專(zhuān)利名稱(chēng)：光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置、介質(zhì)和方法及其控制裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于相對(duì)于盤(pán)記錄和再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置、介質(zhì)及方法。特別地，本發(fā)明涉及對(duì)傾斜的盤(pán)的響應(yīng)能力提高了的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置、介質(zhì)和方法，及其控制裝置和方法。
背景技術(shù)：
通常，記錄/再現(xiàn)裝置相對(duì)于諸如光學(xué)記錄介質(zhì)(如光盤(pán))的存儲(chǔ)介質(zhì)記錄和/或再現(xiàn)數(shù)據(jù)。相應(yīng)地，光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置可以包括一光學(xué)拾取器，所述光學(xué)拾取器通過(guò)沿盤(pán)的徑向在光盤(pán)記錄表面上照射光并接收來(lái)自記錄表面的反射光，記錄和/或再現(xiàn)數(shù)據(jù)。所述光學(xué)拾取裝置可以包括能夠操作物鏡并相對(duì)于盤(pán)記錄表面將其保持在預(yù)定位置和姿勢(shì)的致動(dòng)器。
圖1示出了申請(qǐng)?zhí)枮镹o.10-2003-0069459的韓國(guó)專(zhuān)利中所闡述的光學(xué)拾取致動(dòng)器。參照?qǐng)D1，所述光學(xué)拾取致動(dòng)器包括固定在基座10上的支架11，具有物鏡12的托板(blade)13，多個(gè)彈性支撐體14a和14b，以及用于在聚焦方向(A)或?qū)さ婪较?T)上移動(dòng)托板13的磁性操作器。
所述磁性操作器配有磁體15，所述托板13位于其間，形成在基座10上的內(nèi)軛16和外軛17，以及纏繞在托板13上的聚焦線圈18和尋道線圈19。
彈性支撐體包括相對(duì)于盤(pán)D的徑向設(shè)置在光學(xué)拾取致動(dòng)器的相應(yīng)的內(nèi)圓周側(cè)和外圓周側(cè)上的第一彈性支撐體14a和第二彈性支撐體14b。設(shè)置在外圓周側(cè)上的第二支撐體相對(duì)地長(zhǎng)于內(nèi)圓周側(cè)上的第一彈性支撐體14a。
根據(jù)需要，在托板進(jìn)行聚焦時(shí)上述結(jié)構(gòu)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)(rolling)。因?yàn)槲挥谕鈭A周邊上、相對(duì)長(zhǎng)于第一彈性支撐體14a的第二彈性支撐體14b，比第一彈性支撐體14a變形更多多，故沿著盤(pán)(D)的外圓周部分比沿著盤(pán)(D)的內(nèi)圓周部分轉(zhuǎn)動(dòng)(rolling)得更多。
例如，如果盤(pán)(D)沿著盤(pán)(D)的外圓周方向向上傾斜，如圖2A所示，則托板13可以抬起，并且在正(+)方向上發(fā)生轉(zhuǎn)動(dòng)。因此，托板13能夠適當(dāng)?shù)鼐劢乖谖镧R12所面對(duì)的盤(pán)表面上。
在盤(pán)(D)沿圓周方向向下傾斜時(shí)，如圖2B所示，則托板13下降并在負(fù)(-)方向上發(fā)生轉(zhuǎn)動(dòng)。
在上述結(jié)構(gòu)中，托板13的轉(zhuǎn)動(dòng)，即托板的傾角的范圍是以第一和第二彈性支撐體14a和14b之間的彈性差為基礎(chǔ)的。因此，即使托板13的傾角(tilt)隨著托板13在聚焦方向上的上升和下降高度而略微變化，其通常具有固定的值。相反，實(shí)際上光盤(pán)的傾斜或傾角是各種各樣的。因此，由于彈性支撐體14a和14b設(shè)計(jì)成僅適用于平均傾角的光盤(pán)，故現(xiàn)在的致動(dòng)器不能滿足所有類(lèi)型的光盤(pán)。
在光盤(pán)具有較大傾角的情況下，使用彈性支撐體14a和14b按照前述的常規(guī)方式，托板13不能適用這種傾角。因此，光盤(pán)的數(shù)據(jù)讀取和/或記錄特性變差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)方面是至少解決上述問(wèn)題和/或不利，以及至少提供以下所述優(yōu)勢(shì)。因此，本發(fā)明的一個(gè)方面是提供能夠適應(yīng)光盤(pán)歪斜的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置，以及其控制方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述和/或其他方面以及優(yōu)勢(shì)，本發(fā)明的實(shí)施例闡述了一種光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置，其包括一光學(xué)拾取致動(dòng)器、一存儲(chǔ)器以及一控制器。所述光學(xué)致拾取動(dòng)器包括形成在一基座上的一支架；一包括物鏡的托板，所述托板通過(guò)多個(gè)彈性支撐體與所述支架相連接，使得所述托板的姿態(tài)可以根據(jù)所述托板的高度變化改變至一預(yù)定傾角；一對(duì)用于在聚焦方向上操作所述托板的聚焦線圈；用于在尋道方向上操作所述托板的尋道線圈；以及相應(yīng)的磁體。所述存儲(chǔ)器用于存儲(chǔ)將所述托板的高度與施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的一查找表、將所述托板的傾角至少與施加給所述至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的一查找表、以及將所述光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置的光盤(pán)的實(shí)際傾角與所述托板的高度相關(guān)聯(lián)的一查找表中的至少一個(gè)查找表。所述控制器用于計(jì)算所述光盤(pán)和所述托板之間的傾角差，并通過(guò)使用至少施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流以及所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的查找表的數(shù)據(jù)，至少控制施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流，以補(bǔ)償所述計(jì)算得到的傾角差。
