專利名稱：光盤制造用片與光盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光盤制造用片與光盤。特別是涉及難帶壓痕的光盤制造用片與光盤。
背景技術(shù)：
光盤，為了保護(hù)記錄層，采用旋轉(zhuǎn)涂布法等在記錄層表面上涂布紫外線固化性樹(shù)脂使之固化，形成光透過(guò)性的保護(hù)層。然而，這樣的方法難形成均勻厚度的保護(hù)層，結(jié)果，制得的光盤，特別是大容量的光盤在信息再生或記錄時(shí)容易產(chǎn)生錯(cuò)誤。
因此，提出了采用旋轉(zhuǎn)涂布法等在記錄層表面上涂布紫外線固化性的液態(tài)粘合劑、在所形成的粘合劑層上貼附光透過(guò)性的被覆薄膜后、使紫外線固化性粘合劑固化的方法。但，即使是采用這樣的方法，也產(chǎn)生涂布方法引起的粘合劑層的厚度不均勻，不一定能滿足制品上所要求的層厚的均勻性。
因此，提出了使用預(yù)先控制粘合劑層厚度的粘合片，在記錄層表面上貼附被覆薄膜的方法(特許第3338660號(hào)公報(bào)、特開(kāi)2000-67468號(hào)公報(bào))。如果采用這樣的粘合片，在粘合片制造階段形成均勻?qū)雍竦恼澈蠈?，則可以擔(dān)保制品上所要求層厚的技術(shù)要求。
然而，以往使用的粘合劑由于在常溫范圍的彈性模量降低，故部分地對(duì)覆蓋薄膜施加壓力時(shí)，有覆蓋薄膜與粘合劑層一起變形的問(wèn)題。例如用夾子夾光盤，或在覆蓋薄膜有突起物的狀態(tài)下，在光盤上擺放相當(dāng)于書(shū)的重量的一些物品的場(chǎng)合等，粘合劑層與覆蓋薄膜發(fā)生變形，在覆蓋薄膜上留下壓痕。
這樣附在覆蓋薄膜上的壓痕，特別是為了增加記錄密度使用高數(shù)值孔徑(0.85)的透鏡與短波長(zhǎng)(405nm)的激光的藍(lán)光盤中，成為對(duì)信息的記錄、再生造成影響的重要缺陷。此外，現(xiàn)在的藍(lán)光盤是裝在盒中，但將來(lái)藍(lán)光盤發(fā)展裸盤的可能性高，此時(shí)上述之類的問(wèn)題將更突出。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于如上述實(shí)際狀況而完成的，其目的在于提供粘合劑層有均勻的層厚、同時(shí)保護(hù)層難帶壓痕的光盤制造用片與光盤。
為了達(dá)到上述目的，第1，本發(fā)明提供光盤制造用片，其特征在于是在光盤的記錄層上粘合保護(hù)層用的光盤制造用片，其具有固化前的儲(chǔ)能彈性模量為103-106pa、固化后的儲(chǔ)能彈性模量為107-1011Pa的固化性的粘合劑層(發(fā)明1)。
粘合劑層固化前的儲(chǔ)能彈性模量在如上述的范圍時(shí)，只施加壓力便可以粘合保護(hù)層，同時(shí)可預(yù)先按均勻的層厚形成粘合劑層，并且保持該均勻的層厚。而粘合劑層固化后的儲(chǔ)能彈性模量在如上述的范圍時(shí)，制得的光盤不產(chǎn)生翹曲等的問(wèn)題，可賦予耐壓痕性。
上述發(fā)明(發(fā)明1)中，前述粘合劑層優(yōu)選以能量射線固化性的高分子材料為主要成分(發(fā)明2)。該能量射線固化性的高分子材料優(yōu)選是在側(cè)鏈有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物(發(fā)明3)，能量射線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率優(yōu)選是0.1-30摩爾％(發(fā)明4)。該場(chǎng)合，前述能量射線固化性基優(yōu)選是不飽和基，并且前述丙烯酸酯共聚物的重均分子量?jī)?yōu)選是100,000以上(發(fā)明5)。
上述發(fā)明(發(fā)明2)中，前述能量射線固化性的高分子材料，可以是側(cè)鏈有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物與能量射線固化性的多官能單體和/或低聚物的混合物(發(fā)明6)，也可以是沒(méi)有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物與能量射線固化性的多官能單體和/或低聚物的混合物(發(fā)明7)。
上述發(fā)明(發(fā)明1-7)所述的光盤制造用片，也可以有前述粘合劑層和保護(hù)層(發(fā)明8)。
第2，本發(fā)明提供光盤，其特征在于是使用前述光盤制造用片(發(fā)明1-8)制造的光盤，其利用固化的前述粘合劑層粘合前述保護(hù)層(發(fā)明9)。


圖1是本發(fā)明第1實(shí)施方案的光盤制造用片的截面圖。
圖2是表示使用第1實(shí)施方案的光盤制造用片的光盤制造方法一個(gè)例子的截面圖。
圖3是表示使用第1實(shí)施方案的光盤制造用片的光盤制造方法的另一個(gè)例子的截面圖。
圖4是本發(fā)明第2實(shí)施方案的光盤制造用片的截面圖。
圖5是表示使用第2實(shí)施方案的光盤制造用片的光盤制造方法的一個(gè)例子的截面圖。
實(shí)施發(fā)明的最佳方案以下，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方案進(jìn)行說(shuō)明。
第1實(shí)施方案圖1是本發(fā)明第1實(shí)施方案的光盤制造用片的截面圖，圖2(a)-(d)是表示使用第1實(shí)施方案的光盤制造用片的光盤制造方法一個(gè)例子的截面圖，圖3(a)-(f)是表示使用第1實(shí)施方案的光盤制造用片的光盤制造方法另一個(gè)例子的截面圖。
