專利名稱：光盤及其制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及藍色光盤(Blue ray disk BD)以及數字化視頻光盤(DVD)等光盤及其制造方法。
背景技術：
作為以往的光盤的基板材料，為了能夠穩(wěn)定地進行讀取以及寫入，要求異物以及雜質的含有量少、透過性高、雙折射率小、吸水率小從而使得光盤不變形、耐熱性優(yōu)良、且為了能夠成形加工而具有高流動性、脫模性優(yōu)良，因此多使用聚碳酸酯或者環(huán)氧樹脂等(特開平05-258349號公報)。
但是上述基板材料的聚碳酸酯或者環(huán)氧樹脂，作為單體使用雙酚A，在聚合后也殘留未反應的雙酚A。近年來，隨著對環(huán)境問題的越來越關注，含有雙酚A的材料有被敬而遠之的傾向，所以人們正研究作為基板材料不含雙酚A的材料。
作為基板材料，考慮到不含雙酚A且透過率高的光學特性，可使用玻璃。但是對于玻璃基板在作為光盤時其厚度被限制，從而存在制造時和使用時無法與壓力以及應力相對應的強度方面的問題。
作為在廢棄時給環(huán)境帶來的影響小的光盤，特開2000-11448號公報中提出了在由生物分解性樹脂構成的基板表面上形成光記錄層的光盤。然而，在該光盤的制造中，由于在從擠出成形后的片材沖切出的圓盤狀基板表面上直接刻劃凹凸的坑(參照段落0018～0019)，因此存在凹坑的刻設加工困難的問題。此外，容易由于吸濕而在基板上產生翹曲，存在妨礙信息讀取的問題。
作為以往的光盤的別的問題有以下問題，即，當在表面印刷文字以及圖像時，作為主要印刷方法使用絲網印刷等，但在絲網印刷中很難獲得高精細的圖像。
此外，在絲網印刷中，為了印刷序列號等對每張都賦予不同的文字或者圖像，必須每次都更換版，從而存在以往的光盤中實質上不能夠通過印刷賦予可變信息的問題。

發(fā)明內容
本發(fā)明鑒于以上的事實，其目的在于提供一種具有與以往相同的性能、廢棄時對環(huán)境的影響小、能夠抑制基板的翹曲的光盤，以及能夠容易且低成本地獲得該光盤的制造方法。
此外，本發(fā)明的目的還在于提供一種印刷有高精細的圖像的光盤、以及能夠低成本地印刷高精細的圖像且能通過印刷賦予可變信息的光盤的制造方法。
本發(fā)明提供一種光盤，其特征是具備由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板、和設在基板兩面上的記錄層，所述記錄層具有由非親水性薄膜構成的基材層。
此外，本發(fā)明還提供一種光盤，其特征是具備由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板、設在基板的單面上的記錄層、和設在基板的與設有記錄層的面相反的面上的印刷層，所述記錄層和印刷層具有由非親水性薄膜構成的基材層。
這樣的光盤由于作為基板使用由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板，因此能具有與以往光盤同等的性能的同時，廢棄時對環(huán)境的影響小。此外，由于在基板的兩面上設置記錄層、或者在基板的一面設置記錄層、在另一面設置印刷層，并使所述記錄層和印刷層具有由非親水性薄膜構成的基材層，因此能夠抑制基板的吸水、吸濕特性，進而能抑制光盤的翹曲等變形。
此外，如果還具有保護所述記錄層的保護層，則不僅能防止記錄層受損傷，還能進一步抑制基板的吸水、吸濕，進而能更有效地抑制光盤的翹曲等變形。
此外，如果在所述基板與記錄層和/或印刷層之間設置剝離層，則在廢棄時能夠分離基板與記錄層和/或印刷層并分別廢棄，因此能進行與各層材料對應的廢棄，進一步減少對環(huán)境的影響。
本發(fā)明提供一種光盤的制造方法，其特征是，包括記錄層片材制作工序，在由非親水性薄膜構成的記錄層基材上形成軌道，制作記錄層片材；記錄層片材貼合工序，貼合由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板片材與所述記錄層片材，在由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板的兩面設置由記錄層片材構成的記錄層。