所述彈性支撐體可以包括與所述聚焦線圈中的一個(gè)相連、沿光盤(pán)的內(nèi)圓周側(cè)設(shè)置在托板內(nèi)的多個(gè)內(nèi)圓周彈性支撐體；以及與所述聚焦線圈中的另一個(gè)相連、沿光盤(pán)的外圓周側(cè)設(shè)置在托板內(nèi)的多個(gè)外圓周彈性支撐體，其中所述內(nèi)圓周和外圓周彈性支撐體具有不同的彈性系數(shù)，以便在所述托板的高度在聚焦方向上改變時(shí)，所述托板傾斜。此外，外圓周邊彈性支撐體可以比內(nèi)圓周彈性支撐體長(zhǎng)。此外，外圓周彈性支撐體可以具有比內(nèi)圓周彈性支撐體更窄的直徑。
所述聚焦線圈可以沿著所述光盤(pán)的徑向設(shè)置，并與至少一個(gè)相鄰的彈性支撐體電氣連接。另外，至少另外一個(gè)相鄰的彈性支撐體可以不與所述聚焦線圈相連。
所述光學(xué)拾取致動(dòng)器可以進(jìn)一步包括形成在所述基座上并固定所述相應(yīng)的磁體的外軛；以及設(shè)置在所述聚焦線圈之間以引導(dǎo)所述托板移動(dòng)的內(nèi)軛。
為了實(shí)現(xiàn)上述和/或其他方面和優(yōu)勢(shì)，本方面的實(shí)施例闡述了一種光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其包括一光學(xué)拾取致動(dòng)器、一存儲(chǔ)器以及一控制器。所述光學(xué)拾取致動(dòng)器包括一包括物鏡的托板，其通過(guò)多個(gè)彈性支撐體與支架可移動(dòng)地連接；設(shè)置于所述托板內(nèi)的尋道線圈和一對(duì)聚焦線圈，以及向?qū)?yīng)的聚焦方向操作力的中心的任意一側(cè)偏斜的磁體，用于通過(guò)與流經(jīng)所述聚焦線圈和尋道線圈的電流的相互作用，相對(duì)于所述光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置中的光盤(pán)在聚焦方向和尋道方向上移動(dòng)所述托板，以及用于在非對(duì)稱(chēng)地施加給所述托板的外圓周和內(nèi)圓周的聚焦方向操作力改變所述托板的高度時(shí)，相對(duì)于光盤(pán)的徑向改變托板的狀態(tài)以傾斜一預(yù)定角度。所述存儲(chǔ)器用于存儲(chǔ)與施加給所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的所述托板的高度的一查找表、與施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的所述托板的傾角的查找表、以及與所述托板的高度相關(guān)聯(lián)的光盤(pán)的實(shí)際傾角的一查找表中的至少一個(gè)查找表。所述控制器用于計(jì)算所述光盤(pán)和所述托板之間的傾角差，并通過(guò)使用存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器內(nèi)的關(guān)于施加給所述至少一個(gè)聚焦線圈的電流的查詢數(shù)據(jù)，控制施加給所述至少一個(gè)聚焦線圈的電流以補(bǔ)償所述計(jì)算得到的傾角差。
所述磁體可朝托板的外圓周偏斜。
為了實(shí)現(xiàn)上述和/或其他方面的優(yōu)勢(shì)，本發(fā)明的實(shí)施例闡述了一種用于控制光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置的方法，其包括控制光學(xué)拾取致動(dòng)器的姿態(tài)，所述光學(xué)拾取致動(dòng)器包括一具有物鏡的托板，所述托板可通過(guò)由施加給聚焦線圈的電流所產(chǎn)生的操作力在聚焦方向上移動(dòng)，使得所述托板的姿態(tài)根據(jù)所述托板的高度在聚焦方向上的改變傾斜一預(yù)定傾角；獲取當(dāng)所述托板的高度在聚焦方向上改變以將數(shù)據(jù)記錄到所述光盤(pán)中和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)時(shí)，所述托板的傾角和所述光盤(pán)的傾角之間的傾角差；以及通過(guò)控制施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流補(bǔ)償所述傾角差。
所述光學(xué)拾取致動(dòng)器的姿態(tài)的控制可以進(jìn)一步包括在一基座上固定一支架；利用相應(yīng)的多個(gè)彈性支撐體將所述托板的外圓周和內(nèi)圓周與所述支架相連接，每個(gè)相應(yīng)的多個(gè)彈性支撐體具有不同的彈性系數(shù)，以便在所述托板的高度改變時(shí)，所述托板在光盤(pán)徑向上傾斜；以及設(shè)置一磁性操作器，其包括一對(duì)聚焦線圈和尋道線圈，以及通過(guò)與線圈的相互作用產(chǎn)生操作力的對(duì)應(yīng)的磁體。
所述磁性操作器的設(shè)置可進(jìn)一步包括用所述尋道線圈纏繞所述托板；沿所述光盤(pán)的徑向在托板內(nèi)設(shè)置所述聚焦線圈；以及在所述基座中設(shè)置所述相應(yīng)的磁體，以產(chǎn)生所述操作力。所述外圓周和內(nèi)圓周彈性支撐體的連接可以進(jìn)一步包括連接比所述內(nèi)彈性支撐體長(zhǎng)的所述外彈性支撐體。
獲得所述傾角差的步驟可進(jìn)一步包括當(dāng)在所述光盤(pán)中記錄數(shù)據(jù)或者從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)時(shí)，獲取用于改變所述托板的高度而施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流值；獲取與施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流值相關(guān)的所述托板的高度變化的查找表；獲取與施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流值相關(guān)的所述托板的傾角的查找表；獲取與所述托板的高度相關(guān)的所述光盤(pán)的實(shí)際傾角的查找表；以及獲取所述托板的傾角與所述光盤(pán)的實(shí)際傾角之間的傾角差。
獲取所述傾角差所需的查找表可以被預(yù)先建立并存儲(chǔ)在一存儲(chǔ)器中。