如圖1所示，本實(shí)施方案所述的光盤制造用片1，由粘合劑層11和層合在粘合劑層11的一面(圖1中上面)上的保護(hù)片12及層合在粘合劑層11的另一邊的面(圖1中下面)上的剝離片13構(gòu)成。此外，保護(hù)片12是在光盤中成為保護(hù)層的部分，剝離片13是使用光盤制造用片1時(shí)被剝離的部分。
粘合劑層11是為了粘合光盤中的信息記錄層和保護(hù)片12用的部分(參照?qǐng)D2與圖3)。該粘合劑層11的固化前的儲(chǔ)能彈性模量是103-106Pa、優(yōu)選是104-105Pa。而粘合劑層11的固化后的儲(chǔ)能彈性模量是107-1011Pa，優(yōu)選是108-1010Pa。
此外，固化前的儲(chǔ)能彈性模量的測(cè)定溫度，設(shè)成與在粘合對(duì)象物上壓粘光盤制造用片1的作業(yè)環(huán)境相同的溫度。由于一般光盤制造用片1在室溫下壓粘在粘合對(duì)象物上，故儲(chǔ)能彈性模量為在室溫下測(cè)定的值。而固化后的儲(chǔ)能彈性模量的測(cè)定溫度是與所得光盤的保管環(huán)境相同的溫度，即為室溫。
粘合劑層11的固化前的儲(chǔ)能彈性模量在如上述的范圍時(shí)，只施加壓力便可以將保護(hù)片12與信息記錄層粘合，同時(shí)可以預(yù)先以均勻的層厚形成粘合劑層，并且可保持其均勻的層厚。粘合劑層11的固化前的儲(chǔ)能彈性模量低于103Pa時(shí)，粘合劑層11容易變形、或難保持均勻的層厚。而粘合劑層11的固化前的儲(chǔ)能彈性模量超過(guò)105Pa時(shí)，保護(hù)片12與信息記錄層粘合時(shí)，粘合劑層11難跟蹤信息記錄層的凹凸圖形(凹坑或溝槽/凸臺(tái))，在粘合劑層11與信息記錄層之間有時(shí)發(fā)生成為錯(cuò)誤原因的氣泡。
而粘合劑層11的固化后的儲(chǔ)能彈性模量在如上述的范圍時(shí)，可以在制得的光盤上不產(chǎn)生問(wèn)題地賦予耐壓痕性。粘合劑層11的固化后的儲(chǔ)能彈性模量低于107Pa時(shí)，由于部分壓力的施加，粘合劑層11容易變形，保護(hù)片12上容易有壓痕。而粘合劑層11固化后的儲(chǔ)能彈性模量超過(guò)1011Pa時(shí)，由于體積收縮隨粘合劑層11的固化而增大，故產(chǎn)生光盤翹曲變大或產(chǎn)生粘合性降低等的問(wèn)題。
粘合劑層11優(yōu)選以有能量射線固化性的聚合物成分為主要成分的層，除此之外，也可以以沒(méi)有能量射線固化性的聚合物成分與能量射線固化性的多官能單體和/或低聚物的混合物為主要成分。任何一種場(chǎng)合均優(yōu)選粘合劑層11固化前顯示壓敏粘合性(粘著性)、固化后有牢固的粘合性與適度的硬度。
以下對(duì)粘合劑層11以有能量射線固化性的聚合物成分為主要成分的場(chǎng)合進(jìn)行說(shuō)明。
構(gòu)成粘合劑層11的有能量射線固化性的聚合物成分，優(yōu)選是側(cè)鏈有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物。另外，該丙烯酸酯共聚物優(yōu)選是使有含官能團(tuán)單體單元的丙烯酸系共聚物(a1)、與有結(jié)合在該官能團(tuán)上的取代基的含不飽和基化合物(a2)反應(yīng)制得的、側(cè)鏈有能量射線固化性基的分子量100,000以上的能量射線固化型共聚物(A)。
這里，能量射線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率優(yōu)選是0.1-30摩爾％、特別優(yōu)選是5-15摩爾％。能量射線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率低于0.1摩爾％時(shí)，不能得到所期望的能量射線固化性，能量射線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率超過(guò)30摩爾％時(shí)，由于隨著粘合劑層11的固化產(chǎn)生體積收縮，故有時(shí)光盤發(fā)生翹曲。
此外，能量射線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率由下式算出。
能量射線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率＝(能量射線固化性基的摩爾數(shù)/構(gòu)成丙烯酸系共聚物的單體的總摩爾數(shù))×100丙烯酸系共聚物(a1)由含官能團(tuán)單體形成的結(jié)構(gòu)單元和由(甲基)丙烯酸酯單體或其衍生物形成的結(jié)構(gòu)單元構(gòu)成。這里，本說(shuō)明書(shū)中的所謂(甲基)丙烯酸酯單體意味著丙烯酸酯單體和/或甲基丙烯酸酯單體。
丙烯酸系共聚物(a1)具有的含官能團(tuán)單體，是分子內(nèi)有聚合性的雙鍵、和羥基、羧基、氨基、取代氨基、環(huán)氧基等的官能團(tuán)的單體，優(yōu)選使用含羥基不飽和化合物、含羧基不飽和化合物。
作為這樣的含官能團(tuán)單體的更具體的例子，可舉出丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯等的含羥基丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸等的含羧基化合物，這些可以單獨(dú)使用，也可以2種以上組合使用。
作為這種含官能團(tuán)單體，最好選擇使能量射線固化型共聚物中存在羧基的單體。能量射線固化型共聚物中存在羧基時(shí)，粘合劑層11與信息記錄層的粘合力高，制得的光盤的強(qiáng)度、耐久性提高。
能量射線固化型共聚物中存在的羧基的量，按單體換算優(yōu)選是0.01-30摩爾％、再優(yōu)選是0.5-20摩爾％。此外羧基與后述的含不飽和基化合物(a2)進(jìn)行反應(yīng)的場(chǎng)合(含官能團(tuán)單體是含羧基單體的場(chǎng)合)，按照(含羧基單體的摩爾數(shù))-(含不飽和基化合物的摩爾數(shù))算出的值為羧基的含量。
