過(guò)下列設(shè)置進(jìn)一步確定地抑制從低速記錄到高速記錄的抖動(dòng)，以及獲得極好的記錄-再現(xiàn)特性0.25≤OD≤0.70此外，通過(guò)使用本發(fā)明具體實(shí)施方式
的上述構(gòu)造的光記錄介質(zhì)執(zhí)行記錄和再現(xiàn)，能夠提供一種可靠地在至少?gòu)?X速到16X速的記錄速度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)極好的記錄-再現(xiàn)特性的光記錄-再現(xiàn)方法。
圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)的一個(gè)例子的截面構(gòu)造輪廓的示意圖；圖2是示出了根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)的一個(gè)例子的基本部分的截面構(gòu)造輪廓的示意圖；圖3是示出了在根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中抖動(dòng)和反射率相對(duì)于凹槽深度的變化的圖表；圖4是示出了在根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中抖動(dòng)相對(duì)于凹槽寬度的變化的圖表；圖5是示出了在根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中1X速和16X速記錄的記錄功率相對(duì)于記錄層材料的重量比的變化的圖表；圖6是示出了在根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中抖動(dòng)相對(duì)于在其中添加了減活試劑的記錄層材料的重量比的變化的圖表；以及圖7是示出了在根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)中抖動(dòng)相對(duì)于記錄層的光密度的變化的圖表。
具體實(shí)施例方式
執(zhí)行本發(fā)明的最好的方式的一個(gè)例子將在以下進(jìn)行描述，但本發(fā)明并不局限于以下描述的實(shí)施例。
本發(fā)明涉及一種盤(pán)形光記錄介質(zhì)，例如，其具有由有機(jī)染料制成的記錄層，尤其是提供一種能夠滿(mǎn)足DVD-R和DVD+R盤(pán)要求并還能實(shí)現(xiàn)高速記錄的有機(jī)染料的光記錄介質(zhì)，以及使用其的光記錄-再現(xiàn)方法。
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)的重要部分的截面構(gòu)造的輪廓。所述光記錄介質(zhì)被構(gòu)造為記錄層2例如通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂覆方法等方法形成為在厚度為0.6mm的具有光透光度的基片1之上的薄膜，由銀制成的，例如由銀、銀合金、鋁、鋁合金、金以及類(lèi)似物中的材料制成的反射層3通過(guò)濺射等的方法層壓在記錄層2上，和厚度為0.6mm的具有光透光度的基片4被例如通過(guò)紫外線(xiàn)固化樹(shù)脂等粘結(jié)在一起。
例如，成為有機(jī)染料的溶劑的四氟丙醇(TEP)、八氟戊醇(OFP)等中的TFP，能夠被作為一種用于記錄層2的有機(jī)染料的涂布液體。作為記錄層2的有機(jī)染料，例如可以使用具有上述化學(xué)式3所示的構(gòu)造式的染料，其在上述化學(xué)式1所示的通式中。
另外，在各種有機(jī)染料中，例如可以使用具有上述化學(xué)式4所示的構(gòu)造式的染料，其在上述化學(xué)式2所示的通式中。
光記錄介質(zhì)是由這些材料制造的，并對(duì)其檢驗(yàn)記錄-再現(xiàn)特性。其結(jié)果在以下說(shuō)明。
當(dāng)最大吸收波長(zhǎng)λmax的透光因子設(shè)置為T(mén)時(shí)，記錄層2的光密度OD(OpticalDensity)定義為OD＝-log(T)并且在以下描述的實(shí)施例中設(shè)置OD＝0.50。