另外，所述光學(xué)拾取致動(dòng)器姿態(tài)的控制可進(jìn)一步包括在一基座上固定一支架；利用多個(gè)彈性支撐體連接所述托板和所述支架，使得所述托板的高度能夠改變；在所述托板內(nèi)設(shè)置一對(duì)聚焦線圈；以及在所述托板的內(nèi)圓周和外圓周側(cè)上非對(duì)稱(chēng)地設(shè)置磁體，使得由至少一個(gè)所述聚焦線圈和至少一個(gè)所述磁體的相互作用所產(chǎn)生的操作力，相對(duì)于所述光盤(pán)的徑向，非對(duì)稱(chēng)地作用在所述托板的內(nèi)和/或外圓周側(cè)上。在將所述磁體設(shè)置在所述托板的內(nèi)圓周和外圓周側(cè)上的步驟中，可以進(jìn)一步包括朝所述托板的外圓周偏斜的至少一個(gè)磁體。
此外，所述光學(xué)拾取致動(dòng)器進(jìn)一步包括一基座；沿著所述托板的外圓周和內(nèi)圓周并與所述支架相連的相應(yīng)的多個(gè)彈性支撐體，每個(gè)所述相應(yīng)的多個(gè)彈性支撐體具有不同的彈性系數(shù)，使得所述托板的高度改變時(shí)，所述托板的傾角改變；以及一磁性操作器，其包括一對(duì)聚焦線圈、尋道線圈和用于通過(guò)與聚焦線圈和/或?qū)さ谰€圈之間的相互作用產(chǎn)生對(duì)應(yīng)的操作力的對(duì)應(yīng)磁體。磁性操作器可以進(jìn)一步包括纏繞在所述托板上的所述尋道線圈；沿光盤(pán)的徑向設(shè)置在所述托板內(nèi)的所述聚焦線圈；以及所述基座上的磁體。
另外，所述沿所述托板外圓周的彈性支撐體比所述沿其內(nèi)圓周的彈性支撐體長(zhǎng)。所述光學(xué)拾取致動(dòng)器可以包括一基座上的支架，所述托板通過(guò)多個(gè)彈性支撐體與所述支架相連接，使得所述托板的高度可以改變；所述托板內(nèi)的一對(duì)聚焦線圈；以及沿著所述托板內(nèi)圓周和外圓周側(cè)的磁體，使得由所述磁體和所述聚焦線圈之間的相互作用所產(chǎn)生的操作力相對(duì)于所述光盤(pán)的徑向非對(duì)稱(chēng)地作用在所述托板的內(nèi)圓周和外圓周側(cè)上。所述磁體可以被設(shè)置成朝向所述托板的外圓周偏斜。
為了實(shí)現(xiàn)上述和/或其他方面及優(yōu)勢(shì)，本發(fā)明的實(shí)施例闡述了一種包含能夠?qū)崿F(xiàn)本發(fā)明實(shí)施例的計(jì)算機(jī)可讀編碼的介質(zhì)。
為了實(shí)現(xiàn)上述和/或其他方面及優(yōu)勢(shì)，本發(fā)明的實(shí)施例闡述了一種介質(zhì)，其包括將所述托板的高度與施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的一查找表、將所述托板的傾角至少與施加給所述至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的一查找表、以及將所述光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置的光盤(pán)的實(shí)際傾角與所述托板的高度相關(guān)聯(lián)的一查找表中的至少一個(gè)查找表。為了實(shí)現(xiàn)上述和/或其他方面，本發(fā)明的實(shí)施例闡述了一種包括至少一個(gè)根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的查找表的介質(zhì)。
為了實(shí)現(xiàn)上述和/或其他方面及優(yōu)勢(shì)，本發(fā)明的實(shí)施例闡述了一種適用于光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置的拾取致動(dòng)器系統(tǒng)，其包括一光學(xué)拾取致動(dòng)器、一存儲(chǔ)器和一控制器。所述光學(xué)拾取致動(dòng)器包括形成在一基座上的一支架；一包括物鏡的托板，其通過(guò)多個(gè)彈性支撐體與所述支架相連接，使得所述托板的姿態(tài)可以根據(jù)所述托板的高度變化改變至一預(yù)定傾角；一對(duì)用于在聚焦方向上操作所述托板的聚焦線圈；用于在尋道方向上操作所述托板的尋道線圈；以及相應(yīng)的磁體。所述存儲(chǔ)器用于存儲(chǔ)將所述托板的高度與施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的一查找表、將所述托板的傾角至少與施加給所述至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的一查找表、以及將所述光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置的光盤(pán)的實(shí)際傾角與所述托板的高度相關(guān)聯(lián)的一查找表中的至少一個(gè)查找表。所述控制器用于計(jì)算所述光盤(pán)和所述托板之間的傾角差，并通過(guò)使用至少施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流以及所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的查找表的數(shù)據(jù)，至少控制施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流，以補(bǔ)償所述計(jì)算得到的傾角差。
本發(fā)明的另外方面和/或優(yōu)勢(shì)將在以下說(shuō)明中予以部分闡述，并根據(jù)該說(shuō)明部分地變得明顯或可通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐予以了解。


結(jié)合附圖閱讀以下對(duì)實(shí)施例的說(shuō)明可以更容易地理解本發(fā)明的這些以及其它方面和優(yōu)點(diǎn)，所述附圖中圖1為常規(guī)光學(xué)拾取致動(dòng)器的透視圖；圖2A和2B為示出了聚焦過(guò)程中托板轉(zhuǎn)動(dòng)在盤(pán)徑向上的作用的示意圖；圖3為示出了適用于本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置的光學(xué)拾取致動(dòng)器的透視圖；圖4為示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置的框圖；圖5為圖3中根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的光學(xué)拾取致動(dòng)器的平面圖；圖6至8分別為存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中查找表的曲線圖；圖9A至9B為根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例，示出了當(dāng)數(shù)據(jù)記錄/再現(xiàn)在光盤(pán)中時(shí)托板移動(dòng)的示意圖；圖10為根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例，比較圖9B中托板和光盤(pán)之間傾角的圖表；和圖11為示出了根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置的光學(xué)拾取致動(dòng)器的透視圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，在附圖中示出了所述實(shí)施例的示例，全文中相同的標(biāo)號(hào)指代相同的元件。以下參照附圖描述實(shí)施例進(jìn)而說(shuō)明本發(fā)明。