作為構(gòu)成丙烯酸系共聚物(a1)的(甲基)丙烯酸酯單體，可以使用(甲基)丙烯酸環(huán)烷酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、烷基的碳原子數(shù)1-18的(甲基)丙烯酸烷基酯。其中，特別優(yōu)選烷基的碳原子數(shù)1-18的(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可以使用(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等。
丙烯酸系共聚物(a1)，通常以0.5-100摩爾％、優(yōu)選1-40摩爾％、特別優(yōu)選3-30摩爾％的比例含有由上述含官能團(tuán)單體形成的結(jié)構(gòu)單元，通常以0-99.5摩爾％、優(yōu)選60-99摩爾％、特別優(yōu)選70-97摩爾％的比例含有由(甲基)丙烯酸酯單體或其衍生物形成的結(jié)構(gòu)單元。
丙烯酸系共聚物(a1)采用通常方法將如上述含有官能團(tuán)的單體與(甲基)丙烯酸酯單體或其衍生物共聚制得，但除這些單體以外，也可以按少量(例如10摩爾％以下、優(yōu)選5摩爾％以下)的比例共聚二甲基丙烯酰胺、甲酸乙烯酯、醋酸乙烯酯、苯乙烯等。
通過(guò)使上述有含官能團(tuán)單體單元的丙烯酸系共聚物(a1)與有結(jié)合在該官能團(tuán)上的取代基的含不飽和基的化合物(a2)反應(yīng)，可以制得能量射線固化型共聚物(A)。
含不飽和基化合物(a2)具有的取代基，可根據(jù)丙烯酸系共聚物(a1)具有的含官能團(tuán)單體單元的官能團(tuán)的種類適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行選擇。例如，官能團(tuán)為羥基、氨基或取代氨基的場(chǎng)合，作為取代基優(yōu)選異氰酸酯基或環(huán)氧基，官能團(tuán)為羧基的場(chǎng)合，作為取代基優(yōu)選氮丙啶基、異氰酸酯基、環(huán)氧基或噁唑啉基，官能團(tuán)為環(huán)氧基的場(chǎng)合，作為取代基優(yōu)選氨基、羧基或氮丙啶基。這樣的取代基，每1個(gè)分子含不飽和基化合物(a2)中含一個(gè)取代基。
另外，含不飽和基化合物(a2)，每1個(gè)分子含1-5個(gè)，優(yōu)選含1-2個(gè)能量射線聚合性的碳-碳雙鍵。作為這樣的含不飽和基化合物(a2)的具體例，例如，可舉出甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯、間異丙烯基-α，α-二甲基芐基異氰酸酯、甲基丙烯?；惽杷狨?、烯丙基異氰酸酯；二異氰酸酯化合物或多異氰酸酯化合物與(甲基)丙烯酸羥基乙酯反應(yīng)得到的丙烯?；鶈萎惽杷狨セ衔?；二異氰酸酯化合物或多異氰酸酯化合物與多元醇化合物和(甲基)丙烯酸羥基乙酯反應(yīng)得到的丙烯?；鶈萎惽杷狨セ衔?；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-(1-氮丙啶)乙酯、2-乙烯基-2-噁唑啉、2-異丙烯基-2-噁唑啉等。
上述丙烯酸系共聚物(a1)的每100當(dāng)量含官能團(tuán)單體，通常以5-100當(dāng)量、優(yōu)選10-90當(dāng)量、特別優(yōu)選20-80當(dāng)量的比例使用含不飽和基化合物(a2)。
在丙烯酸系共聚物(a1)與含不飽和基化合物(a2)的反應(yīng)中，可根據(jù)官能團(tuán)與取代基的組合適當(dāng)選擇反應(yīng)溫度、壓力、溶劑、時(shí)間、催化劑的有無(wú)、催化劑的種類。因此，存在于丙烯酸系共聚物(a1)中的側(cè)鏈上的官能團(tuán)與含不飽和基化合物(a2)中的取代基反應(yīng)，在丙烯酸系共聚物(a1)中的側(cè)鏈上導(dǎo)入不飽和基，可以制得能量射線固化型共聚物(A)。該反應(yīng)中的官能團(tuán)與取代基的反應(yīng)率通常是70％以上、優(yōu)選是80％以上，未反應(yīng)的官能團(tuán)也可以殘留在能量射線固化型共聚物(A)中。
這樣制得的能量射線固化型共聚物(A)的重均分子量?jī)?yōu)選是100,000以上、特別優(yōu)選是150,000-1,500,000、再優(yōu)選是200,000-1,000,000。
這里，作為能量射線使用紫外線的場(chǎng)合，可通過(guò)在上述能量射線固化型共聚物(A)中添加光聚合引發(fā)劑(B)減少聚合固化時(shí)間與光線照射量。
作為這樣的光聚合引發(fā)劑(B)，具體地，可舉出二苯甲酮、苯乙酮、苯偶因、苯偶因甲醚、苯偶因乙醚、苯偶因丙醚、苯偶因異丁醚、苯偶因苯甲酸、苯偶因苯甲酸甲酯、苯偶因二甲基縮酮、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮，2，4-二乙基硫呫噸酮、1-羥基環(huán)己基苯酮、芐基二苯基硫醚、一硫化四甲基秋蘭姆、偶氮二異丁腈、苯偶酰、聯(lián)苯偶酰、聯(lián)乙酰、β-氯蒽醌、(2，4，6-三甲基芐基二苯基)氧化磷、2-苯并噻唑-N，N-二乙基二硫代氨基甲酸酯、低聚{2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-丙烯基)苯基]丙酮}等。這些可以單獨(dú)使用，也可以2種以上并用。
光聚合引發(fā)劑(B)，相對(duì)于能量射線固化型共聚物(A)100重量份(配合后述的能量射線固化性的多官能單體或低聚物成分(D)的場(chǎng)合，能量射線固化型共聚物(A)與能量射線固化性的多官能單體或低聚物成分(D)的合計(jì)量100重量份)優(yōu)選按0.1-10重量份、特別優(yōu)選按0.5-5重量份范圍的量使用。