此外，本發(fā)明還提供一種光盤的制造方法，其特征是，包括記錄層片材制作工序，在由非親水性薄膜構成的記錄層基材上形成軌道，制作記錄層片材；印刷片材制作工序，在由非親水性薄膜構成的印刷基材上實施印刷，制作印刷片材；記錄層片材貼合工序，貼合由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板片材與所述記錄層片材，在由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板上設置由記錄層片材構成的記錄層；印刷片材貼合工序，貼合由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板片材和所述印刷片材，在由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板上設置由印刷片材構成的印刷層。
此外，在本發(fā)明的光盤制造方法中，優(yōu)選還包括保護薄膜貼合工序，在所述記錄層上貼合保護薄膜，在記錄層上設置由保護薄膜構成的保護層。
此外，在本發(fā)明的光盤制造方法中，優(yōu)選還包括剝離層形成工序，預先在基材片材的至少單面上形成剝離層。
此外，在本發(fā)明的光盤制造方法中，優(yōu)選通過卷取各個片材而制造，將這些卷取狀的各片材進行貼合。
在這樣的光盤制造方法中，基板、記錄層、根據需要添加的印刷層、保護層，是通過預先制作與它們對應的片材并將它們貼合而形成，因此能夠容易且低成本地制造抑制了基板翹曲的光盤。
此外，由于上述方法是預先在印刷基材上實施印刷而制作印刷片材并將它貼合到基板上的方法，因此能夠容易且低成本地制造高精細的圖像。此外，還可以通過印刷向光盤賦予連續(xù)變化的序號等對每張都不同的可變信息。


圖1是表示本發(fā)明的光盤的一例的概略斷面圖。
圖2是表示再生專用型光盤上的記錄層的一例的概略斷面圖。
圖3是表示補寫型光盤的記錄層的一例的概略斷面圖。
圖4是表示重寫型光盤的記錄層的一例的概略斷面圖。
圖5是表示本發(fā)明光盤的另外的例子的概略斷面圖。
圖6是表示印刷片材、記錄片材的概略圖。
圖7是表示印刷片材制造工序(a)、基板片材制造工序(b)、記錄層片材制作工序(c)的概略圖。
圖8是表示各片材的貼合工序的概略圖。
具體實施例方式
本發(fā)明的光盤是，具備由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板、設在該基板的兩面上的記錄層的光盤，以及具備由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板、設在基板單面上的記錄層、設在基板的與設有記錄層的面相反面上的印刷層的光盤，而且是，可根據需要在基板和記錄層之間具備剝離層的光盤。
作為本發(fā)明的光盤的具體的層構成，例如可舉出(1)記錄層/基板/印刷層、(2)記錄層/基板/記錄層、(3)保護層/記錄層/基板/印刷層、(4)保護層/記錄層/基板/記錄層/保護層、(5)保護層/記錄層/剝離層/基板/印刷層、(6)保護層/記錄層/剝離層/基板/剝離層/印刷層、(7)保護層/記錄層/剝離層/基板/剝離層/記錄層/保護層等。在這里，還可以在各層之間根據需要設置用于貼合各層的粘接層。
以下，參照附圖，對具有上述(3)的層構成的光盤進行說明。
圖1是表示本發(fā)明的光盤的一例的概略斷面圖，該光盤10具有以下部分概略構成，即，由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板11、和在基板11的一方的面夾隔粘接層12貼合的記錄層13、和在基板11的另一方的面夾隔粘接層14貼合的印刷層15、和在記錄層13上夾隔粘接層16貼合的保護層17構成。
<基板>
基板11用于作為光盤保持必要強度，該基板11需要具有剛性以及耐濕、耐水性。此外，還被要求在廢棄時對環(huán)境的影響小。因此在本發(fā)明中使用由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板。生物分解性樹脂即使按原樣廢棄，也能在土中等，由微生物進行分解，因此對環(huán)境的影響小。此外，聚烯烴系樹脂能夠通過焚燒廢棄，因此通過焚燒分解為水和二氧化碳，對環(huán)境的影響小。
作為生物分解性樹脂，可利用例如聚乳酸樹脂。作為聚乳酸樹脂可舉出例如三菱樹脂(株)制的“エコロ一ジユ”、ユニチカ(株)制的“テラマツク”、東セロ(株)制的“パルグリ一ンLC”等。此外，作為生物分解性樹脂，還可以使用1，4-丁二醇或者季戊四醇等多價醇、和琥珀酸或者己二酸等的共聚聚酯。作為這樣的生物分解性共聚聚酯樹脂，例如可以舉出杜邦公司制的“バイオマツクス”、昭和高分子(株)制的“ビオノ一レ”等。