參照?qǐng)D3和4，光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置包括光學(xué)拾取致動(dòng)器100、存儲(chǔ)器200和控制器300。
光學(xué)拾取致動(dòng)器100可包括基座110，固定在基座一側(cè)上的支架120，其上安裝有物鏡101的托板130，將托板130與支架120可移動(dòng)連接的多個(gè)彈性支撐體140，以及用于在聚焦方向(A)和尋道方向(T)上移動(dòng)托板130的磁性操作器150。
通過(guò)拾取操作器400，所述光學(xué)拾取致動(dòng)器100可在光盤(pán)(D)下方移動(dòng)。拾取操作器400一般由馬達(dá)和齒條傳動(dòng)裝置(rack gear)構(gòu)成并可沿光盤(pán)(D)的徑向移動(dòng)光學(xué)拾取致動(dòng)器100。
如圖4所示，用于從盤(pán)(D)記錄和/或再現(xiàn)數(shù)據(jù)的記錄/再現(xiàn)裝置可包括用于旋轉(zhuǎn)光盤(pán)(D)的主軸電機(jī)510，以及用于控制主軸電機(jī)510的旋轉(zhuǎn)的電機(jī)操作器520，其上安裝光盤(pán)(D)的轉(zhuǎn)臺(tái)，以及用于將光盤(pán)(D)夾持在轉(zhuǎn)臺(tái)530上的卡盤(pán)裝置540。
彈性支撐體140包括與托板130外圓周相連的外圓周彈性支撐體141，以及與托板130內(nèi)圓周相連的內(nèi)圓周彈性支撐體142，兩者都是相對(duì)于光盤(pán)(D)的徑向的。在本實(shí)施例中設(shè)置的內(nèi)圓周和外圓周彈性支撐體141和142的數(shù)量可分別為三個(gè)。外圓周彈性支撐體141可以比內(nèi)圓周彈性支撐體142長(zhǎng)。如果內(nèi)圓周和外圓周彈性支撐體141和142具有不同的長(zhǎng)度，則當(dāng)托板130沿聚焦方向(A)移動(dòng)時(shí)，分別在內(nèi)圓周和外圓周彈性支撐體141和142上施加不同的張力。因此，托板130可以根據(jù)預(yù)定傾角傾斜。使得托板130通過(guò)具有不同長(zhǎng)度的彈性支撐體141和142來(lái)應(yīng)對(duì)傾斜的光盤(pán)的這種設(shè)置，在韓國(guó)專(zhuān)利No.10-2003-1169459中予以披露，在此省略了其進(jìn)一步的說(shuō)明。
參照?qǐng)D5，磁性操作器150包括一對(duì)設(shè)置在托板130內(nèi)的聚焦線圈151和152、尋道線圈153、設(shè)置在基座110上而與尋道線圈153相對(duì)的一對(duì)磁體154以及用于支撐所述磁體154的一對(duì)外軛155和一對(duì)內(nèi)軛156。
在圖5中，于光盤(pán)(D)的徑向上，聚焦線圈151和152分別設(shè)置在托板130的外圓周側(cè)和內(nèi)圓周側(cè)上。每個(gè)聚焦線圈151和152可獨(dú)立操作。為了實(shí)現(xiàn)獨(dú)立的操作，每個(gè)聚焦線圈151和152可獨(dú)立地與控制器300相連，以便向每個(gè)聚焦線圈151和152不同地施加電流。優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，外圓周側(cè)側(cè)上的聚焦線圈151與兩個(gè)外圓周彈性支撐體141電連接，其電流能夠被接通或斷開(kāi)。同樣，內(nèi)圓周側(cè)邊上的聚焦線圈152可與兩個(gè)內(nèi)圓周彈性支撐體142電連接，其電流能夠被接通或斷開(kāi)。在此結(jié)構(gòu)中，通過(guò)向每個(gè)聚焦線圈151和152獨(dú)立施加不同強(qiáng)度的電流，可以在托板130的內(nèi)圓周和外圓周側(cè)上產(chǎn)生不同大小或者不同方向的聚焦操作力。
尋道線圈153纏繞在托板130的兩側(cè)上，并且如以上所述，托板130和未與聚焦線圈151和152相連的其余彈性支撐體141和142相連，并類(lèi)似地可獨(dú)立接收電流。通過(guò)控制施加給尋道線圈153的電流的強(qiáng)度和方向，可以控制托板130沿尋道方向(T)移動(dòng)。外軛155可以固定在基座110上以支撐磁體154。內(nèi)軛156可固定在基座110上以便引導(dǎo)托板130沿聚焦方向(A)移動(dòng)，并可被設(shè)置在聚焦線圈151和152的纏繞中心處。
圖4的存儲(chǔ)器200在之前試驗(yàn)的基礎(chǔ)上，可存儲(chǔ)托板130的高度變化與施加給聚焦線圈151和152的電流強(qiáng)度之間關(guān)系的查找表。簡(jiǎn)而言之，為了將光聚焦在傾斜的光盤(pán)(D)上，托板130的高度可在聚焦方向(A)上改變以便補(bǔ)償傾斜度?？赏ㄟ^(guò)控制施加給聚焦線圈151和152的電流，控制托板130的高度。相應(yīng)地，在之前的試驗(yàn)過(guò)程中，可測(cè)量對(duì)應(yīng)施加給聚焦線圈151和152的電流的托板130的高度，并為隨后使用而將其存儲(chǔ)在用于正確傾斜補(bǔ)償?shù)牟檎冶碇小?br> 參照?qǐng)D7，圖4的存儲(chǔ)器200可存儲(chǔ)表示托板130傾角變化與施加給聚焦線圈151和152的電流強(qiáng)度之間安關(guān)系的查找表。即，在傾斜光盤(pán)的情況下，如果改變施加給聚焦線圈151和152的電流強(qiáng)度以在聚焦方向上移動(dòng)托板130，則可改變托板130的傾角進(jìn)而實(shí)現(xiàn)正確的聚焦?？赏ㄟ^(guò)試驗(yàn)以查找表的形式獲取存儲(chǔ)器200中存儲(chǔ)的變化值，但并不限于本發(fā)明的實(shí)施例。