上述粘合劑層11，除了能量射線固化型共聚物(A)與光聚合引發(fā)劑(B)，還可以配合適宜的其他成分。作為其他的成分，例如可舉出沒(méi)有能量射線固化性的聚合物成分或低聚物成分(C)、能量射線固化性的多官能單體或低聚物成分(D)、交聯(lián)劑(E)、其他的添加劑(F)。
作為沒(méi)有能量射線固化性的聚合物成分或低聚物成分(C)，例如，可舉出聚丙烯酸酯、聚酯、聚氨酯、聚碳酸酯、聚烯烴等，優(yōu)選重均分子量3,000-250萬(wàn)的聚合物或低聚物。
作為能量射線固化性的多官能單體或低聚物成分(D)，例如，可舉出三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚酯低聚(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯低聚(甲基)丙烯酸酯等。
作為交聯(lián)劑(E)，可以使用與能量射線固化型共聚物(A)等具有的官能團(tuán)有反應(yīng)性的多官能性化合物。作為這樣的多官能性化合物的例子，可舉出異氰酸酯化合物、環(huán)氧化合物、胺化合物、三聚氰胺化合物、氮丙啶化合物、肼化合物、醛化合物、噁唑啉化合物、金屬醇鹽化合物、金屬螯合化合物、金屬鹽、銨鹽、反應(yīng)性酚樹(shù)脂等。
作為其他的添加劑(F)，例如，可舉出紫外線吸收劑、抗氧劑、增粘劑、染料、偶聯(lián)劑等。
通過(guò)在粘合劑層11中配合這些其他的成分(C)-(F)，可以改善固化前的粘合性與剝離性、固化后的強(qiáng)度，與其他層的粘合性、保存穩(wěn)定性等。這些其他成分的配合量沒(méi)有特殊限定，相對(duì)于能量射線固化型共聚物(A)100重量份，在0-150重量份的范圍內(nèi)適當(dāng)?shù)貨Q定。
以下，對(duì)粘合劑層11以沒(méi)有能量射線固化性的聚合物成分和能量射線固化性的多官能單體或低聚物的混合物為主要成分的場(chǎng)合進(jìn)行說(shuō)明。
作為這樣的粘合劑層11使用的聚合物成分，例如，可以使用與前述的丙烯酸系共聚物(a1)相同的成分。這種丙烯酸系共聚物(a1)中，選擇有作為官能團(tuán)的羧基的丙烯酸系共聚物時(shí)，粘合劑層11與信息記錄層的粘合力增高而優(yōu)選。
另外，作為能量射線固化性的多官能單體或低聚物，選擇與前述的成分(D)相同的化合物，聚合物成分與能量射線固化性的多官能單體或低聚物的配合比，相對(duì)于聚合物成分100重量份，優(yōu)選多官能單體或低聚物是10-150重量份、特別優(yōu)選是25-100重量份。
本粘合劑層11中也可以配合前述的其他的添加劑(F)。作為上述其他的添加劑(F)的配合量，例如，相對(duì)于能量射線固化型共聚物100重量份，按其他的添加劑(F)的合計(jì)優(yōu)選是0-50重量份、特別優(yōu)選是0-20重量份。
這里，粘合劑層11的厚度，根據(jù)信息記錄層的凹凸圖形(凹坑或溝槽)的深度決定，但通常是3-30μm左右、優(yōu)選是15-25μm左右。
本實(shí)施方案中的保護(hù)片12是為了保護(hù)光盤上信息記錄層用的膜片，構(gòu)成光盤的受光面。
作為保護(hù)片12的材料，基本上可以是對(duì)信息再生或記錄用的光波長(zhǎng)范圍有充分的光透過(guò)性的材料，但為了容易地制造光盤，優(yōu)選剛性或柔軟性適度的材料，另外，為了保管光盤，優(yōu)選是對(duì)溫度穩(wěn)定的材料。作為這樣的材料，例如，可以使用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯等的樹(shù)脂。
保護(hù)片12的線膨脹系數(shù)，為了在高溫下不引起光盤翹曲，優(yōu)選與光盤基板的線膨脹系數(shù)大致相同。例如，光盤基板由聚碳酸酯樹(shù)脂構(gòu)成的場(chǎng)合，優(yōu)選保護(hù)片12也由相同聚碳酸酯樹(shù)脂構(gòu)成。
保護(hù)片12的厚度根據(jù)光盤的種類或其他層的厚度等決定，但通常是25-300μm左右，優(yōu)選是50-200μm左右。
作為剝離片13，可以使用以往公知的片材，例如，可以使用利用聚硅氧烷系剝離劑等將聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯或聚丙烯等的樹(shù)脂薄膜進(jìn)行了剝離處理的膜片。
剝離片13，為了對(duì)粘合劑層11賦予平滑性，優(yōu)選剝離處理側(cè)(與粘合劑層11接觸的側(cè))的表面粗糙度(Ra)是0.1μm以下。另外，剝離片13的厚度通常是10-200μm左右、優(yōu)選是20-100μm左右。
本實(shí)施方案所述的光盤制造用片1采用以下的方法制得，即調(diào)制構(gòu)成粘合劑層11的粘合劑，和根據(jù)要求再含有溶劑的涂布劑，使用吻式接觸輥涂布機(jī)、反向輥涂布機(jī)、刮刀式涂布機(jī)、輥刀式涂布機(jī)、口模式涂布機(jī)等的涂布機(jī)涂布在保護(hù)片12上，干燥，形成粘合劑層11后，在該粘合劑層11的表面上重疊剝離片13的剝離處理面，通過(guò)將兩者層合，或者在剝離片13的剝離處理面上涂布上述涂布劑使之干燥，形成粘合劑層11后，在該粘合劑層11的表面層合保護(hù)片12。
以下，對(duì)使用上述光盤制造用片1的光盤D1(一面一層式)的制造方法的一例進(jìn)行說(shuō)明。
首先，如圖2(a)所示，制造有凹坑或溝槽/凸臺(tái)形成的凹凸圖形的光盤基板2。該光盤基板2，通常由聚碳酸酯構(gòu)成，可采用注射成型等的成型法進(jìn)行成型加工。