所使用的基片具有如圖2所示的橫截面輪廓構(gòu)造的形狀，并且制成軌道間距Tp為0.74μm，凹槽的凹槽深度D和寬度Wg分別為150nm和350nm。在此，脊部分和凹槽部分之間的斜坡中的中點(diǎn)的寬度定義為凹槽寬度Wg。由Pulstec Inc.制造的DDU-1000(模式名稱(chēng))用于信號(hào)的記錄和再現(xiàn)。這個(gè)評(píng)估設(shè)備的激光波長(zhǎng)為655nm，聚焦透鏡的數(shù)值孔徑NA為0.65，并且當(dāng)以最短的標(biāo)記長(zhǎng)度0.40μm隨機(jī)地記錄用于DVD的EFM加信號(hào)時(shí)，測(cè)量再現(xiàn)信號(hào)的抖動(dòng)值。
記錄條件設(shè)置為1X速記錄(線(xiàn)速度3.5m/s)和使用根據(jù)DVD+R的1X速記錄方法的標(biāo)準(zhǔn)的Pulse策略(Pulse Strategy)的2.4X速記錄(線(xiàn)速度8.4m/s)，以及使用根據(jù)DVD+R的4X速記錄方法的Block策略(Block Strategy)的4X速記錄(線(xiàn)速度14.0m/s)，此外還有，使用根據(jù)根據(jù)DVD+R的8X速記錄方法的Castle策略(Castle Strategy)的8X速記錄(線(xiàn)速度27.9m/s)和16X速記錄(線(xiàn)速度55.8m/s)，以及在執(zhí)行1X速再現(xiàn)時(shí)，測(cè)量相對(duì)于記錄功率的抖動(dòng)值。由于再現(xiàn)時(shí)，抖動(dòng)值指示在再現(xiàn)時(shí)記錄標(biāo)記和間隔在時(shí)間軸上的變化，因此抖動(dòng)值是一個(gè)指示記錄的標(biāo)記和間隔準(zhǔn)確度的指標(biāo)(index)，其意味著抖動(dòng)值越小，信號(hào)質(zhì)量越高。
當(dāng)將記錄層有機(jī)染料中的上述化學(xué)式3中所示的材料的重量設(shè)置為W1，上述化學(xué)式4中所示的材料的重量設(shè)置為W2時(shí)，在重量比為W2/(W1+W2)＝0.5時(shí)，由每個(gè)記錄速度方法測(cè)量抖動(dòng)值。其結(jié)果顯示在下表1中。
表1
從此表1中可以理解，從1X速到16X速的所有記錄速度，抖動(dòng)值顯著地低于DVD+R標(biāo)準(zhǔn)的上限值9.0％，并且能夠獲得足夠的信號(hào)質(zhì)量。
其次，關(guān)于凹槽的凹槽深度D的研究結(jié)果顯示在圖3中。在上述的重量比為W2/(W1+W2)＝0.5的條件下使用記錄層，并且在凹槽的凹槽深度為100nm≤D≤200nm的區(qū)域中測(cè)量在16X速記錄時(shí)的抖動(dòng)的底值和反射率。
根據(jù)圖3所示的結(jié)果，在D≥100nm的區(qū)域中抖動(dòng)值顯著低于9％，并且在D＝200nm的區(qū)域中反射率低于只寫(xiě)一次型DVD標(biāo)準(zhǔn)的下限45％。
然后，可以理解，同時(shí)滿(mǎn)足信號(hào)特性和反射率的凹槽深度為100nm≤D≤200nm還有，在將抖動(dòng)抑制到8％之內(nèi)的情況下，希望凹槽深度為110nm≤D而且，在將抖動(dòng)進(jìn)一步抑制到7％之內(nèi)的情況下，更希望凹槽深度為130nm≤D另外，當(dāng)反射率被設(shè)置為約46％時(shí)，希望凹槽深度為D≤190nm并且進(jìn)一步，當(dāng)反射率被設(shè)置為47％或更高時(shí)，更希望凹槽深度為D≤180nm圖4顯示了關(guān)于凹槽寬度Wg的研究結(jié)果。在上述的重量比為W2/(W1+W2)＝0.5的條件下使用記錄層，通過(guò)將凹槽的凹槽深度D設(shè)置為150nm并改變凹槽寬度Wg，測(cè)量1X速記錄和16X速記錄時(shí)的抖動(dòng)值，并且將最佳記錄功率中的抖動(dòng)值繪成曲線(xiàn)。從此圖4可以理解，從1X速記錄到16X速記錄值可以獲得足夠的信號(hào)質(zhì)量的凹槽寬度Wg的條件是230nm≤Wg≤400nm還有，將抖動(dòng)抑制到8％或更小的情況下，希望凹槽寬度Wg為240nm≤Wg≤390nm而且，將抖動(dòng)抑制到7％或更小的情況下，更希望凹槽寬度Wg為260nm≤Wg≤370nm接下來(lái)，關(guān)于具有如上述化學(xué)式3所示的構(gòu)造式的有機(jī)染料與具有如上述化學(xué)式4所示的構(gòu)造式的有機(jī)染料的配比的研究結(jié)果顯示在圖5中。凹槽的凹槽深度D和凹槽寬度Wg分別設(shè)置為150nm和350nm。當(dāng)1X速記錄和16X速記錄時(shí)的最佳記錄功率設(shè)置為P0時(shí)，可以發(fā)現(xiàn)記錄敏感度向著低敏感度側(cè)移動(dòng)，而記錄功率隨著W2/(W1+W2)增加而增加。