參照?qǐng)D8，圖4的存儲(chǔ)器200能夠存儲(chǔ)表示光盤(pán)(D)的實(shí)際傾角變化與托板130在聚焦方向(A)上的高度的變化之間關(guān)系的查找表。即，當(dāng)控制托板130的高度以便將光束聚焦在傾斜的光盤(pán)(D)上時(shí)，可從所述查找表中獲取對(duì)應(yīng)托板130高度的光盤(pán)實(shí)際傾角的測(cè)量值。
以下說(shuō)明用于獲取存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器200中的查找表的方法。
當(dāng)向聚焦線圈151和152施加電流時(shí)，產(chǎn)生的力(F1)沿聚焦方向分別作用在每個(gè)聚焦線圈151和152與對(duì)應(yīng)的磁體154之間。力(F1)直接施加給彈性支撐體141和142。因此，產(chǎn)生的力(F2)作用在每個(gè)支撐體141和142上，并變得與相應(yīng)的力(F1)相等。
可通過(guò)以下等式1獲得力(F1)等式1Fl＝inlB其中i表示施加給每個(gè)聚焦線圈151和152的電流，n表示相應(yīng)聚焦線圈151和152中纏繞線圈的數(shù)量，l表示聚焦線圈151和152的長(zhǎng)度，B表示相應(yīng)的磁場(chǎng)。
可通過(guò)以下等式2獲得力(F2)等式2F2＝kxk=12EL3πd464]]>其中k表示彈性支撐體141和142的彈性系數(shù)，x表示彈性支撐體141和142的懸置(pendent)長(zhǎng)度，L表示彈性支撐體的長(zhǎng)度，E表示楊氏模量，而d表示彈性支撐體141和142的直徑。在此，應(yīng)當(dāng)注意到，也可控制彈性支撐體141和142的直徑進(jìn)而控制彈性支撐體141和142的彈性，并且根據(jù)本發(fā)明，其直徑也不必相同；例如，外圓周彈性支撐體141的直徑可以比內(nèi)圓周彈性支撐體142的直徑小。
在此，由于F1可以等于F2，可通過(guò)合并上述等式1和等式2獲得以下等式3，并由此可獲得每個(gè)彈性支撐體141和142的懸置長(zhǎng)度x。
等式3x=inlBk]]>如上所述，可在等式1、2和3的基礎(chǔ)上計(jì)算每個(gè)彈性支撐體141和142對(duì)應(yīng)施加給聚焦線圈151和152的相應(yīng)電流的未定量。給予所計(jì)算的未定量，可計(jì)算出托板130的傾角。相反，如果知道托板130的傾角，則能夠計(jì)算獨(dú)立施加給每個(gè)聚焦線圈151和152的電流值。同樣，能夠在每個(gè)彈性支撐體141或142的未定量的基礎(chǔ)上，計(jì)算出托板130高度在聚焦方向上的改變。在此，可分別測(cè)量光盤(pán)(D)的實(shí)際傾角，并且通過(guò)在徑向上的各個(gè)位置處、以預(yù)定次數(shù)測(cè)量光盤(pán)(D)的傾角能夠計(jì)算出實(shí)際傾角。
從以上可知，進(jìn)而能夠獲得存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器200中的查找表，注意，本發(fā)明的實(shí)施例并不限于此。
控制器300通過(guò)控制電極操作器520能夠控制主軸電機(jī)510的旋轉(zhuǎn)速率。控制器300通過(guò)控制拾取操作器400的操作，還能夠在光盤(pán)(D)的徑向上移動(dòng)光學(xué)拾取致動(dòng)器100，以及在存儲(chǔ)器200中存儲(chǔ)的查找表的基礎(chǔ)上控制磁性操作器150獲得在光盤(pán)進(jìn)入/彈出時(shí)記錄/再現(xiàn)數(shù)據(jù)過(guò)程中施加給磁性操作器150的電流數(shù)據(jù)以及托板130傾角和光盤(pán)(D)實(shí)際傾角之間的傾角差，進(jìn)而補(bǔ)償所述傾角差。
以下，根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，描述另一光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置的控制。
首先，如以上圖3所示，致動(dòng)器100包括一托板130，其能夠在托板130高度變化的基礎(chǔ)上根據(jù)彈性支撐體141和142的彈性系數(shù)差傾斜。
在此同樣，如上所述，參照?qǐng)D6至8，包含試驗(yàn)數(shù)據(jù)的查找表可以預(yù)先存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器200中。
利用光學(xué)拾取致動(dòng)器100和存儲(chǔ)器200，通過(guò)旋轉(zhuǎn)光盤(pán)(D)和操作光學(xué)拾取致動(dòng)器100，控制器300能夠?qū)?shù)據(jù)記錄到光盤(pán)(D)/從光盤(pán)(D)再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
在數(shù)據(jù)記錄/再現(xiàn)過(guò)程中，控制器300控制磁性操作器150進(jìn)而通過(guò)沿聚焦方向(A)和尋道方向(T)移動(dòng)托板130控制托板130的位置，以根據(jù)光盤(pán)(D)的傾斜量進(jìn)行傾角補(bǔ)償。
在此，如圖9A所示，可集中于接近光盤(pán)(D)內(nèi)圓周的預(yù)定拾取中心(C1)附近實(shí)行光學(xué)拾取，并且光盤(pán)(D)傾斜，接近內(nèi)圓周的區(qū)域不會(huì)傾斜很多并且托板130能維持與光盤(pán)(D)平行的狀態(tài)。因此，托板130能夠在高度方面沒(méi)有任何聚焦方向變化的情況下進(jìn)行光學(xué)拾取。因?yàn)橥邪?30不必在高度上改變，所以托板不會(huì)傾斜且能夠維持與光盤(pán)(D)平行的方向。
另一方面，如圖9B所示，如果在接近光盤(pán)(D)外圓周的預(yù)定拾取中心(C2)處進(jìn)行光學(xué)拾取，則光盤(pán)(D)的傾斜程度可變得很大。如圖9B，如果光盤(pán)(D)向上傾斜，則向聚焦線圈151和152施加預(yù)定的電流強(qiáng)度。進(jìn)而，托板130在聚焦方向(A)上能夠相應(yīng)地升高到預(yù)定高度，以補(bǔ)償物鏡101和光盤(pán)(D)之間的間隙。當(dāng)托板130升高時(shí)，由于彈性支撐體141和142的彈性系數(shù)差使得托板以預(yù)定傾角(θ1)傾斜。