如圖2(b)所示，采用濺射等的方法在上述光盤基板2的凹凸圖形上形成反射膜3。反射膜3可以是單層膜，也可以是例如由反射膜、介電體膜、相變化膜與介電膜等形成的多層膜。
然后，如圖2(c)所示，剝離除去光盤制造用片1的剝離片13，使粘合劑層11露出，如圖2(d)所示，在光盤基板2上的反射膜3表面上壓合粘合劑層11。
在這種狀態(tài)下，使用能量射線照射裝置，從保護(hù)片12側(cè)或光盤基板2側(cè)對(duì)粘合劑層11照射能量射線，通過(guò)使粘合劑層11固化，制得光盤D1。
作為能量射線，通常使用紫外線，電子射線等。能量射線的照射量依能量射線的種類而不同，例如紫外線的場(chǎng)合，光量?jī)?yōu)選100-500mJ/cm2左右。電子射線的場(chǎng)合，優(yōu)選10-1000千拉德左右。
以下，對(duì)使用上述光盤制造用片1的光盤D2(一面兩層式)的制造方法的另一例進(jìn)行說(shuō)明。
首先，與上述光盤D1的制造方法同樣地，如圖3(a)-(b)所示，制造有凹坑或溝槽/凸臺(tái)形成的凹凸圖形的光盤基板2，在該光盤基板2的凹凸圖形上形成反射膜3。反射膜3可以制成與上述光盤D1的制造方法中的反射膜3相同的單層膜或多層膜。
然后，如圖3(c)所示，在光盤基板2上的反射膜3上形成由能量射線固化性的材料形成的壓模受容層4。該壓模受容層4也可以采用旋轉(zhuǎn)涂布法等涂布能量射線固化性材料的涂布劑形成，但優(yōu)選預(yù)先在剝離片上形成壓模受容層4，將壓模受容層4與反射膜3貼合后，剝離除去剝離片形成。
接著，如圖3(d)所示，在壓模受容層4的表面上壓合壓膜S，把壓模S的凹凸圖形轉(zhuǎn)印在壓模受容層4上。在該狀態(tài)下使用能量射線照射裝置，從壓模S側(cè)或光盤基板2側(cè)對(duì)壓模受容層4照射能量射線，使壓模受容層4固化。
壓模S由鎳合金等的金屬材料或降冰片烯樹(shù)脂等的透明樹(shù)脂材料構(gòu)成。此外，雖然圖3(d)表示的壓模S的形狀是板狀，但不受此限定，也可以是輥狀。
壓模受容層4固化后，將模S與壓模受容層4分離。這樣模S的凹凸圖形便轉(zhuǎn)印、固定在壓模受容層4上，形成凹坑或溝槽/凸臺(tái)后，接著如圖3(e)所示，采用濺射法等的方法在壓模受容層4的凹凸圖形上形成半透明反射膜3′。該半透明反射膜3′可以是單層膜、也可以是例如半透明反射膜、介電體膜、相變化膜與介電體膜等構(gòu)成的多層膜。
然后，剝離除去光盤制造用片1的剝離片13，使粘合劑層11露出，如圖3(f)所示，將該粘合劑層11壓合在半透明反射膜3′上。
在該狀態(tài)下使用能量射線照射裝置，從保護(hù)片12側(cè)或光盤基板2側(cè)對(duì)粘合劑層11照射能量射線，通過(guò)使粘合劑層11固化制得光盤D2。
這樣地制得的光盤D1，D2，其固化前的儲(chǔ)能彈性模量是103-106Pa，由于利用預(yù)先控制厚度的粘合劑層11粘合保護(hù)片12，故粘合劑層11沒(méi)有厚度不均，可確保制品上要求的層厚的均勻性。
另外，光盤D1、D2中固化的粘合劑層11，其儲(chǔ)能彈性模量是107Pa以上，由于即使施加部分的壓力也難變形，故光盤D1、D2成為耐壓痕性好的光盤。另外，通過(guò)固化的粘合劑層11的儲(chǔ)能彈性模量是1011Pa以下，也幾乎沒(méi)有隨粘合劑層11固化的體積收縮導(dǎo)致的光盤D1、D2的翹曲。
上述的光盤的制造方法僅僅是一例，使用本實(shí)施方案所述的光盤制造用片的光盤的制造方法不限于這些制造方法。
第2實(shí)施方案圖4是本發(fā)明的第2實(shí)施方案所述的光盤制造用片的截面圖，圖5(a)-(e)是表示使用第2實(shí)施方案所述光盤制造用片的光盤制造方法一個(gè)例子的截面圖。
如圖4所示，本實(shí)施方案所述的光盤制造用片1′由粘合劑層11與層合在粘合劑層11的兩面的剝離片13，13′構(gòu)成。再者，剝離片13，13′是使用光盤制造用片1時(shí)被剝離的部分。
粘合劑層11由與上述第1實(shí)施方案所述的光盤制造用片1的粘合劑層11相同的材料構(gòu)成，有同樣的厚度。另外，剝離片13，13′可以使用與上述第1實(shí)施方案所述光盤制造用片1的剝離片13相同的材料。但最好剝離片13，13′的任何一方為輕剝離型片，另一方為重剝離型片。本實(shí)施方案中，剝離片13′為輕剝離型、剝離片13為重剝離型。
本實(shí)施方案所述的光盤制造用片1′采用以下的方法制得，即，調(diào)制構(gòu)成粘合劑層11的粘合劑，根據(jù)需要再含有溶劑的涂布劑，使用吻式接觸涂布機(jī)、反向輥涂布機(jī)、刮刀式涂布機(jī)、輥刀式涂布機(jī)、口模式涂布機(jī)等的涂布機(jī)，涂布在剝離片13(或剝離片13′)的剝離處理面上，干燥形成粘合劑層11后，在該粘合劑層11的表面上重合剝離片13′(或剝離片13)的剝離處理面，將兩者層合。
以下，對(duì)使用上述光盤制造用片1′的光盤D1′(一面一層式)的制造方法的一個(gè)例子進(jìn)行說(shuō)明。
首先，與使用上述第1實(shí)施方案所述的光盤制造用片1的光盤D1的制造方法同樣地，如圖5(a)-(b)所示，制造有凹坑或溝槽/凸臺(tái)形成的凹凸圖形的光盤基板2，在該光盤基板2的凹凸圖形上形成反射膜3。反射膜3可以制成與上述第1實(shí)施方案中的反射膜3同樣的單層膜或多層膜。
然后，剝離除去光盤制造用片1′的剝離片13′，使粘合劑層11露出，如圖5(c)所示，在光盤基板2上的反射膜3表面上壓合粘合劑層11，再如圖5(d)所示，從粘合劑層11上剝離除去剝離片13，使粘合劑層11露出后，如圖5(e)所示，在露出的粘合劑層11上壓合保護(hù)片12。作為保護(hù)片12，可以使用與上述第1實(shí)施方案所述的光盤制造用片1的保護(hù)片12同樣的片材。