作為聚烯烴系樹脂例如可以舉出低密度聚乙烯(LDPE)、線狀低密度聚乙烯(LLDPE)、高密度聚乙烯(HDPE)、聚丙烯、非晶性環(huán)狀聚烯烴、四環(huán)十二烯聚合物、環(huán)烯烴聚合物等。其中，考慮到剛性，優(yōu)選HDPE、聚丙烯、非晶性環(huán)狀聚烯烴、四環(huán)十二烯聚合物、環(huán)烯烴聚合物。
此外，作為基板11，考慮到機械強度、透明性等，優(yōu)選對由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的薄膜(片材)進行拉伸后的拉伸薄膜(拉伸片材)。
考慮到光盤強度、光盤規(guī)格，基板11的厚度優(yōu)選0.5～2.0mm。
<記錄層>
記錄層13是記錄有信息的層和/或可記錄信息的層，且通過光的照射，能夠進行信息的記錄/讀取。
記錄層13包括在制作光盤時預先記錄信息的類型和在制造后記錄信息的類型，而通常分類為以下三種(1)在制造光盤時預先記錄信息，在制造后無法記錄信息的類型(再生專用型)；(2)在制造光盤時不記錄信息，而在制造后能夠記錄信息的類型(補寫型)；(3)能夠刪去記錄的信息且能夠進行再次信息記錄的類型(重寫型)。
以下對各類型的記錄層進行具體說明。
(再生專用型)圖2是表示再生專用型的記錄層的一例的斷面圖。該記錄層13是具備記錄層基材31(基材層)、和在記錄層基材31的表面形成的表面具有凹凸部分的信息坑形成層32、和覆蓋信息坑形成層32的凹凸的光反射層33而概略構成，記錄層基材31側與粘接層12(省略圖示)接觸，光反射層33側與粘接層16接觸。
記錄層基材31成為記錄層13的支持體。作為記錄層基材31，考慮到抑制基板11的吸水、吸濕，可使用非親水性薄膜。非親水性薄膜只要是由不包含雙酚A的樹脂構成，則沒有特別限定。
尤其是作為非親水性薄膜，考慮到能夠通過焚燒廢棄并且通過焚燒分解為水和二氧化碳從而對環(huán)境的影響小，優(yōu)選使用由低密度聚乙烯(LDPE)、線狀低密度聚乙烯(LLDPE)、高密度聚乙烯(HDPE)、聚丙烯、非晶性環(huán)狀聚烯烴、四環(huán)十二烯聚合物、環(huán)烯烴聚合物等構成的聚烯烴薄膜。
此外，作為非親水性薄膜，考慮到即使按原樣廢棄也能在土等中由微生物分解而減少對環(huán)境的影響，優(yōu)選使用生物分解性樹脂薄膜。作為生物分解性樹脂，可使用與上述基板11相同的材料。
考慮到維持作為支持體的強度，非親水性薄膜的厚度優(yōu)選在30μm以上。
信息坑形成層32，在表面具有凹凸，并由該凹凸顯示軌道和信息坑。信息坑形成層32是例如對以下樹脂進行固化而形成，這些樹脂是氨基甲酸乙酯丙烯酸酯低聚物、聚酯丙烯酸酯低聚物、低粘度丙烯酸聚合物等的低聚物或者單體、與光引發(fā)劑組合的紫外線固化樹脂；氨基甲酸乙酯改性丙烯酸樹脂、丙烯酸該性聚酯樹脂等的電子射線固化樹脂。但是，最好不使用含有雙酚A的環(huán)氧樹脂。
信息坑形成層32的厚度通常是20～80nm。
光反射層33沿著信息坑形成層32的凹凸設置，用于反射照射的光。光反射層33是例如通過真空蒸鍍、濺射等形成的、由鋁、鋁合金、銀、銀合金等金屬構成的薄膜。
光反射層33的厚度通常是10～100nm，且其厚度最好均勻。
(補寫型)圖3是表示補寫型記錄層的一例的斷面圖。該記錄層13是具備記錄層基材41(基材層)、在記錄層基材41的表面形成的表面具有凹凸的信息軌道形成層42、覆蓋信息軌道形成層42的凹凸的光反射層43、在光反射層43的表面形成的信息坑記錄層44而概略構成，記錄層基材41側與粘接層12(省略圖示)接觸，信息坑記錄層44側與粘接層16接觸。
記錄層基材41成為記錄層13的支持體。作為記錄層基材41，可以使用與上述記錄層基材31相同的非親水性薄膜。
信息軌道形成層42在表面具有槽深50～110nm的凹凸，并由該凹凸顯示軌道。但是，與再生專用型不同，未形成信息坑。信息軌道形成層42是例如與上述信息坑形成層32相同，通過對紫外線固化樹脂、電子射線固化樹脂等進行固化而形成。
光反射層43沿著信息軌道形成層42的凹凸設置，用于反射照射的光。光反射層43是例如與上述光反射層33相同，通過真空蒸鍍、濺射等形成的金屬薄膜。
信息坑記錄層44例如是由有機色素等構成的著色膜，其通過照射信息記錄用的激光使在照射部位的有機色素中產生分子結構的變化，產生物理性變化(破壞)，使該部分成為信息坑，從而記錄信息信號。由于產生物理變化的部位的透光率降低，因此如果照射讀取用的光，則來自光反射層43的反射光量也降低，結果與形成凹凸坑時相同地能檢測出信息信號。