在此，圖4的控制器300可以獲得施加給聚焦線圈151和152的電流值?；趫D7中圖示出的并存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器200中的查找表以及獲得的電流值，控制器300可進(jìn)一步獲得托板130的傾角(θ1)。
另外，控制器300能夠在圖6中圖示的查找表以及獲得的電流值的基礎(chǔ)上，獲得有關(guān)托板130高度的數(shù)據(jù)。
隨后，在圖8圖示的查找表和獲得的有關(guān)托板130高度的數(shù)據(jù)的基礎(chǔ)上，控制器300能夠獲得光盤(pán)(D)的實(shí)際傾角。
通過(guò)以上方法，如圖10所示，控制器300能夠獲得托板130的傾角以及光盤(pán)(D)的實(shí)際傾角，并由此可通過(guò)比較傾角計(jì)算傾角差值。簡(jiǎn)而言之，如果光盤(pán)(D)傾斜很大，如圖9B所示，隨后在托板130的傾角(θ1)和光盤(pán)實(shí)際傾角(θ2)之間大致產(chǎn)生預(yù)定的傾角差(Δθ)，其中所述托板的傾角也可根據(jù)托板130的高度改變規(guī)則地變化。
控制器300可以從圖7中圖示的查找表獲得為了補(bǔ)償傾角差(Δθ)應(yīng)該被施加給聚焦線圈151和152的電流值所需的變化范圍。因此，控制器300進(jìn)而能夠通過(guò)使用所述傾角差(Δθ)來(lái)改變施加給彈性支撐體141和142的電流值，以控制托板130的傾角。如上所示，盡管光盤(pán)(D)過(guò)度傾斜，但托板通過(guò)操作托板130使之傾斜得與傾角差(Δθ)一樣多，能夠適應(yīng)光盤(pán)(D)的傾角。
同樣，根據(jù)圖11中所示的本發(fā)明的另一實(shí)施例，光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置可包括一光學(xué)拾取致動(dòng)器，其中磁體154′被設(shè)置得相對(duì)于光盤(pán)(D)的徑向朝一邊偏斜。此時(shí)，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，連接托板130和支架120的內(nèi)圓周彈性支撐體144和外圓周彈性支撐體143可具有相同的剛度，并優(yōu)選具有相同的長(zhǎng)度，但本發(fā)明并不限于此。由于在下文中類(lèi)似于圖3和5中所示元件的元件使用相同的標(biāo)號(hào)，故在此省略該實(shí)施例中對(duì)于相同元件的進(jìn)一步詳細(xì)描述。
在本實(shí)施例中，磁體154′設(shè)置成偏離電磁力中心線(C3)一預(yù)定距離(S)，使得磁體154′產(chǎn)生相對(duì)于每個(gè)聚焦線圈151和152非對(duì)稱(chēng)的電磁力。優(yōu)選地，磁體154′被設(shè)置成朝光盤(pán)(D)外圓周偏斜。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，可使用夾具控制磁體154′的設(shè)置。
具有上述偏斜結(jié)構(gòu)的光學(xué)拾取致動(dòng)器的操作進(jìn)一步在韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)No.10-0403586中予以闡述，至于進(jìn)一步的細(xì)節(jié)可參照該申請(qǐng)。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，具有上述結(jié)構(gòu)的圖11的光學(xué)拾取致動(dòng)器500，能夠象前面所述的實(shí)施例中一樣通過(guò)測(cè)量施加給聚焦151和152的電流強(qiáng)度獲得托板的傾角和高度以及光盤(pán)(D)的實(shí)際傾角。因此，能夠補(bǔ)償光盤(pán)(D)實(shí)際傾角和托板130傾角之間的傾角差。
簡(jiǎn)而言之，如上所述，具有其傾角能夠根據(jù)托板130的高度進(jìn)行變化的托板130的光學(xué)拾取致動(dòng)器，能夠通過(guò)使用一對(duì)獨(dú)立操作的聚焦線圈151和152、六個(gè)彈性支撐體、存儲(chǔ)查找表的存儲(chǔ)器200以及控制器300，很好地適應(yīng)傾斜的光盤(pán)。它的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于記錄能力得到提高，即使是在過(guò)度傾斜的光盤(pán)上，也能正常地進(jìn)行記錄和/或再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
如上所述，光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置及其控制方法，由于具有兩個(gè)聚焦線圈和一個(gè)尋道線圈并在托板的聚焦操作過(guò)程中引入轉(zhuǎn)動(dòng)，所以能夠很好地適應(yīng)傾斜的光盤(pán)。
具體而言，由于能夠補(bǔ)償過(guò)度傾斜的光盤(pán)的實(shí)際傾角和托板傾角之間的傾角差，所以能夠適應(yīng)不同傾斜的傾斜光盤(pán)。
因此，通過(guò)物鏡的光束能夠沒(méi)有光學(xué)畸變地準(zhǔn)確聚焦在光盤(pán)上，所述光學(xué)畸變?cè)谝郧翱赡苡捎诠獗P(pán)偏轉(zhuǎn)誤差而引起。因此，能夠提高光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置在光盤(pán)單的記錄/再現(xiàn)性能。
本發(fā)明的實(shí)施例可以利用諸如計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)之類(lèi)的介質(zhì)中的計(jì)算機(jī)可讀編碼/指令，如計(jì)算機(jī)程序來(lái)實(shí)現(xiàn)。所述介質(zhì)例如可以包括但不限于存儲(chǔ)介質(zhì)，如磁性存儲(chǔ)介質(zhì)(EPROM、ROM、RAM、軟盤(pán)、磁帶等)、光學(xué)可讀介質(zhì)(CD-ROM、DVD等)、以及載波(如因特網(wǎng)上的傳送)，注意，本發(fā)明的實(shí)施例并不限于此。
盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施例，但本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，在不脫離本發(fā)明的原理和精神、權(quán)利要求及其等同物限定的范圍的情況下，可在這些實(shí)施例中進(jìn)行各種修改。
權(quán)利要求