在該狀態(tài)下使用能量射線照射裝置，從保護(hù)片12側(cè)或光盤基板2側(cè)對(duì)粘合劑層11照射能量射線，通過(guò)使粘合劑層11固化制得光盤D1′。
此外，也可以采用與上述同樣的方法制造一面2層式的光盤。
以上說(shuō)明的實(shí)施方案是為了容易理解本發(fā)明所述的方法，不是為限定本發(fā)明所述的方法，因此，上述實(shí)施方案中所公開(kāi)的各要素，也包含屬于本發(fā)明技術(shù)范圍的全部的設(shè)計(jì)變動(dòng)或均等物。
例如，光盤制造用片1，1′中的剝離片13或剝離片13′可以省略。
實(shí)施例以下，利用實(shí)施例更具體地說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明的范圍不限于這些實(shí)施例。
實(shí)施例1在醋酸乙酯中按摩爾比69.22∶30.78使丙烯酸正丁酯與丙烯酸聚合，制得丙烯酸系共聚物(a1)溶液(固體成分濃度30重量％)。
在上述丙烯酸系共聚物溶液中加入作為含不飽和基化合物(a2)的甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯，使甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯的異氰酸酯基與丙烯酸系共聚物的羧基反應(yīng)，制得作為能量射線固化性基的甲基丙烯?；钠骄鶄?cè)鏈導(dǎo)入率為9.24摩爾％、重均分子量(Mw)為680,000的能量射線固化性丙烯酸酯共聚物(A)。
相對(duì)于制得的有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物(A)溶液的固體成分100重量份，加入作為光聚合引發(fā)劑的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮5重量份和作為交聯(lián)劑的異氰酸酯系交聯(lián)劑(日本聚氨酯公司制Coronate L)1.7重量份，將固體濃度調(diào)到25重量％，制成粘合劑層用的涂布劑。
使用刮刀涂布機(jī)把上述粘合劑層涂布劑涂布在聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜的一面用聚硅氧烷樹(shù)脂進(jìn)行剝離處理過(guò)的剝離片(Lintec公司制，SP-PET 3811，厚度38μm，表面粗糙度(Ra)0.016μm)的剝離處理面上，使干燥膜厚為22μm，在90℃干燥1分鐘，形成粘合劑層。
將該粘合劑層與作為保護(hù)片的聚碳酸酯薄膜(帝人公司制，Pure-Ace C110-78，厚度78μm)貼合后，老化一個(gè)星期，將此作為光盤制造用片A。
實(shí)施例2在與實(shí)施例1同樣地制得的丙烯酸系共聚物(a1)溶液中，加入作為含不飽和基化合物(a2)的甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯，使甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯的異氰酸酯基與丙烯酸系共聚物的羧基反應(yīng)，制得作為能量射線固化性基的甲基丙烯?；钠骄鶄?cè)鏈導(dǎo)入率為18.48摩爾％、重均分子量(Mw)為760,000的能量射線固化性丙烯酸酯共聚物(A)。
使用制得的有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物(A)，與實(shí)施例1同樣地調(diào)制粘合劑層用的涂布劑，制造光盤制造用片B。
實(shí)施例3相對(duì)于與實(shí)施例1同樣地制得的有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物(A)的固體成分100重量份，加入由能量射線固化性的多官能單體與能量射線固化性的多官能低聚物組成的組合物(大日精化公司制，Seika Beam 14-29B(NPI))100重量份作為固體成分，再加入作為光聚合引發(fā)劑的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮10.0重量份，和作為交聯(lián)劑的異氰酸酯系交聯(lián)劑(日本聚氨酯公司制Coronat L)3.3重量份，將固體成分濃度調(diào)節(jié)到40重量％，制成粘合劑層用的涂布劑。
使用制得的粘合劑層用涂布劑，與實(shí)施例1同樣地制造光盤制造用片C。
實(shí)施例4在醋酸乙酯中按摩爾比20.91∶64.08∶1.47∶13.54使丙烯酸正丁酯與甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸羥基乙酯及二甲基丙烯酰胺聚合，制得丙烯酸系共聚物(a1)溶液(固體成分濃度35重量％)。
相對(duì)于制得的丙烯酸系共聚物(a1)溶液的固體成分100重量份，加入由能量射線固化性的多官能單體與能量射線固化性的多官能低聚物組成的組合物(大日精化公司制，Seika-Beam 14-29B(NPI))70重量份作為固體成分，再加入作為光聚合引發(fā)劑的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮8.5重量份和作為交聯(lián)劑的異氰酸酯系交聯(lián)劑(日本聚氨酯公司制，Coronat L)2.8重量份，把固體成分濃度調(diào)到40重量％，制成粘合劑層用的涂布劑。
使用制得的粘合劑層用涂布劑，與實(shí)施例1同樣地制造光盤制造用片D。
實(shí)施例5使用刮刀涂布機(jī)把實(shí)施例1制得的粘合劑層用涂布劑涂布在聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜的一面用重剝離型的聚硅氧烷樹(shù)脂進(jìn)行了剝離處理的重剝離型剝離片(Lintec公司制，SP-PET3811，厚度38μm，表面粗糙度(Ra)0.016μm)的剝離處理面上，使干燥膜厚為22μm，在90℃干燥1分鐘，形成粘合劑層。