作為有機色素，例如可舉出酞菁系色素、萘箐系色素、α-萘醌系色素等。
信息坑記錄層44的厚度通常是50～200nm。
(重寫型)圖4是表示重寫型記錄層的一例的斷面圖。該記錄層13是具備記錄層基材51(基材層)、和在記錄層基材51的表面形成的表面具有凹凸的信息軌道形成層52、和覆蓋信息軌道形成層52的凹凸的光反射層53、和在光反射層53的表面形成的信息坑記錄層54而概略構成，記錄層基材51側與粘接層12(省略圖示)接觸，信息坑記錄層54側與粘接層16接觸。
記錄層基材51成為記錄層13的支持體。作為記錄層基材51，可以使用與上述記錄層基材31相同的非親水性薄膜。
信息軌道形成層52在表面具有槽深50～110nm的凹凸，并由該凹凸顯示軌道。但是，與再生專用型不同，未形成信息坑。信息軌道形成層52是例如與上述信息坑形成層32相同，通過對紫外線固化樹脂、電子射線固化樹脂進行固化而形成。
光反射層53沿著信息軌道形成層52的凹凸設置，用于反射照射的光。光反射層53是例如與上述光反射層33相同，通過真空蒸鍍、濺射等形成的金屬薄膜。
信息坑記錄層54例如是將SiO2膜、GeSbTe膜、SiO2膜這三層作為一組的透明電介質膜，而在圖示的實例中，是以SiO2膜61、GeSbTe膜62、SiO2膜63、GeSbTe膜64、SiO2膜65的順序疊層的雙層結構的信息坑記錄層。
基于信息坑記錄層54的信息的記錄、刪除以及讀取，按以下方式進行。
將激光聚光到GeSbTe膜而使該膜被加熱，接著冷卻使GeSbTe膜多晶化或者非晶化從而記錄信息。并且，照射不影響GeSbTe膜的程度的微弱激光，透過被多晶化或者非晶化了的GeSbTe膜，接受由反射層反射的光，從而基于GeSbTe膜是否被結晶化而讀取信息。另一方面，通過將更低強度的激光聚光到被多晶化或者非晶化了的GeSbTe膜并緩慢加熱，能夠對GeSbTe膜進行結晶化而刪除信息。該記錄/刪除是可逆過程，可以在刪除記錄后，再次記錄其他信息。
替代SiO2膜，還可以使用ZnS-SiO2膜、Ta2O5膜、SiN膜、AlN膜。此外，替代GeSbTe膜，可以使用AgInSbTe膜。
這些各膜可通過濺射、真空蒸鍍等形成。
各膜的厚度大概是10～300nm，其可根據層的種類、數目而適當設定。例如，信息坑記錄層54的各膜的厚度是SiO2膜(220nm)/GeSbTe膜(13nm)/SiO2膜(25nm)/GeSbTe膜(40nm)/SiO2膜(95nm)。
<印刷層>
印刷層15是在印刷基材21(基材層)上由印刷墨水22實施印刷的層。在這里，如果在粘接層14側即印刷基材21的背面?zhèn)葘嵤┯∷?，則不僅能夠保護由印刷墨水22構成的印刷面，還能獲得具有獨特光澤、深度的圖像，因此是優(yōu)選方案。
作為印刷基材21，考慮到抑制基板11的吸水、吸濕，可使用非親水性薄膜。非親水性薄膜只要是由不包含雙酚A的樹脂構成，則沒有特別限定。
尤其是作為非親水性薄膜，考慮到能夠通過焚燒廢棄并且通過焚燒分解為水和二氧化碳從而對環(huán)境的影響小，優(yōu)選使用聚烯烴薄膜。此外，作為非親水性薄膜，考慮到即使按原樣廢棄也能在土等中由微生物分解而減少對環(huán)境的影響，優(yōu)選使用生物分解樹脂薄膜。
作為聚烯烴薄膜、生物分解性樹脂，可使用與上述記錄層基材31相同的材料。
印刷基材21的厚度通常是12～80μm。
印刷墨水22只要是不包含雙酚A的墨水，則沒有特別限定。作為印刷墨水22，考慮到廢棄時對環(huán)境的影響要小，可舉出例如將聚乳酸樹脂等生物分解性樹脂作為粘合劑，在其中加入各種添加劑的印刷墨水。作為添加劑，可舉出例如著色顏料、顏料分散劑、粘度調整劑等。
作為通過印刷形成的文字或者圖像，可舉出至少表示光盤的種類的顯示、有關光盤的附加信息(制造來源、銷售來源、價格、存儲容量、使用注意事項等)、具有中間灰度的全彩裝飾圖像(被記錄的信息的畫面式圖像等)。此外，還可以設有能用鉛筆、圓珠筆、噴墨打印機等進行補寫的記入欄。
<保護層>
保護層17用于保護記錄層13的表面，防止記錄層受損傷。此外，保護層17還擔當抑制基板11的吸水、吸濕的作用。
作為保護層17，由于有必要將照射到光盤上的光透過記錄層13，因此優(yōu)選透光性高的樹脂薄膜。此外，作為樹脂薄膜，考慮到廢棄時對環(huán)境的影響要小，優(yōu)選使用聚烯烴薄膜、生物分解性樹脂薄膜。