1.一光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其包括一光學(xué)拾取致動(dòng)器，其包括形成在一基座上的一支架；一包括物鏡的托板，其通過(guò)多個(gè)彈性支撐體與所述支架相連接，使得所述托板的姿態(tài)可以根據(jù)所述托板的高度變化改變至一預(yù)定傾角；一對(duì)用于在聚焦方向上操作所述托板的聚焦線圈；用于在尋道方向上操作所述托板的尋道線圈；以及相應(yīng)的磁體；一存儲(chǔ)器，其用于存儲(chǔ)將所述托板的高度與施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的一查找表、將所述托板的傾角至少與施加給所述至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的一查找表、以及將所述光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置的光盤(pán)的實(shí)際傾角與所述托板的高度相關(guān)聯(lián)的一查找表中的至少一個(gè)查找表；以及一控制器，其用于計(jì)算所述光盤(pán)和所述托板之間的傾角差，并通過(guò)使用至少施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流以及所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的查找表的數(shù)據(jù)，至少控制施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流，以補(bǔ)償所述計(jì)算得到的傾角差。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其中所述彈性支撐體包括與所述聚焦線圈中的一個(gè)相連、沿光盤(pán)的內(nèi)圓周側(cè)設(shè)置在托板內(nèi)的多個(gè)內(nèi)圓周彈性支撐體；以及與所述聚焦線圈中的另一個(gè)相連、沿光盤(pán)的外圓周側(cè)設(shè)置在托板內(nèi)的多個(gè)外圓周彈性支撐體，其中所述內(nèi)圓周和外圓周彈性支撐體具有不同的彈性系數(shù)，以便在所述托板的高度在聚焦方向上改變時(shí)，所述托板傾斜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其中所述外圓周彈性支撐體比所述內(nèi)圓周彈性支撐體長(zhǎng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其中所述外圓周彈性支撐體具有比所述內(nèi)圓周彈性支撐體更窄的直徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其中所述聚焦線圈沿著所述光盤(pán)的徑向設(shè)置，并與至少一個(gè)相鄰的彈性支撐體電氣連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其中至少另外一個(gè)相鄰的彈性支撐體不與所述聚焦線圈相連。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其中所述光學(xué)拾取致動(dòng)器進(jìn)一步包括形成在所述基座上并固定所述相應(yīng)的磁體的外軛；以及設(shè)置在所述聚焦線圈之間以引導(dǎo)所述托板移動(dòng)的內(nèi)軛。
8.一光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其包括一光學(xué)拾取致動(dòng)器，其包括一包括物鏡的托板，其通過(guò)多個(gè)彈性支撐體與一支架可移動(dòng)地連接；設(shè)置于所述托板內(nèi)的尋道線圈和一對(duì)聚焦線圈，以及向?qū)?yīng)的聚焦方向操作力的中心的任意一側(cè)偏斜的磁體，用于通過(guò)與流經(jīng)所述聚焦線圈和尋道線圈的電流的相互作用，相對(duì)于所述光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置中的光盤(pán)在聚焦方向和尋道方向上移動(dòng)所述托板，以及用于在非對(duì)稱(chēng)地施加給所述托板的外圓周和內(nèi)圓周的聚焦方向操作力改變所述托板的高度時(shí)，相對(duì)于光盤(pán)的徑向改變托板的狀態(tài)以傾斜一預(yù)定角度；一存儲(chǔ)器，其用于存儲(chǔ)與施加給所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的所述托板的高度的一查找表、與施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流相關(guān)聯(lián)的所述托板的傾角的查找表、以及與所述托板的高度相關(guān)聯(lián)的光盤(pán)的實(shí)際傾角的一查找表中的至少一個(gè)查找表；以及一控制器，其計(jì)算所述光盤(pán)和所述托板之間的傾角差，并通過(guò)使用存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器內(nèi)的關(guān)于施加給所述至少一個(gè)聚焦線圈的電流的查詢數(shù)據(jù)，控制施加給所述至少一個(gè)聚焦線圈的電流以補(bǔ)償所述計(jì)算得到的傾角差。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其中所述磁體朝托板的外圓周偏斜。
10.一種用于控制光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置的方法，包括控制光學(xué)拾取致動(dòng)器的姿態(tài)，所述光學(xué)拾取致動(dòng)器包括一具有物鏡的托板，所述托板可通過(guò)由施加給聚焦線圈的電流所產(chǎn)生的操作力在聚焦方向上移動(dòng)，使得所述托板的姿態(tài)根據(jù)所述托板的高度在聚焦方向上的改變傾斜一預(yù)定傾角；獲取當(dāng)所述托板的高度在聚焦方向上改變以將數(shù)據(jù)記錄到所述光盤(pán)中和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)時(shí)，所述托板的傾角和所述光盤(pán)的傾角之間的傾角差；以及通過(guò)控制施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流補(bǔ)償所述傾角差。