接著，在該粘合劑層的表面上重合聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜的一面用輕剝離型的聚硅氧烷樹(shù)脂進(jìn)行了剝離處理的輕剝離型剝離片(Lintec公司制，SP-PET 38GS、厚度38μm，表面粗糙度(Ra)0.016μm)的剝離處理面，制成光盤制造用片E。
比較例1相對(duì)于與實(shí)施例1同樣地制得的丙烯酸系共聚物(a1)溶液的固體成分100重量份，加入異氰酸酯系交聯(lián)劑(日本聚氨酯公司制，Coronat L)1重量份，把固體成分濃度調(diào)到25重量％，制成沒(méi)有能量射線固化性的粘合劑層用的涂布劑。
使用制得的粘合劑層用涂布劑，與實(shí)施例1同樣地制造光盤制造片F(xiàn)。
相對(duì)于與實(shí)施例1同樣地制得的有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物(A)的固體成分100重量份，加入由能量射線固化性的多官能單體與能量射線固化性的多官能低聚物組成的組合物(大日本精化公司制，Seika-Beam 14-29B(NPI))400重量份作為固體成分，再加入作為光聚合引發(fā)劑的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮25重量份、作為交聯(lián)劑的異氰酸酯系交聯(lián)劑(日本聚氨酯公司制，Coronat L)4.1重量份，把固體成分濃度調(diào)到50重量％，制成粘合劑層用的涂布劑。
使用制得的粘合劑層用涂布劑，與實(shí)施例1同樣地制造光盤制造用片G。
在醋酸乙酯中按摩爾比49.51∶21.14∶29.35使丙烯酸正丁酯與甲基丙烯酸甲酯和丙烯酸聚合，制得丙烯酸系共聚物(a1)溶液(固體成分濃度33重量％)。
在上述丙烯酸系共聚物(a1)溶液中加入甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯，使甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯的異氰酸酯基與丙烯酸系共聚物的羧基反應(yīng)，制得作為能量射線固化性基的甲基丙烯酰基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率為0.01摩爾％、重均分子量(Mw)為650,000的能量射線固化性丙烯酸酯共聚物(A)。
相對(duì)于制得的有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物(A)溶液的固體成分100重量份，加入作為光聚合引發(fā)劑的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮5重量份和作為交聯(lián)劑的金屬螯合物系交聯(lián)劑(川崎精細(xì)化學(xué)品公司制，Alumi chelate D)0.7重量份(固體成分)，把固體成分濃度調(diào)到20重量％，制成粘合劑層用的涂布劑。
使用制得的粘合劑層用涂布劑，與實(shí)施例1同樣地制造光盤制造用片H。
相對(duì)于與實(shí)施例4同樣地制得的丙烯酸系共聚物(a1)溶液的固體成分100重量份，加入由能量射線固化性的多官能單體與能量射線固化性的多官能低聚物組成的組合物(大日精化公司制，Seika-Beam14-29B(NPI))5重量份作為固體成分，再加入作為光聚合引發(fā)劑的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮5.3重量份和作為交聯(lián)劑的異氰酸酯系交聯(lián)劑(日本聚氨酯公司制，Coronat L)1.7重量份，把固體成分濃度調(diào)到30重量％，制成粘合劑層用的涂布劑。
使用制得的粘合劑層用涂布劑，與實(shí)施例1同樣地制造光盤制造用片I。
使用粘彈性測(cè)定裝置(Rheometrics公司制，裝置名DYNAMICANALYZER RDAII)在1Hz下測(cè)定實(shí)施例1～5與比較例1～4制造的光盤制造用片A～I(xiàn)的粘合劑層固化前的儲(chǔ)能彈性模量在25℃的值。把結(jié)果示于表1。
采用注射成型加工制造厚度1.1mm、外徑120mm、內(nèi)徑15mm、一面有凹凸圖形的聚碳酸酯制的光盤基板。采用濺射在該光盤基板的凹凸圖形上形成鋁合金構(gòu)成的厚度約150nm的反射膜。
對(duì)實(shí)施例1～4與比較例1～4制造的光盤制造用片A～D與F～I(xiàn)，采用沖裁加工預(yù)先切成與上述光盤基板同樣的形狀后，剝掉剝離片，使露出的粘合劑層層合在上述光盤基板上的反射膜上，用29N的壓力壓合。
另外，對(duì)實(shí)施例5制造的光盤制造用片E，采用沖裁加工預(yù)先切成與上述光盤基板同樣的形狀后，剝掉輕剝離型剝離片，使露出的粘合劑層層合在上述光盤基板上的反射膜上，用29N的壓力壓合。接著，剝掉重剝離型剝離片，在露出的粘合劑層上層合與實(shí)施例1使用的保護(hù)片同樣的保護(hù)片(但，預(yù)先切成與光盤基板同樣的形狀)，用29N的壓力壓合。
然后，除了光盤制造用片F(xiàn)以外，均從保護(hù)片側(cè)照射紫外線(使用Lintec株式會(huì)社制，裝置名Adwill RAD-2000m/8。照射條件照度130mW/cm2、光量400mJ/cm2)，使粘合劑層固化，制得光盤A～I(xiàn)。
(1)固化后的儲(chǔ)能彈性模量使用粘彈性測(cè)定裝置(Orientec株式會(huì)社制，裝置名RheoribronDDV-II-EP)在3.5Hz下測(cè)定制造例制得的光盤A～I(xiàn)(除光盤F外)的粘合劑層(固化后)的儲(chǔ)能彈性模量在25℃的值。把結(jié)果示于表1。