作為聚烯烴薄膜、生物分解性樹脂薄膜，可使用與上述記錄層基材31相同的材料。
保護層17的厚度通常是0.03～1.0mm、優(yōu)選是0.1～0.6mm。
此外，保護層17可通過以下方式形成，即，不使用后述的粘接層16，而是通過旋涂法將液狀的紫外線固化樹脂、電子射線固化樹脂等直接涂敷在記錄層13上并將此固化而成。
<粘接層>
粘接層12、14、16用于貼合各層，其是由粘接劑構成的層。作為粘接劑，可以使用丙烯酸系粘接劑等公知的粘接劑。
粘接劑的量可根據貼合的各層的材質適宜決定。貼合基板11和記錄層13的粘接層12，優(yōu)選將記錄層13側表面形成為大致平滑。
<剝離層>
本發(fā)明的光盤還可以是如圖5所示的光盤20，即，在基板11和記錄層13之間、以及基板11和印刷層15之間設有用于在廢棄時分離各層的剝離層18、19。
作為剝離層18、19，優(yōu)選表面活性小的材料，例如可舉出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴。
剝離層18、19的厚度通常是5μm～1mm。
<光盤的制造方法>
接著，對本發(fā)明的光盤制造方法進行說明。
本發(fā)明的光盤制造方法按以下方式進行，即將印刷層、基板、記錄層、保護層分別以如圖6所示的方式作為各個片材狀的部件卷取制造，在最終工序中以規(guī)定順序涂敷粘接劑，將這些壓接、貼合成期望的層結構之后，沖切加工成盤(原盤)狀，制成光盤。
以下，對于具有圖5所示的層結構的光盤20的制造方法的一例進行說明。
預先，在印刷基材21上實施印刷而制作印刷片材(印刷片材制作工序)、在由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板片材的兩面形成剝離層18、19(剝離層形成工序)、在記錄層基材31(41、51)上形成軌道而制作記錄層片材(記錄層片材制作工序)。接著，將基板片材和所述印刷片材貼合，在由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板11上設置由印刷片材構成的印刷層15(印刷片材貼合工序)，將基板片材和所述記錄層片材貼合，在由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板11上設置由記錄層片材構成的記錄層13(記錄層片材貼合工序)，在記錄層13上貼合保護薄膜，從而在記錄層13上設置由保護薄膜構成的保護層17(保護薄膜貼合工序)，作為具有期望的層結構的光盤的素材之后，通過對該素材進行沖切，制成光盤20。
<印刷片材制作工序>
印刷片材是通過如圖7(a)所示的工序，在印刷基材21上實施利用印刷墨水22的印刷并卷取在輥上而制作。此時，如圖6所示，在印刷片材上印刷位置對齊用圖案。
作為印刷方法例如可舉出膠版印刷法、凹版印刷法、凸版印刷法、網板印刷法、噴墨印刷法、電子照相法等。其中，在制作具有中間灰度的全彩時，考慮到要獲得高精細圖像，優(yōu)選使用膠版印刷法或者凹版印刷法。此外，當對光盤賦予對每個光盤都不同的可變信息時，優(yōu)選使用噴墨印刷法、電子照相法。
<剝離層形成工序>
在成為基板11的基板片材上，如圖7(b)所示，在其兩面熔融擠出涂敷聚乙烯等聚烯烴，預先形成剝離層18、19。形成有剝離層18、19的基板片材卷取成輥狀。
<記錄層片材制作工序>
記錄層片材是通過如圖7(c)所示的工序，在記錄層基材31(41、51)上形成軌道，再形成與再生專用型、補寫型、重寫型分別對應的各種層，并卷取在輥上而制成。此時，在記錄層片材上以如圖6所示的方式形成位置對齊用圖案(凹凸等)。
(再生專用型)首先，在記錄層基材31上涂敷紫外線固化樹脂，在其表面按壓具有與軌道以及信息坑對應的凹凸構造的轉印模，將凹凸構造轉印到紫外線固化樹脂表面(壓紋加工)。接著，在紫外線固化樹脂上照射紫外線使其固化，形成信息坑形成層32。此時，作為轉印模，可以使用除了有與軌道以及信息坑對應的凹凸構造之外，還具有衍射光柵圖案或者全息案的轉印模，可以在信息坑形成層32上形成防偽等的圖案。
接著，在信息坑形成層32上通過真空蒸鍍、濺射等，形成由金屬薄膜構成的光反射層33。
(補寫型)
信息坑形成層42以及光反射層43與再生專用型的信息坑形成層32以及光反射層33以相同的方式形成。但是，作為轉印模，使用沒有與信息坑對應的凹凸構造的轉印模。
接著，在光反射層43上涂敷有機色素，形成由有機色素的著色膜構成的信息坑記錄層44。作為涂敷方法可舉出凹版涂敷法、微凹版涂敷法、模涂法、逗點涂敷法、氣力涂敷法、輥涂法等。