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中對(duì)所述光學(xué)拾取致動(dòng)器的姿態(tài)的控制進(jìn)一步包括在一基座上固定一支架；利用相應(yīng)的多個(gè)彈性支撐體將所述托板的外圓周和內(nèi)圓周與所述支架相連接，每個(gè)相應(yīng)的多個(gè)彈性支撐體具有不同的彈性系數(shù)，以便在所述托板的高度改變時(shí)，所述托板在光盤(pán)徑向上傾斜；以及設(shè)置一磁性操作器，其包括一對(duì)聚焦線圈和尋道線圈，以及通過(guò)與線圈的相互作用產(chǎn)生操作力的對(duì)應(yīng)的磁體。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述磁性操作器的設(shè)置進(jìn)一步包括用所述尋道線圈纏繞所述托板；沿所述光盤(pán)的徑向在托板內(nèi)設(shè)置所述聚焦線圈；以及在所述基座中設(shè)置所述相應(yīng)的磁體，以產(chǎn)生所述操作力。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述外圓周和內(nèi)圓周彈性支撐體的連接進(jìn)一步包括連接比所述內(nèi)彈性支撐體長(zhǎng)的所述外彈性支撐體。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中獲得所述傾角差進(jìn)一步包括當(dāng)在所述光盤(pán)中記錄數(shù)據(jù)或者從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)時(shí)，獲取用于改變所述托板的高度而施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流值；獲取與施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流值相關(guān)的所述托板的高度變化的查找表；獲取與施加給至少一個(gè)所述聚焦線圈的電流值相關(guān)的所述托板的傾角的查找表；獲取與所述托板的高度相關(guān)的所述光盤(pán)的實(shí)際傾角的查找表；以及獲取所述托板的傾角與所述光盤(pán)的實(shí)際傾角之間的傾角差。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中獲取所述傾角差所需的查找表被預(yù)先建立并存儲(chǔ)在一存儲(chǔ)器中。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中對(duì)所述光學(xué)拾取致動(dòng)器姿態(tài)的控制進(jìn)一步包括在一基座上固定一支架；利用多個(gè)彈性支撐體連接所述托板和所述支架，使得所述托板的高度能夠改變；在所述托板內(nèi)設(shè)置一對(duì)聚焦線圈；以及在所述托板的內(nèi)圓周和外圓周側(cè)上非對(duì)稱(chēng)地設(shè)置磁體，使得由至少一個(gè)所述聚焦線圈和至少一個(gè)所述磁體的相互作用所產(chǎn)生的操作力，相對(duì)于所述光盤(pán)的徑向，非對(duì)稱(chēng)地作用在所述托板的內(nèi)和/或外圓周側(cè)上。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中在將所述磁體設(shè)置在所述托板的內(nèi)圓周和外圓周側(cè)上的步驟中，至少一個(gè)所述磁體朝所述托板的外圓周偏斜。
18.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述光學(xué)拾取致動(dòng)器進(jìn)一步包括一基座；沿著所述托板的外圓周和內(nèi)圓周并與所述支架相連的相應(yīng)的多個(gè)彈性支撐體，每個(gè)所述相應(yīng)的多個(gè)彈性支撐體具有不同的彈性系數(shù)，使得所述托板的高度改變時(shí)，所述托板的傾角改變；以及一磁性操作器，其包括一對(duì)聚焦線圈、尋道線圈和用于通過(guò)與聚焦線圈和/或?qū)さ谰€圈之間的相互作用產(chǎn)生對(duì)應(yīng)的操作力的對(duì)應(yīng)磁體。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中磁性操作器進(jìn)一步包括纏繞在所述托板上的所述尋道線圈；沿光盤(pán)的徑向設(shè)置在所述托板內(nèi)的所述聚焦線圈；以及所述基座上的磁體。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中所述沿所述托板外圓周的彈性支撐體比所述沿其內(nèi)圓周的彈性支撐體長(zhǎng)。
21.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述光學(xué)拾取致動(dòng)器包括一基座上的支架，所述托板通過(guò)多個(gè)彈性支撐體與所述支架相連接，使得所述托板的高度可以改變；所述托板內(nèi)的一對(duì)聚焦線圈；以及沿著所述托板內(nèi)圓周和外圓周側(cè)的磁體，使得由所述磁體和所述聚焦線圈之間的相互作用所產(chǎn)生的操作力相對(duì)于所述光盤(pán)的徑向非對(duì)稱(chēng)地作用在所述托板的內(nèi)圓周和外圓周側(cè)上。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中所述磁體被設(shè)置成朝向所述托板的外圓周偏斜。
全文摘要
本發(fā)明提出了一種光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置、介質(zhì)和方法及其控制裝置、介質(zhì)和方法。所述記錄和/或再現(xiàn)裝置包括一光學(xué)拾取致動(dòng)器，其包括形成在基座上的支架，通過(guò)多個(gè)彈性支撐體與所述支架相連的托板，一對(duì)用于在聚焦方向上操作所述托板的聚焦線圈，磁體；一存儲(chǔ)器，其用于存儲(chǔ)與電流對(duì)應(yīng)的托板高度的查找表、與施加給聚焦線圈的電流對(duì)應(yīng)的托板傾角的查找表、以及與所述托板高度對(duì)應(yīng)的光盤(pán)實(shí)際傾角的查找表，以及一控制器，其用于計(jì)算所述光盤(pán)和所述托板之間傾角差，控制施加給聚焦線圈的電流進(jìn)而補(bǔ)償所述傾角差。
文檔編號(hào)G11B7/09GK1716402SQ200510079408
公開(kāi)日2006年1月4日 申請(qǐng)日期2005年6月21日 優(yōu)先權(quán)日2004年6月23日
發(fā)明者金鳳基, 樸壽韓, 裵楨國(guó), 樸春成 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社