(2)粘合劑層層厚的均勻性采用沖裁加工把實(shí)施例1～5與比較例1～4制造的光盤制造用片A～I(xiàn)切成與光盤基板同樣的形狀。在該狀態(tài)下采用汞燈投影法觀察光盤制造用片的粘合劑層的厚度不均。
汞燈投影法，即在汞燈(Ushio電機(jī)公司制，光源SX-01250H Q、汞燈電源BA-H 250)與白色的投影用屏之間配置光盤制造用片，目視觀察投影用屏上的光盤制造用片的投影。汞燈與光盤制造用片的距離為170cm，光盤制造用片與投影用屏的距離為30cm。
上述汞燈投影法中，如果粘合劑層上有局部的厚度不均，則由于在投影用屏上出現(xiàn)影，故可以采用目視確認(rèn)厚度不均。把結(jié)果示于表1。表1中，○表示沒(méi)有厚度不均的情況，×表示有厚度不均的情況。
(3)耐壓痕性準(zhǔn)備按10mm間隔將直徑φ0.67mm，長(zhǎng)度20mm的2根鐵絲平行排列的夾具。在23℃，相對(duì)濕度65％的環(huán)境下，使上述光盤A～I(xiàn)保護(hù)片朝上地放置在平作業(yè)臺(tái)上，在光盤A～I(xiàn)的保護(hù)片上載置上述夾具，同時(shí)在夾具上施加重量使總重量為500g。在該狀態(tài)下放置24小時(shí)后，按照J(rèn)IS B 0601測(cè)定光盤A～I(xiàn)的保護(hù)片側(cè)的變形部分的彎曲曲線，由下式算出變形量。
變形量(μm)＝Wt-WtiWt荷重放置24小時(shí)后的彎曲曲線的最大截面高度Wti預(yù)先測(cè)定的荷重前的彎曲曲線的最大截面高度(1枚光盤測(cè)定6點(diǎn)的平均值)此外，彎曲曲線的測(cè)定，使用表面粗糙度計(jì)(Mitsutoyo公司制，SV 3000 S4、限閾值為λf＝2.5mm，λc＝0.08mm。把結(jié)果示于表1。
(4)粘合力按照J(rèn)IS Z0237標(biāo)準(zhǔn)采用180度撕剝法測(cè)定實(shí)施例1～5與比較例1～4制造的光盤制造用片A～I(xiàn)的粘合力。粘合力的測(cè)定，將剝離除去剝離片的各光盤制造用片粘貼在試驗(yàn)板(SUS 304鋼板)上后，照射紫外線(使用Lintec株式會(huì)社制裝置名Adwill RAD-2000m/8。照射條件照度130mW/cm2，光量400mJ/cm2)，使粘合劑層固化后進(jìn)行測(cè)定。
此外，關(guān)于實(shí)施例5制造的光盤制造用片E，對(duì)從光盤制造用片E上剝離輕剝離型剝離片、在露出的粘合劑層上用29N壓合聚碳酸酯薄膜(帝人公司制，Pure-Ace C110-78，厚度78μm)的片，采用上述測(cè)定方法測(cè)定粘合力。
把結(jié)果示于表1。再者，光盤制造用片的粘合性，如果上述測(cè)定方法測(cè)的粘合力是150mN/25mm以上，則可以說(shuō)粘合性良好。
表1

由表1可以看出，實(shí)施例1～5制得的光盤A～E，是粘合劑層的層厚均勻性、耐壓痕性與粘合性好的光盤。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性根據(jù)本發(fā)明，可以制得粘合劑層有均勻的層厚、同時(shí)耐壓痕性好的光盤。所述的本發(fā)明適合于藍(lán)光盤、特別是裸盤化的藍(lán)光盤使用。
權(quán)利要求
1.光盤制造用片材，其特征在于，是在光盤的記錄層上粘合保護(hù)層用的光盤制造用片材，其具有固化前的儲(chǔ)能彈性模量為103～106Pa、固化后的儲(chǔ)能彈性模量為107～1011Pa的固化性的粘合劑層。
2.權(quán)利要求1所述的光盤制造用片材，其特征在于前述粘合劑層以能量射線固化性的高分子材料為主要成分。
3.權(quán)利要求2所述的光盤制造用片材，其特征在于前述能量射線固化性的高分子材料是側(cè)鏈有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物。
4.權(quán)利要求3所述的光盤制造用片材，其特征在于前述能量射線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率是0.1～30摩爾％。
5.權(quán)利要求3或4所述的光盤制造用片材，其特征在于前述能量射線固化性基是不飽和基，并且，前述丙烯酸酯共聚物的重均分子量是100000以上。
6.權(quán)利要求2所述的光盤制造用片材，其特征在于前述能量射線固化性的高分子材料是側(cè)鏈有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物與能量射線固化性的多官能單體和/或低聚物的混合物。
7.權(quán)利要求2所述的光盤制造用片材，其特征在于前述能量射線固化性的高分子材料是沒(méi)有能量射線固化性基的丙烯酸酯共聚物與能量射線固化性的多官能單體和/或低聚物的混合物。
8.權(quán)利要求1～7的任何一項(xiàng)所述的光盤制造用片材，其特征在于具有前述粘合劑層和保護(hù)層。
9.光盤，其特征在于是使用權(quán)利要求1～8的任何一項(xiàng)所述的光盤制造用片材制造的光盤，其利用固化的前述粘合劑層粘合前述保護(hù)層。
全文摘要
在光盤基板2上形成的反射膜3上層合具有固化前的儲(chǔ)能彈性模量為10
文檔編號(hào)G11B7/256GK1774753SQ20048001040
公開(kāi)日2006年5月17日 申請(qǐng)日期2004年4月16日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月18日
發(fā)明者加藤一也, 久保田新, 宮田壯 申請(qǐng)人:琳得科株式會(huì)社