這里，由于希望16X速記錄的最佳記錄功率為45mW或更小，重量比W2/(W1+W2)＝0.8成為上限。
下限值由1X速記錄時(shí)的最佳記錄功率來(lái)定義，并且由于希望1X速記錄的最佳記錄功率為6mW或更大，重量比W2/(W1+W2)＝0.1成為下限。因此，可以理解，在這種情況下的合適的重量比如下0.1≤W2/(W1+W2)≤0.8另外，作為更希望的條件，當(dāng)1X速記錄時(shí)的記錄功率為6.5mW或更大并且16X記錄時(shí)的記錄功率為42mW或更小時(shí)，可以理解下面是合適的重量比0.3≤W2/(W1+W2)≤0.65接下來(lái)，將所述光記錄介質(zhì)構(gòu)造為將上述化學(xué)式3和化學(xué)式4的有機(jī)染料作為記錄層的材料，并且其重量比設(shè)置為W2/(W1+W2)＝0.5，并檢測(cè)光的穩(wěn)定性。
在這個(gè)實(shí)施例中，具有如下列化學(xué)式5所示的構(gòu)造式的材料被添加到記錄層2作為減活劑。
化學(xué)式5
將上述化學(xué)式3和化學(xué)式4中所示的材料的重量設(shè)置為W1和W2，將上述化學(xué)式5中所示的材料的重量設(shè)置為W3，并且改變添加到記錄層中的減活劑的添加量，使得W3/(W1+W2+W3)從0.0變化到0.4。
在測(cè)試設(shè)備中的環(huán)境溫度為37℃，相對(duì)濕度為70％的條件下，通過(guò)從光記錄介質(zhì)的記錄層的一側(cè)照射氙燈直到變?yōu)榈扔谒{(lán)色標(biāo)度(JIS標(biāo)準(zhǔn))的第五級(jí)顏色降級(jí)，來(lái)進(jìn)行記錄層的光穩(wěn)定性測(cè)試。
圖6顯示了照射氙燈后對(duì)光記錄介質(zhì)執(zhí)行16X速記錄時(shí)的抖動(dòng)值。從此圖6可以理解，為了將抖動(dòng)抑制到9％或更小，減活劑的重量比W3/(W1+W2+W3)在下列范圍內(nèi)是合適的0.08＜W3/(W1+W2+W3)≤0.35此外，為了將抖動(dòng)抑制得更低，希望的重量比在下列范圍0.1＜W3/(W1+W2+W3)≤0.3
在上述實(shí)施例中，研究的是上述化學(xué)式5中所示的材料作為減活劑的情況，但是在另一種減活劑作為減活劑的情況下，可以獲得幾乎類(lèi)似的效果，例如，使用下列化學(xué)式6或化學(xué)式7所示的化學(xué)式6
化學(xué)式7
進(jìn)一步，為了提高光的穩(wěn)定性，除了上述減活劑，可以將對(duì)光穩(wěn)定的酞菁染料和偶氮基系統(tǒng)染料添加到記錄層中。
接下來(lái)，研究記錄層的光密度(OD)。記錄層材料的配比是這樣設(shè)置的為了制造記錄層的光密度是變化的光記錄介質(zhì)，如上述化學(xué)式3和化學(xué)式4所示的有機(jī)染料的重量比是W2/(W1+W2)＝0.5，并且還有上述化學(xué)式5中所示的減活劑的重量比是W3/(W1+W2+W3)＝0.2。
在該實(shí)施例中，光記錄介質(zhì)在下列5個(gè)條件下進(jìn)行制造在最大吸收波長(zhǎng)下的有機(jī)染料膜的光密度(OD)為0.25，0.40，0.50，0.60和0.70，并且在1X速記錄和16X速記錄時(shí)分別測(cè)量抖動(dòng)值。此測(cè)量結(jié)果如圖7所示。
從圖7所示的結(jié)果中可以理解，當(dāng)記錄層的光密度(OD)為0.25時(shí)，16X速記錄時(shí)的抖動(dòng)低于9％，并且在光密度(OD)設(shè)置為OD＝0.70的情況下，抖動(dòng)值變?yōu)?％。因此，可以理解，在可以獲得足夠信號(hào)質(zhì)量的情況下，光密度OD的范圍是0.25≤OD≤0.70還有，將抖動(dòng)抑制到8％或更低的情況下，希望光密度OD為0.35≤OD≤0.60而且，將抖動(dòng)抑制到7％或更低的情況下，更希望光密度OD為
0.35≤OD≤0.60根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)，可以提供一種光記錄介質(zhì)，其中在此前所述的DVD光學(xué)系統(tǒng)中，從1X速到16X速的寬記錄速度范圍內(nèi)可以獲得足以滿(mǎn)足只寫(xiě)一次型DVD標(biāo)準(zhǔn)的信號(hào)特性。
此外，可以提供一種有機(jī)染料型光記錄介質(zhì)，通過(guò)添加減活劑使其具有更優(yōu)異的光穩(wěn)定性。
應(yīng)注意的是根據(jù)本發(fā)明具體實(shí)施方式