(重寫型)信息軌道形成層52以及光反射層53的形成與補寫型相同地進行。
接著，在光反射層43上，通過濺射、真空蒸鍍法，以SiO2膜61、GeSbTe膜62、SiO2膜63、GeSbTe膜64、SiO2膜65的順序依次形成。
<各貼合工序>
如圖8所示，首先在印刷片材的印刷面上涂敷粘接劑，將它和基板片材貼合。
接著，在記錄層片材上涂敷粘接劑，將它與貼合有印刷片材的基板片材的另一面貼合。此時，用位置讀取傳感器讀取印刷片材的位置對齊用圖案和記錄層片材的位置對齊用圖案，將兩者進行定位。
接著，在保護片材上涂敷粘接劑，將它與基板片材上的記錄層13貼合，形成光盤的素材。
<沖切工序>
接著，用拔取位置讀取傳感器讀取位置對齊用圖案，使素材的光盤形狀的加工部和圓盤狀刀模同步，用該圓盤狀刀模沖切成盤狀，制作光盤。
這樣獲得的光盤有時由各層的材質不同而產生變形。因此，為獲得平滑性，還可以加入從光盤的兩面用平面的加熱板進行加熱而消除素材應變的工序。
以上說明的本發(fā)明的光盤，由于作為基板11使用由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的材料，因此能夠通過焚燒、土中掩埋等而容易廢棄，并且此時對環(huán)境的影響也很小。此外，本發(fā)明的光盤由于作為基板11使用由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的材料，因此作為光盤具有必要強度。
此外，由于在基板11的與形成有記錄層13的面相反的面上進一步具有印刷層12，因此基板11的兩面成為被覆蓋的狀態(tài)，能夠抑制基板11的吸水、吸濕，從而能防止光盤的翹曲等變形。
此外，記錄層13由于具有由非親水性薄膜構成的記錄層基材31(41、51)，因此能夠進一步抑制基板11的吸水、吸濕，且能進一步抑制光盤的翹曲等變形。
此外，由于印刷層15具有由非親水性薄膜構成的印刷基材21，因此能夠進一步抑制基板11的吸水、吸濕，且能進一步抑制光盤的翹曲等變形。
在記錄層13設在基板11的兩面上的情況下，也能發(fā)揮與此相同的作用。
此外，由于還具備用于保護記錄層13的保護層17，因此不僅能夠防止記錄層13受損傷，而且能夠進一步抑制基板11的吸水、吸濕，且能進一步抑制光盤的翹曲等變形。
此外，由于在基板11和記錄層13之間、以及基板11和印刷層15之間設有剝離層18、19，因此在廢棄時，能夠將基板11、記錄層13、印刷層15分離，分別廢棄，能夠進行與各層材料對應的廢棄，進一步減少對環(huán)境的影響。
此外，在本發(fā)明的光盤制造方法中，由于將基板11、記錄層13、印刷層15、保護層17，以預先制作與它們對應的片材，再貼合它們的方式形成，因此與通過旋涂等的涂敷不同，對材料的浪費少，且與預先按順序在基板上構成記錄層13、印刷層15、保護層17各層的情況不同，不會由熱膨脹率的不同而受到應力，從而能廉價地制造基板11的翹曲很少的光盤。
此外，由于采用預先在印刷基材21上實施印刷而制作印刷片材并將它貼合在基板11上的方法，因此能夠進行高精細的印刷，能夠低成本地獲得高精細的圖像。此外，在上述印刷片材制作工序中，能夠在光盤上通過印刷賦予連續(xù)變化的序列號等對每張都不同的可變信息。
其中，本發(fā)明的光盤并不限定于上述實施例，而是可以在不超出本發(fā)明要旨的范圍內進行設計變更等。
例如，本發(fā)明的光盤不限定于圓盤狀，而只要記錄信息的區(qū)域為圓形，則可以是長方形等任意形狀。
此外，在上述實施方式例中，在貼合各層時使用了粘接劑，但除了粘接劑以外，也可以使用膠粘層、將粘接劑或膠粘劑成形為片材狀的粘接材、膠粘材等。
實施例以下說明本發(fā)明的實施例。
(印刷片材的制作)在厚度0.04mm的拉伸聚乳酸薄膜(三菱樹脂(株)制的“エコロ一ジユ”)上實施使用了生物分解性聚酯系印刷墨水(大日精化工業(yè)(株)制的“バイオテツクカラ一HGP”)的凹版印刷，獲得印刷有表示光盤種類的標示、有關光盤的附加信息、裝飾圖像等的印刷片材。
(基板片材的制作)在厚度1.0mm的延伸聚乳酸薄膜(三菱樹脂(株)制的“エコロ一ジユ”)的兩面實施電暈處理等易粘接處理之后，熔融擠出涂敷聚乙烯，預形成厚度0.015mm的剝離層。
(記錄層片材的制作)在實施了鍍銅處理的輥上轉印與軌道以及信息坑對應的凹凸，再在其之上實施鍍鉻處理，形成轉印版。