的光記錄介質(zhì)不僅僅局限于此前所描述的每一個(gè)具體實(shí)施方式
，但是，甚至當(dāng)本發(fā)明應(yīng)用到符合或大致符合DVD+R型標(biāo)準(zhǔn)的光記錄介質(zhì)，或符合或大致符合DVD-R型標(biāo)準(zhǔn)的光記錄介質(zhì)時(shí)，可以獲得類(lèi)似的效果。
在此，包括根據(jù)DVD+R型和DVD-R型光記錄介質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的用于記錄和再現(xiàn)的光波長(zhǎng)、聚焦透鏡的數(shù)值孔徑、1X線(xiàn)速度以及最短標(biāo)記長(zhǎng)度的公差的數(shù)值顯示在下表2中表2
應(yīng)注意的是，在上述表2中，用于DVD+R的記錄和再現(xiàn)的光的波長(zhǎng)655nm+1nm/-5nm意味著公差為+10nm和-5nm，類(lèi)似地，用于DVD-R的記錄和再現(xiàn)的光的波長(zhǎng)650nm+10nm/-5nm意味著公差為+10nm和-5nm。
另外，可以清楚的是，除了前面所描述的那些以外的各種調(diào)整和變化落在其保護(hù)范圍之內(nèi)，而并不脫離本發(fā)明的構(gòu)造，以至于本發(fā)明也能應(yīng)用于例如在光記錄介質(zhì)的構(gòu)造中由染料材料制成的記錄層制作為兩層構(gòu)造的情況。
本領(lǐng)域技人員應(yīng)理解為，當(dāng)它們落在所附的權(quán)利要求以及其等同物的范圍內(nèi)時(shí)，根據(jù)設(shè)計(jì)需求和其它因素進(jìn)行的各種調(diào)整、組合、次級(jí)組合和變化是可以出現(xiàn)的。
權(quán)利要求
1.一種光記錄介質(zhì)，其包括一個(gè)含有有機(jī)染料的記錄層，其中所述記錄層至少具有由下列化學(xué)式1(在該式中，R1表示碳數(shù)從1至4的烷基，R2和R3分別表示碳數(shù)從1至4的烷基和苯甲基或通過(guò)耦合形成3-6元環(huán)的基團(tuán)，Y1和Y2的每個(gè)單獨(dú)表示有機(jī)基團(tuán)，并且X表示ClO4，F(xiàn)B4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有機(jī)染料；和由下列化學(xué)式2(在該式中，R1和R4表示碳數(shù)從1至4的烷基，R2和R3分別表示碳數(shù)從1至4的烷基和苯甲基或通過(guò)耦合形成3-6元環(huán)的基團(tuán)，Y1和Y2的每個(gè)單獨(dú)表示有機(jī)基團(tuán)，并且X表示ClO4，F(xiàn)B4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有機(jī)染料，化學(xué)式1
化學(xué)式2
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)，其中該光記錄介質(zhì)的構(gòu)成是在所述光記錄介質(zhì)的基片中提供的凹槽的凹槽深度D為100nm≤D≤200nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)，其中該光記錄介質(zhì)的構(gòu)成是在所述光記錄介質(zhì)的基片中提供的凹槽的凹槽寬度Wg為230nm≤Wg≤400nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)，其中該光記錄介質(zhì)的構(gòu)成是在所述化學(xué)式1中所示的有機(jī)染料是一種具有在下列化學(xué)式3中所示的結(jié)構(gòu)式的材料，化學(xué)式3
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)，其中該光記錄介質(zhì)的構(gòu)成是在所述化學(xué)式2中所示的有機(jī)染料是一種具有在下列化學(xué)式4中所示的結(jié)構(gòu)式的材料，化學(xué)式4