在厚度0.05mm的拉伸高密度聚乙烯薄膜上利用金屬型涂料機涂敷成厚度0.1mm，并在其表面按壓轉印模具，在紫外線固化樹脂表面轉印了凹凸。
接著，對紫外線固化樹脂照射紫外線而固化紫外線固化樹脂，形成軌道。
接著，在軌道上真空蒸鍍鋁，形成厚度60nm的光反射層，獲得再生專用型記錄層片材。
(貼合)在印刷片材的印刷面上通過微凹版印刷，將丙烯酸系粘接劑涂敷成0.005mm厚度，將其與基板片材貼合。
接著，在記錄層片材上通過微凹版印刷將丙烯酸系粘接劑涂敷成厚度0.005mm，將其貼合在基版片材11的與貼合有印刷片材的面相反的面上。
接著，在保護片材(厚度0.065mm的拉伸高密度聚乙烯薄膜)上通過微凹版印刷，將丙烯酸系粘接劑涂敷成0.005mm厚度，將其與基板片材上的記錄層貼合，獲得光盤的素材。
(沖切)接著，用圓盤狀刀模具將素材沖切成圓盤狀，獲得光盤。此后，為獲得光盤平滑性，用平板夾持光盤，施加50℃的熱24小時，進行矯正。
(評價)對于獲得的光盤，使用パルステツク工業(yè)株式會社制的光盤驅動裝置(制品名DDU-1000)讀取被記錄的信息，結果發(fā)現能夠讀取，沒有任何問題。
而且，能夠將基板(+剝離層)和記錄層(+粘接層+保護層)和印刷層(+粘接層)分離，并且能將基板和印刷層通過埋入土中廢棄。從記錄層(+粘接層+保護層)還可以進一步剝離保護層，并將保護層埋入土中廢棄?？梢杂捎涗泴踊厥战饘俦∧こ煞?。
除了將記錄層片材的制作變更為以下方式以外，通過與實施例1相同的方式獲得了光盤。
(記錄層片材的制作)在實施鍍銅處理的輥上轉印與軌道對應的凹凸，再在其之上實施鍍鉻處理，形成轉印版。
在厚度0.05mm的拉伸高密度聚乙烯薄膜上利用金屬型涂料機涂敷成厚度0.1mm，并在其表面按壓轉印模具，在紫外線固化樹脂表面轉印了凹凸。
接著，對紫外線固化樹脂照射紫外線而固化紫外線固化樹脂，形成軌道。
接著，在軌道上真空蒸鍍鋁，形成厚度60nm的光反射層。
接著，在光反射層上通過微凹版印刷，涂敷花青系色素，形成60nm的著色膜，獲得了補寫型記錄層片材。
(評價)對于獲得的光盤，使用パルステツク工業(yè)株式會社制的光盤驅動裝置(制品名DDU-1000)進行信息的記錄(寫入)以及被記錄的信息的讀取，結果發(fā)現能夠毫無問題地進行記錄以及讀取。
而且，能夠將基板(+剝離層)和記錄層(+粘接層+保護層)和印刷層(+粘接層)分離，并且能將基板和印刷層通過埋入土中廢棄。還可以從記錄層(+粘接層+保護層)進一步剝離保護層，并將保護層埋入土中廢棄?？梢杂捎涗泴踊厥战饘俦∧こ煞帧?br> 除了將記錄層片材的制作變更為以下方式以外，通過與實施例1相同的方式獲得了光盤。
(記錄層片材的制作)在實施鍍銅處理的輥上轉印與軌道對應的凹凸，再在其之上實施鍍鉻處理，形成轉印版。
在厚度0.05mm的拉伸高密度聚乙烯薄膜上利用金屬型涂料機涂敷成厚度0.1mm，并在其表面按壓轉印模具，在紫外線固化樹脂表面轉印了凹凸。
接著，對紫外線固化樹脂照射紫外線而固化紫外線固化樹脂，形成軌道。
接著，在軌道上真空蒸鍍鋁，形成厚度60nm的光反射層。
接著，在光反射層上通過濺射，依次形成厚度220nm的SiO2膜、厚度13nm的GeSbTe膜、厚度25nm的SiO2膜、厚度40nm的GeSbTe膜、厚度95nm的SiO2膜，獲得了重寫型記錄層片材。
(評價)對于獲得的光盤，使用パルステツク工業(yè)株式會社制的光盤驅動裝置(制品名DDU-1000)進行信息的記錄(寫入)、被記錄的信息的讀取、以及被記錄的信息的刪除、再寫入，結果發(fā)現能夠毫無問題地進行記錄、讀取、刪除、再寫入。
而且，能夠將基板(+剝離層)和記錄層(+粘接層+保護層)和印刷層(+粘接層)分離，并且能將基板和印刷層通過埋入土中廢棄。還可以從記錄層(+粘接層+保護層)進一步剝離保護層，并將保護層埋入土中廢棄?？梢杂捎涗泴踊厥战饘俦∧こ煞帧?br> 除了作為基板片材，在厚度1.0mm的拉伸高密度聚乙烯薄膜的兩面熔融擠出涂敷聚乙烯，預形成厚度0.015mm的剝離層以外，通過與實施例1相同的方式，獲得了光盤。
(評價)對于獲得的光盤，使用パルステツク工業(yè)株式會社制的光盤驅動裝置(制品名DDU-1000)進行被記錄的信息的讀取，結果發(fā)現能夠毫無問題地進行讀取。
而且，能夠將基板(+剝離層)和記錄層(+粘接層+保護層)和印刷層(+粘接層)分離，并且能將基板和印刷層通過埋入土中廢棄。還可以從記錄層(+粘接層+保護層)進一步剝離保護層，并將保護層埋入土中廢棄?？梢杂捎涗泴踊厥战饘俦∧こ煞?。