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)，其中當(dāng)將所述化學(xué)式1中所示的有機(jī)染料的重量設(shè)置為W1，將所述化學(xué)式2中所示的有機(jī)染料的重量設(shè)置為W2時(shí)，該光記錄介質(zhì)被構(gòu)造為0.1≤W2/(W1+W2)≤.8。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)，其中該光記錄介質(zhì)被構(gòu)造為在所述記錄層中添加一種減活劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光記錄介質(zhì)，其中當(dāng)將所述化學(xué)式1中所示的有機(jī)染料的重量設(shè)置為W1，所述化學(xué)式2中所示的有機(jī)染料的重量設(shè)置為W2，所述減活劑的重量設(shè)置為W3時(shí)，該光記錄介質(zhì)被構(gòu)造為0.08≤W3/(W1+W2+W3)≤0.35。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)，其中當(dāng)將所述有機(jī)染料的最大吸收波長(zhǎng)下的光密度設(shè)置為OD時(shí)，該光記錄介質(zhì)被構(gòu)造為0.25≤OD≤0.70。
10.一種光記錄-再現(xiàn)方法，其使用一種包括含有有機(jī)染料的記錄層的光記錄介質(zhì)，其中所述光記錄介質(zhì)的所述記錄層中至少具有下列成分由所述化學(xué)式1(在該式中，R1表示碳數(shù)從1至4的烷基，R2和R3分別表示碳數(shù)從1至4的烷基和苯甲基或通過(guò)耦合形成3-6元環(huán)的基團(tuán)，Y1和Y2的每個(gè)單獨(dú)表示有機(jī)基團(tuán)，并且X表示ClO4，F(xiàn)B4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有機(jī)染料；和由所述化學(xué)式2(在該式中，R1和R4表示碳數(shù)從1至4的烷基，R2和R3分別表示碳數(shù)從1至4的烷基和苯甲基或通過(guò)耦合形成3-6元環(huán)的基團(tuán)，Y1和Y2的每個(gè)單獨(dú)表示有機(jī)基團(tuán)，并且X表示ClO4，F(xiàn)B4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有機(jī)染料。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光記錄-再現(xiàn)方法，其中用于所述記錄介質(zhì)記錄和再現(xiàn)的光波長(zhǎng)為655nm+10nm/-5nm，將所述激光聚焦到所述光記錄介質(zhì)上的聚焦透鏡的數(shù)值孔徑NA為0.65±0.01，將要記錄到所述光記錄介質(zhì)上的信息的最短標(biāo)記長(zhǎng)度為0.40μm±0.003μm，1X線(xiàn)速度為3.49±0.03m/s，并且所述光記錄介質(zhì)的軌道間距為0.74μm±0.03μm。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光記錄-再現(xiàn)方法，其中用于所述記錄介質(zhì)再現(xiàn)的光波長(zhǎng)為650nm±5nm，用于記錄的光波長(zhǎng)為650nm+10nm/-5nm，將所述激光聚焦到所述光記錄介質(zhì)上的聚焦透鏡的數(shù)值孔徑NA為0.60±0.01，將要記錄到所述光記錄介質(zhì)上的信息的最短標(biāo)記長(zhǎng)度為0.40μm±0.003μm，1X線(xiàn)速度為3.49m/s±0.03m/s，并且所述光記錄介質(zhì)的軌道間距為0.74μm±0.03μm。
全文摘要
本發(fā)明提供一種只寫(xiě)一次型的光記錄介質(zhì)，其從低速記錄到高速記錄都可以獲得極好的記錄特性。在光記錄介質(zhì)中包括含有有機(jī)染料的記錄層，該記錄層被構(gòu)造為至少具有由下列化學(xué)式1(在該式中，R1表示碳數(shù)從1至4的烷基，R2和R3分別表示碳數(shù)從1至4的烷基和苯甲基或通過(guò)耦合形成3－6元環(huán)的基團(tuán)，Y1和Y2的每個(gè)單獨(dú)表示有機(jī)基團(tuán)，并且X表示ClO
文檔編號(hào)G11B7/246GK1828748SQ20051013733
公開(kāi)日2006年9月6日 申請(qǐng)日期2005年10月27日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月27日
發(fā)明者和田豐, 諏訪(fǎng)部正次, 島田淳子, 矢野亨, 大矢桂二, 滋野浩一 申請(qǐng)人:索尼株式會(huì)社, 旭電化工業(yè)株式會(huì)社