產業(yè)利用性作為基板使用由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的材料的本發(fā)明的光盤，能成為適于環(huán)境保護型制品，而且是低成本的。
權利要求
1.一種光盤，其特征是具備由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板、和設在基板兩面上的記錄層，所述記錄層具有由非親水性薄膜構成的基材層。
2.一種光盤，其特征是具備由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板、設在基板的單面上的記錄層、以及設在基板的與設有記錄層的面相反的面上的印刷層，所述記錄層和印刷層具有由非親水性薄膜構成的基材層。
3.如權利要求1所述的光盤，其特征是具有保護所述記錄層的保護層。
4.如權利要求2所述的光盤，其特征是具有保護所述記錄層的保護層。
5.如權利要求1～4中任何一項所述的光盤，其特征是在所述基板和記錄層之間設有剝離層。
6.如權利要求2所述的光盤，其特征是在所述基板和印刷層之間設有剝離層。
7.一種光盤的制造方法，其特征是，包括記錄層片材制作工序，在由非親水性薄膜構成的記錄層基材上形成軌道，制作記錄層片材；記錄層片材貼合工序，將由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板片材與所述記錄層片材貼合，在由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板的兩面上設置由記錄層片材構成的記錄層。
8.一種光盤的制造方法，其特征是，包括記錄層片材制作工序，在由非親水性薄膜構成的記錄層基材上形成軌道，制作記錄層片材；印刷片材制作工序，在由非親水性薄膜構成的印刷基材上實施印刷，制作印刷片材；記錄層片材貼合工序，將由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板片材與所述記錄層片材貼合，在由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板上設置由記錄層片材構成的記錄層；印刷片材貼合工序，將由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板片材與所述印刷片材貼合，在由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板上設置由印刷片材構成的印刷層。
9.如權利要求7所述的光盤的制造方法，其特征是包括保護薄膜貼合工序，在所述記錄層上貼合保護薄膜，在記錄層上設置由保護薄膜構成的保護層。
10.如權利要求8所述的光盤的制造方法，其特征是包括保護薄膜貼合工序，在所述記錄層上貼合保護薄膜，在記錄層上設置由保護薄膜構成的保護層。
11.如權利要求7～10中任何一項所述的光盤的制造方法，其特征是包括剝離層形成工序，預先在基材片材的至少一面上形成剝離層。
12.如權利要求7～10中任何一項所述的光盤的制造方法，其特征是通過卷取制造各個片材，將這些卷取狀的各片材進行貼合。
13.如權利要求8所述的光盤的制造方法，其特征是所述印刷片材制作工序，具有將對于各個被制造的光盤所賦予的相互不同的可變信息印刷在所述印刷基材上的工序。
全文摘要
本發(fā)明的光盤(10)具備由生物分解性樹脂或者聚烯烴系樹脂構成的基板(11)、設在基板(11)的一面上的記錄層(13)、和設在基板(11)的另一面上的印刷層(15)，記錄層(13)和印刷層(15)具有由非親水性薄膜構成的基材層(記錄層基材、印刷基材(21))。這樣的光盤(10)具有與以往光盤相同的性能，廢棄時對環(huán)境的影響小，并能抑制基板的翹曲。此外，本發(fā)明的光盤的制造方法是具備以下工序的方法，即包括記錄層片材制作工序，在記錄層基材上形成軌道，制作記錄層片材；印刷片材制作工序，在印刷基材上實施印刷，制作印刷片材；以及將基板片材、記錄層片材以及印刷片材進行貼合的各貼合工序。
文檔編號G11B7/26GK1742331SQ20048000288
公開日2006年3月1日 申請日期2004年1月30日 優(yōu)先權日2003年1月30日
發(fā)明者木下敏郎, 小林昭彥, 佐佐木升, 有澤誠, 關口守, 小川博司, 山崎兆司, 大里潔, 山上保, 渡邊英俊 申請人:凸版印刷株式會社, 索尼株式會社